JPH07174674A - 校正用標準ガス発生装置 - Google Patents
校正用標準ガス発生装置Info
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- JPH07174674A JPH07174674A JP31959093A JP31959093A JPH07174674A JP H07174674 A JPH07174674 A JP H07174674A JP 31959093 A JP31959093 A JP 31959093A JP 31959093 A JP31959093 A JP 31959093A JP H07174674 A JPH07174674 A JP H07174674A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 被測定ガスの湿度及び温度に等しいゼロ点校
正用若しくはスパン点校正用標準ガスを発生することが
可能な校正用標準ガス発生装置を実現する。 【構成】 ガス測定装置に用いられ、吸引したガスを脱
臭してゼロ点校正用標準ガスを発生させる校正用標準ガ
ス発生装置において、ゼロ点校正用標準ガスを発生させ
る標準ガス発生手段と、ゼロ点校正用標準ガスを加湿
し、被測定ガスと熱的に接触させて被測定ガスと湿度及
び温度が等しいゼロ点校正用標準ガスを発生させる加湿
手段とを設ける。また、ゼロ点校正用標準ガスを加湿
し、スパン点校正用物質の飽和ガスを混合し、被測定ガ
スと熱的に接触させて被測定ガスと湿度及び温度が等し
いスパン点校正用標準ガスを発生させる加湿手段とを設
ける。
正用若しくはスパン点校正用標準ガスを発生することが
可能な校正用標準ガス発生装置を実現する。 【構成】 ガス測定装置に用いられ、吸引したガスを脱
臭してゼロ点校正用標準ガスを発生させる校正用標準ガ
ス発生装置において、ゼロ点校正用標準ガスを発生させ
る標準ガス発生手段と、ゼロ点校正用標準ガスを加湿
し、被測定ガスと熱的に接触させて被測定ガスと湿度及
び温度が等しいゼロ点校正用標準ガスを発生させる加湿
手段とを設ける。また、ゼロ点校正用標準ガスを加湿
し、スパン点校正用物質の飽和ガスを混合し、被測定ガ
スと熱的に接触させて被測定ガスと湿度及び温度が等し
いスパン点校正用標準ガスを発生させる加湿手段とを設
ける。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は匂いセンサ等のガスセン
サの校正に用いる標準ガス発生装置に関し、特に被測定
ガスと等しい湿度及び温度の校正用標準ガスを発生させ
る校正用標準ガス発生装置に関する。
サの校正に用いる標準ガス発生装置に関し、特に被測定
ガスと等しい湿度及び温度の校正用標準ガスを発生させ
る校正用標準ガス発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のガス測定装置では、例えば実開平
2−45445号公報等に記載されているように校正用
標準ガスを用いてゼロ点校正を行い被測定ガスを測定し
ている。図6はこのような従来のガス測定装置の一例を
示す構成ブロック図である。
2−45445号公報等に記載されているように校正用
標準ガスを用いてゼロ点校正を行い被測定ガスを測定し
ている。図6はこのような従来のガス測定装置の一例を
示す構成ブロック図である。
【0003】図6において1は吸着剤を通過させて脱臭
する活性炭フィルタ等の標準ガス発生手段、2は切り換
え手段、3は匂いセンサ等のガスセンサを用いたガス測
定手段である。また、100は被測定ガスの吸気口、1
01はガス測定手段3の排気口、102はガス測定手段
3の出力信号である。
する活性炭フィルタ等の標準ガス発生手段、2は切り換
え手段、3は匂いセンサ等のガスセンサを用いたガス測
定手段である。また、100は被測定ガスの吸気口、1
01はガス測定手段3の排気口、102はガス測定手段
3の出力信号である。
【0004】標準ガス発生手段1の出力口及び吸気口1
00は切り換え手段2の2つの入力口にそれぞれ接続さ
れ、切り換え手段2の出力ガスはガス測定手段3に供給
される。ガス測定手段3には切り換え手段2から供給さ
れたガスを排気する排気口101が設けられ、出力信号
102が出力される。
00は切り換え手段2の2つの入力口にそれぞれ接続さ
れ、切り換え手段2の出力ガスはガス測定手段3に供給
される。ガス測定手段3には切り換え手段2から供給さ
れたガスを排気する排気口101が設けられ、出力信号
102が出力される。
【0005】ここで、図6に示す従来例の動作を説明す
る。先ず、切り換え手段2で標準ガス発生手段1を選択
し、標準ガス発生手段1からのゼロ点校正用標準ガスを
ガス測定手段3に供給する。ガス測定手段3ではこのゼ
ロ点校正用標準ガスを用いてオフセット成分を求め、こ
のオフセット成分を用いてガスセンサ(図示せず。)の
ゼロ点校正をする。
る。先ず、切り換え手段2で標準ガス発生手段1を選択
し、標準ガス発生手段1からのゼロ点校正用標準ガスを
ガス測定手段3に供給する。ガス測定手段3ではこのゼ
ロ点校正用標準ガスを用いてオフセット成分を求め、こ
のオフセット成分を用いてガスセンサ(図示せず。)の
ゼロ点校正をする。
【0006】次に、切り換え手段2で吸気口100を選
択し、被測定ガスをガス測定手段3に供給する。ガス測
定手段3ではこの被測定ガスを測定して結果を出力信号
102として出力する。
