JPH09316093A - ポリリン酸誘導体 - Google Patents
ポリリン酸誘導体Info
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- JPH09316093A JPH09316093A JP6568497A JP6568497A JPH09316093A JP H09316093 A JPH09316093 A JP H09316093A JP 6568497 A JP6568497 A JP 6568497A JP 6568497 A JP6568497 A JP 6568497A JP H09316093 A JPH09316093 A JP H09316093A
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- residue
- hydrogen atom
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Abstract
(57)【要約】
【課題】老人性痴呆症、アルツハイマ−病またはハンチ
ントン舞踏病などの脳疾患の治療剤として、昇圧剤、免
疫担当細胞を活性化する免疫増強剤、褥瘡剤、上皮膚潰
瘍治療剤として又はインシュリン分泌促進によるＩ型糖
尿病治療剤としての有用な化合物を提供することを目的
とする。 【解決手段】本発明の化合物は下記の構造式（１）で表
わされる化合物又はその薬理上許容される塩。上記式
（１）中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 はそ
れぞれ独立に水素原子又はりん酸残基（−Ｐ（＝Ｏ）
（ＯＨ）2 ）を示し、Ｒ7 は水素原子、炭素数１乃至４
個のアルコキシ基又は次式で示される基（式中、Ｘはハ
ロゲン原子を示す）を示す。但し、Ｒ7 がアデニル基の
場合には、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4、Ｒ5 及びＲ6 がす
べて水素原子である化合物、Ｒ1 、Ｒ4 及びＲ5 がりん
酸残基で、その他が水素原子である化合物、Ｒ4 及びＲ
5 がりん酸残基で、その他が水素原子である化合物は除
く。 【化１】
ントン舞踏病などの脳疾患の治療剤として、昇圧剤、免
疫担当細胞を活性化する免疫増強剤、褥瘡剤、上皮膚潰
瘍治療剤として又はインシュリン分泌促進によるＩ型糖
尿病治療剤としての有用な化合物を提供することを目的
とする。 【解決手段】本発明の化合物は下記の構造式（１）で表
わされる化合物又はその薬理上許容される塩。上記式
（１）中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 はそ
れぞれ独立に水素原子又はりん酸残基（−Ｐ（＝Ｏ）
（ＯＨ）2 ）を示し、Ｒ7 は水素原子、炭素数１乃至４
個のアルコキシ基又は次式で示される基（式中、Ｘはハ
ロゲン原子を示す）を示す。但し、Ｒ7 がアデニル基の
場合には、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4、Ｒ5 及びＲ6 がす
べて水素原子である化合物、Ｒ1 、Ｒ4 及びＲ5 がりん
酸残基で、その他が水素原子である化合物、Ｒ4 及びＲ
5 がりん酸残基で、その他が水素原子である化合物は除
く。 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、イノシトール１，
４，５−トリスホスフェート(InsP3) 受容体に作用し
て、細胞内カルシウムイオン濃度を上昇させる活性を有
するポリリン酸誘導体に関する。
４，５−トリスホスフェート(InsP3) 受容体に作用し
て、細胞内カルシウムイオン濃度を上昇させる活性を有
するポリリン酸誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】カルシウムイオンが細胞内情報伝達物質
として神経伝達、筋収縮並びに細胞の増殖及び分化に重
要であることは広く認められている。この細胞内へのカ
ルシウムイオンの動員に、イノシトール１，４，５−ト
リスホスフェート(InsP3) は重要な役割を果たしている
(Nature, 341巻，197-205 頁(1989 年))。すなわち、In
sP3 は生体内で細胞膜のリン脂質より生成され（同誌31
2 巻，315-321 頁(1984 年) 、小胞体に存在するInsP3
受容体に結合し（同誌 342巻，32-38 頁(1989 年））、
その結果小胞体に貯蔵されているカルシウムイオンが放
出され、細胞内カルシウムイオン濃度が上昇する（同誌
342巻，87-89 頁(1989 年））。
として神経伝達、筋収縮並びに細胞の増殖及び分化に重
要であることは広く認められている。この細胞内へのカ
ルシウムイオンの動員に、イノシトール１，４，５−ト
リスホスフェート(InsP3) は重要な役割を果たしている
(Nature, 341巻，197-205 頁(1989 年))。すなわち、In
sP3 は生体内で細胞膜のリン脂質より生成され（同誌31
2 巻，315-321 頁(1984 年) 、小胞体に存在するInsP3
受容体に結合し（同誌 342巻，32-38 頁(1989 年））、
その結果小胞体に貯蔵されているカルシウムイオンが放
出され、細胞内カルシウムイオン濃度が上昇する（同誌
342巻，87-89 頁(1989 年））。
【０００３】InsP3 と同様にInsP3 受容体に結合して、
カルシウムイオン濃度上昇活性を有する化合物として、
下記アデノホスチン(Adenophostin)類がPenicillium br
evicompactum SANK 11991 及びSANK 12177株の培養物よ
り見い出されている［特開平5-194580号公報，J.Antibi
ot, 47巻，95-100頁(1994 年）］。
カルシウムイオン濃度上昇活性を有する化合物として、
下記アデノホスチン(Adenophostin)類がPenicillium br
evicompactum SANK 11991 及びSANK 12177株の培養物よ
り見い出されている［特開平5-194580号公報，J.Antibi
ot, 47巻，95-100頁(1994 年）］。
【０００４】
【化３】
【０００５】（式中、Ｒが水素原子を表すものはアデノ
ホスチンＡであり、Ｒがアセチル基のものはアデノホス
チンＢである） しかしながら、これらの化合物は活性の強さの点で十分
満足行くものではなかったし、また、天然物であり、大
量生産することは困難であり、実用的な価値が乏しかっ
た。
ホスチンＡであり、Ｒがアセチル基のものはアデノホス
チンＢである） しかしながら、これらの化合物は活性の強さの点で十分
満足行くものではなかったし、また、天然物であり、大
量生産することは困難であり、実用的な価値が乏しかっ
た。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来の化合物に比し、
イノシトール１，４，５−トリスホスフェート(InsP3)
受容体に結合して、細胞内カルシウムイオン濃度上昇活
性が優れたポリリン酸誘導体を提供することを目的とす
る。
イノシトール１，４，５−トリスホスフェート(InsP3)
受容体に結合して、細胞内カルシウムイオン濃度上昇活
性が優れたポリリン酸誘導体を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決すべく鋭意研究の結果、ポリリン酸構造を有す
る化合物を見いだし、本発明を完成した。
題を解決すべく鋭意研究の結果、ポリリン酸構造を有す
る化合物を見いだし、本発明を完成した。
【０００８】本発明の化合物は下記の構造式（１）で表
わされる化合物又はその薬理上許容される塩。
わされる化合物又はその薬理上許容される塩。
【０００９】
【化４】
【００１０】上記式（１）中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ
4 、Ｒ5 及びＲ6 はそれぞれ独立に水素原子又はりん酸
残基（−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）2 ）を示し、Ｒ7 は水素原
子、炭素数１乃至４個のアルコキシ基又は次式で示され
る基
4 、Ｒ5 及びＲ6 はそれぞれ独立に水素原子又はりん酸
残基（−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）2 ）を示し、Ｒ7 は水素原
子、炭素数１乃至４個のアルコキシ基又は次式で示され
る基
【００１１】
【化５】
【００１２】（式中、Ｘはハロゲン原子を示す）を示
す。
す。
【００１３】Ｒ7 の「炭素数１乃至４個のアルコキシ
基」としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソ
プロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、Ｓｅｃ−ブトキ
シ、ｔｅｒｔ−ブトキシ基があげられ、好適にはメトキ
シ基である。
基」としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソ
プロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、Ｓｅｃ−ブトキ
シ、ｔｅｒｔ−ブトキシ基があげられ、好適にはメトキ
シ基である。
【００１４】Ｘのハロゲン原子としては、弗素、塩素、
臭素及びよう素原子があげられ、好適には、臭素、塩素
原子である。
臭素及びよう素原子があげられ、好適には、臭素、塩素
原子である。
【００１５】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 の
組み合わせのうち、好適な組み合わせは、表１に示した
ものである。表１中、Ｈは水素原子を、Ｐはりん酸残基
（−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）2 ）を示す。
組み合わせのうち、好適な組み合わせは、表１に示した
ものである。表１中、Ｈは水素原子を、Ｐはりん酸残基
（−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）2 ）を示す。
【００１６】
【表１】 ─────────────────── Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ4 Ｒ5 Ｒ6 ─────────────────── Ｐ Ｈ Ｈ Ｐ Ｐ Ｈ Ｐ Ｈ Ｈ Ｐ Ｐ Ｐ Ｐ Ｐ Ｐ Ｐ Ｐ Ｐ Ｈ Ｈ Ｈ Ｐ Ｐ Ｐ Ｈ Ｐ Ｈ Ｐ Ｐ Ｐ Ｈ Ｐ Ｈ Ｐ Ｐ Ｈ Ｐ Ｈ Ｈ Ｐ Ｈ Ｈ Ｐ Ｈ Ｈ Ｈ Ｐ Ｈ ─────────────────── 「その薬理上許容される塩」とは、本発明の化合物
（１）は、塩にすることができるので、その塩をいい、
そのような塩としては、好適にはナトリウム塩、カリウ
ム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム
塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アル
ミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバル
ト塩等の金属塩；アンモニウム塩のような無機塩；ｔ−
オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン
塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステ
ル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、
グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン
塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジル
エチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン
塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ−ベンジル−フェネチル
アミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム
塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩のよう
な有機塩等のアミン塩を挙げることができる。
（１）は、塩にすることができるので、その塩をいい、
そのような塩としては、好適にはナトリウム塩、カリウ
ム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム
塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アル
ミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバル
ト塩等の金属塩；アンモニウム塩のような無機塩；ｔ−
オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン
塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステ
ル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、
グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン
塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジル
エチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン
塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ−ベンジル−フェネチル
アミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム
塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩のよう
な有機塩等のアミン塩を挙げることができる。
【００１７】又、本発明の化合物（１）は、大気中に放
置しておくことにより、水分を吸収し、吸着水が付いた
り、水和物となる場合があり、そのような塩も本発明に
包含される。
置しておくことにより、水分を吸収し、吸着水が付いた
り、水和物となる場合があり、そのような塩も本発明に
包含される。
【００１８】本発明の化合物のうち、好適なものとして
は、 ２）Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 が水素原子であり、
Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であり、Ｒ5
がりん酸残基であり、Ｒ6 が水素原子である化合物、 ３）Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 が水素原子であり、
Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であり、Ｒ5
がりん酸残基であり、Ｒ6 がりん酸残基である化合物、 ４）Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 がりん酸残基であ
り、Ｒ3 がりん酸残基であり、Ｒ4 がりん酸残基であ
り、Ｒ5 がりん酸残基であり、Ｒ6 がりん酸残基である
化合物、 ５）Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 が水素原子であり、Ｒ
3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であり、Ｒ5 が
りん酸残基であり、Ｒ6 がりん酸残基である請求項１に
記載の化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステ
ル。
は、 ２）Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 が水素原子であり、
Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であり、Ｒ5
がりん酸残基であり、Ｒ6 が水素原子である化合物、 ３）Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 が水素原子であり、
Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であり、Ｒ5
がりん酸残基であり、Ｒ6 がりん酸残基である化合物、 ４）Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 がりん酸残基であ
り、Ｒ3 がりん酸残基であり、Ｒ4 がりん酸残基であ
り、Ｒ5 がりん酸残基であり、Ｒ6 がりん酸残基である
化合物、 ５）Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 が水素原子であり、Ｒ
3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であり、Ｒ5 が
りん酸残基であり、Ｒ6 がりん酸残基である請求項１に
記載の化合物、その薬理上許容される塩又はそのエステ
ル。
【００１９】６）Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 がりん酸
残基であり、Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基
であり、Ｒ5 がりん酸残基であり、Ｒ6 がりん酸残基で
ある化合物、 ７）Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 がりん酸残基であり、
Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であり、Ｒ5
がりん酸残基であり、Ｒ6 が水素原子である化合物、 ８）Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 が水素原子であり、
Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であり、Ｒ5
が水素原子であり、Ｒ6 が水素原子である化合物、 ９）Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 が水素原子であり、
Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 が水素原子であり、Ｒ5 が
りん酸残基であり、Ｒ6 が水素原子である化合物、 １０）Ｒ7 がアデニル基である化合物である。
残基であり、Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基
であり、Ｒ5 がりん酸残基であり、Ｒ6 がりん酸残基で
ある化合物、 ７）Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 がりん酸残基であり、
Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であり、Ｒ5
がりん酸残基であり、Ｒ6 が水素原子である化合物、 ８）Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 が水素原子であり、
Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であり、Ｒ5
が水素原子であり、Ｒ6 が水素原子である化合物、 ９）Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 が水素原子であり、
Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 が水素原子であり、Ｒ5 が
りん酸残基であり、Ｒ6 が水素原子である化合物、 １０）Ｒ7 がアデニル基である化合物である。
【００２０】
【発明の実施の形態】本発明の化合物は、以下の方法に
より製造することができる。
より製造することができる。
【００２１】
【化６】
【００２２】
【化７】
【００２３】
【化８】
【００２４】
【化９】
【００２５】
【化１０】
【００２６】
【化１１】
【００２７】
【化１２】
【００２８】
【化１３】
【００２９】
【化１４】
【００３０】
【化１５】
【００３１】
【化１６】
【００３２】上記工程表中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、
Ｒ5 、Ｒ6 及びＲ7 は前述のものと同意義を示す。Ｒ7a
は水素原子又は炭素数１乃至４個のアルコキシ基（該ア
ルコキシ基はＲ7 で例示されたものと同一の基を示
す。）を示し、Ｒ8 は４−モノメトキシトリチル又は
４，４’−ジメトキシトリチル基を示す。
Ｒ5 、Ｒ6 及びＲ7 は前述のものと同意義を示す。Ｒ7a
は水素原子又は炭素数１乃至４個のアルコキシ基（該ア
ルコキシ基はＲ7 で例示されたものと同一の基を示
す。）を示し、Ｒ8 は４−モノメトキシトリチル又は
４，４’−ジメトキシトリチル基を示す。
【００３３】Ｒ9 は、式
【００３４】
【化１７】
【００３５】で示される基を示し、Ｂｚはベンゾイル基
を示し、ＭＭＴｒは４−モノメトキシトリチル基を示
し、ＴＢＳはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基を示
し、Ａｃはアセチル基を示し、Ｂｎはベンジル基を示
し、ＤＭＴｒは４，４’−ジメトキシトリチル基を示
す。
を示し、ＭＭＴｒは４−モノメトキシトリチル基を示
し、ＴＢＳはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基を示
し、Ａｃはアセチル基を示し、Ｂｎはベンジル基を示
し、ＤＭＴｒは４，４’−ジメトキシトリチル基を示
す。
【００３６】原料化合物である化合物（８−１）は、特
開平６−２１３７２９号に記載された方法に製造するこ
とができる。
開平６−２１３７２９号に記載された方法に製造するこ
とができる。
【００３７】（第１工程）ハロゲン化 本工程は、緩衝液中、アデノホスチンＡ等に、ハロゲン
化剤を反応させて、化合物（１ａ）等を製造する工程で
ある。使用される緩衝液としては、ｐＨ３乃至５（好適
には４）のものであれば、特に制限はないが、好適に
は、酢酢ナトリウム緩衝液である。使用されるハロゲン
化剤としては、ハロゲン分子（特に臭素、塩素）が好適
である。反応温度は０℃乃至５０℃で行なわれるが、好
適には、２０℃乃至４０℃である。反応時間は、主に反
応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常、1 乃至１０日間であり、好
適には、３乃至６日間である。反応終了後、本反応の目
的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。
例えば、反応混合物へ窒素ガスを吹き込み、ハロゲン化
剤を除去して、得られる溶液を高速液体クロマトグラフ
ィー、陽イオン交換樹脂（水素型）、さらに陽イオン交
換樹脂（ナトリウム型）で精製し、凍結乾燥することに
より目的化合物（ナトリウム塩）が得られる。得られた
目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈
殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されてい
る方法、例えば、セファデックスＬＨ−２０（ファルマ
シア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・ア
ンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化
成社製）のような担体を用いた分配カラムクロマトグラ
フィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロ
マトを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキ
ル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフ
ィー法（好適には、高速液体クロマトグラフィーであ
る。）を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによ
って分離、精製することができる。
化剤を反応させて、化合物（１ａ）等を製造する工程で
ある。使用される緩衝液としては、ｐＨ３乃至５（好適
には４）のものであれば、特に制限はないが、好適に
は、酢酢ナトリウム緩衝液である。使用されるハロゲン
化剤としては、ハロゲン分子（特に臭素、塩素）が好適
である。反応温度は０℃乃至５０℃で行なわれるが、好
適には、２０℃乃至４０℃である。反応時間は、主に反
応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常、1 乃至１０日間であり、好
適には、３乃至６日間である。反応終了後、本反応の目
的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。
例えば、反応混合物へ窒素ガスを吹き込み、ハロゲン化
剤を除去して、得られる溶液を高速液体クロマトグラフ
ィー、陽イオン交換樹脂（水素型）、さらに陽イオン交
換樹脂（ナトリウム型）で精製し、凍結乾燥することに
より目的化合物（ナトリウム塩）が得られる。得られた
目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈
殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用されてい
る方法、例えば、セファデックスＬＨ−２０（ファルマ
シア社製）、アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・ア
ンド・ハース社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化
成社製）のような担体を用いた分配カラムクロマトグラ
フィー等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロ
マトを使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキ
ル化シリカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフ
ィー法（好適には、高速液体クロマトグラフィーであ
る。）を適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによ
って分離、精製することができる。
【００３８】（第２工程）保護 本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、原料化合物
に、４−モノメトキシトリチルハライド（好適には、ク
ロリド）又は４，４’−ジメトキシトリチルハライド
（好適には、クロリド）を反応させて、アデニン塩基の
アミノ基や糖部の一級水酸基を保護する工程である。
に、４−モノメトキシトリチルハライド（好適には、ク
ロリド）又は４，４’−ジメトキシトリチルハライド
（好適には、クロリド）を反応させて、アデニン塩基の
アミノ基や糖部の一級水酸基を保護する工程である。
【００３９】使用される溶剤としては、ピリジンが好適
である。
である。
【００４０】使用される塩基としては、トリエチルアミ
ン、ピリジンが好適である。
ン、ピリジンが好適である。
【００４１】反応温度は０℃乃至５０℃で行なわれる
が、好適には、２０℃乃至４０℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常、１時間乃至１０日間
であり、好適には、１乃至２日間である。反応終了後、
本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採
取される。例えば、溶剤を留去し、酢酸エチルのような
水と混和しない有機溶媒を加え、反応混合物を適宜中和
し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した
後、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物
の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲ
ル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジ
ルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー
法；セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア社製）、
アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・アンド・ハース
社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化成社製）のよ
うな担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合
成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用す
る方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲ
ルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法（好適
には、高速液体クロマトグラフィーである。）を適宜組
合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製
することができる。
が、好適には、２０℃乃至４０℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常、１時間乃至１０日間
であり、好適には、１乃至２日間である。反応終了後、
本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採
取される。例えば、溶剤を留去し、酢酸エチルのような
水と混和しない有機溶媒を加え、反応混合物を適宜中和
し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した
後、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物
の分離精製に慣用されている方法、例えば、シリカゲ
ル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフロリジ
ルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラフィー
法；セファデックスＬＨ−２０（ファルマシア社製）、
アンバーライトＸＡＤ−１１（ローム・アンド・ハース
社製）、ダイヤイオンＨＰ−２０（三菱化成社製）のよ
うな担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー等の合
成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを使用す
る方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シリカゲ
ルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法（好適
には、高速液体クロマトグラフィーである。）を適宜組
合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分離、精製
することができる。
【００４２】（第３工程）保護 本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、化合物（５−
１）等に、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルハライドを
反応させて、化合物（６−１）等を製造する工程であ
る。
１）等に、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルハライドを
反応させて、化合物（６−１）等を製造する工程であ
る。
【００４３】使用される溶剤としては、ベンゼン、トル
エンのような芳香族炭化水素類；ピリジン；ジメチルホ
ルムアミドのようなアミド類が好適である。
エンのような芳香族炭化水素類；ピリジン；ジメチルホ
ルムアミドのようなアミド類が好適である。
【００４４】使用される塩基としては、ピリジン、イミ
ダゾールが好適である。
ダゾールが好適である。
【００４５】反応温度は０℃乃至５０℃で行なわれる
が、好適には、２０℃乃至４０℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常、５時間乃至５日間で
あり、好適には、１乃至２日間である。反応終了後、本
反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取
される。例えば、溶剤を留去し、酢酸エチルのような水
と混和しない有機溶媒を加え、反応混合物を適宜中和
し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した
後、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物
の分離精製に慣用されている方法、例えば、前記第２工
程にあげた方法で精製することができる。
が、好適には、２０℃乃至４０℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常、５時間乃至５日間で
あり、好適には、１乃至２日間である。反応終了後、本
反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取
される。例えば、溶剤を留去し、酢酸エチルのような水
と混和しない有機溶媒を加え、反応混合物を適宜中和
し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した
後、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物
の分離精製に慣用されている方法、例えば、前記第２工
程にあげた方法で精製することができる。
【００４６】（第４工程）グリコシル化 本工程は、不活性溶剤中、塩基及び銀塩を用い、必要で
あればモレキュラ−シーブの存在下、化合物（３−１）
等に、３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−２−Ｏ−ベン
ジル−α−Ｄ−グルコピラノシルブロマイドを反応させ
て、化合物（３−２）等を製造する工程である。
あればモレキュラ−シーブの存在下、化合物（３−１）
等に、３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−２−Ｏ−ベン
ジル−α−Ｄ−グルコピラノシルブロマイドを反応させ
て、化合物（３−２）等を製造する工程である。
【００４７】使用される溶剤としては、クロロホルム、
メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素類が好適
である。
メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素類が好適
である。
【００４８】使用される銀塩としては、酸化銀、過塩素
酸銀等があげられ、好適には過塩素酸銀である。
酸銀等があげられ、好適には過塩素酸銀である。
【００４９】使用される塩基としては、ピリジン、トリ
エチルアミン、２，４，６−トリメチルピリジンが好適
である。
エチルアミン、２，４，６−トリメチルピリジンが好適
である。
【００５０】反応温度は−８０℃乃至５０℃で行なわれ
るが、好適には、２０℃乃至４０℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、５時間乃至５日
間であり、好適には、１０乃至２４時間である。反応終
了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物
から採取される。例えば、不溶物を除去し、酢酸エチル
のような水と混和しない有機溶媒を加え、反応混合物を
適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により
除去した後、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を
分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去
することによって得られる。得られた目的化合物は必要
ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有
機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、前
記第２工程にあげた方法で精製することができる。
るが、好適には、２０℃乃至４０℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、５時間乃至５日
間であり、好適には、１０乃至２４時間である。反応終
了後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物
から採取される。例えば、不溶物を除去し、酢酸エチル
のような水と混和しない有機溶媒を加え、反応混合物を
適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により
除去した後、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を
分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去
することによって得られる。得られた目的化合物は必要
ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有
機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、前
記第２工程にあげた方法で精製することができる。
【００５１】（第５工程）脱保護 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３−２）等に、ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル基の脱保護剤を反応させ
て、化合物（３−３）等を製造する工程である。使用さ
れる溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、ジオキサンのようなエーテル類が好適である。
ｒｔ−ブチルジメチルシリル基の脱保護剤を反応させ
て、化合物（３−３）等を製造する工程である。使用さ
れる溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、ジオキサンのようなエーテル類が好適である。
【００５２】使用される脱保護剤としては、通常用いる
ものであれば、特に制限はないが、好適には、テトラブ
チルアンモニウムフルオライドである。
ものであれば、特に制限はないが、好適には、テトラブ
チルアンモニウムフルオライドである。
【００５３】反応温度は０℃乃至５０℃で行なわれる
が、好適には、２０℃乃至４０℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常、１０分乃至５時間で
あり、好適には、３０分乃至２時間である。反応終了
後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物か
ら採取される。例えば、不溶物を除去し、酢酸エチルの
ような水と混和しない有機溶媒を加え、反応混合物を適
宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除
去した後、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を分
離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機
化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、前記
第２工程にあげた方法で精製することができる。
が、好適には、２０℃乃至４０℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常、１０分乃至５時間で
あり、好適には、３０分乃至２時間である。反応終了
後、本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物か
ら採取される。例えば、不溶物を除去し、酢酸エチルの
ような水と混和しない有機溶媒を加え、反応混合物を適
宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除
去した後、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を分
離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機
化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、前記
第２工程にあげた方法で精製することができる。
【００５４】（第６工程）脱保護 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３−３）等に、塩基
を反応させて、化合物（３−４）等を製造する工程であ
る。
を反応させて、化合物（３−４）等を製造する工程であ
る。
【００５５】使用される溶剤としては、原料化合物をあ
る程度溶解するものであれば、特に制限はないが、好適
には、アンモニア、水及びピリジンの混合溶剤が好適で
ある。
る程度溶解するものであれば、特に制限はないが、好適
には、アンモニア、水及びピリジンの混合溶剤が好適で
ある。
【００５６】使用される塩基としては、水酸化ナトリウ
ムや水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物の水
溶液が好適である。
ムや水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物の水
溶液が好適である。
【００５７】反応温度は０℃乃至５０℃で行なわれる
が、好適には、２０℃乃至４０℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常、５時間乃至２日であ
り、好適には、１０乃至２４時間である。反応終了後、
本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採
取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、酢酸エチ
ルのような水と混和しない有機溶媒を加え、又、不溶物
が存在する場合には濾過により除去した後、水等で洗浄
後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネ
シウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られ
る。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再
結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣
用されている方法、例えば、前記第２工程にあげた方法
で精製することができる。
が、好適には、２０℃乃至４０℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常、５時間乃至２日であ
り、好適には、１０乃至２４時間である。反応終了後、
本反応の目的化合物は常法に従って、反応混合物から採
取される。例えば、反応混合物を適宜中和し、酢酸エチ
ルのような水と混和しない有機溶媒を加え、又、不溶物
が存在する場合には濾過により除去した後、水等で洗浄
後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネ
シウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られ
る。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再
結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣
用されている方法、例えば、前記第２工程にあげた方法
で精製することができる。
【００５８】（第７工程）りん酸化 本工程は、化合物（３−４）等から、りん酸化された化
合物（３−５）等を製造する工程である。
合物（３−５）等を製造する工程である。
【００５９】本工程は、２段階から構成される。まず、
１）不活性溶剤中、１Ｈ−テトラゾールの存在下、Ｎ，
Ｎ−ジエチル−１，５−ジヒドロ−２，４，３−ベンゾ
ジオキサホスフェピン−３−アミンを反応させて、得ら
れる反応混合物に、２）酸化剤を加えて、化合物を製造
する工程である。
１）不活性溶剤中、１Ｈ−テトラゾールの存在下、Ｎ，
Ｎ−ジエチル−１，５−ジヒドロ−２，４，３−ベンゾ
ジオキサホスフェピン−３−アミンを反応させて、得ら
れる反応混合物に、２）酸化剤を加えて、化合物を製造
する工程である。
【００６０】１）使用される溶剤としては、アセトニト
リルが好適である。反応温度は１０乃至４０℃であり、
反応時間は３０分乃至２時間である。
リルが好適である。反応温度は１０乃至４０℃であり、
反応時間は３０分乃至２時間である。
【００６１】２）１）の反応終了後、−５０乃至−３０
℃に冷却し、メタクロロ過安息香酸のような酸化剤を加
える。反応温度は−５０乃至−３０℃から自然に放置し
て室温にするのが好適であり、反応時間は１０分乃至１
時間、好適には１０乃至３０分が好適である。
℃に冷却し、メタクロロ過安息香酸のような酸化剤を加
える。反応温度は−５０乃至−３０℃から自然に放置し
て室温にするのが好適であり、反応時間は１０分乃至１
時間、好適には１０乃至３０分が好適である。
【００６２】反応終了後、本反応の目的化合物は常法に
従って、反応混合物から採取される。例えば、減圧下溶
剤を留去し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶
媒を加え、反応混合物にメタ重亜硫酸ナトリウム水溶液
を加えて、残存する酸化剤を分解し、水等で洗浄後、目
的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム
等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得
られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、
再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用され
ている方法、例えば、前記第２工程にあげた方法で精製
することができる。
従って、反応混合物から採取される。例えば、減圧下溶
剤を留去し、酢酸エチルのような水と混和しない有機溶
媒を加え、反応混合物にメタ重亜硫酸ナトリウム水溶液
を加えて、残存する酸化剤を分解し、水等で洗浄後、目
的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム
等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。得
られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、
再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製に慣用され
ている方法、例えば、前記第２工程にあげた方法で精製
することができる。
【００６３】（第８工程）脱保護 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３−５）等に、酸を
反応させて、化合物（３−６）等を製造する工程であ
る。
反応させて、化合物（３−６）等を製造する工程であ
る。
【００６４】使用される溶剤としては、クロロホルム、
メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素類が好適
である。
メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素類が好適
である。
【００６５】使用される酸としては、酢酸（特に８０％
酢酸）及びトリフルオロ酢酸が、好適である。
酢酸）及びトリフルオロ酢酸が、好適である。
【００６６】反応温度は通常０乃至４０℃であり、反応
時間は原料、反応温度等によるが、通常５分乃至１時間
である。
時間は原料、反応温度等によるが、通常５分乃至１時間
である。
【００６７】例えば、反応混合物を適宜中和し、水等で
洗浄後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マ
グネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得
られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例え
ば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製
に慣用されている方法、例えば、前記第２工程にあげた
方法で精製することができる。
洗浄後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マ
グネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得
られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例え
ば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離精製
に慣用されている方法、例えば、前記第２工程にあげた
方法で精製することができる。
【００６８】（第９工程）脱保護 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３−６）等に、ベン
ジル基の脱保護剤を反応させて、糖部の水酸基の保護基
であるベンジル基又はりん酸の保護基を脱保護する工程
である。
ジル基の脱保護剤を反応させて、糖部の水酸基の保護基
であるベンジル基又はりん酸の保護基を脱保護する工程
である。
【００６９】使用される溶剤としては、メタノール、エ
タノールのようなアルコール類；酢酸；水及びこれらの
混合溶剤が好適である。
タノールのようなアルコール類；酢酸；水及びこれらの
混合溶剤が好適である。
【００７０】使用される脱保護剤としては、通常用いる
ものであれば特に制限はないが、パラジウム−黒と水素
ガスの組み合わせが好適である。
ものであれば特に制限はないが、パラジウム−黒と水素
ガスの組み合わせが好適である。
【００７１】反応温度は通常０乃至４０℃であり、好適
には室温である。
には室温である。
【００７２】反応時間は原料、反応温度等によるが、通
常５時間乃至７日間であり、好適には１０時間乃至３日
間である。
常５時間乃至７日間であり、好適には１０時間乃至３日
間である。
【００７３】例えば、還元触媒を濾過により除去し、エ
タノール及び希アンモニア水を加え、減圧下溶剤を留去
し、水から凍結乾燥することにより目的化合物を得るこ
とができる。
タノール及び希アンモニア水を加え、減圧下溶剤を留去
し、水から凍結乾燥することにより目的化合物を得るこ
とができる。
【００７４】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離
精製に慣用されている方法、例えば、前記第２工程にあ
げた方法で精製することができる。
例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離
精製に慣用されている方法、例えば、前記第２工程にあ
げた方法で精製することができる。
【００７５】（第１０工程）保護 本工程は、不活性溶剤中、酸の存在下、化合物（５−
１）等に、アセトニド化剤を反応させて、糖部の２つの
水酸基をアセトニド化する工程である。
１）等に、アセトニド化剤を反応させて、糖部の２つの
水酸基をアセトニド化する工程である。
【００７６】使用される溶剤としては、クロロホルム、
メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素類、ベン
ゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類が
好適である。
メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素類、ベン
ゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類が
好適である。
【００７７】使用されるアセトニド化剤としては、アセ
トン、メトキシイソプロペン、２，２−ジメトキシプロ
パンが好適である。
トン、メトキシイソプロペン、２，２−ジメトキシプロ
パンが好適である。
【００７８】反応温度は通常０乃至４０℃であり、好適
には室温である。
には室温である。
【００７９】反応時間は原料、反応温度等によるが、通
常５時間乃至７日間であり、好適には１０時間乃至３日
間である。
常５時間乃至７日間であり、好適には１０時間乃至３日
間である。
【００８０】例えば、溶剤を留去し、クロロホルムのよ
うな水と混和しない有機溶剤と炭酸水素ナトリウム水溶
液を加え、有機層を減圧下留去することにより目的化合
物を得ることができる。
うな水と混和しない有機溶剤と炭酸水素ナトリウム水溶
液を加え、有機層を減圧下留去することにより目的化合
物を得ることができる。
【００８１】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離
精製に慣用されている方法、例えば、前記第２工程にあ
げた方法で精製することができる。
例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離
精製に慣用されている方法、例えば、前記第２工程にあ
げた方法で精製することができる。
【００８２】（第１１工程）脱保護 本工程は、不活性溶剤中、原料化合物に酸化剤を反応さ
せて、パラメトキシベンジル基を除去する工程である。
せて、パラメトキシベンジル基を除去する工程である。
【００８３】使用される溶剤としては、塩化メチレン等
のハロゲン化炭化水素類と水との混合溶液が好適であ
る。
のハロゲン化炭化水素類と水との混合溶液が好適であ
る。
【００８４】使用される酸化剤としては、２，３−ジク
ロロ−５，６−ジシアノベンゾキノンが好適である。
ロロ−５，６−ジシアノベンゾキノンが好適である。
【００８５】反応温度は通常０乃至４０℃であり、好適
には室温である。
には室温である。
【００８６】反応時間は原料、反応温度等によるが、通
常５時間乃至７日間であり、好適には１０時間乃至３日
間である。
常５時間乃至７日間であり、好適には１０時間乃至３日
間である。
【００８７】例えば、亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加
え、分液し、有機層を減圧下留去し、水から凍結乾燥す
ることにより目的化合物を得ることができる。
え、分液し、有機層を減圧下留去し、水から凍結乾燥す
ることにより目的化合物を得ることができる。
【００８８】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離
精製に慣用されている方法、例えば、セファデックスＬ
Ｈ−２０（ファルマシア社製）、アンバーライトＸＡＤ
−１１（ローム・アンド・ハース社製）、ダイヤイオン
ＨＰ−２０（三菱化成社製）のような担体を用いた分配
カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方
法、イオン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカ
ゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カ
ラムクロマトグラフィー法（好適には、高速液体クロマ
トグラフィーである。）を適宜組合せ、適切な溶離剤で
溶出することによって分離、精製することができる。
例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有機化合物の分離
精製に慣用されている方法、例えば、セファデックスＬ
Ｈ−２０（ファルマシア社製）、アンバーライトＸＡＤ
−１１（ローム・アンド・ハース社製）、ダイヤイオン
ＨＰ−２０（三菱化成社製）のような担体を用いた分配
カラムクロマトグラフィー等の合成吸着剤を使用する方
法、イオン交換クロマトを使用する方法、又は、シリカ
ゲル若しくはアルキル化シリカゲルによる順相・逆相カ
ラムクロマトグラフィー法（好適には、高速液体クロマ
トグラフィーである。）を適宜組合せ、適切な溶離剤で
溶出することによって分離、精製することができる。
【００８９】なお、アデニル基を有する化合物、すなわ
ち、化合物（１ａ）、（１ｂ）、（１ｅ）、（１ｆ）、
（１ｇ）、（１ｈ）、（１ｉ）、（１ｊ）及び（１ｋ）
の場合には、存在するアミノ基を水酸基に容易に変換す
ることができる。例えば、原料化合物を、溶剤（好適に
は、酢酸）に溶解し、亜硝酸ナトリウムを加え、室温
で、１０乃至２４時間、攪拌することにより得ることが
できる。
ち、化合物（１ａ）、（１ｂ）、（１ｅ）、（１ｆ）、
（１ｇ）、（１ｈ）、（１ｉ）、（１ｊ）及び（１ｋ）
の場合には、存在するアミノ基を水酸基に容易に変換す
ることができる。例えば、原料化合物を、溶剤（好適に
は、酢酸）に溶解し、亜硝酸ナトリウムを加え、室温
で、１０乃至２４時間、攪拌することにより得ることが
できる。
【００９０】反応終了後、反応混合物を水で希釈し、活
性炭カラムに吸着させた後、０．２Ｎアンモニア水−メ
タノール（１：１ｖ／ｖ）で溶出し、溶媒を留去するこ
とにより目的物を得ることができる。必要なら、ゲル濾
過クロマトを行うことにより精製することができる。
性炭カラムに吸着させた後、０．２Ｎアンモニア水−メ
タノール（１：１ｖ／ｖ）で溶出し、溶媒を留去するこ
とにより目的物を得ることができる。必要なら、ゲル濾
過クロマトを行うことにより精製することができる。
【００９１】本発明の新規なポリリン酸誘導体は、イノ
シトール１，４，５−トリスホスフェート（ＩｎｓＰ3)
受容体に結合し、優れた細胞内カルシウムイオン濃度上
昇活性を有するので、老人性痴呆症、アルツハイマ−病
またはハンチントン舞踏病などの脳疾患の治療に有用で
ある。また、昇圧剤、免疫担当細胞を活性化する免疫増
強剤、褥瘡剤、上皮膚潰瘍治療剤又はインシュリン分泌
