JPH09329720A - 集積型光導波路およびその製造法 - Google Patents
集積型光導波路およびその製造法Info
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- JPH09329720A JPH09329720A JP14722196A JP14722196A JPH09329720A JP H09329720 A JPH09329720 A JP H09329720A JP 14722196 A JP14722196 A JP 14722196A JP 14722196 A JP14722196 A JP 14722196A JP H09329720 A JPH09329720 A JP H09329720A
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- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
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- G02B6/1221—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths made from organic materials
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 １つの平板透光体中に各々独立した複数の光
導波路を形成しクロストークを大幅に低減させた集積型
光導波路を提供する。 【解決手段】 １つの平板透光体中に各々独立した複数
の光導波路を形成した集積型光導波路において、隣合う
各々独立した光導波路の中間にダミー光導波路を設けて
なる。 【効果】 アイソレーション３０ｄＢ以上の集積型光導
波路が得られた。
導波路を形成しクロストークを大幅に低減させた集積型
光導波路を提供する。 【解決手段】 １つの平板透光体中に各々独立した複数
の光導波路を形成した集積型光導波路において、隣合う
各々独立した光導波路の中間にダミー光導波路を設けて
なる。 【効果】 アイソレーション３０ｄＢ以上の集積型光導
波路が得られた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光カプラなどの光
部品に用いる光導波路に関し、詳しくは、一つの平板透
光体中に複数の光導波路を形成した集積型光導波路にお
けるクロストークを低減させてなるものである。
部品に用いる光導波路に関し、詳しくは、一つの平板透
光体中に複数の光導波路を形成した集積型光導波路にお
けるクロストークを低減させてなるものである。
【０００２】
【従来の技術】光カプラ、光スターカプラ、および光モ
ジュール等の光部品は、光ＬＡＮ、光通信、光計測制御
等の分野に不可欠のものであり、近年急速に適用範囲が
広まり、これに伴って、性能の向上、および小型化が求
められている。これらの光部品には、光信号を分岐もし
くは合流するため、または、ＬＤ、ＬＥＤ、ＰＤ等の発
光もしくは受光素子と結合するため光導波路が用いられ
る。光導波路は、光が伝搬する高屈折率のコア部分と、
コア周囲の低屈折率のクラッド部分とからなり、コアと
クラッドの光回路パターンを適正に設計することにより
目的にかなったものが得られる点に特徴がある。
ジュール等の光部品は、光ＬＡＮ、光通信、光計測制御
等の分野に不可欠のものであり、近年急速に適用範囲が
広まり、これに伴って、性能の向上、および小型化が求
められている。これらの光部品には、光信号を分岐もし
くは合流するため、または、ＬＤ、ＬＥＤ、ＰＤ等の発
光もしくは受光素子と結合するため光導波路が用いられ
る。光導波路は、光が伝搬する高屈折率のコア部分と、
コア周囲の低屈折率のクラッド部分とからなり、コアと
クラッドの光回路パターンを適正に設計することにより
目的にかなったものが得られる点に特徴がある。
【０００３】最近では、多数のコンピュータ間での光通
信のための光配線または光交換機内部の光配線等に、大
規模な光配線も試みられている。これらの用途にも上記
のような光導波路を用いた光部品が利用可能であるが、
従来のものを使用した場合には、光部品を多数必要と
し、光配線も莫大な数にのぼるため、光部品や光配線を
収納するためのスペースを広くとる必要があり、また、
配線に著しい労力を必要とする。
信のための光配線または光交換機内部の光配線等に、大
規模な光配線も試みられている。これらの用途にも上記
のような光導波路を用いた光部品が利用可能であるが、
従来のものを使用した場合には、光部品を多数必要と
し、光配線も莫大な数にのぼるため、光部品や光配線を
収納するためのスペースを広くとる必要があり、また、
配線に著しい労力を必要とする。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで、より小さいス