択し、被測定ガスをガス測定手段3に供給する。ガス測
定手段3ではこの被測定ガスを測定して結果を出力信号
102として出力する。
【0007】この結果、図6に示す従来例では被測定ガ
スに含まれるオフセット成分を除去することができ、よ
り正確なガス測定が可能になる。
スに含まれるオフセット成分を除去することができ、よ
り正確なガス測定が可能になる。
【0008】また、図6に示す従来例中標準ガス発生手
段1では、吸引したガスを吸着剤に通過させることによ
り脱臭し、ゼロ点校正用標準ガスである無臭空気を発生
させている。
段1では、吸引したガスを吸着剤に通過させることによ
り脱臭し、ゼロ点校正用標準ガスである無臭空気を発生
させている。
【0009】さらに、標準ガス発生手段1において前記
ゼロ点校正用標準ガスではなく所定量のガスを含有する
スパン点校正用標準ガスを発生させることにより、スパ
ン点校正を行うことも可能である。
ゼロ点校正用標準ガスではなく所定量のガスを含有する
スパン点校正用標準ガスを発生させることにより、スパ
ン点校正を行うことも可能である。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図6に示す従
来例において、ゼロ点校正用若しくはスパン点校正用標
準ガスの湿度は低いのに対して、一般に被測定ガスには
空気中の水分が含まれる場合があり、校正用標準ガスと
被測定ガスとの湿度は異なってしまう。また、校正用標
準ガスと被測定ガスとの温度も一般には一致しない。
来例において、ゼロ点校正用若しくはスパン点校正用標
準ガスの湿度は低いのに対して、一般に被測定ガスには
空気中の水分が含まれる場合があり、校正用標準ガスと
被測定ガスとの湿度は異なってしまう。また、校正用標
準ガスと被測定ガスとの温度も一般には一致しない。
【0011】一方、匂いセンサ等のガスセンサは一般に
湿度及び温度の変化によって出力が変化してしまうた
め、前記湿度差及び温度差が存在するゼロ点校正用若し
くはスパン点校正用標準ガスを用いて正確な校正ができ
ないと言った問題点がある。従って本発明の目的は、被
測定ガスの湿度及び温度に等しいゼロ点校正用若しくは
スパン点校正用標準ガスを発生することが可能な校正用
標準ガス発生装置を実現することにある。
湿度及び温度の変化によって出力が変化してしまうた
め、前記湿度差及び温度差が存在するゼロ点校正用若し
くはスパン点校正用標準ガスを用いて正確な校正ができ
ないと言った問題点がある。従って本発明の目的は、被
測定ガスの湿度及び温度に等しいゼロ点校正用若しくは
スパン点校正用標準ガスを発生することが可能な校正用
標準ガス発生装置を実現することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の第1では、ガス測定装置に用いら
れ、吸引したガスを脱臭してゼロ点校正用標準ガスを発
生させる校正用標準ガス発生装置において、前記ゼロ点
校正用標準ガスを発生させる標準ガス発生手段と、前記
ゼロ点校正用標準ガスを加湿し、被測定ガスと熱的に接
触させて前記被測定ガスと湿度及び温度が等しいゼロ点
校正用標準ガスを発生させる加湿手段とを備えたことを
特徴とするものである。
るために、本発明の第1では、ガス測定装置に用いら
れ、吸引したガスを脱臭してゼロ点校正用標準ガスを発
生させる校正用標準ガス発生装置において、前記ゼロ点
校正用標準ガスを発生させる標準ガス発生手段と、前記
ゼロ点校正用標準ガスを加湿し、被測定ガスと熱的に接
触させて前記被測定ガスと湿度及び温度が等しいゼロ点
校正用標準ガスを発生させる加湿手段とを備えたことを
特徴とするものである。
【0013】本発明の第2では、本発明の第1に対して
ゼロ点校正用標準ガスを加湿し、スパン点校正用物質の
飽和ガスを混合し、被測定ガスと熱的に接触させて前記
被測定ガスと湿度及び温度が等しいスパン点校正用標準
ガスを発生させる加湿手段とを備えたことを特徴とする
ものである。
ゼロ点校正用標準ガスを加湿し、スパン点校正用物質の
飽和ガスを混合し、被測定ガスと熱的に接触させて前記
被測定ガスと湿度及び温度が等しいスパン点校正用標準
ガスを発生させる加湿手段とを備えたことを特徴とする
ものである。
【0014】本発明の第3では、本発明の第1に対して
被測定ガスと湿度及び温度が等しいゼロ点校正用標準ガ
スに対し周囲温度に基づきスパン点校正用物質の飽和ガ
スを混合する加湿手段を備えたことを特徴とするもので
ある。
被測定ガスと湿度及び温度が等しいゼロ点校正用標準ガ
スに対し周囲温度に基づきスパン点校正用物質の飽和ガ
スを混合する加湿手段を備えたことを特徴とするもので
ある。
【0015】
【作用】ゼロ点校正用標準ガスを加湿して湿度を調整
し、被測定ガスと熱的に接触させることにより、被測定
ガスの湿度及び温度に等しいゼロ点校正用標準ガスを発
生することができる。
し、被測定ガスと熱的に接触させることにより、被測定
ガスの湿度及び温度に等しいゼロ点校正用標準ガスを発
生することができる。
【0016】また、前記ゼロ点校正用標準ガスにスパン
点校正用物質の飽和ガスを混合してい湿度及び温度を調
整することにより、若しくは、被測定ガスの湿度及び温
度に等しい前記ゼロ点校正用標準ガスにスパン点校正用
物質の飽和ガスを混合することにより、被測定ガスの湿
度及び温度に等しいスパン点校正用標準ガスを発生する
ことができる。
点校正用物質の飽和ガスを混合してい湿度及び温度を調
整することにより、若しくは、被測定ガスの湿度及び温
