JPH11232638A - Magnetic disk and its formation - Google Patents

Magnetic disk and its formation

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Publication number
JPH11232638A
JPH11232638A JP3452898A JP3452898A JPH11232638A JP H11232638 A JPH11232638 A JP H11232638A JP 3452898 A JP3452898 A JP 3452898A JP 3452898 A JP3452898 A JP 3452898A JP H11232638 A JPH11232638 A JP H11232638A
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JP
Japan
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layer
substrate
magnetic
magnetic disk
protective layer
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JP3452898A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuhide Hotsuta
延秀 堀田
Takeshi Yoshimoto
武史 吉本
Toru Kuroe
徹 黒江
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Mitsubishi Chemical Corp
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Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress occurrence of collision scars between a disk and a head by setting on a substrate a magnetic layer and a protecting layer upper than the magnetic layer to the substrate, and processing a surface of the protecting layer so as to achieve not larger than a specific value at a specific Bearing Depth position of the layer measured by an atomic force microscope. SOLUTION: An upper face of an aluminum alloy disk substrate which is Ni-P plated by electroless plating by a thickness of 10 μm is polished. A Cr undercoat film, a magnetic layer of Co-Cr-Ta alloy and a carbonaceous protecting layer are sequentially formed by sputtering by a thickness of 100-600 Åon the surface of the disk substrate. Thereafter, a surface of the protecting layer is cleansed with the use of an abrasive tape holding abrasive grains to achieve not larger than 7 nm at a position of a Bearing Depth 10% measured by an atomic force microscope. An average occurrence rate of collision scars leading to defective products after abnormal projections present at the surface are removed is greatly lowered.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスクに係
り、特にディスクの製造工程における表面欠陥の発生が
少なく、品質の高い磁気ディスク及びその製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk and, more particularly, to a high-quality magnetic disk with less occurrence of surface defects in a disk manufacturing process and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスクには通常その磁性層を変質
や磨耗等から保護するために、保護層が設けられてい
る。保護層の種類は様々だが、炭素質保護膜が最も広く
用いられている。現在一般に用いられている磁気ディス
ク装置は、磁気ヘッドが記録再生時に浮上し、モーター
停止時に磁気ディスクに接触するCSS(コンタクトス
タートトップ)方式を採用しているため、保護層にはヘ
ッドとの摺動に繰り返し耐える耐久性が必要である。し
かし、一方で磁気ディスクの高記録密度化に伴い、磁性
層とヘッドとの距離を小さくする必要があり、保護層に
は薄さも要求されている。記録再生時の磁気ヘッドと磁
気ディスクとの間隔、即ち磁気ヘッドの浮上量は最近で
は0.10μm程度以下になっている。
2. Description of the Related Art A magnetic disk is usually provided with a protective layer in order to protect the magnetic layer from deterioration or wear. Although there are various types of protective layers, carbonaceous protective films are most widely used. Currently used magnetic disk devices employ a CSS (contact start top) system in which a magnetic head flies during recording and reproduction and contacts the magnetic disk when the motor is stopped. It must have durability to withstand movement repeatedly. However, as the recording density of the magnetic disk increases, the distance between the magnetic layer and the head needs to be reduced, and the protective layer is also required to be thin. The distance between the magnetic head and the magnetic disk during recording / reproducing, that is, the flying height of the magnetic head has recently been reduced to about 0.10 μm or less.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】磁気ヘッドの浮上高が
下がるにつれて、磁気ディスクの製造工程における仕上
げ及び検査工程、すなわち保護層の表面に存在する所定
高さ以上の突起除去工程や浮上高さ検査等において、検
査用(あるいは突起除去用)ヘッドと磁気ディスクとが
衝突した際に発生する衝突痕が問題となっている。衝突
痕は、ドライブに実装した際に磁気ヘッドと衝突する原
因となったり、またその部分から磁性層の成分が表面に
析出する等の原因になると考えられているからである。
As the flying height of the magnetic head decreases, a finishing and inspection step in the manufacturing process of the magnetic disk, that is, a step of removing protrusions having a predetermined height or more on the surface of the protective layer and an inspection of the flying height. In such cases, there is a problem of a collision mark generated when the inspection (or projection removal) head collides with the magnetic disk. This is because the collision trace is considered to cause a collision with the magnetic head when mounted on the drive, or to cause a component of the magnetic layer to be deposited on the surface from the portion.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、所定の条件を満たす保護層を設けることによっ
て、その後の仕上げ、検査工程においてヘッドとディス
クの衝突を劇的に現象可能であることを見いだし、本発
明に到達した。すなわち、本発明の要旨は、基板上に少
なくとも磁性層と磁性層よりも基板に対して上層に設け
られる保護層を有する磁気ディスクにおいて、保護層
の、原子間力顕微鏡(AFM)で測定したBearin
gDepth10%となる値が7nm以下であることを
特徴とする磁気ディスクに存する。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that by providing a protective layer that satisfies predetermined conditions, it is possible to dramatically reduce the collision between the head and the disk in the subsequent finishing and inspection steps. Having found something, they have reached the present invention. That is, the gist of the present invention is to provide a magnetic disk having at least a magnetic layer on a substrate and a protective layer provided above the magnetic layer with respect to the substrate, the Bearin of the protective layer measured by an atomic force microscope (AFM).
The magnetic disk is characterized in that the value of gDepth 10% is 7 nm or less.