ペースで、かつ配線を容易にすることが課題とされる
が、これを達成するためには、個々の光部品を小型化す
るだけでは不十分であり、複数の光部品を一体化するこ
とが必須とされる。光導波路型の光部品は、一つの平板
透光体中に複数の光導波路を所望の寸法で容易に形成で
きることから、目的に適したものといえる。このような
集積型光導波路の一例として、一つの平板透光体中に２
分岐の光導波路を２系統有する光導波路の例を図７に示
した。
ペースで、かつ配線を容易にすることが課題とされる
が、これを達成するためには、個々の光部品を小型化す
るだけでは不十分であり、複数の光部品を一体化するこ
とが必須とされる。光導波路型の光部品は、一つの平板
透光体中に複数の光導波路を所望の寸法で容易に形成で
きることから、目的に適したものといえる。このような
集積型光導波路の一例として、一つの平板透光体中に２
分岐の光導波路を２系統有する光導波路の例を図７に示
した。
【０００５】しかしながら、一つの平板透光体中に複数
の各々独立した光導波路を形成した集積型光導波路の場
合には、一つの光導波路からその隣の光導波路への漏れ
光が無視できない程度生じるという問題、すなわち、隣
合う光導波路間のクロストークが大きくなってしまうと
いう問題があった。
の各々独立した光導波路を形成した集積型光導波路の場
合には、一つの光導波路からその隣の光導波路への漏れ
光が無視できない程度生じるという問題、すなわち、隣
合う光導波路間のクロストークが大きくなってしまうと
いう問題があった。
【０００６】本発明では、クロストークの量をアイソレ
ーション（ｄＢ）と表現することとし、以下の式で定義
する。 アイソレーション（ｄＢ）＝−10×log(Pj／Pi) 但し、Piは意図したポートにおける出光パワー、Pjは意
図しないポートにおける出光パワーを示す。例えば、図
７に示した２分岐光導波路を２系統有する集積型光導波
路においては、入光Poに対して、Pi、Pjは図のように対
応する。従って、「クロストークが大きい」と「アイソ
レーションが小さい」は同じ意味を持つ。
ーション（ｄＢ）と表現することとし、以下の式で定義
する。 アイソレーション（ｄＢ）＝−10×log(Pj／Pi) 但し、Piは意図したポートにおける出光パワー、Pjは意
図しないポートにおける出光パワーを示す。例えば、図
７に示した２分岐光導波路を２系統有する集積型光導波
路においては、入光Poに対して、Pi、Pjは図のように対
応する。従って、「クロストークが大きい」と「アイソ
レーションが小さい」は同じ意味を持つ。
【０００７】集積型光導波路におけるアイソレーション
は、隣合う光導波路間の距離等によっても異なるが、概
略 10〜20 dB(1/10〜1/100)程度である。クロストーク
が大きい場合には、光信号が意図しない箇所に伝わりシ
ステムの誤動作を生じる可能性が高くなる。クロストー
クがどの程度まで許容されるかは目的により異なり、一
概には論じられないが、信頼性の高い光配線を達成する
ためには、少なくともアイソレーションで20dB以上、よ
り好ましくは30dB以上のレベルが望ましい。本発明は、
クロストークの小さい集積型光導波路を提供することを
目的としてなされたものである。
は、隣合う光導波路間の距離等によっても異なるが、概
略 10〜20 dB(1/10〜1/100)程度である。クロストーク
が大きい場合には、光信号が意図しない箇所に伝わりシ
ステムの誤動作を生じる可能性が高くなる。クロストー
クがどの程度まで許容されるかは目的により異なり、一
概には論じられないが、信頼性の高い光配線を達成する
ためには、少なくともアイソレーションで20dB以上、よ
り好ましくは30dB以上のレベルが望ましい。本発明は、
クロストークの小さい集積型光導波路を提供することを
目的としてなされたものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本願発明者らは、上記問
題点を解決するため鋭意検討を行った結果、隣合う光導
波路の中間にダミーの光導波路を設けると、漏れ光はダ
ミー光導波路により遮断され、ダミーより遠方の隣の光
導波路には殆ど伝搬せず、結果としてクロストークを大
幅に低減可能であることを見出し、さらに検討を進めて
本発明を完成させた。
題点を解決するため鋭意検討を行った結果、隣合う光導
波路の中間にダミーの光導波路を設けると、漏れ光はダ
ミー光導波路により遮断され、ダミーより遠方の隣の光
導波路には殆ど伝搬せず、結果としてクロストークを大
幅に低減可能であることを見出し、さらに検討を進めて
本発明を完成させた。
【０００９】すなわち、本発明は、１つの平板透光体中
に各々独立した複数の光導波路を形成した集積型光導波
路において、隣合う各々独立した光導波路の中間にダミ
ー光導波路を設けてなる集積型光導波路であり、該隣合
う光導波路間のクロストークを低減したことを特徴とす
