JPH09318532A - ガス分析計の校正装置 - Google Patents
ガス分析計の校正装置Info
- Publication number
- JPH09318532A JPH09318532A JP15310996A JP15310996A JPH09318532A JP H09318532 A JPH09318532 A JP H09318532A JP 15310996 A JP15310996 A JP 15310996A JP 15310996 A JP15310996 A JP 15310996A JP H09318532 A JPH09318532 A JP H09318532A
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- gas
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- calibration
- flow rate
- gases
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 周囲条件に適した信頼性の高い校正が可能な
ガス分析計の校正装置を提供する。 【解決手段】 複数のベースガスの供給源１２〜１５
と、その各供給源から供給されるベースガスの流量を調
整するための流量調整手段１６，２０、１７，２１、１
８，２２、１９，２３と、その各流量調整手段を経由し
て供給される各ベースガスを混合するための混合容器１
０と、その混合容器内で混合されたベースガスをガス分
析計１に導入するための校正ガスライン９とを具備して
いる。
ガス分析計の校正装置を提供する。 【解決手段】 複数のベースガスの供給源１２〜１５
と、その各供給源から供給されるベースガスの流量を調
整するための流量調整手段１６，２０、１７，２１、１
８，２２、１９，２３と、その各流量調整手段を経由し
て供給される各ベースガスを混合するための混合容器１
０と、その混合容器内で混合されたベースガスをガス分
析計１に導入するための校正ガスライン９とを具備して
いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガス分析計の校正装
置に係り、詳しくは、非分散形の赤外線ガス分析計にお
けるベースガスの影響を除去する技術分野に属する。
置に係り、詳しくは、非分散形の赤外線ガス分析計にお
けるベースガスの影響を除去する技術分野に属する。
【０００２】
【従来の技術】非分散形の赤外線ガス分析計において
は、サンプルガス中のベースガスにより指示値がシフト
するという問題があり、その対策として、比較的に安価
で入手が容易なＮ2 ガス及び空気をベースとした校正ガ
スが用いられることが多い。
は、サンプルガス中のベースガスにより指示値がシフト
するという問題があり、その対策として、比較的に安価
で入手が容易なＮ2 ガス及び空気をベースとした校正ガ
スが用いられることが多い。
【０００３】この場合、それぞれの測定条件に合わせ
て、その校正ガスの濃度対応の出力（検量線）を電気的
にシフトさせることにより、ベースガスによる測定値へ
の影響を除去するための校正がおこなわれていた。ま
た、共有成分ガスの影響を受ける場合も、１成分のスパ
ンガスでスパン校正をすることが多かった。
て、その校正ガスの濃度対応の出力（検量線）を電気的
にシフトさせることにより、ベースガスによる測定値へ
の影響を除去するための校正がおこなわれていた。ま
た、共有成分ガスの影響を受ける場合も、１成分のスパ
ンガスでスパン校正をすることが多かった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、多くの場
合、周囲条件としての実際のベースガスのＮ2 ，Ｈ2 及
びＯ2 の構成比率はそれぞれ異なることが多い。従っ
て、従来のように、Ｎ2 ガス及び空気をベースとする校
正ガスの濃度対応の出力を電気的にシフトさせるだけで
は、周囲条件に満足に対応できず、信頼性の高いゼロ点
校正はできなかった。この点については、スパン校正に
おいても同様であった。
合、周囲条件としての実際のベースガスのＮ2 ，Ｈ2 及
びＯ2 の構成比率はそれぞれ異なることが多い。従っ
て、従来のように、Ｎ2 ガス及び空気をベースとする校
正ガスの濃度対応の出力を電気的にシフトさせるだけで
は、周囲条件に満足に対応できず、信頼性の高いゼロ点
校正はできなかった。この点については、スパン校正に
おいても同様であった。
【０００５】また、周囲条件の変化等によりベースガス
の構成が変化した場合には、その変化に合わせて検量線
を調整する作業がおこなわれていたが、その調整作業は
きわめて煩瑣であった。
の構成が変化した場合には、その変化に合わせて検量線
を調整する作業がおこなわれていたが、その調整作業は
きわめて煩瑣であった。
【０００６】本発明は、このような実情に鑑みてなさ
れ、周囲条件に適した信頼性の高い校正が可能なガス分
析計の校正装置を提供することを目的としている。
れ、周囲条件に適した信頼性の高い校正が可能なガス分
析計の校正装置を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の課題を
解決するための手段を以下のように構成している。すな
わち、請求項１に記載の発明では、測定対象ガスの赤外
吸収帯以外の赤外吸収帯を有する複数のベースガスの供
給源と、その各供給源から供給されるベースガスの流量
を調整するための流量調整手段と、その各流量調整手段
を経由して供給される各ベースガスを混合するための混
合容器と、その混合容器内で混合されたベースガスをガ
ス分析計に導入するための校正ガスラインとを具備して
なることを特徴としている。
解決するための手段を以下のように構成している。すな
わち、請求項１に記載の発明では、測定対象ガスの赤外
