JPH11273062A - Manufacture of magnetic disk - Google Patents
Manufacture of magnetic diskInfo
- Publication number
- JPH11273062A JPH11273062A JP6998198A JP6998198A JPH11273062A JP H11273062 A JPH11273062 A JP H11273062A JP 6998198 A JP6998198 A JP 6998198A JP 6998198 A JP6998198 A JP 6998198A JP H11273062 A JPH11273062 A JP H11273062A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- cleaning
- tape
- magnetic
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は情報記録用の磁気デ
ィスクの製造方法に関し、更に詳しくは、精度の高いテ
ープクリーニングによって磁気ディスクの極微小突起を
除去し、高品質の磁気ディスクを生産性よく製造する方
法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic disk for recording information, and more particularly, to removing a very small protrusion of the magnetic disk by high-precision tape cleaning to produce a high-quality magnetic disk with high productivity. It relates to a method of manufacturing.
【0002】[0002]
【従来の技術】情報記録用のハード磁気ディスクシステ
ムは、その稼働時には磁気ディスクの回転に伴って磁気
ヘッドが浮上し、モーター停止時には磁気ディスクに接
触するCSS(コンタクトスタートストップ)方式が採
用されている。この方法により、磁気ヘッド/磁気ディ
スク間での高速摺動による摩耗を抑制することが可能と
なる。また、近年、磁気ディスクの高記録密度化に伴
い、記録再生時の磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔、
即ち磁気ヘッドの浮上量は益々小さくなってきており、
最近では0.1μm程度以下になっている。2. Description of the Related Art A hard magnetic disk system for recording information employs a CSS (contact start / stop) system in which a magnetic head floats with the rotation of the magnetic disk during operation and contacts the magnetic disk when the motor stops. I have. According to this method, it is possible to suppress wear caused by high-speed sliding between the magnetic head and the magnetic disk. In recent years, with the increase in the recording density of magnetic disks, the distance between the magnetic head and the magnetic disk during recording and reproduction,
That is, the flying height of the magnetic head is becoming smaller and smaller,
Recently, it has become about 0.1 μm or less.
【0003】このため、磁気ディスク表面は高度の平坦
性が要求され、極く微小の突起であってもヘッドクラッ
シュの発生、記録・再生のエラーの原因となる。一般
に、磁気ディスクは保護層を形成した後、テープクリー
ニングによって表面の微小突起を除去する作業が行なわ
れるが、テープクリーニングによっても精度の高い研削
は難しく、研磨材の選択に細心の注意をはらい、また、
クリーニング時間を長くしても磁気ディスク表面に摩耗
傷が発生したり、研削不足が生じる問題があった。For this reason, the magnetic disk surface is required to have a high degree of flatness, and even a very small projection may cause a head crash and a recording / reproducing error. Generally, after forming a protective layer on a magnetic disk, work is performed to remove minute protrusions on the surface by tape cleaning.However, high-precision grinding is difficult even by tape cleaning. Also,
Even if the cleaning time is lengthened, there has been a problem that abrasion scratches are generated on the surface of the magnetic disk and insufficient grinding occurs.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高精度にか
つ安定して保護層表面をテープクリーニングすることが
可能で、高密度記録の可能な品質の優れた磁気ディスク
を製造する方法を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method of manufacturing a high quality magnetic disk capable of high-density recording and capable of performing tape cleaning of the protective layer surface with high accuracy and stability. Is what you do.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明はかかる問題に着
目し、鋭意検討を行なった結果、テープクリーニングの
効果は、クリーニング時の磁気ディスクの走行速度に依
存することを見出し本発明を達成した。すなわち、本発
明は、ディスク基板上に、下地層、磁性層および保護層
を順次形成した後、テープクリーニングを行なう磁気デ
ィスクの製造方法において、磁気ディスクのクリーニン
グ部位が4.9〜9.1m/秒の速度で走行するよう
に、クリーニング部位の半径方向位置に応じて磁気ディ
スクの回転数を変化させながらテープクリーニングを行
なうことを特徴とする磁気ディスクの製造方法、を提供
するものである。Means for Solving the Problems The present invention pays attention to such a problem, and as a result of diligent studies, it has been found that the effect of tape cleaning depends on the traveling speed of the magnetic disk at the time of cleaning. . That is, according to the present invention, in a method of manufacturing a magnetic disk in which a base layer, a magnetic layer, and a protective layer are sequentially formed on a disk substrate and then tape cleaning is performed, the cleaning portion of the magnetic disk is 4.9 to 9.1 m / sec. It is intended to provide a method of manufacturing a magnetic disk, wherein tape cleaning is performed while changing the rotation speed of the magnetic disk in accordance with the radial position of the cleaning portion so as to run at a speed of seconds.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】本発明の磁気ディスクは、図1に
示すようにテキスチャ加工した非磁性基板上に、下地
層、磁性層をスパッタリングし、次いで保護層及び潤滑
剤層を設けた磁気ディスクであることが好ましい。非磁
性基板としては、アルミニウム合金基板、ガラス基板又
はケイ素基板が好適に使用されるが、銅、チタン等のそ
の他の金属基板、セラミック基板又は樹脂基板を使用す
ることもできる。基板は、通常、円盤状に形成される
が、その他の形状、例えば、カード状であってもよい。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A magnetic disk according to the present invention has a base layer and a magnetic layer sputtered on a textured non-magnetic substrate as shown in FIG. 1, and then a protective layer and a lubricant layer are provided. It is preferred that As the non-magnetic substrate, an aluminum alloy substrate, a glass substrate or a silicon substrate is preferably used, but other metal substrates such as copper and titanium, a ceramic substrate or a resin substrate can also be used. The substrate is usually formed in a disk shape, but may be in another shape, for example, a card shape.