る。また、本発明は、隣合う各々独立した光導波路間に
設ける該ダミー光導波路の本数が１〜４本の範囲である
集積型光導波路であり、さらに、本発明は、該ダミー光
導波路を設けた集積型光導波路の最も好ましい製造法と
して、光重合性モノマーを含む透光性高分子フィルム
に、光回路パターンを形成したフォトマスクを通して光
照射し、露光部の光重合性モノマーを重合させた後、未
反応モノマーを乾燥除去して光回路を形成する光導波路
の製造法において、該フォトマスクとして請求項１記載
の該ダミー光導波路を有する集積型光導波路パターンを
形成したフォトマスクを用いることを特徴とする集積型
光導波路の製造法である。
に各々独立した複数の光導波路を形成した集積型光導波
路において、隣合う各々独立した光導波路の中間にダミ
ー光導波路を設けてなる集積型光導波路であり、該隣合
う光導波路間のクロストークを低減したことを特徴とす
る。また、本発明は、隣合う各々独立した光導波路間に
設ける該ダミー光導波路の本数が１〜４本の範囲である
集積型光導波路であり、さらに、本発明は、該ダミー光
導波路を設けた集積型光導波路の最も好ましい製造法と
して、光重合性モノマーを含む透光性高分子フィルム
に、光回路パターンを形成したフォトマスクを通して光
照射し、露光部の光重合性モノマーを重合させた後、未
反応モノマーを乾燥除去して光回路を形成する光導波路
の製造法において、該フォトマスクとして請求項１記載
の該ダミー光導波路を有する集積型光導波路パターンを
形成したフォトマスクを用いることを特徴とする集積型
光導波路の製造法である。
【００１０】以下に、本発明について詳細に説明する。
図１−ａ、ｂ、ｃ、ｄは、本発明のダミー光導波路を設
けた集積型光導波路の例であり、図の斜線部がダミー光
導波路である。まず、ダミー光導波路の幅及び形状につ
いては、光導波路としての機能を果たすものであれば何
等制限はない。例えば、幅は 5〜500 μｍ程度で、必ず
しも一様な幅にする必要はなく、また、形状としては伝
搬方向に直線で走る光導波路、あるいは隣合う独立した
光導波路と同一形状のものを並行して走らせる等任意に
考えてよい。
図１−ａ、ｂ、ｃ、ｄは、本発明のダミー光導波路を設
けた集積型光導波路の例であり、図の斜線部がダミー光
導波路である。まず、ダミー光導波路の幅及び形状につ
いては、光導波路としての機能を果たすものであれば何
等制限はない。例えば、幅は 5〜500 μｍ程度で、必ず
しも一様な幅にする必要はなく、また、形状としては伝
搬方向に直線で走る光導波路、あるいは隣合う独立した
光導波路と同一形状のものを並行して走らせる等任意に
考えてよい。
【００１１】次に、ダミー光導波路の幅方向の設置箇所
については、ダミー光導波路を設ける目的が漏れ光を遮
断することにあることから、隣合う光導波路の中間であ
れば任意の箇所でよく、一方の光導波路寄りの箇所であ
っても、丁度中間の箇所であってもかまわない。また、
伝搬方向の設置箇所に関しては、光導波路の全域に設け
るのが最も効果は大きいが、図１−ｄのように一部の領
域であってもよい。
については、ダミー光導波路を設ける目的が漏れ光を遮
断することにあることから、隣合う光導波路の中間であ
れば任意の箇所でよく、一方の光導波路寄りの箇所であ
っても、丁度中間の箇所であってもかまわない。また、
伝搬方向の設置箇所に関しては、光導波路の全域に設け
るのが最も効果は大きいが、図１−ｄのように一部の領
域であってもよい。
【００１２】また、ダミー光導波路は１本でも効果は大
きいが、本数を多くすると遮断効果はさらに増大する。
許容されるクロストークの大きさにもよるが、１〜４本
程度でアイソレーションは25〜35dB程度が得られる場合
が多いため、実用上は１〜４本の範囲で十分と考えられ
る。図１−ｂはダミー光導波路を２本設けた例を示して
いる。
きいが、本数を多くすると遮断効果はさらに増大する。
許容されるクロストークの大きさにもよるが、１〜４本
程度でアイソレーションは25〜35dB程度が得られる場合
が多いため、実用上は１〜４本の範囲で十分と考えられ
る。図１−ｂはダミー光導波路を２本設けた例を示して
いる。
【００１３】本発明の集積型光導波路に用いる光導波路
は、光導波路の材料や製造方法に関して何等限定される
ものではないが、特に、光重合性モノマーを含む透光性
高分子フィルムに、光回路パターンを形成したフォトマ
スクを通して光照射し、露光部の光重合性モノマーを重
合させた後、未反応モノマーを乾燥除去して光回路を形
成する選択光重合法（特公昭56-3522 ）による高分子光
導波路の製造法において、該フォトマスクとして前記ダ
ミー光導波路を有する集積型光導波路パターンを形成し
たフォトマスクを用いることにより容易に製造できる。
は、光導波路の材料や製造方法に関して何等限定される
ものではないが、特に、光重合性モノマーを含む透光性
高分子フィルムに、光回路パターンを形成したフォトマ
スクを通して光照射し、露光部の光重合性モノマーを重