度に等しい前記ゼロ点校正用標準ガスにスパン点校正用
物質の飽和ガスを混合することにより、被測定ガスの湿
度及び温度に等しいスパン点校正用標準ガスを発生する
ことができる。
【0017】
【実施例】以下本発明を図面を用いて詳細に説明する。
図1は本発明に係る校正用標準ガス発生装置の第1の実
施例を示す構成ブロック図である。図1において4はポ
ンプ、5は脱臭用活性炭フィルタ、6及び7は流量制御
装置、8は蒸留水が満たされたバブリングボトル、9は
制御回路、10は湿度センサセル、11及び12は湿度
センサである。
図1は本発明に係る校正用標準ガス発生装置の第1の実
施例を示す構成ブロック図である。図1において4はポ
ンプ、5は脱臭用活性炭フィルタ、6及び7は流量制御
装置、8は蒸留水が満たされたバブリングボトル、9は
制御回路、10は湿度センサセル、11及び12は湿度
センサである。
【0018】また、103及び104は校正用標準ガス
発生装置の吸気口及び出力口である。さらに、4及び5
は標準ガス発生手段50を、6〜12は加湿手段51を
それぞれ構成している。
発生装置の吸気口及び出力口である。さらに、4及び5
は標準ガス発生手段50を、6〜12は加湿手段51を
それぞれ構成している。
【0019】吸気口103はポンプ4に接続され、ポン
プ4の出力ガスは活性炭フィルタ5に供給される。活性
炭フィルタ5の出力ガスは流量制御装置6及び7にそれ
ぞれ供給され、流量制御装置7の出力ガスはバブリング
ボトル8に供給される。
プ4の出力ガスは活性炭フィルタ5に供給される。活性
炭フィルタ5の出力ガスは流量制御装置6及び7にそれ
ぞれ供給され、流量制御装置7の出力ガスはバブリング
ボトル8に供給される。
【0020】流量制御装置6及びバブリングボトル8の
出力ガスは湿度センサセル10の手前で混合され、湿度
センサセル10を通過した後校正用標準ガスとして出力
口104から出力される。また、湿度センサ11が湿度
センサセル10中に設けられ、被測定ガス中に湿度セン
サ12が設けられる。
出力ガスは湿度センサセル10の手前で混合され、湿度
センサセル10を通過した後校正用標準ガスとして出力
口104から出力される。また、湿度センサ11が湿度
センサセル10中に設けられ、被測定ガス中に湿度セン
サ12が設けられる。
【0021】湿度センサ11及び12の出力は制御回路
9に接続され、制御回路9の2つの制御信号は流量制御
装置6及び7にそれぞれ接続される。
9に接続され、制御回路9の2つの制御信号は流量制御
装置6及び7にそれぞれ接続される。
【0022】また、湿度センサセル10は前記被測定ガ
スと熱的に十分接触しており、湿度センサ11と湿度セ
ンサ12との周辺ガスの温度、即ち、被測定ガスと校正
用標準ガス発生装置の出力ガスとはほぼ同じ温度にな
る。
スと熱的に十分接触しており、湿度センサ11と湿度セ
ンサ12との周辺ガスの温度、即ち、被測定ガスと校正
用標準ガス発生装置の出力ガスとはほぼ同じ温度にな
る。
【0023】ここで、図1に示す第1の実施例の動作を
説明する。ポンプ4を用いて吸気口103から空気若し
くは被測定ガスを吸引する。この吸引されたガスは活性
炭フィルタ5によって脱臭されて無臭空気になる。一般
に、活性炭フィルタ5は空気中の匂い成分のみならず水
分も吸着するので、吸引した空気等よりも無臭空気の湿
度は低くなる。
説明する。ポンプ4を用いて吸気口103から空気若し
くは被測定ガスを吸引する。この吸引されたガスは活性
炭フィルタ5によって脱臭されて無臭空気になる。一般
に、活性炭フィルタ5は空気中の匂い成分のみならず水
分も吸着するので、吸引した空気等よりも無臭空気の湿
度は低くなる。
【0024】この無臭空気は流量制御装置6及び7に供
給され、流量制御装置7の出力ガスはバブリングボトル
8を通過させられることにより相対湿度でほぼ100%
に加湿される。一方、流量制御装置6の出力ガスは前述
のように加湿されたバブリングボトル8の出力ガスと混
合される。
給され、流量制御装置7の出力ガスはバブリングボトル
8を通過させられることにより相対湿度でほぼ100%
に加湿される。一方、流量制御装置6の出力ガスは前述
のように加湿されたバブリングボトル8の出力ガスと混
合される。
【0025】この混合ガスは湿度センサセル10に供給
され、熱的接触により被測定ガスとほぼ同じ温度に調整
されると共に湿度センサ11で混合ガスの湿度が測定さ
れる。一方、被測定ガスの湿度は湿度センサ12で測定
され、混合ガスの湿度データと共に制御回路9に入力さ
れる。
され、熱的接触により被測定ガスとほぼ同じ温度に調整
されると共に湿度センサ11で混合ガスの湿度が測定さ
れる。一方、被測定ガスの湿度は湿度センサ12で測定
され、混合ガスの湿度データと共に制御回路9に入力さ
れる。
【0026】制御回路9では流量制御装置6及び7に流
れる無臭空気の流量を例えばPID(Proportional,Inte
gration and Differential )制御等により制御して、被
測定ガスの湿度と前記混合ガスの湿度が等しくなるよう
にする。
れる無臭空気の流量を例えばPID(Proportional,Inte
gration and Differential )制御等により制御して、被
測定ガスの湿度と前記混合ガスの湿度が等しくなるよう
にする。
【0027】上述のように生成された混合ガスはゼロ点
校正用標準ガスとして出力口104から次の装置である