促進によるＩ型糖尿病治療剤として有用である。
シトール１，４，５−トリスホスフェート（ＩｎｓＰ3)
受容体に結合し、優れた細胞内カルシウムイオン濃度上
昇活性を有するので、老人性痴呆症、アルツハイマ−病
またはハンチントン舞踏病などの脳疾患の治療に有用で
ある。また、昇圧剤、免疫担当細胞を活性化する免疫増
強剤、褥瘡剤、上皮膚潰瘍治療剤又はインシュリン分泌
促進によるＩ型糖尿病治療剤として有用である。
【００９２】本発明の化合物（１）の投与形態として
は、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくは
シロップ剤等による経口投与又は注射剤若しくは坐剤等
による非経口投与を挙げることができ、これらの製剤
は、賦形剤（例えば、乳糖、白糖、葡萄糖、マンニッ
ト、ソルビットのような糖誘導体；トウモロコシデンプ
ン、バレイショデンプン、α澱粉、デキストリン、カル
ボキシメチルデンプンのような澱粉誘導体；結晶セルロ
ース、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム、内部
架橋カルボキシメチルセルロースナトリウムのようなセ
ルロース誘導体；アラビアゴム；デキストラン；プルラ
ンのような有機系賦形剤：及び、軽質無水珪酸、合成珪
酸アルミニウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのよ
うな珪酸塩誘導体；燐酸カルシウムのような燐酸塩；炭
酸カルシウムのような炭酸塩；硫酸カルシウムのような
硫酸塩等の無機系賦形剤を挙げることができる。）、滑
沢剤（例えば、ステアリン酸、ステアリン酸カルシウ
ム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸金
属塩；タルク；コロイドシリカ；ビーガム、ゲイ蝋のよ
うなワックス類；硼酸；アジピン酸；硫酸ナトリウムの
ような硫酸塩；グリコール；フマル酸；安息香酸ナトリ
ウム；ＤＬロイシン；脂肪酸ナトリウム塩；ラウリル硫
酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグネシウムのようなラウ
リル硫酸塩；無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸類；及
び、上記澱粉誘導体を挙げることができる。）、結合剤
（例えば、ポリビニルピロリドン、マクロゴール、及
び、前記賦形剤と同様の化合物を挙げることができ
る。）、崩壊剤（例えば、前記賦形剤と同様の化合物、
及び、クロスカルメロースナトリウム、カルボキシメチ
ルスターチナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのよ
うな化学修飾されたデンプン・セルロース類を挙げるこ
とができる。）、安定剤（メチルパラベン、プロピルパ
ラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類；クロロ
ブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアル
コールのようなアルコール類；塩化ベンザルコニウム；
フェノール、クレゾールのようなフェノール類；チメロ
サール；デヒドロ酢酸；及び、ソルビン酸を挙げること
ができる。）、矯味矯臭剤（例えば、通常使用される、
甘味料、酸味料、香料等を挙げることができる。）、希
釈剤等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。その
使用量は症状、年齢、投与方法等により異なるが、例え
ば、経口投与の場合には、１回当り、下限として０．１
mg（好ましくは、１mg）、上限として１０００mg（好ま
しくは、５００mg）を、静脈内投与の場合には、１回当
り、下限として０．０１mg（好ましくは、１mg）、上限
として、１００mg（好ましくは、５０mg）を１日当り１
乃至数回症状に応じて投与することが望ましい。
は、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくは
シロップ剤等による経口投与又は注射剤若しくは坐剤等
による非経口投与を挙げることができ、これらの製剤
は、賦形剤（例えば、乳糖、白糖、葡萄糖、マンニッ
ト、ソルビットのような糖誘導体；トウモロコシデンプ
ン、バレイショデンプン、α澱粉、デキストリン、カル
ボキシメチルデンプンのような澱粉誘導体；結晶セルロ
ース、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム、内部
架橋カルボキシメチルセルロースナトリウムのようなセ
ルロース誘導体；アラビアゴム；デキストラン；プルラ
ンのような有機系賦形剤：及び、軽質無水珪酸、合成珪
酸アルミニウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのよ
うな珪酸塩誘導体；燐酸カルシウムのような燐酸塩；炭
酸カルシウムのような炭酸塩；硫酸カルシウムのような
硫酸塩等の無機系賦形剤を挙げることができる。）、滑
沢剤（例えば、ステアリン酸、ステアリン酸カルシウ
ム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸金
属塩；タルク；コロイドシリカ；ビーガム、ゲイ蝋のよ
うなワックス類；硼酸；アジピン酸；硫酸ナトリウムの
ような硫酸塩；グリコール；フマル酸；安息香酸ナトリ
ウム；ＤＬロイシン；脂肪酸ナトリウム塩；ラウリル硫
酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグネシウムのようなラウ
リル硫酸塩；無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸類；及
び、上記澱粉誘導体を挙げることができる。）、結合剤
（例えば、ポリビニルピロリドン、マクロゴール、及
び、前記賦形剤と同様の化合物を挙げることができ
る。）、崩壊剤（例えば、前記賦形剤と同様の化合物、
及び、クロスカルメロースナトリウム、カルボキシメチ
ルスターチナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのよ
うな化学修飾されたデンプン・セルロース類を挙げるこ
とができる。）、安定剤（メチルパラベン、プロピルパ
ラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類；クロロ
ブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアル
コールのようなアルコール類；塩化ベンザルコニウム；
フェノール、クレゾールのようなフェノール類；チメロ
サール；デヒドロ酢酸；及び、ソルビン酸を挙げること
ができる。）、矯味矯臭剤（例えば、通常使用される、
甘味料、酸味料、香料等を挙げることができる。）、希
釈剤等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。その
使用量は症状、年齢、投与方法等により異なるが、例え
ば、経口投与の場合には、１回当り、下限として０．１
mg（好ましくは、１mg）、上限として１０００mg（好ま
しくは、５００mg）を、静脈内投与の場合には、１回当
り、下限として０．０１mg（好ましくは、１mg）、上限
として、１００mg（好ましくは、５０mg）を１日当り１
乃至数回症状に応じて投与することが望ましい。
【００９３】
【実施例】実施例において、Ｍｅはメチル基を示し、Ｍ
ＭＴｒは４−メトキシトリチル基を示し、ＤＭＴｒは
４，４’−ジメトキシトリチル基を示し、Ａｃはアセチ
ル基を示し、ＴＢＳはｔｅｒｔ−ブチルジメチル基を示
し、Ｂｎはベンジル基を示し、Ｂｚはベンゾイル基を示
し、Ｒ9 は前述したものと同意議を示す。 （実施例１）
ＭＴｒは４−メトキシトリチル基を示し、ＤＭＴｒは
４，４’−ジメトキシトリチル基を示し、Ａｃはアセチ
ル基を示し、ＴＢＳはｔｅｒｔ−ブチルジメチル基を示
し、Ｂｎはベンジル基を示し、Ｂｚはベンゾイル基を示
し、Ｒ9 は前述したものと同意議を示す。 （実施例１）
【００９４】
【化１８】
【００９５】８０ｍｇのアデノホスチンＡを４ｍｌの１
Ｍ−酢酸ナトリウム水溶液（ｐＨ４）に溶解し、１００
ｍｇの臭素を加え、室温で５日間撹拌した。反応後、反
応液に窒素ガスを吹き込んで臭素を除いた。反応液を四
等分し、分取用高速液体クロマトグラフィー（ＹＭＣ−
Ｐａｃｋ ＯＤＳ−ＡＱ、２０×２５０ｍｍ、０．１Ｍ
−酢酸トリエチルアミン（ｐＨ７）、０→３０％アセト
ニトリル／３０分、７ｍｌ／ｍｉｎ）を用いて精製し
た。２３分に溶出する分画を集め、減圧下溶媒を留去し
た後、水を加えて溶解し、凍結乾燥した。残渣を水に溶
解し、溶出液として水を用いてＤｏｗｅｘ ５０Ｗ×８
（Ｈ+ 型，１０×５０ｍｍ）及びＤｏｗｅｘ ５０Ｗ×
８（Ｎａ+ 型，１０×１２０ｍｍ）を用いて精製した。
得られた溶出液を、さらに、溶出液として用いて、Ｓｅ
ｐｈａｄｅｘＧ１０を用いて脱塩し、得られた水溶液を
凍結乾燥して６ｍｇの目的化合物（１ａ）（ナトリウム
塩）を得た。
Ｍ−酢酸ナトリウム水溶液（ｐＨ４）に溶解し、１００
ｍｇの臭素を加え、室温で５日間撹拌した。反応後、反
応液に窒素ガスを吹き込んで臭素を除いた。反応液を四
等分し、分取用高速液体クロマトグラフィー（ＹＭＣ−
Ｐａｃｋ ＯＤＳ−ＡＱ、２０×２５０ｍｍ、０．１Ｍ
−酢酸トリエチルアミン（ｐＨ７）、０→３０％アセト
ニトリル／３０分、７ｍｌ／ｍｉｎ）を用いて精製し
た。２３分に溶出する分画を集め、減圧下溶媒を留去し
た後、水を加えて溶解し、凍結乾燥した。残渣を水に溶
解し、溶出液として水を用いてＤｏｗｅｘ ５０Ｗ×８
（Ｈ+ 型，１０×５０ｍｍ）及びＤｏｗｅｘ ５０Ｗ×
８（Ｎａ+ 型，１０×１２０ｍｍ）を用いて精製した。
得られた溶出液を、さらに、溶出液として用いて、Ｓｅ
ｐｈａｄｅｘＧ１０を用いて脱塩し、得られた水溶液を
凍結乾燥して６ｍｇの目的化合物（１ａ）（ナトリウム
塩）を得た。
【００９６】1H-NMR(270MHz,D2O;DOH を4.7ppmとした）
δ ppm : 8.10(s,1H);6.27(d,J=8.6Hz,1H);5.46-5.37
(m,1H);5.27(d,J=3.7Hz,1H);4.80-4.38(m,3H);4.12-3.6
5(m,7H) MASS(FAB):m/z 748(M+H)+ , 764(M-H)- （実施例２）
δ ppm : 8.10(s,1H);6.27(d,J=8.6Hz,1H);5.46-5.37
(m,1H);5.27(d,J=3.7Hz,1H);4.80-4.38(m,3H);4.12-3.6
5(m,7H) MASS(FAB):m/z 748(M+H)+ , 764(M-H)- （実施例２）
【００９７】
【化１９】
【００９８】８０ｍｇのアデノホスチンＡを用いて、実
施例１と同様の反応を行い、実施例１の条件下、高速液
体クロマトグラフィーにおいて２１分に溶出する分画を
集めた。溶媒を減圧下留去後、水を加え、溶解し、凍結
乾燥することにより、６．７ｍｇの目的化合物（１ｂ）
（トリエチルアミン塩）を得た。
施例１と同様の反応を行い、実施例１の条件下、高速液
体クロマトグラフィーにおいて２１分に溶出する分画を
集めた。溶媒を減圧下留去後、水を加え、溶解し、凍結
乾燥することにより、６．７ｍｇの目的化合物（１ｂ）
（トリエチルアミン塩）を得た。
【００９９】1H-NMR(270MHz,D2O;DOH を4.7ppmとした）
δ ppm : 6.12(d,J=8.6Hz,1H);5.42-5.30(m,1H);5.28
(d,J=3.7Hz,1H);4.80-3.65(m,10H) MASS(FAB):m/z 764(M+H)+ , 762(M-H)- （実施例３）
δ ppm : 6.12(d,J=8.6Hz,1H);5.42-5.30(m,1H);5.28
(d,J=3.7Hz,1H);4.80-3.65(m,10H) MASS(FAB):m/z 764(M+H)+ , 762(M-H)- （実施例３）
【０１００】
【化２０】
【０１０１】（１）
【０１０２】
【化２１】
【０１０３】メチルβ−Ｄ−リボシド８５０ｍｇを５０
ｍｌのピリジンに溶解し、１．９１８ｇの４−メトキシ
トリチルクロリドを加え、室温で撹拌した。８時間後、
０．１６ｇの４−メトキシトリチルクロリドを追加し、
更に１５時間撹拌した。反応後、溶媒を減圧下留去し、
残渣を１００ｍｌの酢酸エチルに溶解し、１００ｍｌの
５％炭酸水素ナトリウム水で２回洗浄した。有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去
し、残渣をシリカゲルカラム（１００ｇ，７０−２３０
ｍｅｓｈ）を用いて精製した。すなわち、ベンゼン−酢
酸エチル（９：１）で不純物を溶出した後、ベンゼン−
酢酸エチル（１：１）で溶出することにより２．０５ｇ
（９０．８％）の目的化合物（２−２ａ）を得た。
ｍｌのピリジンに溶解し、１．９１８ｇの４−メトキシ
トリチルクロリドを加え、室温で撹拌した。８時間後、
０．１６ｇの４−メトキシトリチルクロリドを追加し、
更に１５時間撹拌した。反応後、溶媒を減圧下留去し、
残渣を１００ｍｌの酢酸エチルに溶解し、１００ｍｌの
５％炭酸水素ナトリウム水で２回洗浄した。有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去
し、残渣をシリカゲルカラム（１００ｇ，７０−２３０
ｍｅｓｈ）を用いて精製した。すなわち、ベンゼン−酢
酸エチル（９：１）で不純物を溶出した後、ベンゼン−
酢酸エチル（１：１）で溶出することにより２．０５ｇ
（９０．８％）の目的化合物（２−２ａ）を得た。
【０１０４】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 7.48
(d,J=7.0Hz,4H);7.38-7.19(m,8H);6.84(d,J=8.8Hz,2H);
4.88(s,1H);4.32-4.24(m,1H);4.12-4.03(m,2H);3.81(s,
3H);3.34(s,3H);3.29(d,J=5.1Hz,2H);2.52(brd,J=3.1H
z,1H);2.26(brd,J=5.9Hz,1H) IR(KBr)cm-1:3406,3059,3033,2999,2932,2836,1608,158
4,1510,1491,1463,1448,1414,1300,1252 HRMS(FAB):m/z 459.1780(M+Na)+・ （２）
(d,J=7.0Hz,4H);7.38-7.19(m,8H);6.84(d,J=8.8Hz,2H);
4.88(s,1H);4.32-4.24(m,1H);4.12-4.03(m,2H);3.81(s,
3H);3.34(s,3H);3.29(d,J=5.1Hz,2H);2.52(brd,J=3.1H
z,1H);2.26(brd,J=5.9Hz,1H) IR(KBr)cm-1:3406,3059,3033,2999,2932,2836,1608,158
4,1510,1491,1463,1448,1414,1300,1252 HRMS(FAB):m/z 459.1780(M+Na)+・ （２）
【０１０５】
【化２２】
【０１０６】化合物（２−２ａ）２．０５ｇをピリジン
で共沸して乾燥させた後、１０ｍｌのピリジンに溶解
し、２．１２ｇのｔ−ブチルジメチルシリルクロリドを
加え、室温で撹拌した。２０時間後、溶媒を減圧下留去
し、残渣を１００ｍｌの酢酸エチルに溶解し、１００ｍ
ｌの５％炭酸水素ナトリウム水で２回洗浄した。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留
去し、残渣をシリカゲルカラム（２００ｇ，７０−２３
０ｍｅｓｈ）で精製した。すなわち、ベンゼン−酢酸エ
チル（１９：１）で溶出し、目的物を含む画分を集め
た。得られた画分を濃縮し、再度、同条件でクロマトを
行い、８５４．１ｍｇ（３３％）の目的化合物（２−３
ａ）を得た。
で共沸して乾燥させた後、１０ｍｌのピリジンに溶解
し、２．１２ｇのｔ−ブチルジメチルシリルクロリドを
加え、室温で撹拌した。２０時間後、溶媒を減圧下留去
し、残渣を１００ｍｌの酢酸エチルに溶解し、１００ｍ
ｌの５％炭酸水素ナトリウム水で２回洗浄した。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留
去し、残渣をシリカゲルカラム（２００ｇ，７０−２３
０ｍｅｓｈ）で精製した。すなわち、ベンゼン−酢酸エ
チル（１９：１）で溶出し、目的物を含む画分を集め
た。得られた画分を濃縮し、再度、同条件でクロマトを
行い、８５４．１ｍｇ（３３％）の目的化合物（２−３
ａ）を得た。
【０１０７】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 7.51
(d,J=7.3Hz,4H);7.38-7.17(m,8H);6.82(d,J=9.0Hz,2H);
4.80(s,1H);4.12-4.03(m,3H);3.79(s,3H);3.38(s,3H);
3.32(dd,J=10.2 and 3.1Hz,1H);3.14(dd,J=10.2 and
5.0Hz,1H);2.42(brd,J=7.2Hz,1H);0.93(s,9H);0.15(s,3
H);0.14(s,3H) IR(Liquid film)cm-1:3545,3059,3023,3005,2954,2930,2859,1609,
1585,1510,1492,1464,1448 HRMS(FAB):m/z 550.2754(M)+・ （３）
(d,J=7.3Hz,4H);7.38-7.17(m,8H);6.82(d,J=9.0Hz,2H);
4.80(s,1H);4.12-4.03(m,3H);3.79(s,3H);3.38(s,3H);
3.32(dd,J=10.2 and 3.1Hz,1H);3.14(dd,J=10.2 and
5.0Hz,1H);2.42(brd,J=7.2Hz,1H);0.93(s,9H);0.15(s,3
H);0.14(s,3H) IR(Liquid film)cm-1:3545,3059,3023,3005,2954,2930,2859,1609,
1585,1510,1492,1464,1448 HRMS(FAB):m/z 550.2754(M)+・ （３）
【０１０８】
【化２３】
【０１０９】化合物（２−３ａ）３４０．３ｍｇを３ｍ
ｌのクロロホルムに溶解し、モレキュラー・シープ（４
Ａ）１ｇ、３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−２−Ｏ−
ベンジル−α−Ｄ−グルコピラノシルプロミド（Ｓ．Ｂ
ｒｅｎｎａｎ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．
（Ｃ）１７４２−１７４４頁（１９７０年））４２５．
６ｍｇ、２，４，６−トリメチルピリジン１２２μＬ及
び過塩素酸銀１９２ｍｇを加え、室温で撹拌した。４．
５時間後に３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−２−Ｏ−
ベンジル−α−Ｄ−グルコピラノシルプロミド４２５．
６ｍｇ、２，４，６−トリメチルピリジン１２２μＬ及
び過塩素酸銀１９２ｍｇを加え、更に１５．５時間撹拌
した。反応終了後、反応液をセライトでろ過し、クロロ
ホルムで洗い込み、ろ液と洗浄液を合わせて、１００ｍ
ｌずつの０．０１Ｎ−塩酸、５％炭酸水素ナトリウム
水、飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を無水マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカ
ゲルカラム（８０ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）で精製し
た。すなわち、ヘキサン−酢酸エチル（７：３）で溶出
することにより１１５．９ｍｇ（２０．２％）の目的化
合物（２−４ａ）を得た。
ｌのクロロホルムに溶解し、モレキュラー・シープ（４
Ａ）１ｇ、３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−２−Ｏ−
ベンジル−α−Ｄ−グルコピラノシルプロミド（Ｓ．Ｂ
ｒｅｎｎａｎ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．
（Ｃ）１７４２−１７４４頁（１９７０年））４２５．
６ｍｇ、２，４，６−トリメチルピリジン１２２μＬ及
び過塩素酸銀１９２ｍｇを加え、室温で撹拌した。４．
５時間後に３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−２−Ｏ−
ベンジル−α−Ｄ−グルコピラノシルプロミド４２５．
６ｍｇ、２，４，６−トリメチルピリジン１２２μＬ及
び過塩素酸銀１９２ｍｇを加え、更に１５．５時間撹拌
した。反応終了後、反応液をセライトでろ過し、クロロ
ホルムで洗い込み、ろ液と洗浄液を合わせて、１００ｍ
ｌずつの０．０１Ｎ−塩酸、５％炭酸水素ナトリウム
水、飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を無水マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカ
ゲルカラム（８０ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）で精製し
た。すなわち、ヘキサン−酢酸エチル（７：３）で溶出
することにより１１５．９ｍｇ（２０．２％）の目的化
合物（２−４ａ）を得た。
【０１１０】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 7.50
-7.43(m,4H);7.35-7.17(m,13H);6.80(d,J=8.8Hz,2H);5.
38(t,J=9.7Hz,1H);4.86-4.77(m,3H);4.55(dd,J=12.3 an
d 22.2Hz,2H);4.34-4.27(m,1H);4.26-4.18(m,2H);3.95-
3.75(m,2H);3.78(s,3H),3.63(d,J=12.6Hz,1H);3.52-3.4
0(m,2H);3.46(s,3H);3.15(dd,J=10.5 and 3.2Hz,1H);1.
96(s,3H);1.94(s,6H);0.91(s,9H);0.16(s,3H);0.14(s,3
H) IR(KBr)cm-1:3063,3032,2953,2930,2858,1754,1609,151
1,1494,1463,1449,1367,1300,1249,1232 HRMS(FAB):m/z 951.3931(M+Na)+ （４）
-7.43(m,4H);7.35-7.17(m,13H);6.80(d,J=8.8Hz,2H);5.
38(t,J=9.7Hz,1H);4.86-4.77(m,3H);4.55(dd,J=12.3 an
d 22.2Hz,2H);4.34-4.27(m,1H);4.26-4.18(m,2H);3.95-
3.75(m,2H);3.78(s,3H),3.63(d,J=12.6Hz,1H);3.52-3.4
0(m,2H);3.46(s,3H);3.15(dd,J=10.5 and 3.2Hz,1H);1.
96(s,3H);1.94(s,6H);0.91(s,9H);0.16(s,3H);0.14(s,3
H) IR(KBr)cm-1:3063,3032,2953,2930,2858,1754,1609,151
1,1494,1463,1449,1367,1300,1249,1232 HRMS(FAB):m/z 951.3931(M+Na)+ （４）
【０１１１】
【化２４】
【０１１２】化合物（２−４ａ）１１５ｍｇを０．５ｍ
ｌのテトラヒドロフランに溶解し、０．５ｍｌの１Ｍ−
テトラブチルアンモニウムフロリド／テトラヒドロフラ
ン溶液を加え、室温で撹拌した。５０分後、溶媒を減圧
下留去し、残渣をシリカゲルカラム（２０ｇ，７０−２
３０ｍｅｓｈ）で精製した。すなわち、ヘキサン−酢酸
エチル（２：１）で溶出することにより７９．１ｍｇ
（７７．８％）の目的化合物（２−５ａ）を得た。
ｌのテトラヒドロフランに溶解し、０．５ｍｌの１Ｍ−
テトラブチルアンモニウムフロリド／テトラヒドロフラ
ン溶液を加え、室温で撹拌した。５０分後、溶媒を減圧
下留去し、残渣をシリカゲルカラム（２０ｇ，７０−２
３０ｍｅｓｈ）で精製した。すなわち、ヘキサン−酢酸
エチル（２：１）で溶出することにより７９．１ｍｇ
（７７．８％）の目的化合物（２−５ａ）を得た。
【０１１３】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 7.48
(d,J=8.3Hz,4H);7.40-7.18(m,13H);6.83(d,J=8.7Hz,2
H);5.39(t,J=9.7Hz,1H);4.94(s,1H);4.91(t,J=9.7Hz,1
H);4.69(d,J=3.8Hz,1H);4.62(dd,J=30.4 and 12.0Hz,2
H);4.33-4.27(m,1H);4.25-4.19(m,1H);4.05-3.95(m,2
H);3.79(s,3H);3.78-3.71(m,1H);3.63-3.53(m,3H);3.38
(s,3H);3.31(dd,J=10.2 and 4.2Hz,1H);3.16(dd,J=10.2
and 4.8Hz,1H);2.00(s,6H);1.96(s,3H) IR(KBr)cm-1:3480,3061,3032,2933,1752,1608,1511,149
3,1449,1367,1300,1247,1229 HRMS(FAB):m/z 837.3106(M+Na)+ （５）
(d,J=8.3Hz,4H);7.40-7.18(m,13H);6.83(d,J=8.7Hz,2
H);5.39(t,J=9.7Hz,1H);4.94(s,1H);4.91(t,J=9.7Hz,1
H);4.69(d,J=3.8Hz,1H);4.62(dd,J=30.4 and 12.0Hz,2
H);4.33-4.27(m,1H);4.25-4.19(m,1H);4.05-3.95(m,2
H);3.79(s,3H);3.78-3.71(m,1H);3.63-3.53(m,3H);3.38
(s,3H);3.31(dd,J=10.2 and 4.2Hz,1H);3.16(dd,J=10.2
and 4.8Hz,1H);2.00(s,6H);1.96(s,3H) IR(KBr)cm-1:3480,3061,3032,2933,1752,1608,1511,149
3,1449,1367,1300,1247,1229 HRMS(FAB):m/z 837.3106(M+Na)+ （５）
【０１１４】
【化２５】
【０１１５】化合物（２−５ａ）７７ｍｇを１ｍｌのピ
リジンと３ｍｌの２８％アンモニア水に溶解し、室温で
１８時間撹拌した。反応終了後、溶媒を減圧下留去し、
残渣をピリジンで３回共沸して乾燥させた。残渣を１ｍ
ｌのピリジンに溶解し、３２ｍｇの４−メトキシトリチ
ルクロリドを加え、室温で撹拌した。１９時間後に１３
ｍｇの４−メトキシトリチルクロリドを加え、更に４時
間撹拌した。反応終了後、１００μＬの水を加え、５０
ｍｌの酢酸エチルを加え、５０ｍｌの５％炭酸水素ナト
リウム水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラム
（２０ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）で精製した。すなわ
ち、メタノール−塩化メチレン（０．５：９９．５）で
溶出することにより７７．３ｍｇ（８５．１％）の目的
化合物（２−６ａ）を得た。
リジンと３ｍｌの２８％アンモニア水に溶解し、室温で
１８時間撹拌した。反応終了後、溶媒を減圧下留去し、
残渣をピリジンで３回共沸して乾燥させた。残渣を１ｍ
ｌのピリジンに溶解し、３２ｍｇの４−メトキシトリチ
ルクロリドを加え、室温で撹拌した。１９時間後に１３
ｍｇの４−メトキシトリチルクロリドを加え、更に４時
間撹拌した。反応終了後、１００μＬの水を加え、５０
ｍｌの酢酸エチルを加え、５０ｍｌの５％炭酸水素ナト
リウム水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラム
（２０ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）で精製した。すなわ
ち、メタノール−塩化メチレン（０．５：９９．５）で
溶出することにより７７．３ｍｇ（８５．１％）の目的
化合物（２−６ａ）を得た。
【０１１６】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 7.45
-7.05(m,29H);6.79(d,J=9.0Hz,2H);6.68(d,J=9.0Hz,2
H);4.92(s,1H);4.83-4.73(m,3H);4.27-4.17(m,2H);4.08
-4.04(m,1H);3.91-3.82(m,1H);3.76(s,3H);3.72(d,J=2.
7Hz,1H);3.68(s,3H);3.67-3.57(m,1H);3.46-3.40(m,2
H);3.37(s,3H);3.20(dd,J=9.9 and 3.5Hz,1H);3.12-2.9
9(m,3H);2.50(brs,1H);1.98(brs,1H) IR(KBr)cm-1:3459,3059,3032,2929,2837,1608,1510,149
2,1448,1301,1252 HRMS(FAB):m/z 960.4060(M)+・ （６）
-7.05(m,29H);6.79(d,J=9.0Hz,2H);6.68(d,J=9.0Hz,2
H);4.92(s,1H);4.83-4.73(m,3H);4.27-4.17(m,2H);4.08
-4.04(m,1H);3.91-3.82(m,1H);3.76(s,3H);3.72(d,J=2.