【0007】基板の表面に直接下地層を形成することも
できるが、通常は基板の表面に表面層を形成し、該表面
層を介して下地層を形成する。表面層としては、NiP
合金から成る非磁性表面層が好適であり、通常、無電解
メッキ法又はスパッタリング法により形成される。表面
層の厚さは、通常、約50〜2000オングストローム
の範囲である。また、基板または表面層の表面には鏡面
加工(ポリッシュ加工)が施される。下地層としては、
クロム、銅等の金属層が好適であり、通常、スパッタリ
ング法により形成される。下地層の厚さは、通常、約5
0〜2000オングストロームである。Although an underlayer can be formed directly on the surface of the substrate, a surface layer is usually formed on the surface of the substrate, and the underlayer is formed via the surface layer. As the surface layer, NiP
A nonmagnetic surface layer made of an alloy is suitable, and is usually formed by an electroless plating method or a sputtering method. The thickness of the surface layer typically ranges from about 50 to 2000 Angstroms. The surface of the substrate or the surface layer is subjected to mirror finishing (polishing). As the underlayer,
A metal layer such as chromium or copper is suitable, and is usually formed by a sputtering method. The thickness of the underlayer is usually about 5
0 to 2000 angstroms.
【0008】磁性層は、通常、Co−Cr、Co−N
i、Co−Cr−X、Co−Ni−X、Co−W−X等
で表されるコバルト系強磁性合金薄膜によって構成され
る。ここでXとしては、Li、Si、P、Ca、Ti、
V、Cr、Ni、As、Y、Zr、Nb、Mo、Ru、
Ag、Sb、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、P
t、Au、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu
及びBよりなる群より選ばれた1種又は2種以上の元素
が用いられる。磁性層は、通常、無電解メッキ法、電気
メッキ法、蒸着法又はスパッタリング法によって形成さ
れる。磁性層の厚さは、通常、約100〜1000オン
グストロームの範囲である。The magnetic layer is usually made of Co—Cr, Co—N
i, Co-Cr-X, Co-Ni-X, Co-WX, etc. It is composed of a thin film of a cobalt-based ferromagnetic alloy. Here, X is Li, Si, P, Ca, Ti,
V, Cr, Ni, As, Y, Zr, Nb, Mo, Ru,
Ag, Sb, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, P
t, Au, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu
And one or more elements selected from the group consisting of B and B. The magnetic layer is usually formed by an electroless plating method, an electroplating method, a vapor deposition method or a sputtering method. The thickness of the magnetic layer typically ranges from about 100 to 1000 Angstroms.
【0009】本発明において、保護層としては、炭素
膜、水素化カーボン膜、窒素化カーボン膜、TiC、S
iC等の炭化膜、SiN、TiN等の窒化膜、SiO、
Al2O3 、ZrO等の酸化物膜等によって構成され、
通常、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティン
グ法、湿式法等により形成される。保護層としては、炭
素膜、水素化カーボン膜及び窒素化カーボン膜が特に好
ましい。保護層の厚さは、通常、約30〜700オング
ストローム、好ましくは約50〜500オングストロー
ムの範囲である。保護層が形成された磁気ディスクは研
磨テープを用いてテープクリーニングが行なわれる。研
磨テープとしては、通常、ポリエチレンテレフタレート
製、ポリアミド製等のフィルム上に粒径0.3〜3μm
のアルミナ粒子、SiC粒子等の研磨砥粒を担持した研
磨テープが用いられる。例えば、日本ミクロコーティン
グ株式会社製の“AWA8000 FNY”、“AWA
8000 NA1−C”等を用いることができる。In the present invention, as the protective layer, a carbon film, a hydrogenated carbon film, a nitrogenated carbon film, TiC,
carbide film such as iC, nitride film such as SiN and TiN, SiO,
An oxide film of Al 2 O 3 or ZrO or the like;
Usually, it is formed by a vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a wet method, or the like. As the protective layer, a carbon film, a hydrogenated carbon film and a nitrogenated carbon film are particularly preferable. The thickness of the protective layer typically ranges from about 30 to 700 Angstroms, preferably from about 50 to 500 Angstroms. The magnetic disk on which the protective layer is formed is subjected to tape cleaning using a polishing tape. As a polishing tape, usually, a film made of polyethylene terephthalate, polyamide, or the like has a particle size of 0.3 to 3 μm.