合させた後、未反応モノマーを乾燥除去して光回路を形
成する選択光重合法（特公昭56-3522 ）による高分子光
導波路の製造法において、該フォトマスクとして前記ダ
ミー光導波路を有する集積型光導波路パターンを形成し
たフォトマスクを用いることにより容易に製造できる。
【００１４】図８にこの選択光重合法の一例を示した。
光重合性モノマーと増感剤とを所定量含有する透光性高
分子溶液を用い、キャスティング法により、光重合性モ
ノマーを含む透光性高分子フィルムを作製する第１工程
（図８ａ）、該フィルムにフォトマスクを重ね、光照射
して露光部の光重合性モノマーを重合させる第２工程
（図８ｂ）、真空乾燥により未反応モノマーを除去する
第３工程（図８ｃ）、得られたフィルムの表裏にクラッ
ド層を形成する第４工程（図８ｄ）よりなる。なお、こ
の製造法において、フィルムの表裏に形成するクラッド
層は、光回路フィルムを基板で補強して光回路プレート
を製作する際に、フィルムの固定に用いる接着剤で兼用
することもできる。
光重合性モノマーと増感剤とを所定量含有する透光性高
分子溶液を用い、キャスティング法により、光重合性モ
ノマーを含む透光性高分子フィルムを作製する第１工程
（図８ａ）、該フィルムにフォトマスクを重ね、光照射
して露光部の光重合性モノマーを重合させる第２工程
（図８ｂ）、真空乾燥により未反応モノマーを除去する
第３工程（図８ｃ）、得られたフィルムの表裏にクラッ
ド層を形成する第４工程（図８ｄ）よりなる。なお、こ
の製造法において、フィルムの表裏に形成するクラッド
層は、光回路フィルムを基板で補強して光回路プレート
を製作する際に、フィルムの固定に用いる接着剤で兼用
することもできる。
【００１５】上記選択光重合法は、光重合性モノマーの
種類や濃度を調節することによって光ファイバの開口数
（NA）や寸法に合わせた最適な高分子光回路を容易に製
造できる特徴を有し、安価な製造装置で、精密に製作さ
れたフォトマスクの光回路パターンが高精度に、かつ良
好な収率で高分子フィルムに転写できる利点がある。こ
れらの点から、本発明の集積型光導波路の製造法とし
て、選択光重合法は最適であった。
種類や濃度を調節することによって光ファイバの開口数
（NA）や寸法に合わせた最適な高分子光回路を容易に製
造できる特徴を有し、安価な製造装置で、精密に製作さ
れたフォトマスクの光回路パターンが高精度に、かつ良
好な収率で高分子フィルムに転写できる利点がある。こ
れらの点から、本発明の集積型光導波路の製造法とし
て、選択光重合法は最適であった。
【００１６】
【実施例】以下、実施例により本発明についてさらに詳
しく説明する。なお、以下に例示する実施例は具体的に
説明するためのものであって、本発明の実施態様や発明
範囲を限定するものではない。
しく説明する。なお、以下に例示する実施例は具体的に
説明するためのものであって、本発明の実施態様や発明
範囲を限定するものではない。
【００１７】実施例１ (1). フォトマスクの設計、製作 コア径62.5μｍ、クラッド径 125μｍ（以下62.5/125と
略）のＧＩ光ファイバ用２分岐回路を２系列集積した光
回路として、図２に示した隣合う各々独立した光導波路
の中間に１本のダミー光導波路を有する光回路を設計
し、石英フォトマスクを製作した。なお、このダミー光
導波路は幅10μｍの一定幅であり、隣合う光導波路の丁
度中間を走る直線とした。また、光回路の寸法は、長さ
は12mm、２分岐側の光導波路端部のピッチはすべて 125
μｍ、１本側のピッチは 250μｍとした。
略）のＧＩ光ファイバ用２分岐回路を２系列集積した光
回路として、図２に示した隣合う各々独立した光導波路
の中間に１本のダミー光導波路を有する光回路を設計
し、石英フォトマスクを製作した。なお、このダミー光
導波路は幅10μｍの一定幅であり、隣合う光導波路の丁
度中間を走る直線とした。また、光回路の寸法は、長さ
は12mm、２分岐側の光導波路端部のピッチはすべて 125
μｍ、１本側のピッチは 250μｍとした。
【００１８】(2). 光導波路フィルムの製作 光導波路フィルムの製作は、特公昭56-3522 に記載され
た選択光重合法により実施した。すなわち、ビスフェノ
ールＺから合成されたポリカーボネート（三菱ガス化学
（株）製、商品名ユーピロンＺ）に光重合性モノマーと
してアクリル酸メチル、光重合開始剤としてベンゾイン
エチルエーテルを含むフィルムを作製し、これに上記
(1) で製作したフォトマスクを重ねて、常法に従って紫
外線露光を行い露光部のアクリル酸メチルモノマーを重
合させた。次いで、非露光部のアクリル酸メチルモノマ
ーを真空乾燥して除去し、非露光部がポリカーボネート
の単独相で露光部がポリカーボネートとアクリル酸メチ
ルポリマーの混合相からなる厚さ50μｍのポリマーフィ
ルムを得た。
た選択光重合法により実施した。すなわち、ビスフェノ
ールＺから合成されたポリカーボネート（三菱ガス化学