ガス測定装置等(図示せず。)に対して出力される。
校正用標準ガスとして出力口104から次の装置である
ガス測定装置等(図示せず。)に対して出力される。
【0028】この結果、ゼロ点校正用標準ガスを加湿し
て湿度を調整し、被測定ガスと熱的に接触させることに
より、被測定ガスの湿度及び温度に等しいゼロ点校正用
標準ガスを発生することができ、正確なゼロ点校正が可
能となる。
て湿度を調整し、被測定ガスと熱的に接触させることに
より、被測定ガスの湿度及び温度に等しいゼロ点校正用
標準ガスを発生することができ、正確なゼロ点校正が可
能となる。
【0029】また、図2は本発明に係る校正用標準ガス
発生装置の第2の実施例を示す構成ブロック図である。
ここで、4,5,10〜12,50,103及び104
は図1と同一符号を付してある。
発生装置の第2の実施例を示す構成ブロック図である。
ここで、4,5,10〜12,50,103及び104
は図1と同一符号を付してある。
【0030】図2において8aは蒸留水が満たされたバ
ブリングボトル、9aは制御回路、13は切り換え手段
である3方ソレノイドバルブ(以下、単にバルブと呼
ぶ。)、14は混合槽、105はバルブ13の制御信号
である。また、8a,9a及び10〜14は加湿手段5
1aを構成している。
ブリングボトル、9aは制御回路、13は切り換え手段
である3方ソレノイドバルブ(以下、単にバルブと呼
ぶ。)、14は混合槽、105はバルブ13の制御信号
である。また、8a,9a及び10〜14は加湿手段5
1aを構成している。
【0031】接続関係について異なる点は以下の点であ
る。即ち、標準ガス発生手段50の出力ガスがバルブ1
3の入力口に供給され、バルブ13の一方の出力ガスは
混合槽14の一方の入力口に供給される。
る。即ち、標準ガス発生手段50の出力ガスがバルブ1
3の入力口に供給され、バルブ13の一方の出力ガスは
混合槽14の一方の入力口に供給される。
【0032】また、バルブ13の他方の出力ガスはバブ
リングボトル8aに供給され、バブリングボトル8aか
らの出力ガスは混合槽14の他方の入力口に供給され
る。そして混合槽14の出力ガスは湿度センサセル10
に供給される。さらに、制御回路9aからの制御信号1
05がバルブ13に接続される。
リングボトル8aに供給され、バブリングボトル8aか
らの出力ガスは混合槽14の他方の入力口に供給され
る。そして混合槽14の出力ガスは湿度センサセル10
に供給される。さらに、制御回路9aからの制御信号1
05がバルブ13に接続される。
【0033】ここで、図2に示す第2の実施例の動作を
図3を用いて説明する。図3は制御信号105の具体例
を示すタイミング図である。また、8a,13及び14
以外の構成の動作は基本的に図1に示す第1の実施例と
同様なので説明は省略する。
図3を用いて説明する。図3は制御信号105の具体例
を示すタイミング図である。また、8a,13及び14
以外の構成の動作は基本的に図1に示す第1の実施例と
同様なので説明は省略する。
【0034】標準ガス発生手段50からの無臭空気はバ
ルブ13に供給される。この時、制御信号105は図3
中”ニ”の期間で”チ”のレベルにあり、バルブ13は
図2中”イ−ロ”の方向に無臭空気が流れるように設定
される。
ルブ13に供給される。この時、制御信号105は図3
中”ニ”の期間で”チ”のレベルにあり、バルブ13は
図2中”イ−ロ”の方向に無臭空気が流れるように設定
される。
【0035】制御信号105が図3中”ホ”の期間で”
ト”のレベルになると、バルブ13では図2中”イ−
ハ”の方向に無臭空気の流れが切り換わる。この無臭空
気はバブリングボトル8aに導かれ相対湿度でほぼ10
0%に加湿されて混合槽14に供給される。
ト”のレベルになると、バルブ13では図2中”イ−
ハ”の方向に無臭空気の流れが切り換わる。この無臭空
気はバブリングボトル8aに導かれ相対湿度でほぼ10
0%に加湿されて混合槽14に供給される。
【0036】混合槽14では図2中”イ−ロ”の方向で
流れた無臭空気と前記加湿された無臭空気が混合され湿
度センサセル10に供給される。
流れた無臭空気と前記加湿された無臭空気が混合され湿
度センサセル10に供給される。
【0037】例えば、図3中”ホ”の期間の時間を”t
1”、”ヘ”の期間の時間を”t2”とした場合、混合
槽14の容量及び空気の流量に基づいて決まる時定数よ
り時間”t1”及び”t2”が十分小さければ、混合槽
14の出力ガスの湿度は時間的にほぼ一定であり、標準
ガス発生手段50の出力ガスである無臭空気の相対湿度
を”h”とすれば、 (100・t1+h・t2)/(t1+t2) [%] (1) となる。
1”、”ヘ”の期間の時間を”t2”とした場合、混合
槽14の容量及び空気の流量に基づいて決まる時定数よ
り時間”t1”及び”t2”が十分小さければ、混合槽
14の出力ガスの湿度は時間的にほぼ一定であり、標準
ガス発生手段50の出力ガスである無臭空気の相対湿度
を”h”とすれば、 (100・t1+h・t2)/(t1+t2) [%] (1) となる。
【0038】この結果、制御回路9aにより前記バルブ
13の切り換え時間”t1”及び”t2”の比を湿度セ
ンサ11及び12の出力に基づいて制御することによ
り、第1の実施例と同様にゼロ点校正用標準ガスの湿度
が調整可能となる。
13の切り換え時間”t1”及び”t2”の比を湿度セ
ンサ11及び12の出力に基づいて制御することによ