A polishing tape carrying polishing abrasive grains such as alumina particles and SiC particles is used. For example, “AWA8000 FNY” and “AWA8000” manufactured by Nihon Micro Coating Co., Ltd.
8000 NA1-C "can be used.
【0010】本発明においては、磁気ディスクを一定範
囲の回転走行速度に保持してテープクリーニングが行な
われる。テープクリーニング時の磁気ディスクの回転
は、研磨テープによる研磨位置が4.9〜9.1m/秒
の速度で回転走行する速さとされる。好ましくは、5.
6〜8.4m/秒、特に好ましくは6.3〜7.7m/
秒である。回転走行速度が4.9m/秒未満のときは、
研削不足となり易く、また、摩耗傷が生じ易く、また、
9.1m/秒を越えるときは研削不足が生じ易い。その
原因は明らかではないが、磁気ディスクと研磨テープの
接触状態に起因するものと考えられる。In the present invention, tape cleaning is performed while the magnetic disk is maintained at a constant rotational speed. The rotation of the magnetic disk at the time of tape cleaning is a speed at which the polishing position by the polishing tape rotates and runs at a speed of 4.9 to 9.1 m / sec. Preferably, 5.
6 to 8.4 m / sec, particularly preferably 6.3 to 7.7 m / sec.
Seconds. When the rotational traveling speed is less than 4.9 m / sec,
It is easy to be under-grinded, wear-prone, and
If it exceeds 9.1 m / sec, insufficient grinding is likely to occur. Although the cause is not clear, it is considered to be caused by the contact state between the magnetic disk and the polishing tape.
【0011】本発明においては、テープクリーニング部
分の回転走行速度を一定範囲とした状態でテープクリー
ニングを行なうことを特徴とする。従ってクリーニング
の半径位置によって磁気ディスクの回転速度を変化さ
せ、磁気ディスクの内周部を研削するときは単位時間当
りの回転数を大きくし、外周部に近づくに従って回転数
を小さくする。例えば、内周半径が15mm、外周半径
が47mmの磁気ディスクのテープクリーニングにおい
ては、内周部をクリーニングする際には、2230〜5
800rpm、好ましくは、3570〜5350rpm
の回転数とし、外周部をクリーニングするときは、71
0〜1850rpm、好ましくは1140〜1710r
pmとされる。The present invention is characterized in that the tape cleaning is performed in a state where the rotational running speed of the tape cleaning portion is within a certain range. Therefore, the rotational speed of the magnetic disk is changed depending on the radial position of the cleaning, and the rotational speed per unit time is increased when grinding the inner peripheral portion of the magnetic disk, and the rotational speed is decreased as approaching the outer peripheral portion. For example, in the tape cleaning of a magnetic disk having an inner radius of 15 mm and an outer radius of 47 mm, when cleaning the inner periphery, 2230 to 5230 are used.
800 rpm, preferably 3570-5350 rpm
When cleaning the outer peripheral portion, 71
0 to 1850 rpm, preferably 1140 to 1710 r
pm.
【0012】本発明のテープクリーニングにおいては、
クリーニングテープに空気を吹き付け、研削粉が磁気デ
ィスク上に滞留しないようにすることも有力な手法であ
る。保護層形成後のテープクリーニング工程の終了後、
通常、保護層の表面に潤滑剤層が設けられる。潤滑剤と
しては、例えば、フッ素系液体潤滑剤が使用され、通
常、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコー
ト法等により、保護層の表面に形成される。潤滑剤層の
厚さは、通常、約5〜50オングストロームの範囲であ
る。In the tape cleaning of the present invention,
Blowing air on the cleaning tape to prevent the grinding powder from staying on the magnetic disk is also an effective method. After the tape cleaning process after the formation of the protective layer,
Usually, a lubricant layer is provided on the surface of the protective layer. As the lubricant, for example, a fluorine-based liquid lubricant is used, and is usually formed on the surface of the protective layer by a dip coating method, a spin coating method, a spray coating method, or the like. The thickness of the lubricant layer typically ranges from about 5 to 50 angstroms.