（株）製、商品名ユーピロンＺ）に光重合性モノマーと
してアクリル酸メチル、光重合開始剤としてベンゾイン
エチルエーテルを含むフィルムを作製し、これに上記
(1) で製作したフォトマスクを重ねて、常法に従って紫
外線露光を行い露光部のアクリル酸メチルモノマーを重
合させた。次いで、非露光部のアクリル酸メチルモノマ
ーを真空乾燥して除去し、非露光部がポリカーボネート
の単独相で露光部がポリカーボネートとアクリル酸メチ
ルポリマーの混合相からなる厚さ50μｍのポリマーフィ
ルムを得た。
【００１９】(3). 光回路部の製作 光導波路を形成したフィルムを、上下のクラッド層を兼
ねる屈折率 1.57 の接着剤を用いて２枚のガラス板で挟
着し光回路部を作製した後、両端を研磨し、以下のよう
に挿入損失を測定し、アイソレーションを算出した。
ねる屈折率 1.57 の接着剤を用いて２枚のガラス板で挟
着し光回路部を作製した後、両端を研磨し、以下のよう
に挿入損失を測定し、アイソレーションを算出した。
【００２０】(4). 挿入損失の測定、およびアイソレー
ションの算出 作製した集積型光導波路端面の各々の入出光ポートを図
２のように１本側をそれぞれＡ、Ｂ、また、２分岐側を
それぞれ１、２、３、４と符号を付けることにする。波
長0.85μｍのＬＥＤ光源から62.5/125ＧＩ光ファイバを
用いて２分岐光回路の一本側のポートＡに接続して発光
させ、順次光回路の分岐側のポート１、２、３および4
より出射する光を同一の光ファイバを用いて光パワーメ
ータに導き、それぞれの出射光強度を測定した。
ションの算出 作製した集積型光導波路端面の各々の入出光ポートを図
２のように１本側をそれぞれＡ、Ｂ、また、２分岐側を
それぞれ１、２、３、４と符号を付けることにする。波
長0.85μｍのＬＥＤ光源から62.5/125ＧＩ光ファイバを
用いて２分岐光回路の一本側のポートＡに接続して発光
させ、順次光回路の分岐側のポート１、２、３および4
より出射する光を同一の光ファイバを用いて光パワーメ
ータに導き、それぞれの出射光強度を測定した。
【００２１】また、光回路を通さずに、ＬＥＤ光を同一
の光ファイバを用いて直接パワーメータに接続して光強
度を測定し、本測定値を光回路への入射光強度とした。
これらの測定より、以下の式にてポート１、２、３、４
におけるそれぞれの挿入損失を求めた。 挿入損失（ｄＢ）＝−10×log(出射光強度／入射光強
度) 本測定では、ポート３及び４（意図しないポート）の出
射光はクロストークであり、クロストークの大きさとし
てのアイソレーションは、ポート３、４における挿入損
失の小さい方の値とポート１、２（意図したポート）に
おける挿入損失の大きい方の値との差(dB)として、計算
した。
の光ファイバを用いて直接パワーメータに接続して光強
度を測定し、本測定値を光回路への入射光強度とした。
これらの測定より、以下の式にてポート１、２、３、４
におけるそれぞれの挿入損失を求めた。 挿入損失（ｄＢ）＝−10×log(出射光強度／入射光強
度) 本測定では、ポート３及び４（意図しないポート）の出
射光はクロストークであり、クロストークの大きさとし
てのアイソレーションは、ポート３、４における挿入損
失の小さい方の値とポート１、２（意図したポート）に
おける挿入損失の大きい方の値との差(dB)として、計算
した。
【００２２】同様にして、ポートＢへの接続に対して
も、ポート１及び２（意図しないポート）、並びに３及
び４（意図したポート）におけるそれぞれの挿入損失を
求め、同様にアイソレーションを計算した。これらの結
果を表１に示した。（以下の表に示すアイソレーション
の数値はすべて、意図しないポートと意図したポートに
おける挿入損失の差が最小になる組み合わせで計算し
た。）
も、ポート１及び２（意図しないポート）、並びに３及
び４（意図したポート）におけるそれぞれの挿入損失を
求め、同様にアイソレーションを計算した。これらの結
果を表１に示した。（以下の表に示すアイソレーション
の数値はすべて、意図しないポートと意図したポートに
おける挿入損失の差が最小になる組み合わせで計算し
た。）
【００２３】
【表１】 入光Ａ 入光Ｂ 挿入損失 出光１ * 3.52 34.20 ２ 3.52 *34.01 ３ *34.13 * 3.53 ４ 34.27 3.53 アイソレーション 30.61 30.48 注) *はアイソレーション算出に用いたデータを示す（単位：ｄＢ）。
【００２４】実施例２、３ 62.5/125ＧＩ光ファイバ用２分岐回路を２系列集積した
光回路として、図３、図４に示されるように、ダミー光
導波路の本数をそれぞれ２本 (実施例２）、４本（実施
例３）とした光回路を設計し、石英フォトマスクを製作
した後、実施例１と同様の方法で光回路の作製、および
挿入損失の測定を行い、アイソレーションを算出した。
なお、これらダミー光導波路は、幅５μｍとし、各々独
立した光導波路に並行して走る形状とした。結果をそれ