り、第1の実施例と同様にゼロ点校正用標準ガスの湿度
が調整可能となる。
【0039】また、湿度センサセル10において被測定
ガスと熱的に接触させることにより、被測定ガスの湿度
及び温度に等しいゼロ点校正用標準ガスを発生すること
ができ、正確なゼロ点校正が可能となる。
ガスと熱的に接触させることにより、被測定ガスの湿度
及び温度に等しいゼロ点校正用標準ガスを発生すること
ができ、正確なゼロ点校正が可能となる。
【0040】また、切り換え手段として流量制御装置で
はなくソレノイドバルブを用いた構成としたため図1に
示す第1に実施例と比較して安価で装置を構成すること
が可能となる。
はなくソレノイドバルブを用いた構成としたため図1に
示す第1に実施例と比較して安価で装置を構成すること
が可能となる。
【0041】また、図4は本発明に係る校正用標準ガス
発生装置の第3の実施例のうち加湿手段の一部を示す構
成ブロック図である。図4では図1に示した標準ガス発
生手段50、湿度センサセル10、湿度センサ11及び
12、出力口104は共通であるためその記載を省略し
ている。また、6〜8は図1と同一符号を付してある。
発生装置の第3の実施例のうち加湿手段の一部を示す構
成ブロック図である。図4では図1に示した標準ガス発
生手段50、湿度センサセル10、湿度センサ11及び
12、出力口104は共通であるためその記載を省略し
ている。また、6〜8は図1と同一符号を付してある。
【0042】図4において15は流量制御装置、16は
アミルアセテート等の匂い物質が満たされたバブリング
ボトル、17は温度センサ、18は制御回路である。
アミルアセテート等の匂い物質が満たされたバブリング
ボトル、17は温度センサ、18は制御回路である。
【0043】標準ガス発生手段50(図示せず。)から
の無臭空気は流量制御装置6,7及び15にそれぞれ供
給され、流量制御装置7及び15の出力ガスはバブリン
グボトル8及び16にそれぞれ供給される。
の無臭空気は流量制御装置6,7及び15にそれぞれ供
給され、流量制御装置7及び15の出力ガスはバブリン
グボトル8及び16にそれぞれ供給される。
【0044】流量制御装置6の出力ガスとバブリングボ
トル8及び16の出力ガスとは混合され、湿度センサセ
ル10(図示せず。)に供給される。また、温度センサ
17の出力は制御回路18に接続され、制御回路18の
制御信号は流量制御装置15に接続される。
トル8及び16の出力ガスとは混合され、湿度センサセ
ル10(図示せず。)に供給される。また、温度センサ
17の出力は制御回路18に接続され、制御回路18の
制御信号は流量制御装置15に接続される。
【0045】ここで、図4に示す第3の実施例の動作を
説明する。温度センサ17はアミルアセテート等の匂い
物質が満たされたバブリングボトル16の周囲温度を測
定し、温度信号を制御回路18に入力する。
説明する。温度センサ17はアミルアセテート等の匂い
物質が満たされたバブリングボトル16の周囲温度を測
定し、温度信号を制御回路18に入力する。
【0046】制御回路18では流量制御装置15に流れ
る無臭空気の流量を前記温度信号に基づき、例えばPI
D制御等により制御して、前記温度での匂い物質の飽和
ガスを発生させる。
る無臭空気の流量を前記温度信号に基づき、例えばPI
D制御等により制御して、前記温度での匂い物質の飽和
ガスを発生させる。
【0047】この匂い物質飽和ガスを第1の実施例にお
けるゼロ点校正用標準ガスである混合ガスと更に混合さ
れ、湿度センサセル10(図示せず。)に供給され、熱
的接触により被測定ガスとほぼ同じ温度に制御される。
けるゼロ点校正用標準ガスである混合ガスと更に混合さ
れ、湿度センサセル10(図示せず。)に供給され、熱
的接触により被測定ガスとほぼ同じ温度に制御される。
【0048】このように生成された混合ガスはスパン点
校正用標準ガスとして出力口104(図示せず。)から
次の装置であるガス測定装置等(図示せず。)に対して
出力される。
校正用標準ガスとして出力口104(図示せず。)から
次の装置であるガス測定装置等(図示せず。)に対して
出力される。
【0049】この結果、ゼロ点校正用標準ガスを加湿し
て湿度を調整し、更にスパン点校正用物質の飽和ガスを
混合し、被測定ガスと熱的に接触させることにより、被
測定ガスの湿度及び温度に等しいスパン点校正用標準ガ
スを発生することができ、正確なスパン点校正が可能と
なる。
て湿度を調整し、更にスパン点校正用物質の飽和ガスを
混合し、被測定ガスと熱的に接触させることにより、被
測定ガスの湿度及び温度に等しいスパン点校正用標準ガ
スを発生することができ、正確なスパン点校正が可能と
なる。
【0050】また、図5は本発明に係る校正用標準ガス
発生装置の第4の実施例のうち加湿手段の一部を示す構
成ブロック図である。図5では図2に示した標準ガス発
生手段50、バブリングボトル8a、制御回路9a、湿
度センサセル10、湿度センサ11及び12、バルブ1
3、混合槽14は共通であるためその記載を省略してい
る。
発生装置の第4の実施例のうち加湿手段の一部を示す構
成ブロック図である。図5では図2に示した標準ガス発
生手段50、バブリングボトル8a、制御回路9a、湿
度センサセル10、湿度センサ11及び12、バルブ1
3、混合槽14は共通であるためその記載を省略してい
る。
【0051】図5において13aは3方ソレノイドバル
ブ(以下、単にバルブと呼ぶ。)、14aは混合槽、1