【0005】また、本発明の別の要旨は、基板上に少な
くとも磁性層と磁性層よりも基板に対して上層に保護層
を設ける磁気ディスクの製造方法において、保護層の、
原子間力顕微鏡(AFM)で測定したBearingD
epth10%となる値が7nm以下となるように、保
護層表面を処理する工程を有することを特徴とする磁気
ディスクの製造方法に存する。
Further, another gist of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic disk in which at least a magnetic layer is provided on a substrate and a protective layer is provided on the substrate above the magnetic layer.
BearingD measured by atomic force microscope (AFM)
A method of manufacturing a magnetic disk, comprising a step of treating the surface of a protective layer so that the value of epth 10% becomes 7 nm or less.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明において、基板としては、
サブストレイトと呼ばれて市販されている基板、即ち、
Al−Mg合金基板の表面にNi−Pの無電解メッキの
下地膜を設け、更に当該下地膜に鏡面加工(ポリッシュ
加工)を施した下地膜形成基板が好適に使用される。そ
の他、銅、チタン、ガラス、セラミック、カーボン、シ
リコン等の材料で構成された基板を使用することもでき
る。通常、基板はディスク形状に加工され、また、基板
自体の厚さは約1〜3mm、上記下地膜の厚さは約20
〜30μmである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, as a substrate,
A substrate that is commercially available, called a substrate,
A base film-forming substrate in which a base film of Ni-P electroless plating is provided on the surface of an Al-Mg alloy substrate, and the base film is mirror-finished (polished) is preferably used. In addition, a substrate made of a material such as copper, titanium, glass, ceramic, carbon, and silicon can be used. Usually, the substrate is processed into a disk shape, the thickness of the substrate itself is about 1 to 3 mm, and the thickness of the underlayer is about 20 mm.
3030 μm.

【0007】このような基板は、常法に従い、テキスチ
ャー加工などを行った後、使用に供される。テキスチャ
ー加工は、下地膜の鏡面に極めて微小な条痕パターン
(溝)や凹凸を付与するために行われる機械加工であ
る。また、必要に応じ、テキスチャー加工後にバリやカ
エリ等を除去するための仕上げ加工として、化学エッチ
ング又は電解エッチング(電解研磨)処理を行うことも
できる。これらの加工により、磁気ディスクと磁気ヘッ
ドとの吸着が防止され、コンタクトスタートストップ
(CSS)特性が改良され、磁気異方性が改善される。
[0007] Such a substrate is subjected to a texturing process or the like according to a conventional method, and then used. The texture processing is a mechanical processing performed to provide an extremely minute stripe pattern (groove) or unevenness on the mirror surface of the base film. If necessary, chemical etching or electrolytic etching (electropolishing) can be performed as a finishing process for removing burrs and burrs after the texturing process. By these processes, the attraction between the magnetic disk and the magnetic head is prevented, the contact start / stop (CSS) characteristics are improved, and the magnetic anisotropy is improved.

【0008】基板上に形成する下地層は、従来公知の非
磁性下地層で良く、例えば、Cr、Ti、Ni等で形成
することができる。なお、下地層のCr又はTiは、通
常、これらの結晶性を損なわない範囲において、例え
ば、数原子%の範囲でSi、V、Cu等を含有する合金
であっても良い。本発明においては、特に、Cr系の下
地層が好適である。下地層の膜厚は、通常50〜200
0Åの範囲である。
The underlayer formed on the substrate may be a conventionally known nonmagnetic underlayer, and may be formed of, for example, Cr, Ti, Ni, or the like. The Cr or Ti of the underlayer may be an alloy containing Si, V, Cu, etc. in a range that does not impair the crystallinity thereof, for example, in a range of several atomic%. In the present invention, a Cr-based underlayer is particularly preferable. The thickness of the underlayer is usually 50 to 200.
0 ° range.