ぞれ表２に示した。
光回路として、図３、図４に示されるように、ダミー光
導波路の本数をそれぞれ２本 (実施例２）、４本（実施
例３）とした光回路を設計し、石英フォトマスクを製作
した後、実施例１と同様の方法で光回路の作製、および
挿入損失の測定を行い、アイソレーションを算出した。
なお、これらダミー光導波路は、幅５μｍとし、各々独
立した光導波路に並行して走る形状とした。結果をそれ
ぞれ表２に示した。
【００２５】
【表２】 実施例２（２本） 実施例３（４本） 入光Ａ 入光Ｂ 入光Ａ 入光Ｂ 挿入損失 出光１ * 3.54 *37.92 * 3.51 *39.08 ２ 3.54 38.86 3.51 39.80 ３ 38.15 * 3.64 38.69 3.52 ４ *37.41 3.64 *37.97 * 3.54 アイソレーション 33.87 34.28 34.46 35.56 注）* はアイソレーション算出に用いたデータを示す（単位：ｄＢ）。
【００２６】参考例１ 62.5/125ＧＩ光ファイバ用２分岐回路を２系列集積した
光回路として、図６に示されるように、図２におけるダ
ミー光導波路を除去した光回路を設計し、石英フォトマ
スクを製作した後、実施例１と同様の方法で光回路の作
製、および挿入損失の測定を行い、アイソレーションを
算出した。結果を表３に示した。
光回路として、図６に示されるように、図２におけるダ
ミー光導波路を除去した光回路を設計し、石英フォトマ
スクを製作した後、実施例１と同様の方法で光回路の作
製、および挿入損失の測定を行い、アイソレーションを
算出した。結果を表３に示した。
【００２７】
【表３】 入光Ａ 入光Ｂ 挿入損失 出光１ * 3.52 *21.68 ２ 3.52 21.85 ３ 22.86 * 3.53 ４ *22.15 3.53 アイソレーション 18.63 18.15 注）* はアイソレーション算出に用いたデータを示す（単位：ｄＢ）。
【００２８】実施例４ 62.5/125ＧＩ光ファイバ用２分岐回路を４系列集積した
光回路として、図５に示されるように、隣合う各々独立
した光導波路の中間にダミー光導波路を各２本ずつ有す
る光回路を設計し、石英フォトマスクを製作した後、実
施例１と同様の方法で光回路の作製、および挿入損失の
測定を行い、アイソレーションを算出した。なお、個々
の光導波路、およびダミー光導波路の形状は図３と同一
とした。また、各々の入出光ポートの符号は、図５のよ
うに１本側をそれぞれＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、また２分岐側を
それぞれ１、２、３、４、５、６、７、８とした。結果
を表４に示した。
光回路として、図５に示されるように、隣合う各々独立
した光導波路の中間にダミー光導波路を各２本ずつ有す
る光回路を設計し、石英フォトマスクを製作した後、実
施例１と同様の方法で光回路の作製、および挿入損失の
測定を行い、アイソレーションを算出した。なお、個々
の光導波路、およびダミー光導波路の形状は図３と同一
とした。また、各々の入出光ポートの符号は、図５のよ
うに１本側をそれぞれＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、また２分岐側を
それぞれ１、２、３、４、５、６、７、８とした。結果
を表４に示した。
【００２９】
【表４】 入光Ａ 入光Ｂ 入光Ｃ 入光Ｄ 挿入損失 出光１ * 3.57 38.97 48.32 >60 ２ 3.57 38.85 47.79 56.21 ３ 37.35 * 3.54 *37.70 48.89 ４ *37.05 3.53 37.99 48.76 ５ 46.31 38.08 * 3.57 38.47 ６ 46.51 *37.25 3.55 *37.52 ７ 50.77 44.87 38.52 3.61 ８ 51.19 46.17 38.09 * 3.65 アイソレーション 33.48 33.71 34.13 33.87 注）* はアイソレーション算出に用いたデータを示す（単位：ｄＢ）。
【００３０】以上の実施例、および参考例から明らかな
ように、ダミー光導波路のない集積型光導波路ではクロ
ストークが大きく、アイソレーションは18dB程度である
のに対して、ダミー光導波路を設けた場合にはいずれも
アイソレーションは30dB以上が得られている。また、ダ
ミー光導波路の本数は１本でも大きな効果が認められ、
実用上は１〜４本程度で十分なことがわかる。
ように、ダミー光導波路のない集積型光導波路ではクロ
ストークが大きく、アイソレーションは18dB程度である
のに対して、ダミー光導波路を設けた場合にはいずれも
アイソレーションは30dB以上が得られている。また、ダ
ミー光導波路の本数は１本でも大きな効果が認められ、
実用上は１〜４本程度で十分なことがわかる。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、集積型光導波路におけ
るクロストークを実用上問題とならないレベルにまで容
易に低減可能である。集積型光導波路の実用化により、
光導波路部品は大幅に小型化されるとともに、光配線が
極めて容易となるため、大規模な光配線も手間をかけず
に低コストで実施可能となる。
るクロストークを実用上問題とならないレベルにまで容
易に低減可能である。集積型光導波路の実用化により、
光導波路部品は大幅に小型化されるとともに、光配線が
極めて容易となるため、大規模な光配線も手間をかけず
に低コストで実施可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のダミー光導波路を設けた集積型光導波
路の例を示す平面図。
路の例を示す平面図。
【図２】本発明の実施例１の光導波路作製に用いた石英
フォトマスクパターンの平面図。
フォトマスクパターンの平面図。
【図３】本発明の実施例２の光導波路作製に用いた石英
フォトマスクパターンの平面図。
フォトマスクパターンの平面図。
【図４】本発明の実施例３の光導波路作製に用いた石英
フォトマスクパターンの平面図。
フォトマスクパターンの平面図。
【図５】本発明の実施例４の光導波路作製に用いた石英
フォトマスクパターンの平面図。
フォトマスクパターンの平面図。
【図６】本発明の参考例の光導波路作製に用いた石英フ
ォトマスクパターンの平面図。
ォトマスクパターンの平面図。
【図７】集積型光導波路の一例を示す平面図。
【図８】選択光重合法による高分子光導波路の製造法の
フローを示す図。
フローを示す図。
Claims (3)
- 【請求項１】 １つの平板透光体中に各々独立した複数
の光導波路を形成した集積型光導波路において、隣合う
各々独立した光導波路の中間にダミー光導波路を設けて
なる集積型光導波路。 - 【請求項２】 隣合う各々独立した光導波路間に設ける
該ダミー光導波路の本数が１〜４本の範囲である請求項
１記載の集積型光導波路。 - 【請求項３】 光重合性モノマーを含む透光性高分子フ
ィルムに、光回路パターンを形成したフォトマスクを通
して光照射し、露光部の光重合性モノマーを重合させた
後、未反応モノマーを乾燥除去して光回路を形成する光
導波路の製造法において、該フォトマスクとして請求項
１記載の該ダミー光導波路を有する集積型光導波路パタ
ーンを形成したフォトマスクを用いることを特徴とする
集積型光導波路の製造法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14722196A JPH09329720A (ja) | 1996-06-10 | 1996-06-10 | 集積型光導波路およびその製造法 |
| EP97304031A EP0813077A3 (en) | 1996-06-10 | 1997-06-10 | Integrated optical waveguide and method for manufacturing same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14722196A JPH09329720A (ja) | 1996-06-10 | 1996-06-10 | 集積型光導波路およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09329720A true JPH09329720A (ja) | 1997-12-22 |
Family
ID=15425316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14722196A Pending JPH09329720A (ja) | 1996-06-10 | 1996-06-10 | 集積型光導波路およびその製造法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0813077A3 (ja) |
| JP (1) | JPH09329720A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005116705A1 (ja) * | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Omron Corporation | 光分岐器及びその製造方法 |
| JP2006139269A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-06-01 | Hitachi Chem Co Ltd | 光導波路を含む光システム及び光合分波器 |
| JP2010060669A (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光導波路 |
| JP2014002218A (ja) * | 2012-06-15 | 2014-01-09 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光導波路および電子機器 |
| WO2020145257A1 (ja) * | 2019-01-10 | 2020-07-16 | 日本電信電話株式会社 | 光信号処理装置 |
| US12007665B2 (en) | 2019-01-10 | 2024-06-11 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Optical signal processing apparatus |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100095707A1 (en) * | 2008-10-21 | 2010-04-22 | Qualcomm Mems Technologies,Inc. | Fabricating optical waveguides |
| CN106575015A (zh) * | 2014-08-04 | 2017-04-19 | 住友电木株式会社 | 波导 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3871412D1 (de) * | 1987-03-10 | 1992-07-02 | Oki Electric Ind Co Ltd | Optische schaltmatrix. |
| JP2512775B2 (ja) * | 1987-12-15 | 1996-07-03 | 松下電工株式会社 | 光センサ |
| US5054872A (en) * | 1990-03-16 | 1991-10-08 | Ibm Corporation | Polymeric optical waveguides and methods of forming the same |
| US5783844A (en) * | 1994-09-28 | 1998-07-21 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Optical semiconductor device |
-
1996
- 1996-06-10 JP JP14722196A patent/JPH09329720A/ja active Pending
-
1997
- 1997-06-10 EP EP97304031A patent/EP0813077A3/en not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005116705A1 (ja) * | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Omron Corporation | 光分岐器及びその製造方法 |
| US7335875B2 (en) | 2004-05-27 | 2008-02-26 | Omron Corporation | Optical branching unit, and method of manufacturing the same |
| JP2006139269A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-06-01 | Hitachi Chem Co Ltd | 光導波路を含む光システム及び光合分波器 |
| JP2010060669A (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光導波路 |
| JP2014002218A (ja) * | 2012-06-15 | 2014-01-09 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光導波路および電子機器 |
| WO2020145257A1 (ja) * | 2019-01-10 | 2020-07-16 | 日本電信電話株式会社 | 光信号処理装置 |
| JP2020112666A (ja) * | 2019-01-10 | 2020-07-27 | 日本電信電話株式会社 | 光信号処理装置 |
| US12007665B2 (en) | 2019-01-10 | 2024-06-11 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Optical signal processing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0813077A3 (en) | 1998-10-14 |
| EP0813077A2 (en) | 1997-12-17 |
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