JPH09323245A - 薄板の研磨方法 - Google Patents
薄板の研磨方法Info
- Publication number
- JPH09323245A JPH09323245A JP14253096A JP14253096A JPH09323245A JP H09323245 A JPH09323245 A JP H09323245A JP 14253096 A JP14253096 A JP 14253096A JP 14253096 A JP14253096 A JP 14253096A JP H09323245 A JPH09323245 A JP H09323245A
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- thin plates
- polishing
- outer periphery
- thin plate
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、無公害の環境保護対策を施した薄
板の研磨方法を提供することを目的とするものである。 【解決手段】 セラミック円板１を積層した積層体２
に、水を供給するとともに液体窒素を供給して水を凍ら
せることによりセラミック円板１間を接着する。そして
積層体２のセラミック円板１間を氷で接着したままの状
態で外周を研磨する。
板の研磨方法を提供することを目的とするものである。 【解決手段】 セラミック円板１を積層した積層体２
に、水を供給するとともに液体窒素を供給して水を凍ら
せることによりセラミック円板１間を接着する。そして
積層体２のセラミック円板１間を氷で接着したままの状
態で外周を研磨する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば圧電磁器な
どの薄板の研磨方法に関するものである。
どの薄板の研磨方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来圧電磁器などの円板状の薄板の外周
加工は、薄板を積み重ねてワックスで薄板間を接着固定
し、円筒研削板を用いて外周を研磨していた。
加工は、薄板を積み重ねてワックスで薄板間を接着固定
し、円筒研削板を用いて外周を研磨していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この方法では、外周を
研磨した後、加熱してワックスの接着力を弱めて薄板を
分離し、次にトリクロールエタンなどの有機溶剤で洗浄
する必要があった。
研磨した後、加熱してワックスの接着力を弱めて薄板を
分離し、次にトリクロールエタンなどの有機溶剤で洗浄
する必要があった。
【０００４】そこで本発明は、有機溶剤などの洗浄液を
用いる必要がなく、大気中で自然に分離できる無公害の
環境保護対策を施した薄板の研磨方法を提供することを
目的とするものである。
用いる必要がなく、大気中で自然に分離できる無公害の
環境保護対策を施した薄板の研磨方法を提供することを
目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の薄板の研磨方法は、複数の薄板を積層し、こ
の薄板間を氷で固定し、前記薄板の外周を研磨するもの
であり、この方法により上記目的が達成できる。
に本発明の薄板の研磨方法は、複数の薄板を積層し、こ
の薄板間を氷で固定し、前記薄板の外周を研磨するもの
であり、この方法により上記目的が達成できる。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、複数の薄板を積層し、この薄板間を氷で固定し、前
記薄板の外周を研磨する研磨方法であり、研磨終了後、
氷が解けることにより薄板を分離できる。
は、複数の薄板を積層し、この薄板間を氷で固定し、前
記薄板の外周を研磨する研磨方法であり、研磨終了後、
氷が解けることにより薄板を分離できる。
【０００７】請求項２に記載の発明は、薄板として、ガ
ラス、セラミックなどの脆性材料で形成されたものを用
いるものであり、容易に研磨することができる。
ラス、セラミックなどの脆性材料で形成されたものを用
いるものであり、容易に研磨することができる。
【０００８】請求項３に記載の発明は、薄板として、ゴ
ムなど機械的に支持しにくい弾性体で形成されたものを
用いるものであり、凍らせて研磨することにより、精度
良く研磨することができる。
ムなど機械的に支持しにくい弾性体で形成されたものを
用いるものであり、凍らせて研磨することにより、精度
良く研磨することができる。
【０００９】以下本発明の一実施の形態について図面を