7Hz,1H);3.68(s,3H);3.67-3.57(m,1H);3.46-3.40(m,2
H);3.37(s,3H);3.20(dd,J=9.9 and 3.5Hz,1H);3.12-2.9
9(m,3H);2.50(brs,1H);1.98(brs,1H) IR(KBr)cm-1:3459,3059,3032,2929,2837,1608,1510,149
2,1448,1301,1252 HRMS(FAB):m/z 960.4060(M)+・ （６）
【０１１７】
【化２６】
【０１１８】化合物（２−６ａ）７５ｍｇと１Ｈ−テト
ラゾール２７ｍｇをピリジンで共沸して乾燥した後、３
ｍｌのアセトニトリルに溶解し、７５ｍｇのＮ，Ｎ−ジ
エチル−１，５−ジヒドロ−２，４，３−ベンゾジオキ
サホスフェピン−３−アミン（渡辺ら、Ｔｅｔｒａｈｅ
ｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，３１巻，２５５−２５６頁（１
９９０年））を加えて室温で撹拌した。１時間後、反応
液を−４０℃に冷却し、１ｍｌのアセトニトリルに溶解
した９４ｍｇのメタクロロ過安息香酸を加え、２０分間
かけて室温に戻しながら撹拌した。反応終了後、溶媒を
減圧下留去し、残渣を５０ｍｌの酢酸エチルに溶解し、
５０ｍｌずつの１０％メタ重亜硫酸ナトリウム水、０．
０１Ｎ塩酸、５％炭酸水素ナトリウム水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥してから溶媒を減圧下留去
した。残渣をシリカゲルカラム（２０ｇ，７０−２３０
ｍｅｓｈ）で精製した。すなわち、酢酸エチル−ヘキサ
ン（６５：３５）で溶出することにより、１１６．３ｍ
ｇ（９８．９％）の目的化合物（２−７ａ）を得た。
ラゾール２７ｍｇをピリジンで共沸して乾燥した後、３
ｍｌのアセトニトリルに溶解し、７５ｍｇのＮ，Ｎ−ジ
エチル−１，５−ジヒドロ−２，４，３−ベンゾジオキ
サホスフェピン−３−アミン（渡辺ら、Ｔｅｔｒａｈｅ
ｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，３１巻，２５５−２５６頁（１
９９０年））を加えて室温で撹拌した。１時間後、反応
液を−４０℃に冷却し、１ｍｌのアセトニトリルに溶解
した９４ｍｇのメタクロロ過安息香酸を加え、２０分間
かけて室温に戻しながら撹拌した。反応終了後、溶媒を
減圧下留去し、残渣を５０ｍｌの酢酸エチルに溶解し、
５０ｍｌずつの１０％メタ重亜硫酸ナトリウム水、０．
０１Ｎ塩酸、５％炭酸水素ナトリウム水で順次洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥してから溶媒を減圧下留去
した。残渣をシリカゲルカラム（２０ｇ，７０−２３０
ｍｅｓｈ）で精製した。すなわち、酢酸エチル−ヘキサ
ン（６５：３５）で溶出することにより、１１６．３ｍ
ｇ（９８．９％）の目的化合物（２−７ａ）を得た。
【０１１９】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 7.48
-6.97(m,41H);6.78(d,J=8.9Hz,2H):6.63(d,J=8.9Hz,2
H);5.63-4.46(m,20H);3.77(s,3H);3.57(s,3H);3.43(s,3
H);3.72-3.10(m,6H) IR(KBr)cm-1:3059,3031,2933,2838,1608,1510,1461,144
9,1380,1295,1252 HRMS(FAB):m/z 1529.4371(M+Na)+ （７）
-6.97(m,41H);6.78(d,J=8.9Hz,2H):6.63(d,J=8.9Hz,2
H);5.63-4.46(m,20H);3.77(s,3H);3.57(s,3H);3.43(s,3
H);3.72-3.10(m,6H) IR(KBr)cm-1:3059,3031,2933,2838,1608,1510,1461,144
9,1380,1295,1252 HRMS(FAB):m/z 1529.4371(M+Na)+ （７）
【０１２０】
【化２７】
【０１２１】化合物（２−７ａ）９７ｍｇを１０ｍｌの
クロロホルムに溶解し、４℃で撹拌した。そこへトリフ
ルオロ酢酸２００μＬを加え、４℃で撹拌した。１０分
後、反応液を２０ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム水で２
回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
減圧下留去した。残渣を２枚のＴＬＣ ｐｌａｔｅ（２
ｍｍ厚）で精製した。すなわち、塩化メチレン−メタノ
ール（１２：１）で展開して、主バンド（Ｒｆ＝０．２
５）を精製した。得られた残渣を１．６ｍｌのエタノー
ルと０．４ｍｌの水の混合液に溶解し、約２０ｍｇのパ
ラジウム−黒を加えて、水素雰囲気下（１気圧）、室温
で２日間撹拌した。反応終了後、反応液をセライトでろ
過し、エタノールと希アンモニア水を用いて洗い込み、
ろ液と洗浄液を合わせて溶媒を減圧下留去した。水に溶
解し、凍結乾燥することにより目的化合物（１ｃ）のア
ンモニウム塩を３５．７ｍｇ（８９．５％）得た。
クロロホルムに溶解し、４℃で撹拌した。そこへトリフ
ルオロ酢酸２００μＬを加え、４℃で撹拌した。１０分
後、反応液を２０ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム水で２
回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
減圧下留去した。残渣を２枚のＴＬＣ ｐｌａｔｅ（２
ｍｍ厚）で精製した。すなわち、塩化メチレン−メタノ
ール（１２：１）で展開して、主バンド（Ｒｆ＝０．２
５）を精製した。得られた残渣を１．６ｍｌのエタノー
ルと０．４ｍｌの水の混合液に溶解し、約２０ｍｇのパ
ラジウム−黒を加えて、水素雰囲気下（１気圧）、室温
で２日間撹拌した。反応終了後、反応液をセライトでろ
過し、エタノールと希アンモニア水を用いて洗い込み、
ろ液と洗浄液を合わせて溶媒を減圧下留去した。水に溶
解し、凍結乾燥することにより目的化合物（１ｃ）のア
ンモニウム塩を３５．７ｍｇ（８９．５％）得た。
【０１２２】1H-NMR(270MHz,D2O;DOH を4.7ppmとした）
δ ppm : 5.06(d,J=3.3Hz,1H);5.02(s,1H);4.50-4.42
(m,1H);4.37-4.10(m,3H);3.96-3.35(m,7H);3.31(s,3H)。 IR(KBr)cm-1:3198,1652,1455,1404,1156,1088,1044,94
1。 HRMS(FAB):m/z 565.0136(M-H)- （実施例４）
δ ppm : 5.06(d,J=3.3Hz,1H);5.02(s,1H);4.50-4.42
(m,1H);4.37-4.10(m,3H);3.96-3.35(m,7H);3.31(s,3H)。 IR(KBr)cm-1:3198,1652,1455,1404,1156,1088,1044,94
1。 HRMS(FAB):m/z 565.0136(M-H)- （実施例４）
【０１２３】
【化２８】
【０１２４】（１）
【０１２５】
【化２９】
【０１２６】１−デオキシリボース（Ｊ．Ｐｌａｖｅｃ
ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１５
巻，９７３４−９７４６頁（１９９３年））４３９ｍｇ
をピリジンで共沸して乾燥し、３０ｍｌのピリジンに溶
解し、４−メトキシトリチルクロリド１．２１ｇを加え
て室温で撹拌した。５時間後、１ｍｌの水を加え、溶媒
を減圧下留去した。残渣を１００ｍｌの酢酸エチルに溶
解し、１００ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム水で２回洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留
去した。残渣をシリカゲルカラム（１００ｇ，７０−２
３０ｍｅｓｈ）で精製した。すなわち、シクロヘキサン
−酢酸エチル（１：１）で溶出することにより、６９
２．７ｍｇ（５２％）の目的化合物（２−２ｂ）を得
た。
ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１５
巻，９７３４−９７４６頁（１９９３年））４３９ｍｇ
をピリジンで共沸して乾燥し、３０ｍｌのピリジンに溶
解し、４−メトキシトリチルクロリド１．２１ｇを加え
て室温で撹拌した。５時間後、１ｍｌの水を加え、溶媒
を減圧下留去した。残渣を１００ｍｌの酢酸エチルに溶
解し、１００ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム水で２回洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留
去した。残渣をシリカゲルカラム（１００ｇ，７０−２
３０ｍｅｓｈ）で精製した。すなわち、シクロヘキサン
−酢酸エチル（１：１）で溶出することにより、６９
２．７ｍｇ（５２％）の目的化合物（２−２ｂ）を得
た。
【０１２７】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 7.44
(d,J=8.1Hz,4H);7.36-7.18(m,8H);6.84(d,J=9.0Hz,2H);
4.31(brs,1H);4.14(dd,J=9.9 and 5.0Hz,1H);4.10-4.03
(m,1H);3.92(dt,J=6.3 and 4.8Hz,1H);3.82(dd,J=9.9
and 3.4Hz,1H);3.79(s,3H);3.29(d,J=5.3Hz,2H);2.48(b
rs,2H)。 IR(KBr)cm-1:3403,3059,3033,3001,2933,2870,2838,160
8,1584,1510,1491,1463,1448,1414。 HRMS(FAB):m/z 406.1783(M)+・ （２）
(d,J=8.1Hz,4H);7.36-7.18(m,8H);6.84(d,J=9.0Hz,2H);
4.31(brs,1H);4.14(dd,J=9.9 and 5.0Hz,1H);4.10-4.03
(m,1H);3.92(dt,J=6.3 and 4.8Hz,1H);3.82(dd,J=9.9
and 3.4Hz,1H);3.79(s,3H);3.29(d,J=5.3Hz,2H);2.48(b
rs,2H)。 IR(KBr)cm-1:3403,3059,3033,3001,2933,2870,2838,160
8,1584,1510,1491,1463,1448,1414。 HRMS(FAB):m/z 406.1783(M)+・ （２）
【０１２８】
【化３０】
【０１２９】化合物（２−２ｂ）６６８．７ｍｇ、ピリ
ジン３ｍｌ及びｔ−ブチルジメチルシリルクロリド７４
４ｍｇを用いて、実施例３（２）と同様にして７時間反
応した。反応終了後、実施例３（２）と同様に処理を行
い、シリカゲルカラム（１００ｇ，７０−２３０ｍｅｓ
ｈ）で精製した。すなわち、ヘキサン−酢酸エチル
（７：２）で溶出することにより４７７．１ｍｇ（５
５．７％）の目的化合物（２−３ｂ）（ｏｉｌ）を得
た。
ジン３ｍｌ及びｔ−ブチルジメチルシリルクロリド７４
４ｍｇを用いて、実施例３（２）と同様にして７時間反
応した。反応終了後、実施例３（２）と同様に処理を行
い、シリカゲルカラム（１００ｇ，７０−２３０ｍｅｓ
ｈ）で精製した。すなわち、ヘキサン−酢酸エチル
（７：２）で溶出することにより４７７．１ｍｇ（５
５．７％）の目的化合物（２−３ｂ）（ｏｉｌ）を得
た。
【０１３０】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 7.47
-7.44(m,4H);7.37-7.18(m,8H);6.83(d,J=9.0Hz,2H);4.4
5-4.39(m,1H);4.15(dd,J=9.0 and 5.7Hz,1H);4.00-3.93
(m,2H);3.79(s,3H);3.70(dd,J=9.0 and 5.6Hz,1H);3.35
(dd,J=10.2 and 2.8Hz,1H);3.10(dd,J=10.2 and 3.9Hz,
1H);2.72(d,J=5.1Hz,1H);0.92(s,9H);0.13(s,3H);0.12
(s,3H) IR(Liquid film)cm-1:3536,3059,3033,3002,2953,2930,2884,2859,
1609,1585,1510,1491,1471,1464,1448 HRMS(FAB):m/z 520.2643(M+H)+ （３）
-7.44(m,4H);7.37-7.18(m,8H);6.83(d,J=9.0Hz,2H);4.4
5-4.39(m,1H);4.15(dd,J=9.0 and 5.7Hz,1H);4.00-3.93
(m,2H);3.79(s,3H);3.70(dd,J=9.0 and 5.6Hz,1H);3.35
(dd,J=10.2 and 2.8Hz,1H);3.10(dd,J=10.2 and 3.9Hz,
1H);2.72(d,J=5.1Hz,1H);0.92(s,9H);0.13(s,3H);0.12
(s,3H) IR(Liquid film)cm-1:3536,3059,3033,3002,2953,2930,2884,2859,
1609,1585,1510,1491,1471,1464,1448 HRMS(FAB):m/z 520.2643(M+H)+ （３）
【０１３１】
【化３１】
【０１３２】化合物（２−３ｂ）４７０ｍｇ、３，４，
６−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グルコピラノシルブ
ロミド１．２４４ｇ、モレキュラー・シーブ（４Ａ）
２．５ｇ、クロロホルム１０ｍｌ、２，４，６−トリメ
チルピリジン３５８μＬ、過塩素酸銀５６１ｍｇを用
い、実施例３（３）と同様にして２５時間反応した。反
応終了後、実施例３（３）と同様の処理を行い、残渣を
シリカゲルカラム（１００ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）
で精製した。すなわち、ヘキサン−酢酸エチル（３：
１）にて溶出することにより７８８ｍｇ（９７．１％）
の目的化合物（２−４ｂ）を得た。
６−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グルコピラノシルブ
ロミド１．２４４ｇ、モレキュラー・シーブ（４Ａ）
２．５ｇ、クロロホルム１０ｍｌ、２，４，６−トリメ
チルピリジン３５８μＬ、過塩素酸銀５６１ｍｇを用
い、実施例３（３）と同様にして２５時間反応した。反
応終了後、実施例３（３）と同様の処理を行い、残渣を
シリカゲルカラム（１００ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）
で精製した。すなわち、ヘキサン−酢酸エチル（３：
１）にて溶出することにより７８８ｍｇ（９７．１％）
の目的化合物（２−４ｂ）を得た。
【０１３３】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 7.47
-7.40(m,4H);7.37-7.20(m,13H);6.84(d,J=8.8Hz,2H);5.
41(t,J=9.7Hz,1H);5.33(d,J=3.4Hz,1H);4.92(t,J=9.7H
z,1H);4.72(d,12.2Hz,1H);4.49(d,J=12.2Hz,1H);4.50-
3.96(m,5H);3.83-3.69(m,3H);3.79(s,3H);3.54(dd,J=9.
9 and 3.6Hz,1H);3.38(dd,J=10.4 and 4.1Hz,1H);3.06
(dd,J=10.4 and 3.0Hz,1H);1.97(s,6H);1.94(s,3H);0.9
0(s,9H);0.13(s,3H);0.97(s,3H) IR(KBr)cm-1:3062,3032,2953,2932,2885,2859,1752,160
9,1511,1495,1463,1449,1337,1299,1247,1229 HRMS(FAB):m/z 921.3868(M+Na)+ （４）
-7.40(m,4H);7.37-7.20(m,13H);6.84(d,J=8.8Hz,2H);5.
41(t,J=9.7Hz,1H);5.33(d,J=3.4Hz,1H);4.92(t,J=9.7H
z,1H);4.72(d,12.2Hz,1H);4.49(d,J=12.2Hz,1H);4.50-
3.96(m,5H);3.83-3.69(m,3H);3.79(s,3H);3.54(dd,J=9.
9 and 3.6Hz,1H);3.38(dd,J=10.4 and 4.1Hz,1H);3.06
(dd,J=10.4 and 3.0Hz,1H);1.97(s,6H);1.94(s,3H);0.9
0(s,9H);0.13(s,3H);0.97(s,3H) IR(KBr)cm-1:3062,3032,2953,2932,2885,2859,1752,160
9,1511,1495,1463,1449,1337,1299,1247,1229 HRMS(FAB):m/z 921.3868(M+Na)+ （４）
【０１３４】
【化３２】
【０１３５】化合物（２−４ｂ）２０６ｍｇ、テトラヒ
ドロフラン０．３５ｍｌ、１Ｍ−テトラブチルアンモニ
ウムフロリド／テトラヒドロフラン溶液０．３５ｍｌを
用いて、実施例３（４）と同様にして、１５３ｍｇ（８
５．１％）の目的化合物（２−５ｂ）を得た。
ドロフラン０．３５ｍｌ、１Ｍ−テトラブチルアンモニ
ウムフロリド／テトラヒドロフラン溶液０．３５ｍｌを
用いて、実施例３（４）と同様にして、１５３ｍｇ（８
５．１％）の目的化合物（２−５ｂ）を得た。
【０１３６】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 7.48
-7.19(m,17H);6.84(d,J=8.5Hz,2H);5.42(t,J=9.7Hz,1
H);4.93(t,J=9.7Hz,1H);4.83(d,J=3.7Hz,1H);4.65(dd,J
=24.8 and 11.9Hz,2H);4.35-4.27(m,1H);4.20-4.02(m,4
H);3.85-3.75(m,2H);3.79(s,3H);3.65-3.56(m,3H);3.33
(dd,J=10.0 and 3.1Hz,1H);3.05(dd,J=10.0 and 4.0H
z,1H);2.01(s,3H);2.00(s,3H);1.96(s,3H) IR(KBr)cm-1:3469,3061,3032,2935,2873,1752,1609,151
0,1449,1368,1300,1247,1230 HRMS(FAB):m/z 748.3111(M)+・ （５）
-7.19(m,17H);6.84(d,J=8.5Hz,2H);5.42(t,J=9.7Hz,1
H);4.93(t,J=9.7Hz,1H);4.83(d,J=3.7Hz,1H);4.65(dd,J
=24.8 and 11.9Hz,2H);4.35-4.27(m,1H);4.20-4.02(m,4
H);3.85-3.75(m,2H);3.79(s,3H);3.65-3.56(m,3H);3.33
(dd,J=10.0 and 3.1Hz,1H);3.05(dd,J=10.0 and 4.0H
z,1H);2.01(s,3H);2.00(s,3H);1.96(s,3H) IR(KBr)cm-1:3469,3061,3032,2935,2873,1752,1609,151
0,1449,1368,1300,1247,1230 HRMS(FAB):m/z 748.3111(M)+・ （５）
【０１３７】
【化３３】
【０１３８】化合物（２−５ｂ）１５０ｍｇと４−メト
キシトリチルクロリドの代わりに４，４′−ジメトキシ
トリチルクロリド７６ｍｇを用いて、実施例３（５）と
同様にして合成し、１５５．９ｍｇ（８４．９％）の目
的化合物（２−６ｂ）を得た。
キシトリチルクロリドの代わりに４，４′−ジメトキシ
トリチルクロリド７６ｍｇを用いて、実施例３（５）と
同様にして合成し、１５５．９ｍｇ（８４．９％）の目
的化合物（２−６ｂ）を得た。
【０１３９】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 7.42
-7.10(m,28H);6.80-6.67(m,4H);4.84(d,J=3.7Hz,1H);4.
78(dd,J=16.3 and 11.8Hz,2H);4.38-4.30(m,1H);4.14
(dd,J=9.4 and 5.5Hz,1H);4.08-4.05(m,2H);3.93-3.86
(m,1H);3.80-3.66(m,2H);3.73(s,6H);3.70(s,3H);3.62-
3.40(m,3H);3.28-2.94(m,4H);2.52(d,J=2.3Hz,1H);2.23
(d,J=2.8Hz,1H) IR(KBr)cm-1:3452,3059,3033,3001,2931,2837,1608,158
4,1509,1463,1447,1301,1251,1179 HRMS(FAB):m/z 960.4089(M)+・ （６）
-7.10(m,28H);6.80-6.67(m,4H);4.84(d,J=3.7Hz,1H);4.
78(dd,J=16.3 and 11.8Hz,2H);4.38-4.30(m,1H);4.14
(dd,J=9.4 and 5.5Hz,1H);4.08-4.05(m,2H);3.93-3.86
(m,1H);3.80-3.66(m,2H);3.73(s,6H);3.70(s,3H);3.62-
3.40(m,3H);3.28-2.94(m,4H);2.52(d,J=2.3Hz,1H);2.23
(d,J=2.8Hz,1H) IR(KBr)cm-1:3452,3059,3033,3001,2931,2837,1608,158
4,1509,1463,1447,1301,1251,1179 HRMS(FAB):m/z 960.4089(M)+・ （６）
【０１４０】
【化３４】
【０１４１】化合物（２−６ｂ）１５２ｍｇ，１Ｈ−テ
トラゾール５５．４ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，５−
ジヒドロ−２，４，３−ベンゾオキサホスフェピン−３
−アミン１５１ｍｇ、アセトニトリル６ｍｌ、メタクロ
ロ過安息香酸１９１ｍｇを用いて、実施例３（６）と同
様にして１８９．９ｍｇ（７９．８％）の目的化合物
（２−７ｂ）を得た。
トラゾール５５．４ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，５−
ジヒドロ−２，４，３−ベンゾオキサホスフェピン−３
−アミン１５１ｍｇ、アセトニトリル６ｍｌ、メタクロ
ロ過安息香酸１９１ｍｇを用いて、実施例３（６）と同
様にして１８９．９ｍｇ（７９．８％）の目的化合物
（２−７ｂ）を得た。
【０１４２】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ : 7.47-6.9
6(m,38H);6.78(d,J=8.9Hz,4H);6.64(d,J=8.9Hz,2H);5.6
3-4.49(m,21H);4.42-4.36(m,1H);4.28(d,J=3.0Hz,2H);
3.78-3.63(m,2H);3.76(s,6H);3.58(s,3H);3.50-3.36(m,
2H);3.18-3.00(m,3H) IR(KBr)cm-1:3059,3032,2934,1608,1584,1509,1462,144
9,1378,1295,1252 HRMS(FAB):m/z 1529.4344(M+Na)+ （７）
6(m,38H);6.78(d,J=8.9Hz,4H);6.64(d,J=8.9Hz,2H);5.6
3-4.49(m,21H);4.42-4.36(m,1H);4.28(d,J=3.0Hz,2H);
3.78-3.63(m,2H);3.76(s,6H);3.58(s,3H);3.50-3.36(m,
2H);3.18-3.00(m,3H) IR(KBr)cm-1:3059,3032,2934,1608,1584,1509,1462,144
9,1378,1295,1252 HRMS(FAB):m/z 1529.4344(M+Na)+ （７）
【０１４３】
【化３５】
【０１４４】化合物（２−７ｂ）１１５．４ｍｇを実施
例３（７）と同様にして脱保護し、２８．８ｍｇ（６
７．８％）の目的化合物（１ｄ）のアンモニウム塩を得
た。
例３（７）と同様にして脱保護し、２８．８ｍｇ（６
７．８％）の目的化合物（１ｄ）のアンモニウム塩を得
た。
【０１４５】1H-NMR(400MHz,D2O,TMS)δ ppm : 5.06
(d,J=3.4Hz,1H);4.23(quartet,J=8.8Hz,1H);4.09(dd,J=
6.8 and 4.9Hz,1H);3.95-3.40(m,11H) IR(KBr)cm-1:3194,1687,1460,1403,1151,1086,1041,97
7,938 HRMS(FAB):m/z 534.9991(M-H)- （実施例５）
(d,J=3.4Hz,1H);4.23(quartet,J=8.8Hz,1H);4.09(dd,J=
6.8 and 4.9Hz,1H);3.95-3.40(m,11H) IR(KBr)cm-1:3194,1687,1460,1403,1151,1086,1041,97
7,938 HRMS(FAB):m/z 534.9991(M-H)- （実施例５）
【０１４６】
【化３６】
【０１４７】（１）
【０１４８】
【化３７】
【０１４９】２′−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）
−５′−Ｏ−（４−メトキシトリチル）−Ｎ，Ｎ−ジベ
ンゾイルアデノシン（３−１，Ｃｈｅｍｇｅｎｅｓ社）
１．７２４ｇ、３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−２−
Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−グルコピラノシルプロミド２．
７５ｇ、モレキュラー・シーブ（４Ａ）５ｇ、クロロホ
ルム４０ｍｌ、２，４，６−トリメチルピリジン０．７
９３ｍＬ及び過塩素酸銀１．２４４ｇを用いて、実施例
３（３）と同様にして反応及び処理した。精製はシリカ
ゲルカラム（３００ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）を用
い、ヘキサン−酢酸エチル（２：１）で溶出することに
より、８９８．２ｍｇ（３６．２％）の目的化合物を
（３−２）を得た。
−５′−Ｏ−（４−メトキシトリチル）−Ｎ，Ｎ−ジベ
ンゾイルアデノシン（３−１，Ｃｈｅｍｇｅｎｅｓ社）
１．７２４ｇ、３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−２−
Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−グルコピラノシルプロミド２．
７５ｇ、モレキュラー・シーブ（４Ａ）５ｇ、クロロホ
ルム４０ｍｌ、２，４，６−トリメチルピリジン０．７
９３ｍＬ及び過塩素酸銀１．２４４ｇを用いて、実施例
３（３）と同様にして反応及び処理した。精製はシリカ
ゲルカラム（３００ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）を用
い、ヘキサン−酢酸エチル（２：１）で溶出することに
より、８９８．２ｍｇ（３６．２％）の目的化合物を
（３−２）を得た。
【０１５０】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 8.48
(s,1H);8.12(s,1H);7.84(d,J=7.4Hz,4H);7.50-7.18(m,2
3H);6.82(d,J=8.9Hz,2H);6.01(d,J=6.4Hz,1H);5.48(t,J
=9.6Hz,1H);5.46(d,J=3.5Hz,1H);5.17(dd,J=6.3 and 4.
2Hz,1H);5.00(t,J=9.6Hz,1H);4.75(d,J=11.9Hz,1H);4.5
6(d,J=11.9Hz,1H);4.45-4.42(m,1H);4.37-4.30(m,1H);
4.18-4.08(m,2H);3.95-3.83(m,2H);3.77(s,3H);3.68-3.
58(m,2H);3.36(dd,J=10.8 and 3.7Hz,1H);2.01(s,3H);
1.99(s,3H);1.98(s,3H);0.72(s,9H);-0.14(s,3H);-0.30
(s,3H) IR(KBr)cm-1:3062,3032,2953,2932,2858,1752,1707,160
0,1576,1510,1496,1450,1367,1239 HRMS(FAB):m/z 1240.4973(M+H)+ （２）
(s,1H);8.12(s,1H);7.84(d,J=7.4Hz,4H);7.50-7.18(m,2
3H);6.82(d,J=8.9Hz,2H);6.01(d,J=6.4Hz,1H);5.48(t,J
=9.6Hz,1H);5.46(d,J=3.5Hz,1H);5.17(dd,J=6.3 and 4.