吸収帯以外の赤外吸収帯を有する複数のベースガスの供
給源と、その各供給源から供給されるベースガスの流量
を調整するための流量調整手段と、その各流量調整手段
を経由して供給される各ベースガスを混合するための混
合容器と、その混合容器内で混合されたベースガスをガ
ス分析計に導入するための校正ガスラインとを具備して
なることを特徴としている。
【０００８】請求項２に記載の発明では、請求項１に記
載の混合容器に、流量調整手段を介してスパンガスの供
給源を接続してなることを特徴としている。
載の混合容器に、流量調整手段を介してスパンガスの供
給源を接続してなることを特徴としている。
【０００９】
【作用】各ベースガスの流量を個々に調整して混合する
ことにより、周囲条件と等しい構成のベースガスを作成
することができ、信頼性の高い校正が可能となる。
ことにより、周囲条件と等しい構成のベースガスを作成
することができ、信頼性の高い校正が可能となる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下に本発明のガス分析計の校正
装置の実施形態を詳細に説明する。図１は、ガス分析計
の校正装置の構成を示し、符号１は非分散形の赤外線ガ
ス分析計、２はサンプリングライン、３，４はポンプ、
５は流量計、６はフィルタ、７は調圧器、８は切替弁、
９は校正ガスライン、１０は混合容器、１１はベースガ
ス供給装置で、１２はＨｅガスボンベ、１３はＨ2 ガス
ボンベ、１４はＯ2ガスボンベ、１５はＮ2 ガスボン
ベ、１６〜１９は調圧弁、２０〜２３はニードルバル
ブ、２４は例えばＮ2 ガスボンベ等のスパンガス供給ボ
ンベ、２５は調圧器、２６はニードルバルブである。な
お、各調圧器１６〜１９，２５とニードルバルブ２０〜
２３，２６でそれぞれ流量調整手段を構成している。
装置の実施形態を詳細に説明する。図１は、ガス分析計
の校正装置の構成を示し、符号１は非分散形の赤外線ガ
ス分析計、２はサンプリングライン、３，４はポンプ、
５は流量計、６はフィルタ、７は調圧器、８は切替弁、
９は校正ガスライン、１０は混合容器、１１はベースガ
ス供給装置で、１２はＨｅガスボンベ、１３はＨ2 ガス
ボンベ、１４はＯ2ガスボンベ、１５はＮ2 ガスボン
ベ、１６〜１９は調圧弁、２０〜２３はニードルバル
ブ、２４は例えばＮ2 ガスボンベ等のスパンガス供給ボ
ンベ、２５は調圧器、２６はニードルバルブである。な
お、各調圧器１６〜１９，２５とニードルバルブ２０〜
２３，２６でそれぞれ流量調整手段を構成している。
【００１１】図示のように、校正ガスライン９にベース
ガス供給装置１１を接続したので、ユーザーサイドのデ
ータに基づいて、各ベースガスＨｅ，Ｈ2 ，Ｏ2 ，Ｎ2
の混合比率が、その時点での周囲条件に適合する値とな
るように、調圧弁１６〜１９及びニードルバルブ２０〜
２３の操作により各ベースガスの流量を調整し、混合容
器１０に導入してこれらを混合させた後、校正ガスライ
ン９から赤外線ガス分析計１に導入することにより、信
頼性の高いゼロ点校正をおこなうことができる。
ガス供給装置１１を接続したので、ユーザーサイドのデ
ータに基づいて、各ベースガスＨｅ，Ｈ2 ，Ｏ2 ，Ｎ2
の混合比率が、その時点での周囲条件に適合する値とな
るように、調圧弁１６〜１９及びニードルバルブ２０〜
２３の操作により各ベースガスの流量を調整し、混合容
器１０に導入してこれらを混合させた後、校正ガスライ
ン９から赤外線ガス分析計１に導入することにより、信
頼性の高いゼロ点校正をおこなうことができる。
【００１２】上述の各ベースガスＨｅ，Ｈ2 ，Ｏ2 ，Ｎ
2 等は、プラントメーカの実績から求められるものであ
るが、使用段階において、その時点での周囲条件に応じ
て適宜に選択できることが望ましく、上記の他に、測定
対象成分の持つ赤外吸収帯と重なることのない赤外吸収
帯を有するガスであれば、例えばＣＯ2 やＨ2 Ｏ等をベ
ースガスに加えてもよい。
2 等は、プラントメーカの実績から求められるものであ
るが、使用段階において、その時点での周囲条件に応じ
て適宜に選択できることが望ましく、上記の他に、測定
対象成分の持つ赤外吸収帯と重なることのない赤外吸収
帯を有するガスであれば、例えばＣＯ2 やＨ2 Ｏ等をベ
ースガスに加えてもよい。
【００１３】一方、スパン校正をおこなう場合には、ベ
ースガス供給装置１１の各ガスボンベ１２〜１５と共
に、スパンガス供給ボンベ２４を開き、サンプリングラ
イン２と校正ガスライン９の流量比と、ベースガス個々
の流量比とを調整することにより、サンプルガスのベー
スガス濃度に合うようにスパンガスを作成する。これに
より、サンプルガスと同じベースガス条件の設定がで
き、信頼性の高いスパン校正が可能となる。
ースガス供給装置１１の各ガスボンベ１２〜１５と共
に、スパンガス供給ボンベ２４を開き、サンプリングラ
イン２と校正ガスライン９の流量比と、ベースガス個々
の流量比とを調整することにより、サンプルガスのベー
スガス濃度に合うようにスパンガスを作成する。これに
より、サンプルガスと同じベースガス条件の設定がで
き、信頼性の高いスパン校正が可能となる。
【００１４】スパン校正ガスの濃度は、例えばベースガ
スをＨｅ，Ｈ2 ，Ｏ2 ，Ｎ2 とし、スパン校正ガスをＮ
2 とする場合、以下の式より求められる。 一方、各ベースガスの比率は、前述のように、そのベー
スガス個々の流量比によって決定されるので、ユーザー
サイドで予め把握してあるデータに基づいて、スパン校
正をおこなう前に、その各ベースガスの流量比の設定を
おこなえばよい。
スをＨｅ，Ｈ2 ，Ｏ2 ，Ｎ2 とし、スパン校正ガスをＮ
2 とする場合、以下の式より求められる。 一方、各ベースガスの比率は、前述のように、そのベー
スガス個々の流量比によって決定されるので、ユーザー
サイドで予め把握してあるデータに基づいて、スパン校
正をおこなう前に、その各ベースガスの流量比の設定を
おこなえばよい。