参照しながら説明する。 （実施の形態１）図２（ａ），（ｂ）は被加工物である
セラミック円板１の上面図とその断面図で、直径１５m
m、厚み０．２mmと非常に薄い薄板である。図３は図２
に示すセラミック円板１を円筒状に１００〜３００mmの
高さに積層した積層体２を示している。図１は、円筒加
工機で図３に示す積層体２を研磨している状態を示すも
のであり、５のブレードで積層体２を支持しつつ、４の
調整車で積層体２の位置を調整しながら、３の研削砥石
で積層体２の外周を研磨するものである。このとき積層
体２、研削砥石３、調整車４はいずれも回転し、積層体
２は研削砥石３、調整車４と逆方向に回転している。積
層体２の外周を研磨する直前に、水吐出部７から適量の
水を積層体２に供給するとともに液体窒素供給タンク６
の供給口６ａから適量の液体窒素を積層体２に供給し、
この水を凍らせることにより積層体２セラミック円板１
間を接着する。このとき液体窒素の供給口６ａと積層体
２とをできるだけ接近させておくことが望ましい。そし
て積層体２のセラミック円板１間を氷で接着したままの
状態で外周を研磨する。
参照しながら説明する。 （実施の形態１）図２（ａ），（ｂ）は被加工物である
セラミック円板１の上面図とその断面図で、直径１５m
m、厚み０．２mmと非常に薄い薄板である。図３は図２
に示すセラミック円板１を円筒状に１００〜３００mmの
高さに積層した積層体２を示している。図１は、円筒加
工機で図３に示す積層体２を研磨している状態を示すも
のであり、５のブレードで積層体２を支持しつつ、４の
調整車で積層体２の位置を調整しながら、３の研削砥石
で積層体２の外周を研磨するものである。このとき積層
体２、研削砥石３、調整車４はいずれも回転し、積層体
２は研削砥石３、調整車４と逆方向に回転している。積
層体２の外周を研磨する直前に、水吐出部７から適量の
水を積層体２に供給するとともに液体窒素供給タンク６
の供給口６ａから適量の液体窒素を積層体２に供給し、
この水を凍らせることにより積層体２セラミック円板１
間を接着する。このとき液体窒素の供給口６ａと積層体
２とをできるだけ接近させておくことが望ましい。そし
て積層体２のセラミック円板１間を氷で接着したままの
状態で外周を研磨する。
【００１０】セラミック円板１間の接着は、全面接着さ
れている必要はなく、積層体２が分離しない程度に接着
されていればよい。
れている必要はなく、積層体２が分離しない程度に接着
されていればよい。
【００１１】セラミック円板１として圧電磁器を用いた
場合、分極後に外周研磨を行うが、液体窒素による冷却
効果により、研磨の際の熱による歪みが発生しにくくな
ると思われる。
場合、分極後に外周研磨を行うが、液体窒素による冷却
効果により、研磨の際の熱による歪みが発生しにくくな
ると思われる。
【００１２】なお本実施の形態においては、セラミック
円板１間を氷で接着するために液体窒素を用いたが、液
体アルゴンなど気化する際に水を凍らせてしまうもので
あれば構わない。また薄板としてセラミック円板１を用
いたがガラスやゴムなどの弾性体あるいは金属薄板など
高精度に外周を研磨する必要のある直径が約１０〜３０
mm、厚みが約０．２〜３mm程度の薄板において優れた効
果を有する。
円板１間を氷で接着するために液体窒素を用いたが、液
体アルゴンなど気化する際に水を凍らせてしまうもので
あれば構わない。また薄板としてセラミック円板１を用
いたがガラスやゴムなどの弾性体あるいは金属薄板など
高精度に外周を研磨する必要のある直径が約１０〜３０
mm、厚みが約０．２〜３mm程度の薄板において優れた効
果を有する。
【００１３】また水にアミン系の水溶性洗浄液を混合す
ることにより、研磨と同時に洗浄も行うことができる。
アミン系の水溶性洗浄液を用いるのは、無公害であり環
境保護を考慮したためである。
ることにより、研磨と同時に洗浄も行うことができる。
アミン系の水溶性洗浄液を用いるのは、無公害であり環
境保護を考慮したためである。
【００１４】
【発明の効果】以上のように本発明は、氷で薄板間を固
定し、その外周を研磨するため、研磨後大気中で分離で
き、従来のように洗浄液が不要であるという自然環境を
考慮したものである。また従来のようにワックスを除去
する必要がないので、工程数が削減でき生産性も向上す
る。さらにワックスを用いて薄板間を接着していたとき
よりも接合距離を短くできるので精度良く、大量に研磨
できる。
定し、その外周を研磨するため、研磨後大気中で分離で
き、従来のように洗浄液が不要であるという自然環境を
考慮したものである。また従来のようにワックスを除去
する必要がないので、工程数が削減でき生産性も向上す
る。さらにワックスを用いて薄板間を接着していたとき
