JPH09313803A - 汚染溶剤液の精製方法 - Google Patents
汚染溶剤液の精製方法Info
- Publication number
- JPH09313803A JPH09313803A JP15485396A JP15485396A JPH09313803A JP H09313803 A JPH09313803 A JP H09313803A JP 15485396 A JP15485396 A JP 15485396A JP 15485396 A JP15485396 A JP 15485396A JP H09313803 A JPH09313803 A JP H09313803A
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- Japan
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- gas
- solvent
- cooler
- contaminated solvent
- contaminated
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】汚染溶剤液の常圧以上で沸点以下での蒸留精製
方法と設備の提供。 【構成】常圧以上の圧力に密閉された系に於いて、容器
内の沸点以下の温度の汚染溶剤液と、そのガス相につな
がった汚染溶剤液の温度よりも低い温度の冷却器との間
を、ガスを循環流通させ、蒸発部ガスを冷却器にて冷却
し溶剤を凝縮させ、冷却器非凝縮ガスを汚染溶剤液の蒸
発部に循環し溶剤を蒸発させ、再び冷却器に循環させる
汚染溶剤液の精製装置と方法。
方法と設備の提供。 【構成】常圧以上の圧力に密閉された系に於いて、容器
内の沸点以下の温度の汚染溶剤液と、そのガス相につな
がった汚染溶剤液の温度よりも低い温度の冷却器との間
を、ガスを循環流通させ、蒸発部ガスを冷却器にて冷却
し溶剤を凝縮させ、冷却器非凝縮ガスを汚染溶剤液の蒸
発部に循環し溶剤を蒸発させ、再び冷却器に循環させる
汚染溶剤液の精製装置と方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、汚染物を溶剤にて洗浄
した際、発生する不純物を溶解した溶剤を精製して再利
用する技術に関するものである。
した際、発生する不純物を溶解した溶剤を精製して再利
用する技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】不純物を溶解した汚染溶剤から不純物を
含まない精製溶剤を得て再利用する方法として、従来は
汚染溶剤の沸騰点まで加熱し、汚染物との沸点差を利用
して実質的に溶剤蒸気のみをを発生させ、その溶剤蒸気
を冷却凝縮させて精製液を得る方法が一般的である。
含まない精製溶剤を得て再利用する方法として、従来は
汚染溶剤の沸騰点まで加熱し、汚染物との沸点差を利用
して実質的に溶剤蒸気のみをを発生させ、その溶剤蒸気
を冷却凝縮させて精製液を得る方法が一般的である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】汚染溶剤の沸騰点まで
加熱して精製溶剤を得る方法では、沸騰点が高い溶剤の
場合、蒸発缶の温度が高くなり、溶剤や汚染物質の分解
や、蒸留缶の腐食等の問題が発生する。このような場
合、蒸発缶の圧力を下げることによって沸騰温度を低下
させて解決するのが一般的である。しかしながら、溶剤
が可燃物質である場合、設備に漏れが発生すると設備内
に空気が流入し静電気によるスパーク等の引火源にて爆
発を起こす危険性がある。可燃性でない場合でも、真空
装置を取り扱う上での不便さが残る。
加熱して精製溶剤を得る方法では、沸騰点が高い溶剤の
場合、蒸発缶の温度が高くなり、溶剤や汚染物質の分解
や、蒸留缶の腐食等の問題が発生する。このような場
合、蒸発缶の圧力を下げることによって沸騰温度を低下
させて解決するのが一般的である。しかしながら、溶剤
が可燃物質である場合、設備に漏れが発生すると設備内
に空気が流入し静電気によるスパーク等の引火源にて爆
発を起こす危険性がある。可燃性でない場合でも、真空
装置を取り扱う上での不便さが残る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の問題点を