2Hz,1H);5.00(t,J=9.6Hz,1H);4.75(d,J=11.9Hz,1H);4.5
6(d,J=11.9Hz,1H);4.45-4.42(m,1H);4.37-4.30(m,1H);
4.18-4.08(m,2H);3.95-3.83(m,2H);3.77(s,3H);3.68-3.
58(m,2H);3.36(dd,J=10.8 and 3.7Hz,1H);2.01(s,3H);
1.99(s,3H);1.98(s,3H);0.72(s,9H);-0.14(s,3H);-0.30
(s,3H) IR(KBr)cm-1:3062,3032,2953,2932,2858,1752,1707,160
0,1576,1510,1496,1450,1367,1239 HRMS(FAB):m/z 1240.4973(M+H)+ （２）
【０１５１】
【化３８】
【０１５２】化合物（３−２）４．０ｇをテトラヒドロ
フラン４．４ｍｌに溶解し、１Ｍ−テトラブチルアンモ
ニウムフロリド／テトラヒドロフラン溶液４．４ｍｌを
加えて室温で撹拌した。２時間後に溶媒を減圧下留去
し、残渣を４００ｍｌの酢酸エチルに溶解し、飽和食塩
水４００ｍｌで洗浄した。洗浄液を２００ｍｌの酢酸エ
チルで抽出し、前の有機層と合わせて無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去した。得られた残
渣をシリカゲルカラム（８５ｇ，７０−２３０ｍｅｓ
ｈ）を用いて、ヘキサン−酢酸エチル（１：１）で溶出
することにより、１．４４ｇ（３９．８％）の目的化合
物（３−３）を得た。
フラン４．４ｍｌに溶解し、１Ｍ−テトラブチルアンモ
ニウムフロリド／テトラヒドロフラン溶液４．４ｍｌを
加えて室温で撹拌した。２時間後に溶媒を減圧下留去
し、残渣を４００ｍｌの酢酸エチルに溶解し、飽和食塩
水４００ｍｌで洗浄した。洗浄液を２００ｍｌの酢酸エ
チルで抽出し、前の有機層と合わせて無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去した。得られた残
渣をシリカゲルカラム（８５ｇ，７０−２３０ｍｅｓ
ｈ）を用いて、ヘキサン−酢酸エチル（１：１）で溶出
することにより、１．４４ｇ（３９．８％）の目的化合
物（３−３）を得た。
【０１５３】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 8.52
(s,1H);8.20(s,1H);7.86(s,2H);7.83(d,J=1.4Hz,2H);7.
48-7.15(m,23H);6.78(d,J=9.1Hz,2H);5.99(d,J=5.2Hz,1
H);5.47(t,J=9.7Hz,1H);5.02-4.93(m,3H);4.71(d,J=11.
9Hz,1H);4.60(d,J=11.9Hz,1H);4.53(t,J=4.8Hz,1H);4.3
4(quartet,J=4.2Hz,1H);4.20(d,J=7.0Hz,1H);4.13(dd,J
=12.6 and 3.8Hz,1H);3.93-3.88(m,1H);3.80-3.72(m,1
H);3.76(s,3H);3.67(dd,J=9.8 and 3.8Hz,1H);3.48(d
d,J=10.5 and 4.5Hz,1H);3.29(dd,J=10.5 and 4.5Hz,1
H);2.03(s,3H);1.99(s,3H) IR(KBr)cm-1:3459,3061,3032,2936,1751,1713,1600,157
7,1510,1495,1450,1413,1368,1239 MASS(FAB):m/z 1126(M+H)+ （３）
(s,1H);8.20(s,1H);7.86(s,2H);7.83(d,J=1.4Hz,2H);7.
48-7.15(m,23H);6.78(d,J=9.1Hz,2H);5.99(d,J=5.2Hz,1
H);5.47(t,J=9.7Hz,1H);5.02-4.93(m,3H);4.71(d,J=11.
9Hz,1H);4.60(d,J=11.9Hz,1H);4.53(t,J=4.8Hz,1H);4.3
4(quartet,J=4.2Hz,1H);4.20(d,J=7.0Hz,1H);4.13(dd,J
=12.6 and 3.8Hz,1H);3.93-3.88(m,1H);3.80-3.72(m,1
H);3.76(s,3H);3.67(dd,J=9.8 and 3.8Hz,1H);3.48(d
d,J=10.5 and 4.5Hz,1H);3.29(dd,J=10.5 and 4.5Hz,1
H);2.03(s,3H);1.99(s,3H) IR(KBr)cm-1:3459,3061,3032,2936,1751,1713,1600,157
7,1510,1495,1450,1413,1368,1239 MASS(FAB):m/z 1126(M+H)+ （３）
【０１５４】
【化３９】
【０１５５】化合物（３−３）３５０ｍｇをピリジン−
メタノール−水（６５：３０：５）３．１ｍｌに溶解
し、４℃で撹拌しながら３．１ｍｌの２Ｎ−水酸化ナト
リウム水を加えた。１５分後に塩化アンモニウム４９７
ｍｇを加え、１０分間撹拌した後、溶媒を減圧下留去し
た。残渣を５０ｍｌの酢酸エチルに溶解し、５０ｍｌの
飽和食塩水で洗浄した後、減圧下溶媒を留去した。残渣
をピリジン−メタノール（９：１）３．１ｍｌに溶解
し、４℃で撹拌しながら３．１ｍｌの２Ｎ−水酸化ナト
リウム水を加えた。１５分後、塩化アンモニウム４９７
ｍｇを加え、１０分間撹拌した後、溶媒を減圧下留去し
た。残渣を５０ｍｌの酢酸エチルに溶解し、５０ｍｌの
飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を減圧下留去することに
より、２２０ｍｇ（９２．２％）の目的化合物（３−
４）を得た。
メタノール−水（６５：３０：５）３．１ｍｌに溶解
し、４℃で撹拌しながら３．１ｍｌの２Ｎ−水酸化ナト
リウム水を加えた。１５分後に塩化アンモニウム４９７
ｍｇを加え、１０分間撹拌した後、溶媒を減圧下留去し
た。残渣を５０ｍｌの酢酸エチルに溶解し、５０ｍｌの
飽和食塩水で洗浄した後、減圧下溶媒を留去した。残渣
をピリジン−メタノール（９：１）３．１ｍｌに溶解
し、４℃で撹拌しながら３．１ｍｌの２Ｎ−水酸化ナト
リウム水を加えた。１５分後、塩化アンモニウム４９７
ｍｇを加え、１０分間撹拌した後、溶媒を減圧下留去し
た。残渣を５０ｍｌの酢酸エチルに溶解し、５０ｍｌの
飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を減圧下留去することに
より、２２０ｍｇ（９２．２％）の目的化合物（３−
４）を得た。
【０１５６】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 9.16
(brs,1H);8.75(s,1H);8.20(s,1H);8.10-8.03(m,4H);7.6
5-7.05(m,18H);6.85-6.75(m,2H);6.05(d,J=5.8Hz,1H);
4.95-3.28(m,14H);3.78(s,3H) MASS(FAB):m/z 896(M+H)+ （４）
(brs,1H);8.75(s,1H);8.20(s,1H);8.10-8.03(m,4H);7.6
5-7.05(m,18H);6.85-6.75(m,2H);6.05(d,J=5.8Hz,1H);
4.95-3.28(m,14H);3.78(s,3H) MASS(FAB):m/z 896(M+H)+ （４）
【０１５７】
【化４０】
【０１５８】化合物（３−４）２１０ｍｇと１Ｈ−テト
ラゾール８６．５ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，５−ジ
ヒドロ−２，４，３−ベンゾジオキサホスフェピン−３
−アミン２８３ｍｇ、アセトニトリル５ｍｌ、メタクロ
ロ過安息香酸２９８ｍｇを用いて、実施例３（６）と同
様に反応を行った。精製はシリカゲルカラム（５０ｇ，
７０−２３０ｍｅｓｈ）を用い、０．５〜２．５％メタ
ノール／塩化メチレンで溶出することにより行った。こ
れを３６．７５ｍｌのクロロホルムに溶解し、４℃で撹
拌しながら０．７５ｍｌのトリフルオロ酢酸を加えた。
２０分後、反応液を４０ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム
水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラム（１３
ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）を用い、０〜３％メタノー
ル／塩化メチレンで溶出することにより１５５ｍｇ（４
９．４％）の目的化合物（３−５）を得た。
ラゾール８６．５ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，５−ジ
ヒドロ−２，４，３−ベンゾジオキサホスフェピン−３
−アミン２８３ｍｇ、アセトニトリル５ｍｌ、メタクロ
ロ過安息香酸２９８ｍｇを用いて、実施例３（６）と同
様に反応を行った。精製はシリカゲルカラム（５０ｇ，
７０−２３０ｍｅｓｈ）を用い、０．５〜２．５％メタ
ノール／塩化メチレンで溶出することにより行った。こ
れを３６．７５ｍｌのクロロホルムに溶解し、４℃で撹
拌しながら０．７５ｍｌのトリフルオロ酢酸を加えた。
２０分後、反応液を４０ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム
水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラム（１３
ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）を用い、０〜３％メタノー
ル／塩化メチレンで溶出することにより１５５ｍｇ（４
９．４％）の目的化合物（３−５）を得た。
【０１５９】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ｐｐｍ ：
９．０４（ｂｒｓ，１Ｈ）；８．５６（ｓ，１
Ｈ）；８．０３（ｓ，３Ｈ）；７．６５−７．０３
（ｍ，３６Ｈ）；６．８３（ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，２
Ｈ）；６．３０（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）；５．９
９（ｍ，１Ｈ）；５．５０−４．６５（ｍ，２２Ｈ）；
４．４０（ｍ，２Ｈ）；４．２５（ｍ，１Ｈ）；４．０
３（ｍ，１Ｈ）；３．７７（ｓ，３Ｈ）；３．６８
（ｍ，１Ｈ）；３．５６（ｄｄ，Ｊ＝４．０ ａｎｄ
１０．６Ｈｚ，１Ｈ）；３．３８（ｄｄ，Ｊ＝４．０ａ
ｎｄ １１．２Ｈｚ，１Ｈ） （５）
９．０４（ｂｒｓ，１Ｈ）；８．５６（ｓ，１
Ｈ）；８．０３（ｓ，３Ｈ）；７．６５−７．０３
（ｍ，３６Ｈ）；６．８３（ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，２
Ｈ）；６．３０（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ）；５．９
９（ｍ，１Ｈ）；５．５０−４．６５（ｍ，２２Ｈ）；
４．４０（ｍ，２Ｈ）；４．２５（ｍ，１Ｈ）；４．０
３（ｍ，１Ｈ）；３．７７（ｓ，３Ｈ）；３．６８
（ｍ，１Ｈ）；３．５６（ｄｄ，Ｊ＝４．０ ａｎｄ
１０．６Ｈｚ，１Ｈ）；３．３８（ｄｄ，Ｊ＝４．０ａ
ｎｄ １１．２Ｈｚ，１Ｈ） （５）
【０１６０】
【化４１】
【０１６１】化合物（３−５）２５０ｍｇをクロロホル
ム３６．７５ｍＬに溶解し、トリフルオロ酢酸０．７５
ｍＬを加え、氷冷下攪拌した。２０分後、４０ｍＬの５
％炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて中和し、有機層を
４０ｍＬの５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後
に、残渣を１３ｇ（７０−２３０ｍｅｓｈ）のシリカゲ
ルカラムにアプライし、３％メタノール／塩化メチレン
溶液で溶出することにより、１５５ｍｇの目的化合物
（３−６）を得た。
ム３６．７５ｍＬに溶解し、トリフルオロ酢酸０．７５
ｍＬを加え、氷冷下攪拌した。２０分後、４０ｍＬの５
％炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて中和し、有機層を
４０ｍＬの５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後
に、残渣を１３ｇ（７０−２３０ｍｅｓｈ）のシリカゲ
ルカラムにアプライし、３％メタノール／塩化メチレン
溶液で溶出することにより、１５５ｍｇの目的化合物
（３−６）を得た。
【０１６２】ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：３４１０，１７
０２，１６１１，１５８４，１５１０，１４８２，１４
５５，１３７６，１２９１，１２２５ ＭＡＳＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ １３５２（Ｍ＋Ｈ）＋ （６）
０２，１６１１，１５８４，１５１０，１４８２，１４
５５，１３７６，１２９１，１２２５ ＭＡＳＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ １３５２（Ｍ＋Ｈ）＋ （６）
【０１６３】
【化４２】
【０１６４】化合物（３−６）１５０ｍｇをエタノール
水（６：１）３．５ｍｌに溶解し、パラジウム−黒１５
ｍｇを加え、水素雰囲気下室温で撹拌した。２８時間
後、反応液を２８時間後、セライトでろ過し、希アンモ
ニア水とエタノールで洗い込み、ろ液と洗浄液を合わせ
て溶媒を減圧下留去した。残渣を２０ｍｌの２８％アン
モニア水に溶解し、室温で放置した。３日後に溶媒を留
去し、残渣を３０ｍｌの水に溶解し、３０ｍｌの酢酸エ
チルで３回洗浄し、溶媒を減圧下留去した。残渣を５ｍ
ｌの水に溶解し、９等分して、分取用高速液体クロマト
グラフィー（ＰＥＧＡＳＩＬ ＯＤＳ，２０×２５０ｍ
ｍ，６％アセトニトリル−０．１Ｍ酢酸トリエチルアミ
ン（ｐＨ７），７ｍｌ／ｍｉｎ）を行った。２４分に溶
出する画分を集め、減圧下溶媒を留去した後、水から凍
結乾燥することにより、３６ｍｇ（４３．３％）の目的
化合物（１ｅ）のトリエチルアンモニウム塩を得た。
水（６：１）３．５ｍｌに溶解し、パラジウム−黒１５
ｍｇを加え、水素雰囲気下室温で撹拌した。２８時間
後、反応液を２８時間後、セライトでろ過し、希アンモ
ニア水とエタノールで洗い込み、ろ液と洗浄液を合わせ
て溶媒を減圧下留去した。残渣を２０ｍｌの２８％アン
モニア水に溶解し、室温で放置した。３日後に溶媒を留
去し、残渣を３０ｍｌの水に溶解し、３０ｍｌの酢酸エ
チルで３回洗浄し、溶媒を減圧下留去した。残渣を５ｍ
ｌの水に溶解し、９等分して、分取用高速液体クロマト
グラフィー（ＰＥＧＡＳＩＬ ＯＤＳ，２０×２５０ｍ
ｍ，６％アセトニトリル−０．１Ｍ酢酸トリエチルアミ
ン（ｐＨ７），７ｍｌ／ｍｉｎ）を行った。２４分に溶
出する画分を集め、減圧下溶媒を留去した後、水から凍
結乾燥することにより、３６ｍｇ（４３．３％）の目的
化合物（１ｅ）のトリエチルアンモニウム塩を得た。
【０１６５】1H-NMR(400MHz,D2O,TMS)δ ppm : 8.15
(s,1H);8.08(s,1H);6.10(d,J=6.8Hz,1H);5.18-5.08(m,1
H);5.16(d,J=3.4Hz,1H);4.46(dd,J=5.3 and 2.4Hz,1H);
4.37-4.27(m,2H);4.03-3.68(m,6H);3.61(dd,J=9.5 and
3.6Hz,1H);3.00(quartet,J=7.3Hz,24H);1.08(t,J=7.3H
z,36H) IR(KBr)cm-1:3340,3195,2976,2939,2739,2679,2492,165
2,1609,1476,1399,1384,1171,1037 MASS(FAB):m/z 748(M-H)- （実施例６）
(s,1H);8.08(s,1H);6.10(d,J=6.8Hz,1H);5.18-5.08(m,1
H);5.16(d,J=3.4Hz,1H);4.46(dd,J=5.3 and 2.4Hz,1H);
4.37-4.27(m,2H);4.03-3.68(m,6H);3.61(dd,J=9.5 and
3.6Hz,1H);3.00(quartet,J=7.3Hz,24H);1.08(t,J=7.3H
z,36H) IR(KBr)cm-1:3340,3195,2976,2939,2739,2679,2492,165
2,1609,1476,1399,1384,1171,1037 MASS(FAB):m/z 748(M-H)- （実施例６）
【０１６６】
【化４３】
【０１６７】（１）
【０１６８】
【化４４】
【０１６９】Ｎ，Ｎ−ジベンゾイルアデノシン−３′−
Ｏ−（３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−２−Ｏ−ベン
ジル−α−Ｄ−グルコピラノシド）（化合物（４−
１）；特開平６−２１３７２９；穂戸田ら、Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，３６巻，５０３７−５０４
０頁（１９９５年））３７７ｍｇを５ｍｌのエタノール
に溶解し、約１００ｍｇのパラジウム−黒と、約１００
μＬのギ酸を加え、水素雰囲気下、室温で撹拌した。５
日後、セライトでろ過し、ろ液を減圧下留去し、残渣を
２８％アンモニア水１０ｍｌに溶解し、室温で撹拌し
た。１５時間後、減圧下留去し、残渣をピリジンで共沸
して乾燥し、４ｍｌのピリジンに溶解し、４，４′−ジ
メトキシトリチルクロリド４４１ｍｇを加え、室温で撹
拌した。４時間後、溶媒を減圧下留去し、残渣を１００
ｍｌの酢酸エチルに溶解し、１００ｍｌの５％炭酸水素
ナトリウム水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカ
ラム（６０ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）を用い、０．５
〜４％メタノール塩化メチレンで溶出することにより１
２４．６ｍｇ（２３．６％）の目的化合物（４−２）を
得た。
Ｏ−（３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−２−Ｏ−ベン
ジル−α−Ｄ−グルコピラノシド）（化合物（４−
１）；特開平６−２１３７２９；穂戸田ら、Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，３６巻，５０３７−５０４
０頁（１９９５年））３７７ｍｇを５ｍｌのエタノール
に溶解し、約１００ｍｇのパラジウム−黒と、約１００
μＬのギ酸を加え、水素雰囲気下、室温で撹拌した。５
日後、セライトでろ過し、ろ液を減圧下留去し、残渣を
２８％アンモニア水１０ｍｌに溶解し、室温で撹拌し
た。１５時間後、減圧下留去し、残渣をピリジンで共沸
して乾燥し、４ｍｌのピリジンに溶解し、４，４′−ジ
メトキシトリチルクロリド４４１ｍｇを加え、室温で撹
拌した。４時間後、溶媒を減圧下留去し、残渣を１００
ｍｌの酢酸エチルに溶解し、１００ｍｌの５％炭酸水素
ナトリウム水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカ
ラム（６０ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）を用い、０．５
〜４％メタノール塩化メチレンで溶出することにより１
２４．６ｍｇ（２３．６％）の目的化合物（４−２）を
得た。
【０１７０】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 8.01
(s,1H);7.94(s,1H);7.40-7.10(m,27H);6.99(s,1H);6.84
-6.66(m,12H);6.15-6.08(m,1H);5.97(d,J=7.0Hz,1H);5.
04(d,J=3.7Hz,1H);4.84-4.76(m,2H);4.48(brs,1H);4.35
-4.25(m,2H);3.88-3.18(m,8H);3.77(s,6H);3.70(s,12
H);3.05-2.95(m,1H) IR(KBr)cm-1:3413,3059,3034,3000,2930,2854,2837,160
8,1584,1509,1465,1446,1415,1373,1330,1298,1252,117
9 HRMS(FAB):m/z 1336.5483(M+H)+ （２）
(s,1H);7.94(s,1H);7.40-7.10(m,27H);6.99(s,1H);6.84
-6.66(m,12H);6.15-6.08(m,1H);5.97(d,J=7.0Hz,1H);5.
04(d,J=3.7Hz,1H);4.84-4.76(m,2H);4.48(brs,1H);4.35
-4.25(m,2H);3.88-3.18(m,8H);3.77(s,6H);3.70(s,12
H);3.05-2.95(m,1H) IR(KBr)cm-1:3413,3059,3034,3000,2930,2854,2837,160
8,1584,1509,1465,1446,1415,1373,1330,1298,1252,117
9 HRMS(FAB):m/z 1336.5483(M+H)+ （２）
【０１７１】
【化４５】
【０１７２】化合物（４−２） １１３．８ｍｇ、Ｎ，
Ｎ−ジエチル−１，５−ジヒドロ−２，４，３−ベンゾ
ジオキサホスフェピン−３−アミン１０１．８ｍｇ，１
Ｈ−テトラゾール４１．７ｍｇ、アセトニトリル４ｍ
ｌ、メタクロロ過安息香酸１３２ｍｇを用いて実施例３
（６）と同様に反応及び処理した。精製はシリカゲルカ
ラム（１０ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）を用い、０．５
〜３％メタノール−塩化メチレンで溶出することによ
り、７３．９ｍｇ（４２％）の目的化合物（４−３）を
得た。
Ｎ−ジエチル−１，５−ジヒドロ−２，４，３−ベンゾ
ジオキサホスフェピン−３−アミン１０１．８ｍｇ，１
Ｈ−テトラゾール４１．７ｍｇ、アセトニトリル４ｍ
ｌ、メタクロロ過安息香酸１３２ｍｇを用いて実施例３
（６）と同様に反応及び処理した。精製はシリカゲルカ
ラム（１０ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）を用い、０．５
〜３％メタノール−塩化メチレンで溶出することによ
り、７３．９ｍｇ（４２％）の目的化合物（４−３）を
得た。
【０１７３】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 7.99
(s,1H);7.88(s,1H);7.43-7.00(m,39H);6.94(s,1H);6.82
-6.70(m,12H);6.41(d,J=6.1Hz,1H);6.02-5.93(m,1H);5.
65-4.23(m,23H);5.30(s,6H);3.76(s,6H);3.72-3.68(m,6
H);3.58-3.29(m,4H) IR(KBr)cm-1:3418,3058,3033,2998,2953,2934,2907,283
7,1607,1584,1509,1465,1448,1373,1295,1252 HRMS(FAB):m/z 2064.6035(M+H)+ （３）
(s,1H);7.88(s,1H);7.43-7.00(m,39H);6.94(s,1H);6.82
-6.70(m,12H);6.41(d,J=6.1Hz,1H);6.02-5.93(m,1H);5.