6aはアミルアセテート等の匂い物質が満たされたバブ
リングボトル、17aは温度センサ、18aは制御回
路、106は出力口である。
ブ(以下、単にバルブと呼ぶ。)、14aは混合槽、1
6aはアミルアセテート等の匂い物質が満たされたバブ
リングボトル、17aは温度センサ、18aは制御回
路、106は出力口である。
【0052】また、8a,9a,10〜14(何れも図
示せず。),13a,14a,16a,17a及び18
aは制御手段51bを構成している。
示せず。),13a,14a,16a,17a及び18
aは制御手段51bを構成している。
【0053】接続関係については図2に示す第2の実施
例と基本的に同一であり、異なる点は図2に示す第2の
実施例の出力口104に図5に示す構成を追加した点で
ある。即ち、出力口104からの出力ガスはバルブ13
aに供給され、バルブ13aの一方の出力ガスは混合槽
14aの一方の入力口に供給される。
例と基本的に同一であり、異なる点は図2に示す第2の
実施例の出力口104に図5に示す構成を追加した点で
ある。即ち、出力口104からの出力ガスはバルブ13
aに供給され、バルブ13aの一方の出力ガスは混合槽
14aの一方の入力口に供給される。
【0054】また、バルブ13aの他方の出力ガスはバ
ブリングボトル16aに供給され、バブリングボトル1
6aからの出力ガスは混合槽14aの他方の入力口に供
給される。そして混合槽14aの出力ガスは出力口10
6より出力される。
ブリングボトル16aに供給され、バブリングボトル1
6aからの出力ガスは混合槽14aの他方の入力口に供
給される。そして混合槽14aの出力ガスは出力口10
6より出力される。
【0055】さらに、温度センサ17aの出力は制御回
路18aに接続され、制御回路18aからの制御信号は
バルブ13aに接続される。
路18aに接続され、制御回路18aからの制御信号は
バルブ13aに接続される。
【0056】ここで、図5に示す第4の実施例の動作を
説明する。基本的には図2示す第2の実施例で得られた
ゼロ点校正用標準ガスに所定量の匂い物質を混合するこ
とでスパン点校正用標準ガスを得るものである。
説明する。基本的には図2示す第2の実施例で得られた
ゼロ点校正用標準ガスに所定量の匂い物質を混合するこ
とでスパン点校正用標準ガスを得るものである。
【0057】温度センサ17aはアミルアセテート等の
匂い物質が満たされたバブリングボトル16aの周囲温
度を測定し、温度信号を制御回路18aに入力する。
匂い物質が満たされたバブリングボトル16aの周囲温
度を測定し、温度信号を制御回路18aに入力する。
【0058】制御回路18aでは前記温度信号に基づ
き、第2の実施例と同様に図3に示すような制御信号で
バルブ13aを、例えばPID制御等により制御して、
前記温度での匂い物質の飽和ガスを発生させる。
き、第2の実施例と同様に図3に示すような制御信号で
バルブ13aを、例えばPID制御等により制御して、
前記温度での匂い物質の飽和ガスを発生させる。
【0059】混合槽14aではこの匂い物質飽和ガスと
バルブ13aの”イ’−ロ’”方向に流れたゼロ点校正
用標準ガスを混合し、スパン点校正用標準ガスとして出
力口106から次の装置であるガス測定装置等(図示せ
ず。)に対して出力する。
バルブ13aの”イ’−ロ’”方向に流れたゼロ点校正
用標準ガスを混合し、スパン点校正用標準ガスとして出
力口106から次の装置であるガス測定装置等(図示せ
ず。)に対して出力する。
【0060】この結果、前段で得られた被測定ガスの湿
度及び温度に等しいゼロ点校正用標準ガスにスパン点校
正用物質の飽和ガスを混合することにより、被測定ガス
の湿度及び温度に等しいスパン点校正用標準ガスを発生
することができ、正確なスパン点校正が可能となる。
度及び温度に等しいゼロ点校正用標準ガスにスパン点校
正用物質の飽和ガスを混合することにより、被測定ガス
の湿度及び温度に等しいスパン点校正用標準ガスを発生
することができ、正確なスパン点校正が可能となる。
【0061】また、ゼロ点校正用標準ガスのみが必要な
時にはバルブ13aを”イ’−ロ’”方向に固定すれば
出力口106からはゼロ点校正用標準ガスが出力される
ことになる。
時にはバルブ13aを”イ’−ロ’”方向に固定すれば
出力口106からはゼロ点校正用標準ガスが出力される
ことになる。
【0062】さらに、切り換え手段として流量制御装置
ではなくソレノイドバルブを用いた構成としたため図4
に示す第3に実施例と比較して安価で装置を構成するこ
とが可能となる。
ではなくソレノイドバルブを用いた構成としたため図4
に示す第3に実施例と比較して安価で装置を構成するこ
とが可能となる。
【0063】なお、第1及び第2の実施例において湿度
センサ11及び12の2つの湿度センサを用いている
が、単一の湿度センサを用いて、この湿度センサで前記
混合ガスと前記被測定ガスとの湿度を交互に測定するよ
うにしても良い。
センサ11及び12の2つの湿度センサを用いている
が、単一の湿度センサを用いて、この湿度センサで前記
混合ガスと前記被測定ガスとの湿度を交互に測定するよ
うにしても良い。
【0064】また、実施例である校正用標準ガス発生装
置が接続されるガス測定装置内に湿度センサ11を設
け、このガス測定装置からの湿度信号に基づいて制御回
路9が流量制御装置6及び7を制御しても良い。
置が接続されるガス測定装置内に湿度センサ11を設
け、このガス測定装置からの湿度信号に基づいて制御回