解決する為になされたものであり、常圧以上の圧力に密
閉された系に於いて、容器内の沸点以下の温度の汚染溶
剤液と、そのガス相につながった汚染溶剤液の温度より
も低い温度の冷却器との間を、ガスを循環流通させ、蒸
発部ガスを冷却器にて冷却し溶剤を凝縮させ、冷却器非
凝縮ガスを汚染溶剤液の蒸発部に循環し溶剤を蒸発さ
せ、再び冷却器に循環させる汚染溶剤液の精製装置と方
法を提供するものである。
解決する為になされたものであり、常圧以上の圧力に密
閉された系に於いて、容器内の沸点以下の温度の汚染溶
剤液と、そのガス相につながった汚染溶剤液の温度より
も低い温度の冷却器との間を、ガスを循環流通させ、蒸
発部ガスを冷却器にて冷却し溶剤を凝縮させ、冷却器非
凝縮ガスを汚染溶剤液の蒸発部に循環し溶剤を蒸発さ
せ、再び冷却器に循環させる汚染溶剤液の精製装置と方
法を提供するものである。
【０００５】
【作用と実施例】図１から図３は具体的実施対様例を示
す。これはあくまでも実施態様例であり、他の具体的方
法も採用可能である。以下に、例１として図１に基づい
た具体的な実施態様例に従って説明する。以下説明文中
の番号は図中番号を示す。汚染溶剤は、汚染溶剤液供給
槽６から密閉容器１の汚染溶剤蒸発部１ー１に、液面が
一定になるように供給される。蒸発部には、加熱用のヒ
ーター１ー２が設けられており、所定温度に維持されて
いる。この温度は沸点以下であり、分解等の問題が起こ
らない範囲で出来るだけ高い温度が好ましい。冷却器４
にて冷却され、凝縮液が分離された非凝縮ガスが蒸発部
に循環される。循環されたガスにて汚染溶剤中溶剤を蒸
発同伴する。循環されたガスと汚染溶剤液との接触を良
くし、溶剤の蒸発を促進するために、例えば循環ガスが
陣笠１ー３により液中に吹き込まれる。そのほか汚染溶
剤蒸発には、例えば薄膜蒸発器のような形式を用いる事
は蒸発温度を低下させる効果があり好ましい。溶剤を蒸
発同伴したガスはファン３にて冷却器に再び運ばれ、蒸
発溶剤は冷却液化される。冷却器温度は蒸発缶温度より
も低い温度で凍結等の問題を起こさない範囲で低い温度
が好ましい。冷却器出口の非凝縮ガスは再び蒸発部に吹
き込まれ循環する。冷却器にて冷却凝縮液化した凝縮液
はパイプ４ー３にて精製溶剤液槽２に回収される。循環
用ファンは冷却器の後に設置しても問題はない。装置内
のガス保有量は、装置停止時や操作の過程で各所の温度
変化等によって変化するが、連結されたガスホルダー５
のガス保有量変化によって吸収される。系内圧が高すぎ
る場合は漏れ発生時に着火し易くなるとか汚染溶剤の蒸
発温度が高くなる等で不利である。低すぎる場合は、内
部圧力変化に追随できず減圧になることが起こる。本例
の場合、系内圧力が約３０ミリメートル水柱になるよう
ガスホルダーにて調節されている。即ち、系内圧が高く
なるとガスホルダーが膨らみ、低くなると萎むように製
作されている。これは内部圧力が減圧となり、外部から
の空気の侵入によるパージガス同伴溶剤損失や、可燃物
の場合、設備の爆発を防止するためであり、また、内部
圧が高くなって、設備の破壊や、ガス等の系外漏洩を防
ぎ、溶剤の損失や、可燃物の場合、系外での燃焼を防止
するためである。勿論、取り扱う溶剤が可燃性溶剤であ
る場合は、設備内のガスをイナートガスに予め置換して
おく必要がある。内部ガスが外部に漏れ出した場合で
も、内部圧力が低いので燃焼を起こす可能性が低いが、
内部イナートガスを燃焼抑制ガス、例えば、ハロゲン化
炭化水素にに置き換えておくことは有効である。次に例
２として図２に基づき具体的な実施態様例に従って説明
する。汚染溶剤は、汚染溶剤液供給槽６から密閉容器１
の蒸発部１ー１に、液面が一定になるように供給され
る。蒸発部には、加熱用のヒーター１ー２が設けられて
おり、例１と同様、所定温度に維持される。蒸発部から
のガスは冷却器４にて例１同様所定温度に冷却され、凝
縮液が分離された非凝縮ガスがファン３によって蒸発部
の汚染溶剤液面に循環する。汚染溶剤液面に循環された
ガスにて汚染溶剤中溶剤を蒸発同伴し、冷却器に再び運
ばれ蒸発溶剤は冷却液化される。冷却器通過後の非凝縮
ガスは再び蒸発部に循環する。冷却器にて冷却凝縮液化
した凝縮液は受け樋４ー１に集められ、パイプ４ー３に
て精製溶剤液槽２に回収される。洗浄設備内の圧力は例
１と同様にガスホルダー５によって調節される。次に例
３としてファン等の強制的循環装置を用いない具体的な