65-4.23(m,23H);5.30(s,6H);3.76(s,6H);3.72-3.68(m,6
H);3.58-3.29(m,4H) IR(KBr)cm-1:3418,3058,3033,2998,2953,2934,2907,283
7,1607,1584,1509,1465,1448,1373,1295,1252 HRMS(FAB):m/z 2064.6035(M+H)+ （３）
【０１７４】
【化４６】
【０１７５】化合物（４−３）１０７ｍｇを１０ｍｌの
クロロホルムに溶解し、４℃で撹拌した。ここにトリフ
ルオロ酢酸２００μＬを加え、４℃で撹拌した。５分後
に１０ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム水を加え、５０ｍ
ｌのクロロホルムで希釈した後、５０ｍｌの５％炭酸水
素ナトリウム水で２回洗浄した。有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。得られた残
渣と１Ｈ−テトラゾール１４．５ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ル−１，５−ジヒドロ−２，４，３−ベンゾジオキサホ
スフェピン−３−アミン３７ｍｇ、アセトニトリル２ｍ
ｌ、メタクロロ過安息香酸４４．７ｍｇを用いて、実施
例３（６）と同様にして反応及び処理した。精製はシリ
カゲルカラム（１０ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）を用
い、２〜４％メタノール−塩化メチレンで溶出すること
により３９．３ｍｇ（４１．８％）の目的化合物（４−
４）を得た。
クロロホルムに溶解し、４℃で撹拌した。ここにトリフ
ルオロ酢酸２００μＬを加え、４℃で撹拌した。５分後
に１０ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム水を加え、５０ｍ
ｌのクロロホルムで希釈した後、５０ｍｌの５％炭酸水
素ナトリウム水で２回洗浄した。有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。得られた残
渣と１Ｈ−テトラゾール１４．５ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ル−１，５−ジヒドロ−２，４，３−ベンゾジオキサホ
スフェピン−３−アミン３７ｍｇ、アセトニトリル２ｍ
ｌ、メタクロロ過安息香酸４４．７ｍｇを用いて、実施
例３（６）と同様にして反応及び処理した。精製はシリ
カゲルカラム（１０ｇ，７０−２３０ｍｅｓｈ）を用
い、２〜４％メタノール−塩化メチレンで溶出すること
により３９．３ｍｇ（４１．８％）の目的化合物（４−
４）を得た。
【０１７６】1H-NMR(270MHz,CDCl3,TMS)δ ppm : 7.98
(s,1H);7.91(s,1H);7.73-7.69(m,1H);7.56-7.51(m,1H);
7.40-7.12(m,30H);7.06-7.02(m,1H);6.96(s,1H);6.80
(s,J=9.0Hz,4H);6.32(d,J=3.8Hz,1H);5.74-5.65(m,2H);
5.57-4.36(m,33H);4.23-4.20(m,1H);3.77(s,6H) IR(KBr)cm-1:3419,2957,2932,1724,1606,1509,1466,137
4,1293,1254,1226,1181,1162,1054,1020 HRMS(FAB):m/z 1824.3683(M+H)+ （４）
(s,1H);7.91(s,1H);7.73-7.69(m,1H);7.56-7.51(m,1H);
7.40-7.12(m,30H);7.06-7.02(m,1H);6.96(s,1H);6.80
(s,J=9.0Hz,4H);6.32(d,J=3.8Hz,1H);5.74-5.65(m,2H);
5.57-4.36(m,33H);4.23-4.20(m,1H);3.77(s,6H) IR(KBr)cm-1:3419,2957,2932,1724,1606,1509,1466,137
4,1293,1254,1226,1181,1162,1054,1020 HRMS(FAB):m/z 1824.3683(M+H)+ （４）
【０１７７】
【化４７】
【０１７８】化合物（４−４）３９ｍｇを酢酸−水
（４：１）１ｍｌに溶解し、室温で撹拌した。１．５時
間後、溶媒を減圧下留去し、エタノールで５回共沸し
た。残渣をエタノール５ｍｌと水２ｍｌに溶解し、パラ
ジウム−黒約４０ｍｇを加えて、水素雰囲気下室温で撹
拌した。２０時間後にセライトでろ過し、希アンモニア
水とエタノールで洗い込んだ。ろ液と洗浄液を合わせて
溶媒を減圧下留去し、残渣を５０ｍｌの水に溶解し、５
０ｍｌの酢酸エチルで２回洗浄した。得られた水溶液を
凍結乾燥することにより２１．８ｍｇ（１００％）の目
的化合物（１ｆ）のアンモニウム塩を得た。
（４：１）１ｍｌに溶解し、室温で撹拌した。１．５時
間後、溶媒を減圧下留去し、エタノールで５回共沸し
た。残渣をエタノール５ｍｌと水２ｍｌに溶解し、パラ
ジウム−黒約４０ｍｇを加えて、水素雰囲気下室温で撹
拌した。２０時間後にセライトでろ過し、希アンモニア
水とエタノールで洗い込んだ。ろ液と洗浄液を合わせて
溶媒を減圧下留去し、残渣を５０ｍｌの水に溶解し、５
０ｍｌの酢酸エチルで２回洗浄した。得られた水溶液を
凍結乾燥することにより２１．８ｍｇ（１００％）の目
的化合物（１ｆ）のアンモニウム塩を得た。
【０１７９】1H-NMR(270MHz,D2O,TMS)δ ppm : 8.33(s,
1H);8.14(s,1H);6.22(d,J=5.9Hz,1H);5.23(d,J=1.5Hz,1
H);5.13-5.04(m,1H);4.48-4.39(m,1H);4.10-3.85(m,9H) IR(KBr)cm-1:3167,1656,1401,1170,1061,931,815,556,5
13 HRMS(FAB):m/z 907.9386(M-H)- （実施例７）
1H);8.14(s,1H);6.22(d,J=5.9Hz,1H);5.23(d,J=1.5Hz,1
H);5.13-5.04(m,1H);4.48-4.39(m,1H);4.10-3.85(m,9H) IR(KBr)cm-1:3167,1656,1401,1170,1061,931,815,556,5
13 HRMS(FAB):m/z 907.9386(M-H)- （実施例７）
【０１８０】
【化４８】
【０１８１】（１）
【０１８２】
【化４９】
【０１８３】化合物（３−２）５．０ｇをピリジン−メ
タノール（９０：１０）４５ｍｌに溶解し、４℃で撹拌
しながら４５ｍｌの２Ｎ−水酸化ナトリウム水を加え
た。２時間撹拌後に塩化アンモニウム６．４ｇを加え、
１５分間撹拌した後、溶媒を減圧下留去した。残査を４
００ｍｌの酢酸エチルに溶解し、４００ｍｌの飽和食塩
水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下
溶媒を留去した。得られた残査をシリカゲルカラムを用
い、０〜２％メタノール−塩化メチレンで溶出すること
により３．１ｇ（７６．１％）の目的化合物（５−１）
を得た。
タノール（９０：１０）４５ｍｌに溶解し、４℃で撹拌
しながら４５ｍｌの２Ｎ−水酸化ナトリウム水を加え
た。２時間撹拌後に塩化アンモニウム６．４ｇを加え、
１５分間撹拌した後、溶媒を減圧下留去した。残査を４
００ｍｌの酢酸エチルに溶解し、４００ｍｌの飽和食塩
水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下
溶媒を留去した。得られた残査をシリカゲルカラムを用
い、０〜２％メタノール−塩化メチレンで溶出すること
により３．１ｇ（７６．１％）の目的化合物（５−１）
を得た。
【０１８４】1H-NMR(400MHz,CDCl3)δ 9.03(s,1H), 8.7
0(s,1H), 8.09(s,1H), 8.03(d,J=7.3Hz,2H), 7.64-7.20
(m,20H), 6.84(d,J=8.9Hz,2H), 6.13(d,J=7.1Hz,1H),
5.60(d,J=3.3Hz,1H), 5.20(m,1H), 4.93(d,J=10.9Hz,1
H), 4.55(d,J=10.9Hz,1H), 4.48(d,J=1.5Hz,1H), 4.30
(m,1H), 3.99(t,J=9.1Hz,1H), 3.79(s,3H), 3.78-3.62
(m,4H), 3.53(m,1H), 3.42(m,1H), 3.34(m,1H), 0.72
(s,9H), -0.16(s,3H), -0.28(s,3H); IR(KBr) 3417, 3061, 3033, 2951, 2930, 2858, 1705,
1611, 1583, 1510, 1489, 1455; HRMS m/z 1010.4360(M+H)+ （２）
0(s,1H), 8.09(s,1H), 8.03(d,J=7.3Hz,2H), 7.64-7.20
(m,20H), 6.84(d,J=8.9Hz,2H), 6.13(d,J=7.1Hz,1H),
5.60(d,J=3.3Hz,1H), 5.20(m,1H), 4.93(d,J=10.9Hz,1
H), 4.55(d,J=10.9Hz,1H), 4.48(d,J=1.5Hz,1H), 4.30
(m,1H), 3.99(t,J=9.1Hz,1H), 3.79(s,3H), 3.78-3.62
(m,4H), 3.53(m,1H), 3.42(m,1H), 3.34(m,1H), 0.72
(s,9H), -0.16(s,3H), -0.28(s,3H); IR(KBr) 3417, 3061, 3033, 2951, 2930, 2858, 1705,
1611, 1583, 1510, 1489, 1455; HRMS m/z 1010.4360(M+H)+ （２）
【０１８５】
【化５０】
【０１８６】化合物（５−１）３００ｍｇと１Ｈ−テト
ラゾール１０３ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，５−ジヒ
ドロ−２，４，３−ベンゾジオキサホスフェピン−３−
アミン２７５ｍｇ、アセトニトリル６ｍｌ、メタクロロ
過安息香酸１７２ｍｇを用いて、実施例３ (６）と同様
に反応を行った。精製はシリカゲルカラムを用い、０〜
１％メタノール／塩化メチレンにて溶出することにより
３２８ｍｇ（７１．３％）の目的化合物（５−２）を得
た。
ラゾール１０３ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，５−ジヒ
ドロ−２，４，３−ベンゾジオキサホスフェピン−３−
アミン２７５ｍｇ、アセトニトリル６ｍｌ、メタクロロ
過安息香酸１７２ｍｇを用いて、実施例３ (６）と同様
に反応を行った。精製はシリカゲルカラムを用い、０〜
１％メタノール／塩化メチレンにて溶出することにより
３２８ｍｇ（７１．３％）の目的化合物（５−２）を得
た。
【０１８７】1H-NMR(400MHz,DMSO-d6)δ 11.23(s,1H),
8.64(s,1H),8.52(s,1H), 8.05(d,J=7.5Hz,2H), 7.68-7.
25(m,32H), 6.92(d,J=8.8Hz,2H), 6.12(d,J=7.0Hz,1H),
5.68(d,J=3.0Hz,1H), 5.52-4.67(m,17H), 4.53(m,1H),
4.32(m,1H), 4.14(m,2H), 4.03(m,1H), 3.73(s,3H),
3.60(m,1H), 3.38(m,1H), 0.66(s,4H), -0.19(s,3H),-
0.29(s,3H); IR(KBr) 3062, 3031, 2952, 2931, 2894, 2858, 1706,
1609, 1583, 1510, 1454, 1294, 1253; HRMS m/z 1556.4762(M+H)+ （３）
8.64(s,1H),8.52(s,1H), 8.05(d,J=7.5Hz,2H), 7.68-7.
25(m,32H), 6.92(d,J=8.8Hz,2H), 6.12(d,J=7.0Hz,1H),
5.68(d,J=3.0Hz,1H), 5.52-4.67(m,17H), 4.53(m,1H),
4.32(m,1H), 4.14(m,2H), 4.03(m,1H), 3.73(s,3H),
3.60(m,1H), 3.38(m,1H), 0.66(s,4H), -0.19(s,3H),-
0.29(s,3H); IR(KBr) 3062, 3031, 2952, 2931, 2894, 2858, 1706,
1609, 1583, 1510, 1454, 1294, 1253; HRMS m/z 1556.4762(M+H)+ （３）
【０１８８】
【化５１】
【０１８９】化合物（５−２）３１７ｍｇを４５．６ｍ
ｌのクロロホルムに溶解し、４℃で撹拌しながら０．９
３ｍｌのトリフルオロ酢酸を加えた。１５分後、反応液
を５０ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム水で２回洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去
した。これを０．３ｍｌのテトラヒドロフランに溶解
し、１Ｍ−テトラブチルアンモニウムフロリド／テトラ
ヒドロフラン溶液０．３ｍｌを加え室温で撹拌した。１
時間３０分後に溶媒を減圧下留去し、残査を３０ｍｌの
酢酸エチルに溶解し、飽和食塩水３０ｍｌで２回洗浄し
た。この時不溶物がありこれを３０ｍｌの塩化メチレン
に溶解し、３０ｍｌの飽和食塩水で洗浄し、前の有機層
と合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
減圧下留去した。得られた残査をシリカゲルカラムを用
いて、０〜３％メタノール／塩化メチレンで溶出するこ
とにより１８４ｍｇ（７７．６３％）の目的化合物（５
−３）を得た。
ｌのクロロホルムに溶解し、４℃で撹拌しながら０．９
３ｍｌのトリフルオロ酢酸を加えた。１５分後、反応液
を５０ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム水で２回洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去
した。これを０．３ｍｌのテトラヒドロフランに溶解
し、１Ｍ−テトラブチルアンモニウムフロリド／テトラ
ヒドロフラン溶液０．３ｍｌを加え室温で撹拌した。１
時間３０分後に溶媒を減圧下留去し、残査を３０ｍｌの
酢酸エチルに溶解し、飽和食塩水３０ｍｌで２回洗浄し
た。この時不溶物がありこれを３０ｍｌの塩化メチレン
に溶解し、３０ｍｌの飽和食塩水で洗浄し、前の有機層
と合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
減圧下留去した。得られた残査をシリカゲルカラムを用
いて、０〜３％メタノール／塩化メチレンで溶出するこ
とにより１８４ｍｇ（７７．６３％）の目的化合物（５
−３）を得た。
【０１９０】1H-NMR(400MHz,DMSO-d6)δ 11.23(s,1H),
8.80(s,1H), 8.69(s,1H), 8.06(d,J=7.4Hz,2H), 7.68-
7.32(m,20H), 6.18(d,J=7.1Hz,1H), 5.92(d,J=5.4Hz,1
H), 5.75(s,1H), 5.58-4.75(m,16H), 4.62(d,J=10.6Hz,
1H), 4.50(m,2H), 4.33(m,1H),4.25(s,1H), 4.20(m,1
H), 3.93(m,1H), 3.69(m,2H); IR(KBr) 3410, 2933, 1702, 1612, 1583, 1510, 1482,
1455, 1290, 1225; HRMS m/z １１７０．２７３３（Ｍ＋Ｈ）＋ （４）
8.80(s,1H), 8.69(s,1H), 8.06(d,J=7.4Hz,2H), 7.68-
7.32(m,20H), 6.18(d,J=7.1Hz,1H), 5.92(d,J=5.4Hz,1
H), 5.75(s,1H), 5.58-4.75(m,16H), 4.62(d,J=10.6Hz,
1H), 4.50(m,2H), 4.33(m,1H),4.25(s,1H), 4.20(m,1
H), 3.93(m,1H), 3.69(m,2H); IR(KBr) 3410, 2933, 1702, 1612, 1583, 1510, 1482,
1455, 1290, 1225; HRMS m/z １１７０．２７３３（Ｍ＋Ｈ）＋ （４）
【０１９１】
【化５２】
【０１９２】化合物（５−３）１８４ｍｇをエタノール
水（６：１）３．５ｍｌに溶解し、パラジウム−黒１２
５ｍｇを加え、水素雰囲気下室温で撹拌した。１８時間
後、反応液をセライトで濾過し、希アンモニア水とエタ
ノールで洗い込み、濾液と洗浄液を合わせて溶媒を減圧
下留去した。残査を２５ｍｌの２８％アンモニア水に溶
解し、室温で放置した。１７時間後、溶媒を留去し、残
査を２０ｍｌの水に溶解し、２０ｍｌの酢酸エチルで洗
浄し、水層を減圧下留去した。残査を高速液体クロマト
グラフィー（ＰＥＧＡＳＩＬ ＯＤＳ ２５０×６ｍ
ｍ，０〜６０％アセトニトリル−０．１Ｍ−酢酸トリエ
チルアミン（ｐＨ７）／６０分，１ｍｌ／ｍｉｎ）を行
った。２″−ベンジル基のはずれ残りがあったため、１
０％酢酸−水３．５ｍｌに溶解し、パラジウム−黒１２
５ｍｇを加え、水素雰囲気下室温で撹拌した。１９時間
後、反応液をゼライトで濾過して、減圧下に留去した。
水から凍結乾燥することにより、４７ｍｇ（４１．５
％）の目的化合物（１ｇ）のアンモニウム塩を得た。
水（６：１）３．５ｍｌに溶解し、パラジウム−黒１２
５ｍｇを加え、水素雰囲気下室温で撹拌した。１８時間
後、反応液をセライトで濾過し、希アンモニア水とエタ
ノールで洗い込み、濾液と洗浄液を合わせて溶媒を減圧
下留去した。残査を２５ｍｌの２８％アンモニア水に溶
解し、室温で放置した。１７時間後、溶媒を留去し、残
査を２０ｍｌの水に溶解し、２０ｍｌの酢酸エチルで洗
浄し、水層を減圧下留去した。残査を高速液体クロマト
グラフィー（ＰＥＧＡＳＩＬ ＯＤＳ ２５０×６ｍ
ｍ，０〜６０％アセトニトリル−０．１Ｍ−酢酸トリエ
チルアミン（ｐＨ７）／６０分，１ｍｌ／ｍｉｎ）を行
った。２″−ベンジル基のはずれ残りがあったため、１
０％酢酸−水３．５ｍｌに溶解し、パラジウム−黒１２
５ｍｇを加え、水素雰囲気下室温で撹拌した。１９時間
後、反応液をゼライトで濾過して、減圧下に留去した。
水から凍結乾燥することにより、４７ｍｇ（４１．５
％）の目的化合物（１ｇ）のアンモニウム塩を得た。
【０１９３】１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）δ
8.18(s,1H), 8.08(s,1H), 6.00(d,J=6.4Hz,1H), 5.03
(d,J=3.4Hz,1H), 4.75(m,1H), 4.40-4.20(m,3H), 4.00-
3.40(m,7H); IR(KBr) 3183, 1649, 1607, 1481, 1401, 1336, 1302,
1090, 1055; HRMS m/z ６６８．０４０２ （Ｍ−Ｈ）− （実施例８）
8.18(s,1H), 8.08(s,1H), 6.00(d,J=6.4Hz,1H), 5.03
(d,J=3.4Hz,1H), 4.75(m,1H), 4.40-4.20(m,3H), 4.00-
3.40(m,7H); IR(KBr) 3183, 1649, 1607, 1481, 1401, 1336, 1302,
1090, 1055; HRMS m/z ６６８．０４０２ （Ｍ−Ｈ）− （実施例８）
【０１９４】
【化５３】
【０１９５】（１）
【０１９６】
【化５４】
【０１９７】化合物（５−１）５００ｍｇを１１０．７
５ｍｌのクロロホルムに溶解し、４℃で撹拌しながら
２．２５ｍｌのトリフルオロ酢酸を加えた。２０分後、
反応液を１００ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム水で２回
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減
圧下留去した。シリカゲルカラムを用いて、１．５〜３
％メタノール／塩化メチレンで溶出することにより２９
２ｍｇ（８０．２％）の目的化合物（５−４）を得た。
５ｍｌのクロロホルムに溶解し、４℃で撹拌しながら
２．２５ｍｌのトリフルオロ酢酸を加えた。２０分後、
反応液を１００ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム水で２回
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減
圧下留去した。シリカゲルカラムを用いて、１．５〜３
％メタノール／塩化メチレンで溶出することにより２９
２ｍｇ（８０．２％）の目的化合物（５−４）を得た。
【０１９８】１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−
ｄ６）δ 11.22(s,1H), 8.79(s,1H), 8.72(s,1H), 8.05
(d,J=7.4Hz,2H), 7.64(m,1H), 7.54(m,2H), 7.48(d,J=
7.4Hz,2H), 7.35(m,2H), 7.28(m,1H), 6.20(d,J=7.0Hz,
1H), 5.35(m,2H), 5.00(m,2H), 4.80(d,J=11.3Hz,1H),
4.63(d,J=11.3Hz,1H), 4.52(m,1H), 4.40(m,1H), 4.20
(s,1H), 3.70(m,4H), 3.47(m,1H), 3.40(m,1H), 3.14
(m,1H), 0.64(s,9H), -0.19(s,3H), -0.32(s,3H); IR(KBr) 3405, 2929, 2858, 1704, 1612, 1584, 1513,
1457; HRMS m/z 738.3176 (M+H)+ （２）
ｄ６）δ 11.22(s,1H), 8.79(s,1H), 8.72(s,1H), 8.05
(d,J=7.4Hz,2H), 7.64(m,1H), 7.54(m,2H), 7.48(d,J=
7.4Hz,2H), 7.35(m,2H), 7.28(m,1H), 6.20(d,J=7.0Hz,
1H), 5.35(m,2H), 5.00(m,2H), 4.80(d,J=11.3Hz,1H),
4.63(d,J=11.3Hz,1H), 4.52(m,1H), 4.40(m,1H), 4.20
(s,1H), 3.70(m,4H), 3.47(m,1H), 3.40(m,1H), 3.14
(m,1H), 0.64(s,9H), -0.19(s,3H), -0.32(s,3H); IR(KBr) 3405, 2929, 2858, 1704, 1612, 1584, 1513,
1457; HRMS m/z 738.3176 (M+H)+ （２）
【０１９９】
【化５５】
【０２００】化合物（５−４）２９２ｍｇと１Ｈ−テト
ラゾール１３７ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，５−ジヒ
ドロ−２，４，３−ベンゾジオキサホスフェピン−３−
アミン５２９ｍｇ、アセトニトリル８ｍｌ、メタクロロ
過安息香酸２２８ｍｇを用いて、実施例３ (６）と同様
に反応を行った。精製はシリカゲルカラムを用い０〜５
％メタノール／塩化メチレンにて溶出することにより３
４０ｍｇ（５８．７％）の目的化合物（５−５）を得
た。
ラゾール１３７ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，５−ジヒ
ドロ−２，４，３−ベンゾジオキサホスフェピン−３−
アミン５２９ｍｇ、アセトニトリル８ｍｌ、メタクロロ
過安息香酸２２８ｍｇを用いて、実施例３ (６）と同様
に反応を行った。精製はシリカゲルカラムを用い０〜５
％メタノール／塩化メチレンにて溶出することにより３
４０ｍｇ（５８．７％）の目的化合物（５−５）を得
た。
【０２０１】1H-NMR(400MHz,DMSO-d6)δ 11.25(s,1H),
8.73(s,1H), 8.67(s,1H), 8.05(d,J=8.4Hz,2H), 7.68-