路9が流量制御装置6及び7を制御しても良い。
【0065】また、活性炭フィルタ5では、吸引した空
気から取り除く匂い成分若しくはガス成分の種類に応じ
て吸着剤を用いるようにする。
気から取り除く匂い成分若しくはガス成分の種類に応じ
て吸着剤を用いるようにする。
【0066】また、標準ガス発生手段50としては図1
等に示すポンプ4及び活性炭フィルタ5からなる構成の
他、標準空気を充填したボンベ等を用いても良い。
等に示すポンプ4及び活性炭フィルタ5からなる構成の
他、標準空気を充填したボンベ等を用いても良い。
【0067】また、加湿方法としてはバブリングボトル
8等を用いる方法の他、アトマイザ等別の方法を用いて
も良い。
8等を用いる方法の他、アトマイザ等別の方法を用いて
も良い。
【0068】また、第3及び4の実施例において説明の
都合上、制御回路9及び9aと制御回路18及び18a
とを分けているが同一の制御回路により制御しても良
い。
都合上、制御回路9及び9aと制御回路18及び18a
とを分けているが同一の制御回路により制御しても良
い。
【0069】また、第3の実施例では温度調整前にスパ
ン点校正用物質の飽和ガスを混合しているが第4の実施
例のように被測定ガスの湿度及び温度に等しいゼロ点校
正用標準ガスに、即ち、第1の実施例の出力ガスにスパ
ン点校正用物質の飽和ガスを混合しても良い。
ン点校正用物質の飽和ガスを混合しているが第4の実施
例のように被測定ガスの湿度及び温度に等しいゼロ点校
正用標準ガスに、即ち、第1の実施例の出力ガスにスパ
ン点校正用物質の飽和ガスを混合しても良い。
【0070】本願に係る校正用標準ガス発生装置と匂い
/ガスセンサ及び制御装置等を組み合わせることによ
り、自動校正が可能な匂い/ガス測定装置を構成するこ
とが可能となる。
/ガスセンサ及び制御装置等を組み合わせることによ
り、自動校正が可能な匂い/ガス測定装置を構成するこ
とが可能となる。
【0071】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明によれば次のような効果がある。請求項1記載の
発明では、ゼロ点校正用標準ガスを加湿して湿度を調整
し、被測定ガスと熱的に接触させることにより、被測定
ガスの湿度及び温度に等しいゼロ点校正用標準ガスを発
生することが可能な校正用標準ガス発生装置が実現でき
る。
本発明によれば次のような効果がある。請求項1記載の
発明では、ゼロ点校正用標準ガスを加湿して湿度を調整
し、被測定ガスと熱的に接触させることにより、被測定
ガスの湿度及び温度に等しいゼロ点校正用標準ガスを発
生することが可能な校正用標準ガス発生装置が実現でき
る。
【0072】請求項2記載の発明では、前記ゼロ点校正
用標準ガスにスパン点校正用物質の飽和ガスを混合して
湿度及び温度を調整することにより、被測定ガスの湿度
及び温度に等しいスパン点校正用標準ガスを発生するこ
とが可能な校正用標準ガス発生装置が実現できる。
用標準ガスにスパン点校正用物質の飽和ガスを混合して
湿度及び温度を調整することにより、被測定ガスの湿度
及び温度に等しいスパン点校正用標準ガスを発生するこ
とが可能な校正用標準ガス発生装置が実現できる。
【0073】請求項3記載の発明では、請求項1記載の
発明の後段においてスパン点校正用物質の飽和ガスを混
合することにより、被測定ガスの湿度及び温度に等しい
スパン点校正用標準ガスを発生することが可能な校正用
標準ガス発生装置が実現できる。
発明の後段においてスパン点校正用物質の飽和ガスを混
合することにより、被測定ガスの湿度及び温度に等しい
スパン点校正用標準ガスを発生することが可能な校正用
標準ガス発生装置が実現できる。
【図1】本発明に係る校正用標準ガス発生装置の第1の
実施例を示す構成ブロック図である。
実施例を示す構成ブロック図である。
【図2】本発明に係る校正用標準ガス発生装置の第2の
実施例を示す構成ブロック図である。
実施例を示す構成ブロック図である。
【図3】制御信号105の具体例を示すタイミング図で
ある。
ある。
【図4】本発明に係る校正用標準ガス発生装置の第3の
実施例のうち加湿手段の一部を示す構成ブロック図であ
る。
実施例のうち加湿手段の一部を示す構成ブロック図であ
る。
【図5】本発明に係る校正用標準ガス発生装置の第4の
実施例のうち加湿手段の一部を示す構成ブロック図であ
る。
実施例のうち加湿手段の一部を示す構成ブロック図であ
る。
【図6】従来のガス測定装置の一例を示す構成ブロック
図である。
図である。
1 標準ガス発生手段 2 切り換え手段 3 ガス測定手段 4 ポンプ 5 活性炭フィルタ 6,7,15 流量制御装置 8,8a,16,16a バブリングボトル 9,9a,18,18a 制御回路 10 湿度センサセル 11,12 湿度センサ 13,13a 3方ソレノイドバルブ 14,14a 混合槽 17,17a 温度センサ 50 標準ガス発生手段 51,51a,51b 加湿手段 100,103 吸気口 101 排気口 102 出力信号 104,106 出力口 105 制御信号
フロントページの続き (72)発明者 御厨 健太 東京都武蔵野市中町2丁目9番32号 横河 電機株式会社内
Claims (3)
- 【請求項1】ガス測定装置に用いられ、吸引したガスを
脱臭してゼロ点校正用標準ガスを発生させる校正用標準
ガス発生装置において、 前記ゼロ点校正用標準ガスを発生させる標準ガス発生手