実施態様例を説明する。蒸発部の汚染溶剤液面には液温
相当分圧の溶剤ガスが発生しているが、そのガスが自然
対流によって冷却器冷却面に到達し、溶剤の凝縮を起こ
し、精製溶剤を得、冷却面で凝縮しなかった非凝縮ガス
が汚染溶剤液面に到達し、再び溶剤蒸気を発生し冷却面
に循環するような装置例として図３を挙げ、具体的な実
施態様として説明する。汚染溶剤は、汚染溶剤液供給槽
６から密閉容器１の蒸発部１ー１に、液面が一定になる
ように供給される。蒸発部には、加熱用のヒーター１ー
２が設けられており、例１と同様、所定温度に維持され
ている。その液面に接近し、且つ平行して三角波型の冷
却面４ー２を持った冷却器４が設置される。汚染溶剤表
面にて発生した溶剤ガスは自然対流にて冷却面４ー２に
到達し、例１同様所定温度に冷却された冷却面にて溶剤
が凝縮液化される。凝縮されなかった非凝縮ガスは自然
対流によって汚染溶剤液表面に達し、溶剤を蒸発させ、
再び冷却器表面に循環する。この循環は、汚染溶剤表面
ガスと冷却器での非凝縮ガスとのガス密度差に起因す
る。冷却器表面にて凝縮した液は三角波型冷却面の傾斜
に沿って三角波下部頂点に流下し、凝縮溶剤液受け樋４
ー１、凝縮液取り出し用管４ー３を経て集められ精製溶
剤液槽２に回収される。洗浄設備内の圧力は例１と同様
にガスホルダー５によって調節される。
す。これはあくまでも実施態様例であり、他の具体的方
法も採用可能である。以下に、例１として図１に基づい
た具体的な実施態様例に従って説明する。以下説明文中
の番号は図中番号を示す。汚染溶剤は、汚染溶剤液供給
槽６から密閉容器１の汚染溶剤蒸発部１ー１に、液面が
一定になるように供給される。蒸発部には、加熱用のヒ
ーター１ー２が設けられており、所定温度に維持されて
いる。この温度は沸点以下であり、分解等の問題が起こ
らない範囲で出来るだけ高い温度が好ましい。冷却器４
にて冷却され、凝縮液が分離された非凝縮ガスが蒸発部
に循環される。循環されたガスにて汚染溶剤中溶剤を蒸
発同伴する。循環されたガスと汚染溶剤液との接触を良
くし、溶剤の蒸発を促進するために、例えば循環ガスが
陣笠１ー３により液中に吹き込まれる。そのほか汚染溶
剤蒸発には、例えば薄膜蒸発器のような形式を用いる事
は蒸発温度を低下させる効果があり好ましい。溶剤を蒸
発同伴したガスはファン３にて冷却器に再び運ばれ、蒸
発溶剤は冷却液化される。冷却器温度は蒸発缶温度より
も低い温度で凍結等の問題を起こさない範囲で低い温度
が好ましい。冷却器出口の非凝縮ガスは再び蒸発部に吹
き込まれ循環する。冷却器にて冷却凝縮液化した凝縮液
はパイプ４ー３にて精製溶剤液槽２に回収される。循環
用ファンは冷却器の後に設置しても問題はない。装置内
のガス保有量は、装置停止時や操作の過程で各所の温度
変化等によって変化するが、連結されたガスホルダー５
のガス保有量変化によって吸収される。系内圧が高すぎ
る場合は漏れ発生時に着火し易くなるとか汚染溶剤の蒸
発温度が高くなる等で不利である。低すぎる場合は、内
部圧力変化に追随できず減圧になることが起こる。本例
の場合、系内圧力が約３０ミリメートル水柱になるよう
ガスホルダーにて調節されている。即ち、系内圧が高く
なるとガスホルダーが膨らみ、低くなると萎むように製
作されている。これは内部圧力が減圧となり、外部から
の空気の侵入によるパージガス同伴溶剤損失や、可燃物
の場合、設備の爆発を防止するためであり、また、内部
圧が高くなって、設備の破壊や、ガス等の系外漏洩を防
ぎ、溶剤の損失や、可燃物の場合、系外での燃焼を防止
するためである。勿論、取り扱う溶剤が可燃性溶剤であ
る場合は、設備内のガスをイナートガスに予め置換して
おく必要がある。内部ガスが外部に漏れ出した場合で
も、内部圧力が低いので燃焼を起こす可能性が低いが、
内部イナートガスを燃焼抑制ガス、例えば、ハロゲン化
炭化水素にに置き換えておくことは有効である。次に例
２として図２に基づき具体的な実施態様例に従って説明
する。汚染溶剤は、汚染溶剤液供給槽６から密閉容器１
の蒸発部１ー１に、液面が一定になるように供給され
る。蒸発部には、加熱用のヒーター１ー２が設けられて
おり、例１と同様、所定温度に維持される。蒸発部から
のガスは冷却器４にて例１同様所定温度に冷却され、凝
縮液が分離された非凝縮ガスがファン３によって蒸発部
の汚染溶剤液面に循環する。汚染溶剤液面に循環された