【００１５】以上により、従来のようなベースガスのシ
フト操作が不要となり、また、周囲条件が変化しても、
個々のベースガスの流量調整をおこなうことにより、従
来のように検量線を調整する必要がなくなり、周囲条件
に適合した信頼性の高い校正が可能となる。さらに、ミ
ックスガスの作成が可能であるため、多成分計において
も一度で校正を済ませることができる。
フト操作が不要となり、また、周囲条件が変化しても、
個々のベースガスの流量調整をおこなうことにより、従
来のように検量線を調整する必要がなくなり、周囲条件
に適合した信頼性の高い校正が可能となる。さらに、ミ
ックスガスの作成が可能であるため、多成分計において
も一度で校正を済ませることができる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のガス分析
装置の校正装置によれば、流量調整手段を介して供給さ
れる各ベースガスを混合容器内で、所望の比率に混合し
て周囲条件に合ったベースガスの作成ができるようにし
たので、ベースガスの電気的なシフトが不要となり、ま
た、周囲条件に応じてその都度、検量線を確認すること
も不要となり、能率よく信頼性の高い校正が可能とな
る。
装置の校正装置によれば、流量調整手段を介して供給さ
れる各ベースガスを混合容器内で、所望の比率に混合し
て周囲条件に合ったベースガスの作成ができるようにし
たので、ベースガスの電気的なシフトが不要となり、ま
た、周囲条件に応じてその都度、検量線を確認すること
も不要となり、能率よく信頼性の高い校正が可能とな
る。
【図１】本発明のガス分析計の校正装置の構成図であ
る。
る。
１…ガス分析計、９…校正ガスライン、１０…混合容
器、１２〜１５…ベースガスの供給源、１６，２０、１
７，２１、１８，２２、１９，２３、２５，２６…流量
調整手段、２４…スパンガスの供給源。
器、１２〜１５…ベースガスの供給源、１６，２０、１
７，２１、１８，２２、１９，２３、２５，２６…流量
調整手段、２４…スパンガスの供給源。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 治田 和彦 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内
Claims (2)
- 【請求項１】 測定対象ガスの赤外吸収帯以外の赤外吸
収帯を有する複数のベースガスの供給源と、その各供給
源から供給されるベースガスの流量を調整するための流
量調整手段と、その各流量調整手段を経由して供給され
る各ベースガスを混合するための混合容器と、その混合
容器内で混合されたベースガスをガス分析計に導入する
ための校正ガスラインとを具備してなることを特徴とす
るガス分析計の校正装置。 - 【請求項２】 前記混合容器に、流量調整手段を介して
スパンガスの供給源を接続してなることを特徴とする請
求項１に記載のガス分析計の校正装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15310996A JPH09318532A (ja) | 1996-05-25 | 1996-05-25 | ガス分析計の校正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15310996A JPH09318532A (ja) | 1996-05-25 | 1996-05-25 | ガス分析計の校正装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09318532A true JPH09318532A (ja) | 1997-12-12 |
Family
ID=15555177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15310996A Pending JPH09318532A (ja) | 1996-05-25 | 1996-05-25 | ガス分析計の校正装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09318532A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006153561A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Hitachi Ltd | 発電機ガス純度計校正装置 |
| US8089046B2 (en) * | 2008-09-19 | 2012-01-03 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for calibrating mass flow controllers |
-
1996
- 1996-05-25 JP JP15310996A patent/JPH09318532A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006153561A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Hitachi Ltd | 発電機ガス純度計校正装置 |
| JP4494945B2 (ja) * | 2004-11-26 | 2010-06-30 | 日立Ｇｅニュークリア・エナジー株式会社 | 発電機ガス純度計校正装置 |
| US8089046B2 (en) * | 2008-09-19 | 2012-01-03 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for calibrating mass flow controllers |
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