【0009】上記基板の下地層上に形成される磁性層
は、一般に、Co−Cr、Co−Ni、Co−Cr−
X、Co−Ni−X、Co−W−X等で表わされるコバ
ルト系合金薄膜層である。ここでXとしては、Li、S
i、P、Ca、Ti、V、Cr、Ni、As、Y、Z
r、Nb、Mo、Ru、Rh、Ag、Sb、Hf、T
a、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、La、Ce、
Pr、Nd、Pm、Sm、Eu及びBよりなる群より選
ばれた1種又は2種以上の元素が用いられる。磁性層
は、通常、スパッタリング等の手段によって、基板の下
地層上に被着形成される。この磁性層の膜厚は、通常1
00〜1000Åの範囲が好ましい。
The magnetic layer formed on the underlayer of the substrate is generally made of Co-Cr, Co-Ni, Co-Cr-.
It is a cobalt-based alloy thin film layer represented by X, Co-Ni-X, Co-WX or the like. Here, X is Li, S
i, P, Ca, Ti, V, Cr, Ni, As, Y, Z
r, Nb, Mo, Ru, Rh, Ag, Sb, Hf, T
a, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, La, Ce,
One or more elements selected from the group consisting of Pr, Nd, Pm, Sm, Eu and B are used. The magnetic layer is usually formed on the base layer of the substrate by means such as sputtering. The thickness of this magnetic layer is usually 1
The range of 00 to 1000 ° is preferred.

【0010】保護層は、磁性層の上に直接又は他の層を
介して設けられる。その材質は、炭素膜、水素化カーボ
ン膜、窒素化カーボン膜、TiC、SiC等の炭化膜、
SiN、TiN等の窒化膜、SiO、Al2 3 、Zr
O等の酸化物膜等によって構成され、通常、スパッタリ
ング、CVD等により形成される。保護層としては、炭
素膜、水素化カーボン膜及び窒素化カーボン膜が特に好
ましい。
The protective layer is provided directly on the magnetic layer or via another layer. Its material is carbon film, hydrogenated carbon film, nitrogenated carbon film, carbonized film such as TiC, SiC,
Nitride film of SiN, TiN, etc., SiO, Al 2 O 3 , Zr
It is composed of an oxide film such as O, and is usually formed by sputtering, CVD, or the like. As the protective layer, a carbon film, a hydrogenated carbon film and a nitrogenated carbon film are particularly preferable.

【0011】水素化カーボン膜は、水素と炭素を含有す
る膜であればよく、特に限定されるものではなく、例え
ばカーボンターゲットを用いて、スパッタガス(通常
は、アルゴンなどの不活性ガスを用いる。)と水素ガス
を含むプラズマ中でスパッタリングする方法により形成
することができる。スパッタ雰囲気中の水素の含有量
は、通常、2〜20体積%である。
The hydrogenated carbon film is not particularly limited as long as it is a film containing hydrogen and carbon. For example, a sputter gas (usually using an inert gas such as argon) using a carbon target is used. ) And sputtering in a plasma containing hydrogen gas. The content of hydrogen in the sputtering atmosphere is usually 2 to 20% by volume.

【0012】窒素化カーボン膜は、窒素と炭素を含有す
る膜であればよく、特に限定されるものではなく、例え
ばカーボンターゲットを用いて、スパッタガスと窒素ガ
ス、一酸化窒素ガス、二酸化窒素ガス、アンモニアガス
などの窒素含有ガスあるいは空気などの窒素ガス含有ガ
スを含むプラズマ中でスパッタリングすることにより形
成することができる。例えば、空気を用いた場合、スパ
ッタ雰囲気中の空気の含有量は、通常、2〜20体積%
である。また、例えば、スパッタガス中に水素ガス及び
窒素(含有)ガスを同時に混入させることにより、水素
化かつ窒素化したカーボン膜を形成することもできる。
The nitrogenated carbon film is not particularly limited as long as it contains nitrogen and carbon. For example, a sputter gas, a nitrogen gas, a nitrogen monoxide gas, a nitrogen dioxide gas, It can be formed by sputtering in a plasma containing a nitrogen-containing gas such as ammonia gas or a nitrogen-containing gas such as air. For example, when air is used, the content of air in the sputtering atmosphere is usually 2 to 20% by volume.
It is. Further, for example, a hydrogenated and nitrogenated carbon film can be formed by simultaneously mixing a hydrogen gas and a nitrogen (containing) gas into a sputtering gas.