ガスにて汚染溶剤中溶剤を蒸発同伴し、冷却器に再び運
ばれ蒸発溶剤は冷却液化される。冷却器通過後の非凝縮
ガスは再び蒸発部に循環する。冷却器にて冷却凝縮液化
した凝縮液は受け樋４ー１に集められ、パイプ４ー３に
て精製溶剤液槽２に回収される。洗浄設備内の圧力は例
１と同様にガスホルダー５によって調節される。次に例
３としてファン等の強制的循環装置を用いない具体的な
実施態様例を説明する。蒸発部の汚染溶剤液面には液温
相当分圧の溶剤ガスが発生しているが、そのガスが自然
対流によって冷却器冷却面に到達し、溶剤の凝縮を起こ
し、精製溶剤を得、冷却面で凝縮しなかった非凝縮ガス
が汚染溶剤液面に到達し、再び溶剤蒸気を発生し冷却面
に循環するような装置例として図３を挙げ、具体的な実
施態様として説明する。汚染溶剤は、汚染溶剤液供給槽
６から密閉容器１の蒸発部１ー１に、液面が一定になる
ように供給される。蒸発部には、加熱用のヒーター１ー
２が設けられており、例１と同様、所定温度に維持され
ている。その液面に接近し、且つ平行して三角波型の冷
却面４ー２を持った冷却器４が設置される。汚染溶剤表
面にて発生した溶剤ガスは自然対流にて冷却面４ー２に
到達し、例１同様所定温度に冷却された冷却面にて溶剤
が凝縮液化される。凝縮されなかった非凝縮ガスは自然
対流によって汚染溶剤液表面に達し、溶剤を蒸発させ、
再び冷却器表面に循環する。この循環は、汚染溶剤表面
ガスと冷却器での非凝縮ガスとのガス密度差に起因す
る。冷却器表面にて凝縮した液は三角波型冷却面の傾斜
に沿って三角波下部頂点に流下し、凝縮溶剤液受け樋４
ー１、凝縮液取り出し用管４ー３を経て集められ精製溶
剤液槽２に回収される。洗浄設備内の圧力は例１と同様
にガスホルダー５によって調節される。
【０００６】
【発明の効果】溶剤や汚染物質の熱分解を抑制し且つ、
装置漏れ時に装置内への空気の引き込みによる爆発の危
険性を回避し、又、高価であり、メンテナンスの厄介な
真空設備を要しない等、安全上、経済上、効果的であ
る。
装置漏れ時に装置内への空気の引き込みによる爆発の危
険性を回避し、又、高価であり、メンテナンスの厄介な
真空設備を要しない等、安全上、経済上、効果的であ
る。
【図１】本発明の実施態様例１の主要構成設備とその主
要関連を示す。
要関連を示す。
【図２】本発明の実施態様例２の主要構成設備とその主
要関連を示す。
要関連を示す。
【図３】本発明の実施態様例３の主要構成設備とその主
要関連を示す。
要関連を示す。
（１）密閉容器を示す。 （１ー１）は汚染溶剤蒸発部を示す （１ー２）は汚染溶剤蒸発部のヒーターを示す。 （１ー３）は汚染溶剤液への循環ガス分散吹き込み用陣
笠を示す （２）は精製溶剤液槽を示す （２ー１）は精製溶剤液を示す。 （３）はガス循環用ファンを示す （４）は冷却器を示す （４ー１）は凝縮溶剤液受け樋を示す。 （４ー２）は冷却器の冷却面を示す。 （４ー３）は凝縮液取り出し用管を示す。 （５）はガスホルダーを示す （６）は汚染溶剤液供給槽を示す
笠を示す （２）は精製溶剤液槽を示す （２ー１）は精製溶剤液を示す。 （３）はガス循環用ファンを示す （４）は冷却器を示す （４ー１）は凝縮溶剤液受け樋を示す。 （４ー２）は冷却器の冷却面を示す。 （４ー３）は凝縮液取り出し用管を示す。 （５）はガスホルダーを示す （６）は汚染溶剤液供給槽を示す
Claims (6)
- 【請求項１】常圧以上の圧力に密閉された系に於いて、
容器内の沸点以下の温度の汚染溶剤液と、そのガス相に
つながった汚染溶剤液の温度よりも低い温度の冷却器と
の間を、ガスを循環流通させ、蒸発部ガスを冷却器にて
冷却し溶剤を凝縮させ、冷却器非凝縮ガスを汚染溶剤液
の蒸発部に循環し溶剤を蒸発させ、再び冷却器に循環さ
せる汚染溶剤液の精製装置と方法。 - 【請求項２】密閉容器内圧力が、望ましくは、０ミリメ
ーター以上５００ミリメーター以下、更にに望ましく
は、１０ミリメーター以上１００ミリメーター以下であ
る特許請求範囲第１項の汚染溶剤液の精製方法。 - 【請求項３】保有ガス容量が変化できるガスホルダーに
連結した特許請求範囲第１項の汚染溶剤液の精製装置。 - 【請求項４】汚染溶剤液蒸発部と、冷却器との間に、フ
ァンにて強制的にガスを循環流通するようにした特許請
求範囲第１項の汚染溶剤液の精製装置と方法。 - 【請求項５】汚染溶剤液蒸発部と、冷却器との間に、ガ