【0013】[0013]
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例により限定されるものではない。 実施例及び比較例 無電解メッキ法によりNi−Pメッキを10μmの厚み
で施したアルミニウム合金ディスク基板の表面にポリッ
シュ加工を施し、該基板の表面層上に一般的なCr下地
膜、Co−Cr−Ta合金からなる磁性層及び炭素質膜
からなる保護膜を順次スパッタリング法により形成し
た。次いで、表−1に示した条件でテープクリーニング
工程を行なった。その後、フッ素系液体潤滑剤を塗布し
て磁気ディスクを製造した。その結果は表−1に示す通
りであった。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the scope of the invention. Examples and Comparative Examples The surface of an aluminum alloy disk substrate on which Ni-P plating was applied to a thickness of 10 μm by electroless plating was polished, and a general Cr underlayer, Co-Cr was formed on the surface layer of the substrate. A magnetic layer made of a -Ta alloy and a protective film made of a carbonaceous film were sequentially formed by a sputtering method. Next, a tape cleaning step was performed under the conditions shown in Table 1. Thereafter, a fluorine-based liquid lubricant was applied to manufacture a magnetic disk. The results were as shown in Table 1.
【0014】[0014]
【表1】 [Table 1]
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】磁気ディスクの製造工程を示すフローチャート
図FIG. 1 is a flowchart showing a manufacturing process of a magnetic disk.
Claims (3)
び保護層を順次形成した後テープクリーニングを行なう
磁気ディスクの製造方法において、磁気ディスクのクリ
ーニング部位が4.9〜9.1m/秒の速度で走行する
ように、クリーニング部位の半径方向位置に応じて磁気
ディスクの回転数を変化させながらテープクリーニング
を行なうことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。In a method of manufacturing a magnetic disk, in which a base layer, a magnetic layer, and a protective layer are sequentially formed on a disk substrate and then tape cleaning is performed, a cleaning portion of the magnetic disk has a cleaning speed of 4.9 to 9.1 m / sec. A method for manufacturing a magnetic disk, comprising: performing tape cleaning while changing the rotation speed of a magnetic disk according to a radial position of a cleaning portion so as to run at a speed.
速度が5.6〜8.4m/秒である請求項1記載の磁気
ディスクの製造方法。2. The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 1, wherein the traveling speed of the cleaning portion of the magnetic disk is 5.6 to 8.4 m / sec.
がらテープクリーニングを行なう請求項1または2記載
の磁気ディスクの製造方法。3. The method according to claim 1, wherein the tape cleaning is performed while blowing air on the cleaning tape.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6998198A JPH11273062A (en) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | Manufacture of magnetic disk |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6998198A JPH11273062A (en) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | Manufacture of magnetic disk |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11273062A true JPH11273062A (en) | 1999-10-08 |
Family
ID=13418362
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6998198A Pending JPH11273062A (en) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | Manufacture of magnetic disk |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11273062A (en) |
-
1998
- 1998-03-19 JP JP6998198A patent/JPH11273062A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2010012530A (en) | Polishing tape, its manufacturing method and burnishing method | |
JP2000195042A (en) | Magnetic storage medium and method of manufacturing the same | |
JPH08102163A (en) | Magnetic recording medium and magnetic disk device | |
JPH08180407A (en) | Manufacture of textured magnetic storage disk | |
JP2012142044A (en) | Method for manufacturing glass substrate for information recording medium and information recording medium | |
JP3554476B2 (en) | Glass substrate for information recording medium, method of manufacturing the same, magnetic recording medium using the substrate, and method of manufacturing the same | |
JPH11273062A (en) | Manufacture of magnetic disk | |
JPS5846767B2 (en) | Method for smoothing the surface of a magnetic disk substrate | |
JP3600767B2 (en) | Glass substrate for information recording medium, method of manufacturing the same, magnetic recording medium using the substrate, and method of manufacturing the same | |
JP2792239B2 (en) | Method and apparatus for smoothing surface of magnetic disk substrate | |
JPS6038720A (en) | Substrate for magnetic disk | |
JP2001067655A (en) | Manufacture of informaiton recording medium | |
US20060151436A2 (en) | Methodology of chemical mechanical nanogrinding for ultra precision finishing of workpieces | |
JPH0997417A (en) | Magnetic recording medium | |
JPH11232638A (en) | Magnetic disk and its formation | |
JPH09180177A (en) | Magnetic recording medium and magnetic disk device | |
JPH1040539A (en) | Magnetic recording medium and method for treating surface of the medium | |
JP2580762B2 (en) | Manufacturing method of magnetic recording medium | |
JPH10134349A (en) | Production of magnetic recording medium | |
JPH06325342A (en) | Magnetic recording medium | |
JPH0963046A (en) | Magnetic recording medium and its production | |
JPH11250454A (en) | Magnetic disk manufacture method | |
JPH11353647A (en) | Disk processor | |
JPH05135334A (en) | Magnetic head cleaning tape | |
JP2000105920A (en) | Magnetic recording medium and its production |