【0013】保護層の厚さは、通常、約50〜1000
Å、好ましくは約100〜600Åの範囲である。本発
明においては、保護層の表面がAFM(原子間力顕微
鏡)によるBearing Depth10%(Bea
ring Depthカーブ0〜100%(全高)のう
ち10%位置)が7nm以下、好ましくは6nm以下に
することを特徴とするものである。測定値が7nmと
は、測定範囲内に存在する最も高い突起の頂点から、7
nm下がった位置の水平断面積が、測定範囲面積の10
%に相当することを意味する。Bearing Dep
th10%の位置が7nmより大きい(深い)と磁気デ
ィスクと磁気ヘッドとの衝突痕が増加するので好ましく
ない。
The thickness of the protective layer is usually about 50 to 1000
Å, preferably in the range of about 100-600Å. In the present invention, the surface of the protective layer has a bearing depth of 10% by AFM (atomic force microscope) (Bea).
The ring depth curve is set to be 7 nm or less, preferably 6 nm or less (0% to 100% (total height)). The measured value of 7 nm is 7 nm from the highest peak of the protrusion existing within the measurement range.
The horizontal cross-sectional area at the position where
%. Bearing Dep
If the position of th10% is larger than 7 nm (deep), collision marks between the magnetic disk and the magnetic head increase, which is not preferable.

【0014】このような条件を満たす保護層表面は、保
護層形成後に例えばテープクリーニングを行うことによ
り実現できる。テープとしては、通常、ポリエチレンテ
レフタレート製、ポリアミド製等のフィルム上に粒径
0.3〜3μmのアルミナ粒子、SiC粒子等の研磨砥
粒を担持した研磨テープを用いることができる。
The surface of the protective layer that satisfies such conditions can be realized by, for example, performing tape cleaning after forming the protective layer. As the tape, a polishing tape in which abrasive grains such as alumina particles and SiC particles having a particle size of 0.3 to 3 μm are supported on a film made of polyethylene terephthalate, polyamide, or the like can be used.

【0015】テープクリーニング方法としては、エアー
をテープに吹き付けてテープをディスクに接触させる方
法、ロールでテープをディスクに接触させる方法等があ
るが、いずれの方法でもよく、ディスク表面の微小突起
を除去するために保護層表面を所定量研削する仕上げ処
理を施すことが必要である。
As a tape cleaning method, there are a method of blowing air onto the tape to contact the tape with the disk, a method of contacting the tape with the disk with a roll, and the like. Either method may be used to remove minute protrusions on the disk surface. For this purpose, it is necessary to perform a finishing treatment for grinding the protective layer surface by a predetermined amount.

【0016】上述のAFM測定値を満足する表面が得ら
れたら、必要に応じて保護層表面に潤滑剤層を設けても
よい。潤滑剤としては、例えば、フッ素系液体潤滑剤が
使用され、通常、ディップコート法、スピンコート法、
スプレーコート法等により、保護層の表面に形成され
る。潤滑剤層の厚さは、通常、約5〜50Åの範囲であ
る。
If a surface satisfying the above-mentioned AFM measurement values is obtained, a lubricant layer may be provided on the surface of the protective layer, if necessary. As the lubricant, for example, a fluorine-based liquid lubricant is used, and usually, a dip coating method, a spin coating method,
It is formed on the surface of the protective layer by a spray coating method or the like. The thickness of the lubricant layer is typically in the range of about 5-50 °.

【0017】[0017]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例により限定されるものではない。 (実施例及び比較例)無電解メッキ法によりNi−Pメ
ッキを10μmの厚みで施したアルミニウム合金ディス
ク基板の表面にポリッシュ加工を施し、該基板の表面層
上にCr下地膜、Co−Cr−Ta合金からなる磁性層
及び炭素質膜からなる保護膜を順次スパッタ法により形
成した。この状態でBearingDepth10%と
なる位置は15〜20nmであった。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the scope of the invention. (Examples and Comparative Examples) A surface of an aluminum alloy disk substrate on which Ni-P plating was applied to a thickness of 10 μm by an electroless plating method was polished, and a Cr base film and a Co—Cr— A magnetic layer made of a Ta alloy and a protective film made of a carbonaceous film were sequentially formed by a sputtering method. In this state, the position where Bearing Depth is 10% was 15 to 20 nm.