7.28(m,24H), 6.24(d,J=6.1Hz,1H), 5.70(d,J=3.2Hz,1
H), 5.56-4.53(m,24H), 4.35(m,1H), 4.22(m,1H), 4.04
(m,1H), 2.92(m,1H), 0.68(s,9H), -0.09(s,3H), -0.18
(s,3H); IR(KBr) 3412, 3065, 3030, 2953, 2930, 2895, 2857,
1702, 1609, 1582, 1509, 1455; HRMS m/z 1466.3615(M+H)+ （３）
8.73(s,1H), 8.67(s,1H), 8.05(d,J=8.4Hz,2H), 7.68-
7.28(m,24H), 6.24(d,J=6.1Hz,1H), 5.70(d,J=3.2Hz,1
H), 5.56-4.53(m,24H), 4.35(m,1H), 4.22(m,1H), 4.04
(m,1H), 2.92(m,1H), 0.68(s,9H), -0.09(s,3H), -0.18
(s,3H); IR(KBr) 3412, 3065, 3030, 2953, 2930, 2895, 2857,
1702, 1609, 1582, 1509, 1455; HRMS m/z 1466.3615(M+H)+ （３）
【０２０２】
【化５６】
【０２０３】化合物（５−５）３４０ｍｇを０．５ｍｌ
のテトラヒドロフランに溶解し、１Ｍ−テトラブチルア
ンモニウムフロリド／テトラヒドロフラン溶液０．５ｍ
ｌを加え室温で撹拌した。
のテトラヒドロフランに溶解し、１Ｍ−テトラブチルア
ンモニウムフロリド／テトラヒドロフラン溶液０．５ｍ
ｌを加え室温で撹拌した。
【０２０４】４５分後に溶媒を減圧下留去し、残査を５
０ｍｌの塩化メチレンに溶解し、飽和食塩水５０ｍｌで
２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して得られた
残査をシリカゲルカラムを用いて０〜３％メタノール／
塩化メチレンで溶出することにより２５４ｍｇ（８１．
６％）の目的化合物（５−６）を得た。
０ｍｌの塩化メチレンに溶解し、飽和食塩水５０ｍｌで
２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して得られた
残査をシリカゲルカラムを用いて０〜３％メタノール／
塩化メチレンで溶出することにより２５４ｍｇ（８１．
６％）の目的化合物（５−６）を得た。
【０２０５】1H-NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.91(s,1H), 8.6
7(s,1H), 8.14(s,1H), 8.00(d,J=7.5Hz,2H), 7.62(m,1
H), 7.53(m,2H), 7.40-7.18(m,21H), 6.01(d,J=4.5Hz,1
H), 5.58-4.85(m,20H), 4.70(m,3H), 4.43(m,4H), 4.28
(m,2H), 3.70(m,1H); IR(KBr) 3410, 2966, 2934, 2896, 1699, 1611, 1582,
1510, 1455, 1379, 1292; HRMS m/z 1352.2831(M+H)+ （４）
7(s,1H), 8.14(s,1H), 8.00(d,J=7.5Hz,2H), 7.62(m,1
H), 7.53(m,2H), 7.40-7.18(m,21H), 6.01(d,J=4.5Hz,1
H), 5.58-4.85(m,20H), 4.70(m,3H), 4.43(m,4H), 4.28
(m,2H), 3.70(m,1H); IR(KBr) 3410, 2966, 2934, 2896, 1699, 1611, 1582,
1510, 1455, 1379, 1292; HRMS m/z 1352.2831(M+H)+ （４）
【０２０６】
【化５７】
【０２０７】化合物（５−６）２２４ｍｇをエタノール
水（６：１）１０．５ｍｌに溶解し、パラジウム−黒１
２５ｍｇを加え、水素雰囲気下室温で撹拌した。２８時
間３０分後、反応液をセライトで濾過し、希アンモニア
水とエタノールで洗い込み濾液と洗浄液を合わせて溶媒
を減圧下留去した。残査を２５ｍｌの２８％アンモニア
水に溶解し、室温で放置した。１６時間３０分後、反応
液を減圧下留去した。２ｍｌの水に溶解し、パラジウム
−黒６２．５ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で撹拌し
た。１９時間後、反応液をセライトで濾過して、減圧下
に留去した。残査を９ｍｌの水に溶解し、２５等分し
て、分取用高速液体クロマトグラフィー（ＰＥＧＡＳＩ
Ｌ ＯＤＳ，２０×２５０ｍｍ，１０％アセトニトリル
−０．１Ｍ酢酸トリエチルアミン（ｐＨ７），９ｍｌ／
ｍｉｎ）を行った。９．９分に溶出する画分を集め、減
圧下溶媒を留去した後、水から凍結乾燥することによ
り、３０ｍｇ（２２．２％）の目的化合物（１ｈ）のト
リエチルアンモニウム塩を得た。
水（６：１）１０．５ｍｌに溶解し、パラジウム−黒１
２５ｍｇを加え、水素雰囲気下室温で撹拌した。２８時
間３０分後、反応液をセライトで濾過し、希アンモニア
水とエタノールで洗い込み濾液と洗浄液を合わせて溶媒
を減圧下留去した。残査を２５ｍｌの２８％アンモニア
水に溶解し、室温で放置した。１６時間３０分後、反応
液を減圧下留去した。２ｍｌの水に溶解し、パラジウム
−黒６２．５ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で撹拌し
た。１９時間後、反応液をセライトで濾過して、減圧下
に留去した。残査を９ｍｌの水に溶解し、２５等分し
て、分取用高速液体クロマトグラフィー（ＰＥＧＡＳＩ
Ｌ ＯＤＳ，２０×２５０ｍｍ，１０％アセトニトリル
−０．１Ｍ酢酸トリエチルアミン（ｐＨ７），９ｍｌ／
ｍｉｎ）を行った。９．９分に溶出する画分を集め、減
圧下溶媒を留去した後、水から凍結乾燥することによ
り、３０ｍｇ（２２．２％）の目的化合物（１ｈ）のト
リエチルアンモニウム塩を得た。
【０２０８】1H-NMR(400MHz,D2O)δ 8.33(s,1H), 8.10
(s,1H), 6.07(d,J=6.8Hz,1H), 5.08(d,J=3.9Hz), 4.72
(m,1H), 4.44(m,1H), 4.32(m,1H), 4.03-3.88(m,7H),
4.62(m,1H); IR(KBr) 3340, 3215, 2976, 2939, 2739, 2678, 2492,
1655, 1476, 1434, 1399; HRMS m/z 750.0247 (M+H)+ （実施例９）
(s,1H), 6.07(d,J=6.8Hz,1H), 5.08(d,J=3.9Hz), 4.72
(m,1H), 4.44(m,1H), 4.32(m,1H), 4.03-3.88(m,7H),
4.62(m,1H); IR(KBr) 3340, 3215, 2976, 2939, 2739, 2678, 2492,
1655, 1476, 1434, 1399; HRMS m/z 750.0247 (M+H)+ （実施例９）
【０２０９】
【化５８】
【０２１０】（１）
【０２１１】
【化５９】
【０２１２】２′−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）
−５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−Ｎ，
Ｎ−ジベンゾイルアデノシン（６−１，Ｃｈｅｍｇｅｎ
ｅｓ社）２０ｇ、３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−２
−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−グルコピラノシルブロミド３
２ｇ、モレキュラーシーブ（４Ａ）６０ｇ、クロロホル
ム２４０ｍｌ、２，４，６−トリメチルピリジン９．３
２ｍｌ、及び過塩素酸銀１６ｇを用いて、実施例３
(３）と同様にして反応及び処理した。精製はシリカゲ
ルカラム（８５０ｇ，７０〜２３０ｍｅｓｈ）を用い、
ヘキサン：酢酸エチル（２：１）で溶出することによ
り、１２．２６ｇ（４１．６５％）の目的化合物（６−
２）を得た。
−５′−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−Ｎ，
Ｎ−ジベンゾイルアデノシン（６−１，Ｃｈｅｍｇｅｎ
ｅｓ社）２０ｇ、３，４，６−トリ−Ｏ−アセチル−２
−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−グルコピラノシルブロミド３
２ｇ、モレキュラーシーブ（４Ａ）６０ｇ、クロロホル
ム２４０ｍｌ、２，４，６−トリメチルピリジン９．３
２ｍｌ、及び過塩素酸銀１６ｇを用いて、実施例３
(３）と同様にして反応及び処理した。精製はシリカゲ
ルカラム（８５０ｇ，７０〜２３０ｍｅｓｈ）を用い、
ヘキサン：酢酸エチル（２：１）で溶出することによ
り、１２．２６ｇ（４１．６５％）の目的化合物（６−
２）を得た。
【０２１３】1H-NMR(270MHz,CDCl3)δ 8.50(s,1H), 8.1
3(s,1H), 7.84(d,J=7.1Hz,4H), 7.50-7.10(m,20H), 6.8
0(d,J=9.0Hz,4H), 6.01(d,J=6.2Hz,1H), 5.43(m,2H),
5.15(m,1H), 5.00(m,1H), 4.74(d,J=11.7Hz,1H), 4.56
(d,J=11.7Hz,1H), 4.40(m,1H),4.32(m,1H), 3.96-3.60
(m,5H), 3.76(s,6H), 3.35(m,1H), 2.01(s,3H), 1.99
(s,3H), 1.98(s,3H), 0.73(s,9H), -0.12(s,3H), -0.29
(s,3H); （２）
3(s,1H), 7.84(d,J=7.1Hz,4H), 7.50-7.10(m,20H), 6.8
0(d,J=9.0Hz,4H), 6.01(d,J=6.2Hz,1H), 5.43(m,2H),
5.15(m,1H), 5.00(m,1H), 4.74(d,J=11.7Hz,1H), 4.56
(d,J=11.7Hz,1H), 4.40(m,1H),4.32(m,1H), 3.96-3.60
(m,5H), 3.76(s,6H), 3.35(m,1H), 2.01(s,3H), 1.99
(s,3H), 1.98(s,3H), 0.73(s,9H), -0.12(s,3H), -0.29
(s,3H); （２）
【０２１４】
【化６０】
【０２１５】化合物（６−２）１２．２６ｇをピリジン
−メタノール（９０：１０）１１０ｍｌを用いて、実施
例７ (１）と同様に反応及び処理した。精製はシリカゲ
ルカラムを用い、０〜２％メタノール／塩化メチレンで
溶出することにより８．３８ｇ（８３．５％）の目的化
合物（６−３）を得た。
−メタノール（９０：１０）１１０ｍｌを用いて、実施
例７ (１）と同様に反応及び処理した。精製はシリカゲ
ルカラムを用い、０〜２％メタノール／塩化メチレンで
溶出することにより８．３８ｇ（８３．５％）の目的化
合物（６−３）を得た。
【０２１６】1H-NMR(400MHz,CDCl3)δ 9.07(s,1H), 8.7
1(s,1H), 8.12(s,1H), 8.03(m,2H),7.70-7.10(m,17H),
6.83(d,J=8.9Hz,4H), 6.13(d,J=7.0Hz,1H), 5.59(d,J=
3.5Hz,1H), 5.17(m,1H), 4.92(d,J=10.9Hz,1H), 4.54
(d,J=10.9Hz,1H), 4.46(m,1H),4.30(s,1H), 3.96(m,1
H), 3.79(s,6H), 3.75-3.60(m,4H), 3.52(m,1H), 3.42
(m,1H), 3.33(m,1H), 0.73(s,9H), -0.15(s,3H), -0.27
(s,3H); IR(KBr) 3412, 3062, 3033, 3003, 2951, 2930, 2858,
1704, 1610, 1583, 1509, 1455; HRMS m/z 1040.4479(M+H)+ （３）
1(s,1H), 8.12(s,1H), 8.03(m,2H),7.70-7.10(m,17H),
6.83(d,J=8.9Hz,4H), 6.13(d,J=7.0Hz,1H), 5.59(d,J=
3.5Hz,1H), 5.17(m,1H), 4.92(d,J=10.9Hz,1H), 4.54
(d,J=10.9Hz,1H), 4.46(m,1H),4.30(s,1H), 3.96(m,1
H), 3.79(s,6H), 3.75-3.60(m,4H), 3.52(m,1H), 3.42
(m,1H), 3.33(m,1H), 0.73(s,9H), -0.15(s,3H), -0.27
(s,3H); IR(KBr) 3412, 3062, 3033, 3003, 2951, 2930, 2858,
1704, 1610, 1583, 1509, 1455; HRMS m/z 1040.4479(M+H)+ （３）
【０２１７】
【化６１】
【０２１８】化合物（６−３）２ｇ、ピリジン１０ｍｌ
及びｔ−ブチルジメチルシリルクロリド３２７ｍｇを用
いて、実施例３ (２）と同様にして１７時間反応した。
反応終了後、実施例３（２）と同様に処理を行い、シリ
カゲルカラム（４０ｇ，７０〜２３０ｍｅｓｈ）で精製
した。０〜１．５％メタノール／塩化メチレンで溶出す
ることにより１．８ｇ（８１％）の目的化合物（６−
４）を得た。
及びｔ−ブチルジメチルシリルクロリド３２７ｍｇを用
いて、実施例３ (２）と同様にして１７時間反応した。
反応終了後、実施例３（２）と同様に処理を行い、シリ
カゲルカラム（４０ｇ，７０〜２３０ｍｅｓｈ）で精製
した。０〜１．５％メタノール／塩化メチレンで溶出す
ることにより１．８ｇ（８１％）の目的化合物（６−
４）を得た。
【０２１９】1H-NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.99(s,1H), 8.6
9(s,1H), 8.04(s,1H), 8.02(m,2H),7.61(m,1H), 7.55-
7.20(m,16H), 6.81(m,4H), 6.12(d,J=7.3Hz,1H), 5.60
(d,J=3.5Hz,1H), 5.20(m,1H), 4.92(d,J=10.9Hz,1H),
4.58(d,J=10.9Hz,1H), 4.43(m,1H), 4.30(m,1H), 4.02
(m,1H), 3.83(m,1H), 3.78(s,6H), 3.77-3.60(m,3H),
3.51(m,1H), 3.42(m,1H), 3.35(m,1H), 2.88(s,1H), 2.
57(s,1H), 0.88(s,9H), 0.72(s,9H), 0.06(s,3H), 0.04
(s,3H), -0.18(s,3H), -0.31(s,3H); IR(KBr) 3417, 3063, 3033, 2953, 2930, 2857, 1706,
1610, 1583, 1509, 1461; HRMS m/z 1154.5344(M+H)+ （４）
9(s,1H), 8.04(s,1H), 8.02(m,2H),7.61(m,1H), 7.55-
7.20(m,16H), 6.81(m,4H), 6.12(d,J=7.3Hz,1H), 5.60
(d,J=3.5Hz,1H), 5.20(m,1H), 4.92(d,J=10.9Hz,1H),
4.58(d,J=10.9Hz,1H), 4.43(m,1H), 4.30(m,1H), 4.02
(m,1H), 3.83(m,1H), 3.78(s,6H), 3.77-3.60(m,3H),
3.51(m,1H), 3.42(m,1H), 3.35(m,1H), 2.88(s,1H), 2.
57(s,1H), 0.88(s,9H), 0.72(s,9H), 0.06(s,3H), 0.04
(s,3H), -0.18(s,3H), -0.31(s,3H); IR(KBr) 3417, 3063, 3033, 2953, 2930, 2857, 1706,
1610, 1583, 1509, 1461; HRMS m/z 1154.5344(M+H)+ （４）
【０２２０】
【化６２】
【０２２１】化合物（６−４）５００ｍｇ、１０１．２
ｍｌのクロロホルム、２．０６ｍｌのトリフルオロ酢酸
を用い、実施例３ (６）と同様に反応及び処理を行っ
た。精製は、シリカゲルカラム（１０ｇ，７０〜２３０
ｍｅｓｈ）を用い、０〜２％メタノール／塩化メチレン
で溶出することにより３００ｍｇ（８１．３％）の目的
化合物（６−５）を得た。
ｍｌのクロロホルム、２．０６ｍｌのトリフルオロ酢酸
を用い、実施例３ (６）と同様に反応及び処理を行っ
た。精製は、シリカゲルカラム（１０ｇ，７０〜２３０
ｍｅｓｈ）を用い、０〜２％メタノール／塩化メチレン
で溶出することにより３００ｍｇ（８１．３％）の目的
化合物（６−５）を得た。
【０２２２】1H-NMR(400MHz,CDCl3)δ 9.03(s,1H), 8.8
2(s,1H), 8.03(d,J=7.0Hz,2H), 7.70(s,1H), 7.63(m,1
H), 7.56(m,2H), 7.40(m,5H), 6.06(d,J=12.1Hz,1H),
5.84(d,J=8.2Hz,1H), 5.69(d,J=3.5Hz,1H), 5.30(m,1
H), 4.95(d,J=11.2Hz,1H), 4.63(d,J=11.2Hz,1H), 4.52
(d,J=4.1Hz,1H), 4.34(s,1H), 4.02(m,2H), 3.89(m,2
H),3.71(t,J=13.0Hz,1H), 3.60(m,2H), 3.48(m,1H), 2.
91(s,1H), 2.58(s,1H), 0.93(s,9H), 0.73(s,9H), 0.12
(s,3H), 0.11(s,3H), -0.30(s,3H), -0.39(s,3H); （５）
2(s,1H), 8.03(d,J=7.0Hz,2H), 7.70(s,1H), 7.63(m,1
H), 7.56(m,2H), 7.40(m,5H), 6.06(d,J=12.1Hz,1H),
5.84(d,J=8.2Hz,1H), 5.69(d,J=3.5Hz,1H), 5.30(m,1
H), 4.95(d,J=11.2Hz,1H), 4.63(d,J=11.2Hz,1H), 4.52
(d,J=4.1Hz,1H), 4.34(s,1H), 4.02(m,2H), 3.89(m,2
H),3.71(t,J=13.0Hz,1H), 3.60(m,2H), 3.48(m,1H), 2.
91(s,1H), 2.58(s,1H), 0.93(s,9H), 0.73(s,9H), 0.12
(s,3H), 0.11(s,3H), -0.30(s,3H), -0.39(s,3H); （５）
【０２２３】
【化６３】
【０２２４】化合物（６−５）２９０ｍｇ、１Ｈ−テト
ラゾール１２１ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，５−ジヒ
ドロ−２，４，３−ベンゾジオキサホスフェピン−３−
アミン３５１ｍｇ、アセトニトリル６ｍｌ、メタクロロ
過安息香酸２０３ｍｇを用いて、実施例３ (６）と同様
に反応を行った。精製はシリカゲルカラム（１０ｇ，７
０〜２３０ｍｅｓｈ）を用い、０〜１％メタノール／塩
化メチレンにて溶出することにより３２１ｍｇ（６５．
５％）の目的化合物（６−６）を得た。
ラゾール１２１ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，５−ジヒ
ドロ−２，４，３−ベンゾジオキサホスフェピン−３−
アミン３５１ｍｇ、アセトニトリル６ｍｌ、メタクロロ
過安息香酸２０３ｍｇを用いて、実施例３ (６）と同様
に反応を行った。精製はシリカゲルカラム（１０ｇ，７
０〜２３０ｍｅｓｈ）を用い、０〜１％メタノール／塩
化メチレンにて溶出することにより３２１ｍｇ（６５．
５％）の目的化合物（６−６）を得た。
【０２２５】1H-NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.99(s,1H), 8.6
9(s,1H), 8.02(d,J=7.44Hz,2H), 7.96(s,1H), 7.62(m,1
H), 7.54(m,2H), 7.49(m,2H), 7.38-7.20(m,14H), 7.13
(m,1H), 5.98(d,J=5.2Hz,1H), 5.60(d,J=3.6Hz,1H), 5.
52-5.39(m,2H), 5.30-4.90(m,12H), 4.79(dd,J=11.6 an
d 21.6Hz,2H), 4.66(m,2H), 4.50(m,2H), 4.24(m,1H),
4.03(d,J=10.3Hz,1H), 3.88(m,2H), 3.67(m,1H), 0.93
(s,9H), 0.79(s,7H), 0.11(s,6H), -0.04(s,3H), -0.11
(s,3H); （６）
9(s,1H), 8.02(d,J=7.44Hz,2H), 7.96(s,1H), 7.62(m,1
H), 7.54(m,2H), 7.49(m,2H), 7.38-7.20(m,14H), 7.13
(m,1H), 5.98(d,J=5.2Hz,1H), 5.60(d,J=3.6Hz,1H), 5.
52-5.39(m,2H), 5.30-4.90(m,12H), 4.79(dd,J=11.6 an
d 21.6Hz,2H), 4.66(m,2H), 4.50(m,2H), 4.24(m,1H),
4.03(d,J=10.3Hz,1H), 3.88(m,2H), 3.67(m,1H), 0.93
(s,9H), 0.79(s,7H), 0.11(s,6H), -0.04(s,3H), -0.11
(s,3H); （６）
【０２２６】
【化６４】
【０２２７】化合物（６−６）２７５ｍｇをエタノール
５ｍｌに溶解し、パラジウム−黒２５０ｍｇを加え、水
素雰囲気下室温で撹拌した。１８時間後、反応液をセラ
イトで濾過し、希アンモニア水とエタノールで洗い込
み、濾液と洗浄液を合わせて溶媒を減圧下留去した。残
査１７８ｍｇ（８６％）を６ｍｌの２８％アンモニア水
−ピリジン（９０：１０）に溶解し、室温で放置した。
５４時間後、減圧下留去した。残査をテトラヒドロフラ
ン５ｍｌと１Ｍ−テトラブチルアンモニウムフロリド／
テトラヒドロフラン溶液５ｍｌに溶解し、室温にて撹拌
をした。１時間後、反応液を減圧下留去した。残査を５
０ｍｌの水に溶解し、エチルエーテル５０ｍｌで２回洗
浄した。残査をイオン交換カラム（５０ｇ，ＤＥＡＥ−
Ｓｅｐｈａｄｅｘ Ａ−２５）を用い、０．０５Ｍ〜２
Ｍ−酢酸トリエチルアミンで溶出することにより８０ｍ
ｇの混合物を得た。さらにＣ−１８のカラム（９０ｇ）
を用いて精製した。０〜５０％アセトニトリル／０．１
Ｍ−酢酸トリエチルアミンで溶出することにより２３ｍ
ｇ（１８．９％）の目的化合物（１ｉ）のトリエチルア
ミン塩を得た。
５ｍｌに溶解し、パラジウム−黒２５０ｍｇを加え、水
素雰囲気下室温で撹拌した。１８時間後、反応液をセラ
イトで濾過し、希アンモニア水とエタノールで洗い込
み、濾液と洗浄液を合わせて溶媒を減圧下留去した。残
査１７８ｍｇ（８６％）を６ｍｌの２８％アンモニア水
−ピリジン（９０：１０）に溶解し、室温で放置した。
５４時間後、減圧下留去した。残査をテトラヒドロフラ
ン５ｍｌと１Ｍ−テトラブチルアンモニウムフロリド／
テトラヒドロフラン溶液５ｍｌに溶解し、室温にて撹拌
をした。１時間後、反応液を減圧下留去した。残査を５
０ｍｌの水に溶解し、エチルエーテル５０ｍｌで２回洗
浄した。残査をイオン交換カラム（５０ｇ，ＤＥＡＥ−
Ｓｅｐｈａｄｅｘ Ａ−２５）を用い、０．０５Ｍ〜２
Ｍ−酢酸トリエチルアミンで溶出することにより８０ｍ
ｇの混合物を得た。さらにＣ−１８のカラム（９０ｇ）
を用いて精製した。０〜５０％アセトニトリル／０．１
Ｍ−酢酸トリエチルアミンで溶出することにより２３ｍ
ｇ（１８．９％）の目的化合物（１ｉ）のトリエチルア
ミン塩を得た。
【０２２８】1H-NMR(400MHz,D2O)δ 8.32(s,1H), 8.10
(s,1H), 6.06(d,J=5.9Hz,1H), 5.07(d,J=3.6Hz,1H), 4.