よりも接合距離を短くできるので精度良く、大量に研磨
できる。
【図１】本発明の一実施の形態における積層体の研磨の
様子を示す図
様子を示す図
【図２】（ａ）本発明の一実施の形態におけるセラミッ
ク円板の上面図 （ｂ）同断面図
ク円板の上面図 （ｂ）同断面図
【図３】本発明の一実施の形態におけるセラミック円板
を積層した積層体の斜視図
を積層した積層体の斜視図
【符号の説明】 １ セラミック円板 ２ 積層体 ３ 研削砥石
Claims (3)
- 【請求項１】 複数の薄板を積層し、この薄板間を氷で
固定し、前記薄板の外周を研磨する薄板の研磨方法。 - 【請求項２】 薄板は、ガラス、セラミックなどの脆性
材料で形成されたものを用いる請求項１に記載の薄板の
研磨方法。 - 【請求項３】 薄板は、ゴムなどの弾性体で形成された
ものを用いる請求項１に記載の薄板の研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14253096A JPH09323245A (ja) | 1996-06-05 | 1996-06-05 | 薄板の研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14253096A JPH09323245A (ja) | 1996-06-05 | 1996-06-05 | 薄板の研磨方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09323245A true JPH09323245A (ja) | 1997-12-16 |
Family
ID=15317509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14253096A Pending JPH09323245A (ja) | 1996-06-05 | 1996-06-05 | 薄板の研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09323245A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2400059A (en) * | 2003-04-01 | 2004-10-06 | Unova | A method and apparatus for grinding using liquid nitrogen coolant |
| JP2004282053A (ja) * | 2003-02-26 | 2004-10-07 | Kyocera Corp | 積層型電子部品及びその製法並びに噴射装置 |
| WO2013042689A1 (ja) * | 2011-09-22 | 2013-03-28 | 電気化学工業株式会社 | 硬質基板積層体の加工方法及び板状製品の製造方法 |
| CN107664370A (zh) * | 2017-09-20 | 2018-02-06 | 哈尔滨工程大学 | 一种打磨粗冰试件的装置 |
-
1996
- 1996-06-05 JP JP14253096A patent/JPH09323245A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004282053A (ja) * | 2003-02-26 | 2004-10-07 | Kyocera Corp | 積層型電子部品及びその製法並びに噴射装置 |
| GB2400059A (en) * | 2003-04-01 | 2004-10-06 | Unova | A method and apparatus for grinding using liquid nitrogen coolant |
| GB2400059B (en) * | 2003-04-01 | 2005-03-09 | Unova | Workpiece cooling during grinding |
| WO2013042689A1 (ja) * | 2011-09-22 | 2013-03-28 | 電気化学工業株式会社 | 硬質基板積層体の加工方法及び板状製品の製造方法 |
| JPWO2013042689A1 (ja) * | 2011-09-22 | 2015-03-26 | 電気化学工業株式会社 | 硬質基板積層体の加工方法及び板状製品の製造方法 |
| CN107664370A (zh) * | 2017-09-20 | 2018-02-06 | 哈尔滨工程大学 | 一种打磨粗冰试件的装置 |
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