【0018】次いで、表−1に示した条件でそれぞれテ
ープクリーニングを行った。保護層表面を次の条件で測
定した。 AFM:走査型プローブ顕微鏡 NanoScopeIIIa(Digita
lInstruments社製) ユニット:マルチモードユニット AFMモード:タッピング スキャンサイズ(μm):10×10 スキャンアングル(deg):90 スキャンレート(Hz):1.0 サンプル数:512 Z limit(V):440 フィルター処理:Lowpass,Flatten Auto(order=1) Bearing Area:全面 測定の結果、Bearing Depth10%となる
位置が7nm以下のディスク100枚(実施例)と、7
nmより大きいディスク100枚(比較例)について、
それぞれフッ素系液体潤滑剤を塗布して磁気ディスクを
製造した。
Next, the tape was cleaned under the conditions shown in Table 1. The surface of the protective layer was measured under the following conditions. AFM: Scanning probe microscope NanoScopeIIIa (Digita
Unit: Multi-mode unit AFM mode: Tapping Scan size (μm): 10 × 10 Scan angle (deg): 90 Scan rate (Hz): 1.0 Number of samples: 512 Z limit (V): 440 Filter Processing: Lowpass, Flatten Auto (order = 1) Bearing Area: As a result of the measurement, 100 discs with a bearing depth of 10% at 7 nm or less (Example) and 7
About 100 disks larger than nm (comparative example)
Each was coated with a fluorinated liquid lubricant to produce a magnetic disk.

【0019】次に、バーニッシュヘッドにより表面に存
在する異常突起を除去した後、ヘッド浮上高25nmで
グライド検査を行い、異常が検出された位置を光学顕微
鏡で観察して衝突痕の有無を調べた。衝突痕の平均発生
率を表−1に示す。
Next, after removing abnormal protrusions present on the surface with a burnishing head, a glide inspection is performed at a head flying height of 25 nm, and the position where the abnormality is detected is observed with an optical microscope to check for the presence of a collision mark. Was. Table 1 shows the average incidence of collision marks.

【0020】[0020]

【表1】 [Table 1]

【0021】以上説明したように、本発明の磁気ディス
クによれば、特定の条件を満たす表面を有する保護層を
有することにより、不良品の原因となるディスクとヘッ
ドの衝突痕の発生を著しく抑制することが可能となる効
果を有する。
As described above, according to the magnetic disk of the present invention, since the protective layer having a surface satisfying specific conditions is provided, the occurrence of a collision mark between the disk and the head which causes a defective product is remarkably suppressed. It has the effect that it becomes possible.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に少なくとも磁性層と磁性層より
も基板に対して上層に設けられる保護層を有する磁気デ
ィスクにおいて、 前記保護層の、原子間力顕微鏡(AFM)で測定したB
earingDepth10%となる値が7nm以下で
あることを特徴とする磁気ディスク。
1. A magnetic disk having at least a magnetic layer on a substrate and a protective layer provided above the substrate with respect to the magnetic layer, wherein B of the protective layer measured by an atomic force microscope (AFM).
A magnetic disk, wherein the value of earing Depth 10% is 7 nm or less.
【請求項2】 前記保護層が炭素質からなる請求項1記
載の磁気ディスク。
2. The magnetic disk according to claim 1, wherein said protective layer is made of carbonaceous material.
【請求項3】 基板上に少なくとも磁性層と磁性層より
も基板に対して上層に保護層を設ける磁気ディスクの製
造方法において、 前記保護層の、原子間力顕微鏡(AFM)で測定したB
earingDepth10%となる値が7nm以下と
なるように、前記保護層表面を処理する工程を有するこ
とを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
3. A method of manufacturing a magnetic disk, comprising: providing at least a magnetic layer on a substrate and a protective layer above the magnetic layer with respect to the substrate, wherein B of the protective layer is measured by an atomic force microscope (AFM).
A method for manufacturing a magnetic disk, comprising a step of treating the surface of the protective layer so that the value of earing Depth 10% is 7 nm or less.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6509111B1 (en) 1999-09-24 2003-01-21 Hitachi, Ltd. Magnetic recording media and magnetic disk apparatus
US6852432B2 (en) 2000-06-30 2005-02-08 Hitachi, Ltd. Magnetic recording media and magnetic disk apparatus

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