段と、 前記ゼロ点校正用標準ガスを加湿し、被測定ガスと熱的
に接触させて前記被測定ガスと湿度及び温度が等しいゼ
ロ点校正用標準ガスを発生させる加湿手段とを備えたこ
とを特徴とする校正用標準ガス発生装置。 - 【請求項2】ゼロ点校正用標準ガスを加湿し、周囲温度
に基づきスパン点校正用物質の飽和ガスを混合し、被測
定ガスと熱的に接触させて前記被測定ガスと湿度及び温
度が等しいスパン点校正用標準ガスを発生させる加湿手
段とを備えたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の校正用標準ガス発生装置。 - 【請求項3】被測定ガスと湿度及び温度が等しいゼロ点
校正用標準ガスに対し周囲温度に基づきスパン点校正用
物質の飽和ガスを混合する加湿手段を備えたことを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の校正用標準ガス発生
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31959093A JPH07174674A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 校正用標準ガス発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31959093A JPH07174674A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 校正用標準ガス発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07174674A true JPH07174674A (ja) | 1995-07-14 |
Family
ID=18111972
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31959093A Pending JPH07174674A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 校正用標準ガス発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07174674A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11264788A (ja) * | 1998-03-17 | 1999-09-28 | Horiba Ltd | 希釈ガス流量制御装置 |
JPH11295196A (ja) * | 1998-04-08 | 1999-10-29 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 供給対象ガスの成分濃度安定化方法、この方法に用いられる微量水分含有供給対象ガス |
JPH11326170A (ja) * | 1998-05-19 | 1999-11-26 | Yokogawa Electric Corp | 水中臭気物質測定装置 |
KR100656412B1 (ko) * | 2005-12-30 | 2006-12-11 | 한국표준과학연구원 | 가스측정기 교정용 가습 표준가스 제조장치 |
JP2008096265A (ja) * | 2006-10-11 | 2008-04-24 | Harada Denshi Kogyo Kk | 低濃度アルコールガス生成装置 |
JP2011505554A (ja) * | 2007-11-29 | 2011-02-24 | エッセアチエンメイ・ コーペラティヴァ・メカニチ・イモラ・ソシエタ・コーペラティヴァ | 気体混合物の組成を検出するための方法及び装置 |
JP2013106836A (ja) * | 2011-11-22 | 2013-06-06 | Seiko Epson Corp | ガス供給装置 |
US20170262003A1 (en) * | 2014-08-28 | 2017-09-14 | Br Beheer B.V. | Device for setting and controlling the humidity of a gas |
CN107727807A (zh) * | 2017-11-23 | 2018-02-23 | 天津商业大学 | 一种新型甲醛发生器 |
JP2018532120A (ja) * | 2015-10-29 | 2018-11-01 | インフィコン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | ガス変調を用いたガス検出 |
JPWO2020065982A1 (ja) * | 2018-09-28 | 2021-09-24 | 日本電気株式会社 | 測定装置、および測定方法 |
-
1993
- 1993-12-20 JP JP31959093A patent/JPH07174674A/ja active Pending
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JPWO2020065982A1 (ja) * | 2018-09-28 | 2021-09-24 | 日本電気株式会社 | 測定装置、および測定方法 |
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