70(m,1H), 4.42(s,1H), 4.35(m,1H), 3.77-3.53(m,4H),
3.02(m,18H), 2.88(m,3H), 1.10(m,27H); IR(KBr) 3416, 2976, 2938, 2804, 2739, 2678, 2492,
1645, 1476, 1399; HRMS m/z 668.0444 (M-H)- （実施例１０）
(s,1H), 6.06(d,J=5.9Hz,1H), 5.07(d,J=3.6Hz,1H), 4.
70(m,1H), 4.42(s,1H), 4.35(m,1H), 3.77-3.53(m,4H),
3.02(m,18H), 2.88(m,3H), 1.10(m,27H); IR(KBr) 3416, 2976, 2938, 2804, 2739, 2678, 2492,
1645, 1476, 1399; HRMS m/z 668.0444 (M-H)- （実施例１０）
【０２２９】
【化６５】
【０２３０】（１）
【０２３１】
【化６６】
【０２３２】化合物（５−１）１．５２ｇを２０ｍｌの
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、２１６．９ｍ
ｇの２−メトキシプロペン２．５８ｍｇのＰ−トルエン
スルホン酸を加え、室温にて撹拌を行った。１９時間
後、反応液を減圧下留去した。２００ｍｌのクロロホル
ムに溶解し、２００ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム水で
洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒
を留去して１．７ｇ（１０７％）の目的化合物（７−
１）を得た。
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、２１６．９ｍ
ｇの２−メトキシプロペン２．５８ｍｇのＰ−トルエン
スルホン酸を加え、室温にて撹拌を行った。１９時間
後、反応液を減圧下留去した。２００ｍｌのクロロホル
ムに溶解し、２００ｍｌの５％炭酸水素ナトリウム水で
洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒
を留去して１．７ｇ（１０７％）の目的化合物（７−
１）を得た。
【０２３３】1H-NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.97(s,1H), 8.6
6(s,1H), 8.02(d,J=7.4Hz,2H), 7.97(s,1H), 7.62(m,1
H), 7.55-7.25(m,19H), 6.85(d,J=8.7Hz,1H), 5.63(d,J
=3.7Hz,1H), 5.22(m,1H), 4.96(d,J=11.0Hz,1H), 4.62
(d,J=11.0Hz,1H), 4.49(m,1H),4.32(m,1H), 4.06(m,1
H), 3.79(s,3H), 3.78-3.52(m,6H), 3.37(m,1H), 1.53
(s,3H), 1.47(s,3H), 0.71(s,9H), -0.20(s,3H), -0.33
(s,3H); IR(KBr) 3420, 3061, 3032, 2994, 2931, 2858, 1708,
1656, 1610, 1583, 1510, 1455; （２）
6(s,1H), 8.02(d,J=7.4Hz,2H), 7.97(s,1H), 7.62(m,1
H), 7.55-7.25(m,19H), 6.85(d,J=8.7Hz,1H), 5.63(d,J
=3.7Hz,1H), 5.22(m,1H), 4.96(d,J=11.0Hz,1H), 4.62
(d,J=11.0Hz,1H), 4.49(m,1H),4.32(m,1H), 4.06(m,1
H), 3.79(s,3H), 3.78-3.52(m,6H), 3.37(m,1H), 1.53
(s,3H), 1.47(s,3H), 0.71(s,9H), -0.20(s,3H), -0.33
(s,3H); IR(KBr) 3420, 3061, 3032, 2994, 2931, 2858, 1708,
1656, 1610, 1583, 1510, 1455; （２）
【０２３４】
【化６７】
【０２３５】化合物（７−１）２００ｍｇを０．２ｍｌ
のテトラヒドロフランに溶解し、１Ｍ−テトラブチルア
ンモニウムフロリド／テトラヒドロフラン溶液０．２ｍ
ｌを加え室温で撹拌した。１時間３０分後に溶媒を減圧
下留去し、残査を１００ｍｌの酢酸エチルに溶解し、１
００ｍｌの飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去した。得られた残
査をシリカゲルカラム（５ｇ，７０〜２３０ｍｅｓｈ）
を用い、０〜１％メタノール／塩化メチレンで溶出する
ことにより１５４ｍｇ（８７％）の目的化合物（７−
２）を得た。
のテトラヒドロフランに溶解し、１Ｍ−テトラブチルア
ンモニウムフロリド／テトラヒドロフラン溶液０．２ｍ
ｌを加え室温で撹拌した。１時間３０分後に溶媒を減圧
下留去し、残査を１００ｍｌの酢酸エチルに溶解し、１
００ｍｌの飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去した。得られた残
査をシリカゲルカラム（５ｇ，７０〜２３０ｍｅｓｈ）
を用い、０〜１％メタノール／塩化メチレンで溶出する
ことにより１５４ｍｇ（８７％）の目的化合物（７−
２）を得た。
【０２３６】1H-NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.96(s,1H), 8.7
5(s,1H), 8.15(s,1H), 8.02(d,J=7.3Hz,2H), 7.61(m,1
H), 7.54(m,2H), 7.43-7.20(m,17H), 6.80(d,J=8.9Hz,2
H), 6.01(d,J=5.7Hz,1H), 4.93(m,1H), 4.88(d,J=11.8H
z,1H), 4.79(d,J=11.8Hz,1H),4.46(m,2H), 4.32(m,1H),
4.10(m,2H), 3.78(s,3H), 3.60(m,3H), 3.48(m,3H),3.
30(m,1H), 1.49(s,3H), 1.44(s,3H); IR(KBr) 3415, 3061, 3032, 2934, 1706, 1611, 1583,
1510, 1489, 1455; HRMS m/z 936.3821 (M+H)+ （３）
5(s,1H), 8.15(s,1H), 8.02(d,J=7.3Hz,2H), 7.61(m,1
H), 7.54(m,2H), 7.43-7.20(m,17H), 6.80(d,J=8.9Hz,2
H), 6.01(d,J=5.7Hz,1H), 4.93(m,1H), 4.88(d,J=11.8H
z,1H), 4.79(d,J=11.8Hz,1H),4.46(m,2H), 4.32(m,1H),
4.10(m,2H), 3.78(s,3H), 3.60(m,3H), 3.48(m,3H),3.
30(m,1H), 1.49(s,3H), 1.44(s,3H); IR(KBr) 3415, 3061, 3032, 2934, 1706, 1611, 1583,
1510, 1489, 1455; HRMS m/z 936.3821 (M+H)+ （３）
【０２３７】
【化６８】
【０２３８】化合物（７−２）１５０ｍｇと１Ｈ−テト
ラゾール５６ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，５−ジヒド
ロ−２，４，３−ベンゾジオキサホスフェピン−３−ア
ミン９９．５ｍｇ、アセトニトリル６ｍｌ、メタクロロ
過安息香酸１９３ｍｇを用いて、実施例３ (６）と同様
に反応を行った。精製はシリカゲルクロマト（５ｇ，７
０〜２３０ｍｅｓｈ）を用い、０〜１％メタノール／塩
化メチレンにて溶出することにより１８８ｍｇ（９０．
３％）の目的化合物（７−３）を得た。
ラゾール５６ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，５−ジヒド
ロ−２，４，３−ベンゾジオキサホスフェピン−３−ア
ミン９９．５ｍｇ、アセトニトリル６ｍｌ、メタクロロ
過安息香酸１９３ｍｇを用いて、実施例３ (６）と同様
に反応を行った。精製はシリカゲルクロマト（５ｇ，７
０〜２３０ｍｅｓｈ）を用い、０〜１％メタノール／塩
化メチレンにて溶出することにより１８８ｍｇ（９０．
３％）の目的化合物（７−３）を得た。
【０２３９】1H-NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.97(s,1H), 8.5
7(s,1H), 8.03(m,3H), 7.62(m,1H),7.55(m,2H), 7.50-
7.03(m,25H), 6.81(d,J=8.8Hz,2H), 6.32(d,J=6.2Hz,1
H), 6.01(m,1H), 5.41(d,J=3.6Hz,1H), 5.30-5.00(m,4
H), 4.92-4.68(m,6H), 4.35(m,1H), 3.78(m,4H), 3.60
(m,3H), 3.31(m,1H), 3.02(m,2H), 1.50(s,3H), 1.40
(s,3H); IR(KBr) 3414, 3061, 3032, 2936, 1704, 1609, 1583,
1510, 1489, 1454; HRMS m/z 1322.3894 (M+Na)+ （４）
7(s,1H), 8.03(m,3H), 7.62(m,1H),7.55(m,2H), 7.50-
7.03(m,25H), 6.81(d,J=8.8Hz,2H), 6.32(d,J=6.2Hz,1
H), 6.01(m,1H), 5.41(d,J=3.6Hz,1H), 5.30-5.00(m,4
H), 4.92-4.68(m,6H), 4.35(m,1H), 3.78(m,4H), 3.60
(m,3H), 3.31(m,1H), 3.02(m,2H), 1.50(s,3H), 1.40
(s,3H); IR(KBr) 3414, 3061, 3032, 2936, 1704, 1609, 1583,
1510, 1489, 1454; HRMS m/z 1322.3894 (M+Na)+ （４）
【０２４０】
【化６９】
【０２４１】化合物（７−３）１８０ｍｇを２０ｍｌの
８０％酢酸／水に溶解し、室温にて放置した。１６時間
３０分後、反応液を減圧下留去した。残査に２０ｍｌの
エタノールを加え、溶解した後、減圧下留去した。残査
をシリカゲルカラム（５ｇ，７０〜２３０ｍｅｓｈ）を
用い、０〜５％メタノール／塩化メチレンで溶出するこ
とにより１１６ｍｇ（８５．２％）の目的化合物（７−
４）を得た。
８０％酢酸／水に溶解し、室温にて放置した。１６時間
３０分後、反応液を減圧下留去した。残査に２０ｍｌの
エタノールを加え、溶解した後、減圧下留去した。残査
をシリカゲルカラム（５ｇ，７０〜２３０ｍｅｓｈ）を
用い、０〜５％メタノール／塩化メチレンで溶出するこ
とにより１１６ｍｇ（８５．２％）の目的化合物（７−
４）を得た。
【０２４２】1H-NMR(400MHz,CDCl3)δ 8.99(s,1H), 8.5
7(s,1H), 8.07(d,J=7.4Hz,2H), 7.95(s,1H), 7.66(m,1
H), 7.58(m,2H), 7.40-7.10(m,12H), 6.93(m,1H), 6.12
(d,J=7.5Hz,1H), 5.70(m,2H), 5.53(d,J=3.5Hz,1H), 5.
42(m,1H), 5.25-4.45(m,12H),3.98-3.65(m,7H); IR(KBr) 3395, 2928, 1701, 1612, 1585, 1512, 1483,
1456, 1281, 1262; HRMS m/z 988.2578 (M+H)+ （５）
7(s,1H), 8.07(d,J=7.4Hz,2H), 7.95(s,1H), 7.66(m,1
H), 7.58(m,2H), 7.40-7.10(m,12H), 6.93(m,1H), 6.12
(d,J=7.5Hz,1H), 5.70(m,2H), 5.53(d,J=3.5Hz,1H), 5.
42(m,1H), 5.25-4.45(m,12H),3.98-3.65(m,7H); IR(KBr) 3395, 2928, 1701, 1612, 1585, 1512, 1483,
1456, 1281, 1262; HRMS m/z 988.2578 (M+H)+ （５）
【０２４３】
【化７０】
【０２４４】化合物（７−４）１１０ｍｇを２．５ｍｌ
のエタノール−水−１Ｍ酢酸トリエチルアミン（ｐＨ
７）＝８０：１０：１０で溶解し、パラジウム−黒１０
０ｍｇを加え、水素雰囲気下室温で撹拌した。１８時間
後、反応液をセライトで濾過し、希アンモニア水とエタ
ノールで洗い込み、濾液と洗浄液を合わせて溶媒を減圧
下留去した。残査を５ｍｌの２８％アンモニア水に溶解
し、室温で放置した。６６時間後、反応液を減圧下留去
した。残査を１０ｍｌの水に溶解し、１０ｍｌの酢酸エ
チルで２回洗浄し、溶媒を減圧下留去した。残査を５ｍ
ｌの水に溶解して、Ｃ−１８カラム（９０ｇ）を用い
て、０〜１０％アセトニトリル／０．１Ｍ−酢酸トリエ
チルアミン（ｐＨ７）で溶出することにより２回目で４
１ｍｇ（６２．５％）の目的化合物（１ｊ）を得た。
のエタノール−水−１Ｍ酢酸トリエチルアミン（ｐＨ
７）＝８０：１０：１０で溶解し、パラジウム−黒１０
０ｍｇを加え、水素雰囲気下室温で撹拌した。１８時間
後、反応液をセライトで濾過し、希アンモニア水とエタ
ノールで洗い込み、濾液と洗浄液を合わせて溶媒を減圧
下留去した。残査を５ｍｌの２８％アンモニア水に溶解
し、室温で放置した。６６時間後、反応液を減圧下留去
した。残査を１０ｍｌの水に溶解し、１０ｍｌの酢酸エ
チルで２回洗浄し、溶媒を減圧下留去した。残査を５ｍ
ｌの水に溶解して、Ｃ−１８カラム（９０ｇ）を用い
て、０〜１０％アセトニトリル／０．１Ｍ−酢酸トリエ
チルアミン（ｐＨ７）で溶出することにより２回目で４
１ｍｇ（６２．５％）の目的化合物（１ｊ）を得た。
【０２４５】1H-NMR(400MHz,DMSO-d6)δ 8.38(s,1H),
8.12(s,1H), 7.34(s,2H), 6.03(d,J=5.9Hz), 5.10(m,1
H), 4.96(s,1H), 4.71(m,1H), 4.50(m,1H), 4.14(s,1
H), 3.65(m,4H); IR(KBr) 3336, 3206, 2976, 2939, 2739, 2679, 2492,
1648, 1603, 1577, 1476; HRMS m/z 588.0729 (M-H)- （製剤例１）（ハ−ドカプセル剤） 標準二分式ハ−ドゼラチンカプセルの各々に、100 mgの
粉末状の実施例１の化合物、150 mgのラクト−ス、50 m
g のセルロ−ス及び6 mgのステアリン酸マグネシウムを
充填することにより、単位カプセルを製造し、洗浄後、
乾燥する。
8.12(s,1H), 7.34(s,2H), 6.03(d,J=5.9Hz), 5.10(m,1
H), 4.96(s,1H), 4.71(m,1H), 4.50(m,1H), 4.14(s,1
H), 3.65(m,4H); IR(KBr) 3336, 3206, 2976, 2939, 2739, 2679, 2492,
1648, 1603, 1577, 1476; HRMS m/z 588.0729 (M-H)- （製剤例１）（ハ−ドカプセル剤） 標準二分式ハ−ドゼラチンカプセルの各々に、100 mgの
粉末状の実施例１の化合物、150 mgのラクト−ス、50 m
g のセルロ−ス及び6 mgのステアリン酸マグネシウムを
充填することにより、単位カプセルを製造し、洗浄後、
乾燥する。
【０２４６】（製剤例２）（ソフトカプセル剤） 消化性油状物、例えば、大豆油、綿実油又はオリ−ブ油
中に入れた、実施例１の化合物の混合物を調製し、正置
換ポンプでゼラチン中に注入して、100 mgの活性成分を
含有するソフトカプセルを得、洗浄後、乾燥する。
中に入れた、実施例１の化合物の混合物を調製し、正置
換ポンプでゼラチン中に注入して、100 mgの活性成分を
含有するソフトカプセルを得、洗浄後、乾燥する。
【０２４７】（製剤例３）（錠剤） 常法に従って、100 mgの実施例１の化合物、0.2 mgのコ
ロイド性二酸化珪素、5 mgのステアリン酸マグネシウ
ム、275 mgの微結晶性セルロ−ス、11 mg のデンプン及
び98.8 mg のラクト−スを用いて製造する。
ロイド性二酸化珪素、5 mgのステアリン酸マグネシウ
ム、275 mgの微結晶性セルロ−ス、11 mg のデンプン及
び98.8 mg のラクト−スを用いて製造する。
【０２４８】尚、所望により、剤皮を塗布した。
【０２４９】（製剤例４）（注射剤） 1.5 重量% の実施例１の化合物を、10容量% のプロピレ
ングリコ−ル中で撹拌し、次いで、注射用水で一定容量
にした後、滅菌して製造する。
ングリコ−ル中で撹拌し、次いで、注射用水で一定容量
にした後、滅菌して製造する。
【０２５０】（製剤例５）（懸濁剤） 5 ml中に、100 mgの微粉化した実施例１の化合物、100
mgのナトリウムカルボキシメチルセルロ−ス、5 mgの安
息香酸ナトリウム、1.0 g のソルビト−ル溶液(日本薬
局方) 及び0.025 mlのバニリンを含有するように製造す
る。
mgのナトリウムカルボキシメチルセルロ−ス、5 mgの安
息香酸ナトリウム、1.0 g のソルビト−ル溶液(日本薬
局方) 及び0.025 mlのバニリンを含有するように製造す
る。
【０２５１】
【発明の効果】本発明の化合物は、イノシトール１，
４，５−トリスホスフェート（ＩｎｓＰ3)受容体に作用
し、優れた細胞内カルシウムイオン濃度を上昇させる活
性を有するので、脳への作用により老人性痴呆症、アル
ツハイマ−病又はハンチントン舞踏病などの脳疾患の治
療に有用である。また、昇圧剤、免疫担当細胞を活性化
する免疫増強剤、褥瘡剤、上皮膚潰瘍治療剤又はインシ
ュリン分泌促進によるＩ型糖尿病治療剤として有用であ
る。
４，５−トリスホスフェート（ＩｎｓＰ3)受容体に作用
し、優れた細胞内カルシウムイオン濃度を上昇させる活
性を有するので、脳への作用により老人性痴呆症、アル
ツハイマ−病又はハンチントン舞踏病などの脳疾患の治
療に有用である。また、昇圧剤、免疫担当細胞を活性化
する免疫増強剤、褥瘡剤、上皮膚潰瘍治療剤又はインシ
ュリン分泌促進によるＩ型糖尿病治療剤として有用であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/70 ＡＤＡ Ａ６１Ｋ 31/70 ＡＤＡ ＡＤＰ ＡＤＰ ＡＥＤ ＡＥＤ Ｃ０７Ｈ 19/167 Ｃ０７Ｈ 19/167 (72)発明者 高橋 正明 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 丹沢 和比古 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 高橋 秀次 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内
Claims (10)
- 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 はそれ
ぞれ独立に水素原子又はりん酸残基（−Ｐ（＝Ｏ）（Ｏ
Ｈ）2 ）を示し、Ｒ7 は水素原子、炭素数１乃至４個の
アルコキシ基又は次式で示される基 【化２】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示す）を示す。但し、Ｒ7
がアデニル基の場合は、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5
及びＲ6 がすべて水素原子である化合物、Ｒ1 、Ｒ4 及
びＲ5 がりん酸残基であり、かつ、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ6
が水素原子である化合物、並びに、Ｒ4 及びＲ5 がりん
酸残基であり、かつ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ6 が水素
原子である化合物は除く。］で表わされる化合物又はそ
の薬理上許容される塩。 - 【請求項２】Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 が水素原子
であり、Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であ
り、Ｒ5 がりん酸残基であり、Ｒ6 が水素原子である請
求項１に記載の化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項３】Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 が水素原子
であり、Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であ
り、Ｒ5 がりん酸残基であり、Ｒ6 がりん酸残基である
請求項１に記載の化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項４】Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 がりん酸残
基であり、Ｒ3 がりん酸残基であり、Ｒ4 がりん酸残基
であり、Ｒ5 がりん酸残基であり、Ｒ6 がりん酸残基で
ある請求項１に記載の化合物又はその薬理上許容される
塩。 - 【請求項５】Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 が水素原子で
あり、Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であ
り、Ｒ5 がりん酸残基であり、Ｒ6 がりん酸残基である
請求項１に記載の化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項６】Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 がりん酸残基
であり、Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であ
り、Ｒ5 がりん酸残基であり、Ｒ6 がりん酸残基である
請求項１に記載の化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項７】Ｒ1 が水素原子であり、Ｒ2 がりん酸残基
であり、Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であ
り、Ｒ5 がりん酸残基であり、Ｒ6 が水素原子である請
求項１に記載の化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項８】Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 が水素原子
であり、Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 がりん酸残基であ
り、Ｒ5 が水素原子であり、Ｒ6 が水素原子である請求
項１に記載の化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項９】Ｒ1 がりん酸残基であり、Ｒ2 が水素原子
であり、Ｒ3 が水素原子であり、Ｒ4 が水素原子であ
り、Ｒ5 がりん酸残基であり、Ｒ6 が水素原子である請
求項１に記載の化合物又はその薬理上許容される塩。 - 【請求項１０】Ｒ7 がアデニル基である請求項１乃至９
に記載の化合物又はその薬理上許容される塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6568497A JPH09316093A (ja) | 1996-03-28 | 1997-03-19 | ポリリン酸誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-73664 | 1996-03-28 | ||
| JP7366496 | 1996-03-28 | ||
| JP6568497A JPH09316093A (ja) | 1996-03-28 | 1997-03-19 | ポリリン酸誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09316093A true JPH09316093A (ja) | 1997-12-09 |
Family
ID=26406820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6568497A Pending JPH09316093A (ja) | 1996-03-28 | 1997-03-19 | ポリリン酸誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09316093A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005026184A2 (en) * | 2003-06-30 | 2005-03-24 | Roche Diagnostics Gmbh | Synthesis and compositions of 2'-terminator nucleotides |
| US7745125B2 (en) | 2004-06-28 | 2010-06-29 | Roche Molecular Systems, Inc. | 2′-terminator related pyrophosphorolysis activated polymerization |
-
1997
- 1997-03-19 JP JP6568497A patent/JPH09316093A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005026184A2 (en) * | 2003-06-30 | 2005-03-24 | Roche Diagnostics Gmbh | Synthesis and compositions of 2'-terminator nucleotides |
| WO2005026184A3 (en) * | 2003-06-30 | 2007-02-01 | Roche Diagnostics Gmbh | Synthesis and compositions of 2'-terminator nucleotides |
| US7947817B2 (en) | 2003-06-30 | 2011-05-24 | Roche Molecular Systems, Inc. | Synthesis and compositions of 2'-terminator nucleotides |
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