ス密度差を利用してガスが循環流通するようにした特許
請求範囲第１項の汚染溶剤液の精製装置と方法。 - 【請求項６】密閉された精製装置空間部を燃焼抑制ガス
で置換しておく特許請求範囲第１項の汚染溶剤液の精製
装置と方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15485396A JPH09313803A (ja) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | 汚染溶剤液の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15485396A JPH09313803A (ja) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | 汚染溶剤液の精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09313803A true JPH09313803A (ja) | 1997-12-09 |
Family
ID=15593342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15485396A Pending JPH09313803A (ja) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | 汚染溶剤液の精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09313803A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8647582B2 (en) | 2007-12-27 | 2014-02-11 | Elcon Recycling Center (2003) Ltd. | System for safely processing a fluid via monitoring and decreasing explosiveness |
| JP2020054959A (ja) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | 前田 和幸 | 液体中の混合物分離装置 |
-
1996
- 1996-05-27 JP JP15485396A patent/JPH09313803A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8647582B2 (en) | 2007-12-27 | 2014-02-11 | Elcon Recycling Center (2003) Ltd. | System for safely processing a fluid via monitoring and decreasing explosiveness |
| US8920738B2 (en) | 2007-12-27 | 2014-12-30 | Elcon Recycling Center (2003) Ltd. | Method for safely processing a fluid via monitoring and decreasing explosiveness |
| JP2020054959A (ja) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | 前田 和幸 | 液体中の混合物分離装置 |
| WO2020071367A1 (ja) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | 前田 和幸 | 液体中の混合物分離装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20060405 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060411 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20060808 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |