JPH09311237A - 光導波路及びその作製方法 - Google Patents
光導波路及びその作製方法Info
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- JPH09311237A JPH09311237A JP9007533A JP753397A JPH09311237A JP H09311237 A JPH09311237 A JP H09311237A JP 9007533 A JP9007533 A JP 9007533A JP 753397 A JP753397 A JP 753397A JP H09311237 A JPH09311237 A JP H09311237A
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- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ピーク出力値が高いレーザを照射することに
より、ガラス材料の内部に光導波路を形成する。 【構成】 ピークパワー強度１０5 Ｗ／ｃｍ2 以上，繰
返し周波数１０ＫＨｚ以上のパルスレーザ光２をガラス
試料１に連続的に集光照射する。レーザ照射に際して
は、パルスレーザ光２の光軸方向に沿って試料１を連続
的に移動させ、或いは試料１に対してパルスレーザ光２
の集光点４を連続的に走査させることが好ましい。試料
１には透明度の高い種々のガラス等が使用され、集光点
４が光誘起屈折率変化を起こし、集光点４の軌跡が光導
波路５として試料１の内部に書き込まれる。
より、ガラス材料の内部に光導波路を形成する。 【構成】 ピークパワー強度１０5 Ｗ／ｃｍ2 以上，繰
返し周波数１０ＫＨｚ以上のパルスレーザ光２をガラス
試料１に連続的に集光照射する。レーザ照射に際して
は、パルスレーザ光２の光軸方向に沿って試料１を連続
的に移動させ、或いは試料１に対してパルスレーザ光２
の集光点４を連続的に走査させることが好ましい。試料
１には透明度の高い種々のガラス等が使用され、集光点
４が光誘起屈折率変化を起こし、集光点４の軌跡が光導
波路５として試料１の内部に書き込まれる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ照射によってガ
ラス材料の内部に屈折率変化領域が連続して形成された
光導波路及びその作製方法に関する。
ラス材料の内部に屈折率変化領域が連続して形成された
光導波路及びその作製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光通信等において使用される光導波路
は、イオン交換法，火炎加水分解法等でガラス等のガラ
ス材料の内部に形成されている。イオン交換法では、金
属膜のスリット状開口からガラス基板表面層にＡｇ+ イ
オンを熱的に侵入させ、ガラス中のＮａ+ イオンとＡｇ
+ イオンを交換する第１段のイオン交換により表面層に
導波路を形成した後、ガラス基板に均一な電界を印加し
溶融塩中のＮａ+ イオンをガラス表面に侵入させる。Ｎ
ａ+ イオンは、Ａｇ+ イオンが形成した最表面の高屈折
領域を表面下に移動させる。その結果、導波路がガラス
表面下に埋め込まれ、低伝播損失特性が確保される。こ
の方法で作成された光導波路のコアは、径１０〜２００
μｍの半円形又はほぼ円形の断面をもち、１％前後の比
屈折率差をもつものが多い。
は、イオン交換法，火炎加水分解法等でガラス等のガラ
ス材料の内部に形成されている。イオン交換法では、金
属膜のスリット状開口からガラス基板表面層にＡｇ+ イ
オンを熱的に侵入させ、ガラス中のＮａ+ イオンとＡｇ
+ イオンを交換する第１段のイオン交換により表面層に
導波路を形成した後、ガラス基板に均一な電界を印加し
溶融塩中のＮａ+ イオンをガラス表面に侵入させる。Ｎ
ａ+ イオンは、Ａｇ+ イオンが形成した最表面の高屈折
領域を表面下に移動させる。その結果、導波路がガラス
表面下に埋め込まれ、低伝播損失特性が確保される。こ
の方法で作成された光導波路のコアは、径１０〜２００
μｍの半円形又はほぼ円形の断面をもち、１％前後の比
屈折率差をもつものが多い。
【０００３】火炎加水分解法では、四塩化シリコンと四
塩化ゲルマニウムの火炎加水分解によりシリコン基板の
表面に下クラッド用及びコア用の二層のガラス微粒子層
を堆積させ、高温加熱により微粒子層を透明ガラス層に
改質する。次いで、フォトリトグラフィ及び反応性エッ
チングにより回路パターンをもつコア部を形成する。こ
の方法で作成された光導波路は、膜厚が数μｍと薄い。
塩化ゲルマニウムの火炎加水分解によりシリコン基板の
表面に下クラッド用及びコア用の二層のガラス微粒子層
を堆積させ、高温加熱により微粒子層を透明ガラス層に
改質する。次いで、フォトリトグラフィ及び反応性エッ
チングにより回路パターンをもつコア部を形成する。こ
の方法で作成された光導波路は、膜厚が数μｍと薄い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】イオン交換法では、屈
折率分布をイオン交換により調整しているため、形成さ
れた導波路構造がガラス表面に近い部分に限られる。導
波路が作成可能なガラスも、イオン交換が可能な材料に
限られる。また、イオン交換に長時間を要することか
ら、生産性も低い。他方、火炎加水分解法は、導波路の
作成工程が複雑であり、使用可能な材料も石英を主成分
とするガラス組成に限られる。更には、基板表面に堆積
した微粒子をガラス層に改質するため、円形の断面をも
つ光導波路の作成が困難である。
折率分布をイオン交換により調整しているため、形成さ
れた導波路構造がガラス表面に近い部分に限られる。導
波路が作成可能なガラスも、イオン交換が可能な材料に
限られる。また、イオン交換に長時間を要することか
ら、生産性も低い。他方、火炎加水分解法は、導波路の
作成工程が複雑であり、使用可能な材料も石英を主成分
とするガラス組成に限られる。更には、基板表面に堆積
した微粒子をガラス層に改質するため、円形の断面をも
つ光導波路の作成が困難である。
【０００５】更に、イオン交換法又は火炎加水分解法で
は、同一基板上に種々の二次元的パターンをもつ光導波
路を形成できるものの、三次元的に組み合わされた光導
波路を形成することは困難である。そのため、光導波回
路等として使用されるときに制約を受け、複雑な回路構
成をもつ用途に適用できない。本発明は、このような問
題を解消すべく案出されたものであり、ガラス材料の内
部に集光させたレーザ光の集光点を相対的に移動させる
ことにより、屈折率変化をもたらす構造変化をガラス材
料の内部に起こさせ、光導波路を形成することを目的と
する。
は、同一基板上に種々の二次元的パターンをもつ光導波
路を形成できるものの、三次元的に組み合わされた光導
波路を形成することは困難である。そのため、光導波回
路等として使用されるときに制約を受け、複雑な回路構
成をもつ用途に適用できない。本発明は、このような問
題を解消すべく案出されたものであり、ガラス材料の内
部に集光させたレーザ光の集光点を相対的に移動させる
ことにより、屈折率変化をもたらす構造変化をガラス材
料の内部に起こさせ、光導波路を形成することを目的と
する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の光導波路は、そ
の目的を達成するため、レーザ光の集光照射により屈折
率が変化した部分がガラス材料の内部に連続して形成さ
れていることを特徴とする。ガラス材料には、ハロゲン
化物ガラス，硫化物ガラス，カルコゲナイドガラス等が
使用される。酸化物ガラスにはケイ酸塩系，硼酸塩系，
燐酸塩系，弗燐酸塩系，ビスマス系等があり、ハロゲン
化物ガラスにはＢｅＦ2 系，ＺｒＦ4 系，ＩｎＦ3 系，
Ｃｄ−Ｚｎ−Ｃｌ系等があり、硫化物ガラスにはＧａ−
Ｌａ−Ｓ系等があり、カルコゲナイドガラスにはＳｅ−
Ａｓ系等がある。
の目的を達成するため、レーザ光の集光照射により屈折
率が変化した部分がガラス材料の内部に連続して形成さ
れていることを特徴とする。ガラス材料には、ハロゲン
化物ガラス，硫化物ガラス，カルコゲナイドガラス等が
使用される。酸化物ガラスにはケイ酸塩系，硼酸塩系，
燐酸塩系，弗燐酸塩系，ビスマス系等があり、ハロゲン
化物ガラスにはＢｅＦ2 系，ＺｒＦ4 系，ＩｎＦ3 系，
Ｃｄ−Ｚｎ−Ｃｌ系等があり、硫化物ガラスにはＧａ−
Ｌａ−Ｓ系等があり、カルコゲナイドガラスにはＳｅ−
Ａｓ系等がある。
【０００７】この光導波路は、光誘起屈折率変化を起こ
すエネルギー量をもつレーザ光をガラス材料の内部に集
光し、ガラス材料の内部で集光点を相対移動させ、連続
した屈折率変化領域をガラス材料の内部に形成すること
により製造される。レーザ光としては、ガラスの種類に
よっても異なるが、光誘起屈折率変化を起こすために
は、集光点における１０5 Ｗ／ｃｍ2 以上のピークパワ
ー強度をもつことが好ましい。ピークパワー強度は、１
パルス当りの出力エネルギー（Ｊ）／パルス幅（秒）の
比で表されるピーク出力（Ｗ）を照射単位面積当りで表
した値である。ピークパワー強度が１０5 Ｗ／ｃｍ2 に
満たないと有効な光誘起屈折率変化が起こらず、光導波
路が形成されない。ピークパワー強度が高いほど光誘起
屈折率変化が促進され、光導波路が容易に形成される。
しかし、過度に大きなエネルギー量のレーザ光を実用的
に得ることは困難である。そこで、パルス幅を狭くする
ことによりピーク出力を高くしたパルスレーザの使用が
好ましい。ガラス材料の内部に形成される導波路を滑ら
かな構造にするためには、パルスレーザの繰返し周波数
を１０ＫＨｚ以上に設定する。
すエネルギー量をもつレーザ光をガラス材料の内部に集
光し、ガラス材料の内部で集光点を相対移動させ、連続
した屈折率変化領域をガラス材料の内部に形成すること
により製造される。レーザ光としては、ガラスの種類に
よっても異なるが、光誘起屈折率変化を起こすために
は、集光点における１０5 Ｗ／ｃｍ2 以上のピークパワ
ー強度をもつことが好ましい。ピークパワー強度は、１
パルス当りの出力エネルギー（Ｊ）／パルス幅（秒）の
比で表されるピーク出力（Ｗ）を照射単位面積当りで表
した値である。ピークパワー強度が１０5 Ｗ／ｃｍ2 に
満たないと有効な光誘起屈折率変化が起こらず、光導波
路が形成されない。ピークパワー強度が高いほど光誘起
屈折率変化が促進され、光導波路が容易に形成される。
しかし、過度に大きなエネルギー量のレーザ光を実用的
に得ることは困難である。そこで、パルス幅を狭くする
ことによりピーク出力を高くしたパルスレーザの使用が
好ましい。ガラス材料の内部に形成される導波路を滑ら
かな構造にするためには、パルスレーザの繰返し周波数
を１０ＫＨｚ以上に設定する。
【０００８】レーザ光は、レンズ等の集光装置により集
光される。このとき、ガラス材料の内部に位置するよう
に集光点を調節する。この集光点をガラス材料の内部で
相対移動させることにより、光導波路として働く連続し
た屈折率変化領域がガラス材料の内部に形成される。具
体的には、レーザ光の集光点に対しガラス材料を連続的
に移動させ、或いはガラス材料の内部でレーザ光の集光
点を連続的に移動させることにより、集光点を相対移動
させる。
光される。このとき、ガラス材料の内部に位置するよう
に集光点を調節する。この集光点をガラス材料の内部で
相対移動させることにより、光導波路として働く連続し
た屈折率変化領域がガラス材料の内部に形成される。具
体的には、レーザ光の集光点に対しガラス材料を連続的
に移動させ、或いはガラス材料の内部でレーザ光の集光
点を連続的に移動させることにより、集光点を相対移動
させる。
【０００９】
【作用】パルスレーザの照射によって屈折率が変化する
現象は、光誘起屈折率変化と呼ばれており、Ｐ，Ｃｅ，
Ｇｅ等を添加したシリカガラスの例が知られている。こ
の現象は、紫外域に固有吸収をもつ酸素欠陥がガラス中
に存在しており、吸収波長のレーザ光を照射することに
よって酸素欠陥の一部が構造変化することに起因すると
考えられており、発振波長が紫外域にあるエキシマレー
ザでの研究が進められている。しかし、この方法で使用
されるレーザ光は、１０ＫＨｚ未満の低い繰返し周波数
をもち、照射部分に十分なエネルギーを与えることがで
きない。そのため、屈折率変化領域の形状がスポット的
になり、連続的な屈折率変化を必要とする光導波路を形
成するまでには至らない。また、平均出力が一定の状態
で、強制的に繰返し周波数を大きくした場合、パルス当
りのエネルギーが低くなり、屈折率変化を誘起させるこ
と自体が困難になる。
現象は、光誘起屈折率変化と呼ばれており、Ｐ，Ｃｅ，
Ｇｅ等を添加したシリカガラスの例が知られている。こ
の現象は、紫外域に固有吸収をもつ酸素欠陥がガラス中
に存在しており、吸収波長のレーザ光を照射することに
よって酸素欠陥の一部が構造変化することに起因すると
考えられており、発振波長が紫外域にあるエキシマレー
ザでの研究が進められている。しかし、この方法で使用
されるレーザ光は、１０ＫＨｚ未満の低い繰返し周波数
をもち、照射部分に十分なエネルギーを与えることがで
きない。そのため、屈折率変化領域の形状がスポット的
になり、連続的な屈折率変化を必要とする光導波路を形
成するまでには至らない。また、平均出力が一定の状態
で、強制的に繰返し周波数を大きくした場合、パルス当
りのエネルギーが低くなり、屈折率変化を誘起させるこ
と自体が困難になる。
【００１０】これに対し、パルス幅を狭くすることで高
いピーク出力が得られると、１０ＫＨｚ以上の繰返し周
波数をもつパルスレーザにおいても、ガラス組成に関係
なく、レーザ光の集光点で屈折率が変化する現象を確認
した。この条件下では、ガラスの固有吸収波長以外の波
長をもつパルスレーザであっても、同様に集光点におい
てガラスの光誘起屈折率を変化させる現象が発生する。
また、ガラスの固有吸収波長に一致する波長をもつパル
スレーザであっても、吸収が弱く、集光点における１０
5 Ｗ／ｃｍ2 以上のピークパワー強度が確保されると光
誘起屈折率変化が生じる。屈折率が変化する現象は、発
生メカニズムが不明であるが、光導波路の作製に有効に
利用される。また、繰返し周期が速いことから、ガラス
材料を連続的に走査することにより、集光部分の軌跡に
連続的な屈折率変化領域を形成できる。この屈折率変化
領域は、当初のガラスの屈折率より高いことから光導波
路として利用される。
いピーク出力が得られると、１０ＫＨｚ以上の繰返し周
波数をもつパルスレーザにおいても、ガラス組成に関係
なく、レーザ光の集光点で屈折率が変化する現象を確認
した。この条件下では、ガラスの固有吸収波長以外の波
長をもつパルスレーザであっても、同様に集光点におい
てガラスの光誘起屈折率を変化させる現象が発生する。
また、ガラスの固有吸収波長に一致する波長をもつパル
スレーザであっても、吸収が弱く、集光点における１０
5 Ｗ／ｃｍ2 以上のピークパワー強度が確保されると光
誘起屈折率変化が生じる。屈折率が変化する現象は、発
生メカニズムが不明であるが、光導波路の作製に有効に
利用される。また、繰返し周期が速いことから、ガラス
材料を連続的に走査することにより、集光部分の軌跡に
連続的な屈折率変化領域を形成できる。この屈折率変化
領域は、当初のガラスの屈折率より高いことから光導波
路として利用される。
【００１１】滑らかな導波路構造を形成させる上では、
パルス間隔を狭く、換言すれば繰返し周期を速くし、第
１パルスと第２パルスが可能な限り同時に照射される必
要がある。このことから、本発明ではパルスレーザの繰
返し周波数を１０ＫＨｚ，好ましくは１００ＫＨｚ以上
に設定する。繰返し周波数が小さいとレーザ光が離散的
に照射され、導波路の形成に必要な連続的な屈折率変化
が得られない。なお、ガラス材料又はレーザ光の集光点
の走査速度を遅くすることにより、ガラス材料に対して
連続的にレーザ光を照射できる。しかし、この場合は第
１パルス照射後に一定の時間をおいて第２パルスが重な
った状態で照射されるため、第１パルスで形成された屈
折率変化が第２パルスにより再変化を起こし、十分な屈
折率変化が得られない。上限は、繰返し周波数が無限大
の限りなく連続レーザに近いものである。しかし、繰返
し周波数を大きくすると、一般に１パルス当りのエネル
ギーが弱くなる。そのため、実際にはガラス材料が屈折
率変化を起こす閾値と、使用するレーザの出力によって
繰返し周波数の上限が設定される。
パルス間隔を狭く、換言すれば繰返し周期を速くし、第
１パルスと第２パルスが可能な限り同時に照射される必
要がある。このことから、本発明ではパルスレーザの繰
返し周波数を１０ＫＨｚ，好ましくは１００ＫＨｚ以上
に設定する。繰返し周波数が小さいとレーザ光が離散的
に照射され、導波路の形成に必要な連続的な屈折率変化
が得られない。なお、ガラス材料又はレーザ光の集光点
の走査速度を遅くすることにより、ガラス材料に対して
連続的にレーザ光を照射できる。しかし、この場合は第
１パルス照射後に一定の時間をおいて第２パルスが重な
った状態で照射されるため、第１パルスで形成された屈
折率変化が第２パルスにより再変化を起こし、十分な屈
折率変化が得られない。上限は、繰返し周波数が無限大
の限りなく連続レーザに近いものである。しかし、繰返
し周波数を大きくすると、一般に１パルス当りのエネル
ギーが弱くなる。そのため、実際にはガラス材料が屈折
率変化を起こす閾値と、使用するレーザの出力によって
繰返し周波数の上限が設定される。
【００１２】
実施例１： ＳｉＯ2 ：９５重量％，ＧｅＯ2 ：５重量％の組成をも
つ石英ガラスから、１０ｍｍ×１０ｍｍ×５ｍｍの立方
体形状の試料１を切り出した。この試料に、図１（ａ）
に示すようにパルスレーザ光２をレンズ３で集光して照
射した。パルスレーザ光２としては、アルゴンレーザ励
起のＴｉ：Ａｌ2 Ｏ3 レーザから発振されたパルス幅１
５０フェムト秒，繰返し周波数２００ＫＨｚ，波長８０
０ｎｍ，平均出力６００ｍＷのレーザを使用した。パル
スレーザ光２をレンズ３で集光し、試料１の内部に集光
点４が生じるように照射させると、集光点４の屈折率が
０．０２上昇した。屈折率の変化は、ナノ秒又はピコ秒
オーダの極短時間で生じた。そこで、ガラス又は集光部
分を連続的に移動し、図１（ｂ）に示すように試料１の
内部に直線状の屈折率が高い領域、すなわち光導波路５
を形成した。
つ石英ガラスから、１０ｍｍ×１０ｍｍ×５ｍｍの立方
体形状の試料１を切り出した。この試料に、図１（ａ）
に示すようにパルスレーザ光２をレンズ３で集光して照
射した。パルスレーザ光２としては、アルゴンレーザ励
起のＴｉ：Ａｌ2 Ｏ3 レーザから発振されたパルス幅１
５０フェムト秒，繰返し周波数２００ＫＨｚ，波長８０
０ｎｍ，平均出力６００ｍＷのレーザを使用した。パル
スレーザ光２をレンズ３で集光し、試料１の内部に集光
点４が生じるように照射させると、集光点４の屈折率が
０．０２上昇した。屈折率の変化は、ナノ秒又はピコ秒
オーダの極短時間で生じた。そこで、ガラス又は集光部
分を連続的に移動し、図１（ｂ）に示すように試料１の
内部に直線状の屈折率が高い領域、すなわち光導波路５
を形成した。
【００１３】光導波路が形成されていることは、実際に
可視光を試料に入射し、屈折率変化を起こしている部分
のみに光が伝達されていることで確認した。また、出射
側の近視野像から光導波路の断面が直径２０μｍの円形
であることが判った。実施例１においてはＧｅドープし
たシリカガラスを使用した例を説明したが、高純度のシ
リカガラス，リン酸塩ガラス，ホウ酸塩ガラス，フッ化
物ガラス，塩化物ガラス，硫化物ガラス等の他のガラス
においても同様にレーザ照射によって光導波路が形成さ
れた。得られた光導波路は、コアとクラッドとの間に明
確な界面が存在しないことから界面損失が極めて少な
く、光集積回路等における微細な導波路形成法としての
活用が期待される。
可視光を試料に入射し、屈折率変化を起こしている部分
のみに光が伝達されていることで確認した。また、出射
側の近視野像から光導波路の断面が直径２０μｍの円形
であることが判った。実施例１においてはＧｅドープし
たシリカガラスを使用した例を説明したが、高純度のシ
リカガラス，リン酸塩ガラス，ホウ酸塩ガラス，フッ化
物ガラス，塩化物ガラス，硫化物ガラス等の他のガラス
においても同様にレーザ照射によって光導波路が形成さ
れた。得られた光導波路は、コアとクラッドとの間に明
確な界面が存在しないことから界面損失が極めて少な
く、光集積回路等における微細な導波路形成法としての
活用が期待される。
【００１４】実施例２： ＺｒＦ4 ：５０モル％，ＬａＦ3 ：５モル％，ＡｌＦ
3 ：５モル％，ＢａＦ2：２０モル％，ＮａＦ：２０モ
ル％の組成をもち、２０ｍｍ×２０ｍｍ×５ｍｍの立方
体形状をもつフッ化物ガラスを試料１として使用した。
試料１の内部に焦点４を結ぶ（図２ａ）ように、パルス
幅１２０フェムト秒，繰返し周波数５０ＫＨｚ，波長１
μｍ，平均出力１５０ｍＷのパルスレーザ光２を集光照
射した。集光点４を円弧状に移動させたところ、図２
（ｂ）に示すように周囲とは明確に異なるラインが集光
点４の軌跡に沿って試料１の内部に形成さていることが
光学顕微鏡による観察で確認された。形成されたライ
ン、すなわち光導波路５は、直径１２μｍの円形断面を
もっていた。
3 ：５モル％，ＢａＦ2：２０モル％，ＮａＦ：２０モ
ル％の組成をもち、２０ｍｍ×２０ｍｍ×５ｍｍの立方
体形状をもつフッ化物ガラスを試料１として使用した。
試料１の内部に焦点４を結ぶ（図２ａ）ように、パルス
幅１２０フェムト秒，繰返し周波数５０ＫＨｚ，波長１
μｍ，平均出力１５０ｍＷのパルスレーザ光２を集光照
射した。集光点４を円弧状に移動させたところ、図２
（ｂ）に示すように周囲とは明確に異なるラインが集光
点４の軌跡に沿って試料１の内部に形成さていることが
光学顕微鏡による観察で確認された。形成されたライ
ン、すなわち光導波路５は、直径１２μｍの円形断面を
もっていた。
【００１５】光導波路５の一端面からＨｅ−Ｎｅレーザ
光を入射したところ、光導波路５の他端面からレーザ光
が出射されることを近視野像の光強度分布で確認し、レ
ーザ照射によって形成されたラインが周囲に比較して屈
折率が高く、光導波構造になっていることが判った。ま
た、光導波路５に繰返しレーザ光を集光照射すると、光
導波路５の端面から出射される光強度も増加し、レーザ
照射の繰返しにより屈折率変化も増大することが確認さ
れた。また、パルス幅及び繰返し周波数を一定に保ち、
レーザ光の波長を４００ｎｍから２μｍまで変化させな
がらフッ化物ガラスに照射し、光導波路を形成した。こ
の場合も、光出射端面の近視野像の光強度分布から、同
様な光導波路がガラス内部に形成されていることが判っ
た。
光を入射したところ、光導波路５の他端面からレーザ光
が出射されることを近視野像の光強度分布で確認し、レ
ーザ照射によって形成されたラインが周囲に比較して屈
折率が高く、光導波構造になっていることが判った。ま
た、光導波路５に繰返しレーザ光を集光照射すると、光
導波路５の端面から出射される光強度も増加し、レーザ
照射の繰返しにより屈折率変化も増大することが確認さ
れた。また、パルス幅及び繰返し周波数を一定に保ち、
レーザ光の波長を４００ｎｍから２μｍまで変化させな
がらフッ化物ガラスに照射し、光導波路を形成した。こ
の場合も、光出射端面の近視野像の光強度分布から、同
様な光導波路がガラス内部に形成されていることが判っ
た。
【００１６】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明において
は、ピーク出力値が高いパルスレーザをガラス等のガラ
ス材料に照射し、集光点の屈折率を変化させることによ
り、ガラス材料の内部に光導波路を書き込んでいる。こ
の方法は、複雑な工程を経ることなく、しかも簡単に光
導波路を形成できる利点をもっている。また、パルスレ
ーザの光軸方向に対するガラス材料の走査方向、或いは
ガラス材料に対する集光点の移動方向を変えることで光
導波路の形状も任意に制御でき、複雑な回路構造をもつ
光集積回路等に適した三次元的な光導波路も容易に作製
される。
は、ピーク出力値が高いパルスレーザをガラス等のガラ
ス材料に照射し、集光点の屈折率を変化させることによ
り、ガラス材料の内部に光導波路を書き込んでいる。こ
の方法は、複雑な工程を経ることなく、しかも簡単に光
導波路を形成できる利点をもっている。また、パルスレ
ーザの光軸方向に対するガラス材料の走査方向、或いは
ガラス材料に対する集光点の移動方向を変えることで光
導波路の形状も任意に制御でき、複雑な回路構造をもつ
光集積回路等に適した三次元的な光導波路も容易に作製
される。
【図１】 石英ガラスにパルスレーザ光を照射し
（ａ）、ガラス内部に作成した光導波路（ｂ）
（ａ）、ガラス内部に作成した光導波路（ｂ）
【図２】 フッ化物ガラスにパルスレーザ光を照射し
（ａ）、ガラス内部に作成した光導波路（ｂ） １：ガラス試料 ２：パルスレーザ光 ３：集光レ
ンズ ４：集光点 ５：光導波路
（ａ）、ガラス内部に作成した光導波路（ｂ） １：ガラス試料 ２：パルスレーザ光 ３：集光レ
ンズ ４：集光点 ５：光導波路
【手続補正書】
【提出日】平成９年１月２３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】滑らかな導波路構造を形成させる上では、
パルス間隔を狭く、換言すれば繰返し周期を速くし、第
１パルスと第２パルスが可能な限り同時に照射される必
要がある。このことから、本発明ではパルスレーザの繰
返し周波数を１０ＫＨｚ，好ましくは１００ＫＨｚ以上
に設定する。繰返し周波数が小さいとレーザ光が離散的
に照射され、導波路の形成に必要な連続的な屈折率変化
が得られない。なお、ガラス材料又はレーザ光の集光点
の走査速度を遅くすることにより、ガラス材料に対して
連続的にレーザ光を照射できる。しかし、この場合は第
１パルス照射後に一定の時間をおいて第２パルスが重な
った状態で照射されるため、第１パルスで形成された屈
折率変化が第２パルスにより再変化を起こし、十分な屈
折率変化が得られない。上限は、繰返し周波数が無限大
の限りなく連続レーザに近いものである。しかし、繰返
し周波数を大きくすると、一般に１パルス当りのエネル
ギーが弱くなる。そのため、実際にはガラス材料が屈折
率変化を起こす閾値と、使用するレーザの出力によって
繰返し周波数の上限が設定される。光導波路のコア径
は、照射するパルスレーザのパワーや集光スポット径を
変えることにより制御可能である。パルスレーザのパワ
ー又は集光スポット径が大きくなるほど、コア径も大き
くなる。また、パルスレーザの走査回数によってコア部
分の屈折率の変化量を制御することでき、走査回数を多
くするほど、コア径一定のままで屈折率の変化量を大き
くすることができる。
パルス間隔を狭く、換言すれば繰返し周期を速くし、第
１パルスと第２パルスが可能な限り同時に照射される必
要がある。このことから、本発明ではパルスレーザの繰
返し周波数を１０ＫＨｚ，好ましくは１００ＫＨｚ以上
に設定する。繰返し周波数が小さいとレーザ光が離散的
に照射され、導波路の形成に必要な連続的な屈折率変化
が得られない。なお、ガラス材料又はレーザ光の集光点
の走査速度を遅くすることにより、ガラス材料に対して
連続的にレーザ光を照射できる。しかし、この場合は第
１パルス照射後に一定の時間をおいて第２パルスが重な
った状態で照射されるため、第１パルスで形成された屈
折率変化が第２パルスにより再変化を起こし、十分な屈
折率変化が得られない。上限は、繰返し周波数が無限大
の限りなく連続レーザに近いものである。しかし、繰返
し周波数を大きくすると、一般に１パルス当りのエネル
ギーが弱くなる。そのため、実際にはガラス材料が屈折
率変化を起こす閾値と、使用するレーザの出力によって
繰返し周波数の上限が設定される。光導波路のコア径
は、照射するパルスレーザのパワーや集光スポット径を
変えることにより制御可能である。パルスレーザのパワ
ー又は集光スポット径が大きくなるほど、コア径も大き
くなる。また、パルスレーザの走査回数によってコア部
分の屈折率の変化量を制御することでき、走査回数を多
くするほど、コア径一定のままで屈折率の変化量を大き
くすることができる。
Claims (8)
- 【請求項１】 レーザ光の集光照射により屈折率が変化
した部分がガラス材料の内部に連続して形成されている
光導波路。 - 【請求項２】 ガラス材料が酸化物ガラス，ハロゲン化
物ガラス，硫化物ガラス又はカルコゲナイドガラスであ
る請求項１記載の光導波路。 - 【請求項３】 光誘起屈折率変化を起こすエネルギー量
をもつレーザ光をガラス材料の内部に集光し、ガラス材
料の内部で集光点を相対移動させ、連続した屈折率変化
領域をガラス材料の内部に形成する光導波路の作製方
法。 - 【請求項４】 集光点におけるピークパワー強度が１０
5 Ｗ／ｃｍ2 以上のレーザ光を使用する請求項３記載の
光導波路の作製方法。 - 【請求項５】 繰返し周波数１０ＫＨｚ以上のパルスレ
ーザ光を使用する請求項３又は４記載の光導波路の作製
方法。 - 【請求項６】 ガラス材料として酸化物ガラス，ハロゲ
ン化物ガラス，硫化物ガラス又はカルコゲナイドガラス
を使用する請求項３〜５の何れかに記載の光導波路の作
製方法。 - 【請求項７】 レーザ光の集光点に対しガラス材料を連
続的に移動させる請求項３〜６の何れかに記載の光導波
路の作製方法。 - 【請求項８】 ガラス材料の内部でレーザ光の集光点を
連続的に移動させる請求項３〜６の何れかに記載の光導
波路の作製方法。
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| US08/819,521 US5978538A (en) | 1996-03-18 | 1997-03-17 | Optical device and formation of optical waveguide using light-induced effect on refractive index |
| CA002200155A CA2200155C (en) | 1996-03-18 | 1997-03-17 | Formation of optical waveguide using high repetition rate irradiation to induce refractive index change |
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| CA (1) | CA2200155C (ja) |
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Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999041625A1 (fr) * | 1998-02-12 | 1999-08-19 | Japan Science And Technology Corporation | Reseau de guide d'onde optique et procede de fabrication |
| JP2001311847A (ja) * | 2000-02-22 | 2001-11-09 | Nec Corp | 屈折率の修正方法、屈折率の修正装置、及び光導波路デバイス |
| JP2003043275A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Fujikura Ltd | 光合分波器及び光合分波器の製造方法 |
| US6772514B2 (en) | 2000-06-12 | 2004-08-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of machining glass substrate and method fabricating high-frequency circuit |
| DE10304382A1 (de) * | 2003-02-03 | 2004-08-12 | Schott Glas | Photostrukturierbarer Körper sowie Verfahren zur Bearbeitung eines Glases und/oder einer Glaskeramik |
| US6945078B2 (en) | 2002-08-27 | 2005-09-20 | Fujikura Ltd. | Optical waveguide in the interior of silica glass and method of forming optical waveguide |
| US6977137B2 (en) | 1999-07-29 | 2005-12-20 | Corning Incorporated | Direct writing of optical devices in silica-based glass using femtosecond pulse lasers |
| US7046881B2 (en) | 2001-07-30 | 2006-05-16 | Fujikura, Ltd. | Manufacturing method for optical coupler/splitter and method for adjusting optical characteristics of planar lightwave circuit device |
| JP2006276892A (ja) * | 2006-07-07 | 2006-10-12 | Mitsubishi Electric Corp | 光路変換コネクタの製造方法 |
| US7257294B2 (en) | 2004-03-26 | 2007-08-14 | Keio University | Method for processing transparent material, apparatus for processing the same and optical function device |
| US7405883B2 (en) | 2004-12-03 | 2008-07-29 | Ohara Inc. | Optical component and method of manufacture of optical component |
| WO2009013920A1 (ja) * | 2007-07-24 | 2009-01-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| DE102009006400A1 (de) | 2008-02-08 | 2009-08-13 | Ohara Inc., Sagamihara | Glaselement für optische Teile und dafür verwendete Glaszusammensetzung |
| JP2009223339A (ja) * | 2009-07-06 | 2009-10-01 | Mitsubishi Electric Corp | 光路変換コネクタ、およびその製造方法、並びに光路変換コネクタを具備する回路基板 |
| JP2011073934A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Ohara Inc | 光学部品用ガラス部材、光学部品の製造方法及び光学部品用ガラス組成物 |
| JP2018136550A (ja) * | 2011-06-27 | 2018-08-30 | 学校法人慶應義塾 | 光導波路 |
| WO2019138821A1 (ja) * | 2018-01-11 | 2019-07-18 | 住友電気工業株式会社 | 光デバイスおよび光デバイスの製造方法 |
| WO2019163014A1 (ja) * | 2018-02-21 | 2019-08-29 | オリンパス株式会社 | 内視鏡用光モジュール、内視鏡、および内視鏡用光モジュールの製造方法 |
| US11256042B2 (en) | 2018-04-03 | 2022-02-22 | Corning Research & Development Corporation | Waveguide substrates and waveguide substrate assemblies having waveguide routing schemes and methods for fabricating the same |
| JP2022519173A (ja) * | 2019-01-15 | 2022-03-22 | オーエフエス ファイテル，エルエルシー | 光誘起光相互接続 |
| US11372169B2 (en) | 2018-04-03 | 2022-06-28 | Corning Research & Development Corporation | Waveguide substrates and waveguide substrate connector assemblies having waveguides and alignment features and methods of fabricating the same |
| US11609395B2 (en) | 2021-01-11 | 2023-03-21 | Corning Research & Development Corporation | Waveguide substrates and assemblies including the same |
Families Citing this family (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6392683B1 (en) | 1997-09-26 | 2002-05-21 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Method for making marks in a transparent material by using a laser |
| JPH11197498A (ja) * | 1998-01-13 | 1999-07-27 | Japan Science & Technology Corp | 無機材料内部の選択的改質方法及び内部が選択的に改質された無機材料 |
| RU2150135C1 (ru) * | 1999-06-07 | 2000-05-27 | Институт прикладной физики РАН | Способ изготовления одномодового светопроводящего канала в прозрачном диэлектрике путем модификации структуры диэлектрика |
| US6573026B1 (en) * | 1999-07-29 | 2003-06-03 | Corning Incorporated | Femtosecond laser writing of glass, including borosilicate, sulfide, and lead glasses |
| EP1204977A4 (en) * | 1999-07-29 | 2003-08-13 | Corning Inc | DIRECTLY WRITING OPTICAL DEVICES MADE FROM SILICON-BASED GLASS USING FEMTOSE CUSTOMER LASER PULSES |
| AU7989300A (en) * | 1999-09-30 | 2001-04-30 | Corning Incorporated | Deep uv laser internally induced densification in silica glasses |
| US6796148B1 (en) * | 1999-09-30 | 2004-09-28 | Corning Incorporated | Deep UV laser internally induced densification in silica glasses |
| US7568365B2 (en) | 2001-05-04 | 2009-08-04 | President & Fellows Of Harvard College | Method and apparatus for micromachining bulk transparent materials using localized heating by nonlinearly absorbed laser radiation, and devices fabricated thereby |
| US6853785B2 (en) * | 2001-12-14 | 2005-02-08 | 3M Innovative Properties Co. | Index modulation in glass using a femtosecond laser |
| US6950591B2 (en) * | 2002-05-16 | 2005-09-27 | Corning Incorporated | Laser-written cladding for waveguide formations in glass |
| US6941052B2 (en) * | 2002-12-19 | 2005-09-06 | 3M Innovative Properties Company | Sensitized optical fiber method and article |
| US7689087B2 (en) * | 2003-03-21 | 2010-03-30 | Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Industry, Through The Communications Research Centre Canada | Method of changing the birefringence of an optical waveguide by laser modification of the cladding |
| CA2436499C (en) * | 2003-03-21 | 2012-04-17 | Her Majesty In Right Of Canada As Represented By The Minister Of Industry | Bragg grating and method of producing a bragg grating using an ultrafast laser |
| US7515792B2 (en) * | 2003-03-21 | 2009-04-07 | Her Majesty The Queen In Right Of Canada As Represented By The Minister Of Industry, Through The Communications Research Centre Canada | Method of increasing photosensitivity of glasses to ultrafast infrared laser radiation using hydrogen or deuterium |
| US7031571B2 (en) | 2003-03-21 | 2006-04-18 | Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Industry Through The Communications Research Centre Canada | Bragg grating and method of producing a Bragg grating using an ultrafast laser |
| US7486705B2 (en) | 2004-03-31 | 2009-02-03 | Imra America, Inc. | Femtosecond laser processing system with process parameters, controls and feedback |
| US7684450B2 (en) | 2004-12-20 | 2010-03-23 | Imra America, Inc. | Pulsed laser source with adjustable grating compressor |
| US8629610B2 (en) | 2006-01-12 | 2014-01-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Display panel |
| US8547008B2 (en) | 2006-01-12 | 2013-10-01 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Material having laser induced light redirecting features |
| US8078023B2 (en) * | 2006-09-28 | 2011-12-13 | Universite Laval | System and method for permanently writing a diffraction grating in a low phonon energy glass medium |
| US8180185B2 (en) * | 2007-03-22 | 2012-05-15 | General Electric Company | Fiber optic sensor for detecting multiple parameters in a harsh environment |
| KR20100014893A (ko) * | 2007-04-09 | 2010-02-11 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 위상차판 및 그 제조 방법 |
| US8272236B2 (en) * | 2008-06-18 | 2012-09-25 | Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Industry, Through The Communications Research Centre Canada | High temperature stable fiber grating sensor and method for producing same |
| US10474002B2 (en) | 2015-06-25 | 2019-11-12 | Cornell University | Generation of high energy mid-infrared continuum laser pulses |
| US9594220B1 (en) | 2015-09-22 | 2017-03-14 | Corning Optical Communications LLC | Optical interface device having a curved waveguide using laser writing and methods of forming |
| US10162112B2 (en) | 2016-05-31 | 2018-12-25 | Corning Optical Communications LLC | Optical wire bond apparatus and methods employing laser-written waveguides |
| US11314008B2 (en) | 2017-08-08 | 2022-04-26 | 3M Innovative Properties Company | Lightguide having opening and surrounding channel |
| GB2586931B (en) * | 2018-05-31 | 2022-07-06 | Sumitomo Electric Industries | Method for manufacturing optical device, optical device, and manufacturing device for optical device |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3542536A (en) * | 1967-09-01 | 1970-11-24 | Hazeltine Research Inc | Method of forming optical waveguide by irradiation of dielectric material |
| US4022602A (en) * | 1975-10-30 | 1977-05-10 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method of fabricating low-loss channel optical waveguides |
| US4090776A (en) * | 1976-10-13 | 1978-05-23 | Honeywell Inc. | Fabrication of optical waveguides |
| US4710605A (en) * | 1985-04-08 | 1987-12-01 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Laser nibbling of optical waveguides |
| US5136677A (en) * | 1989-12-21 | 1992-08-04 | Galileo Electro-Optics Corporation | Photorefractive effect in bulk chalcogenide glass and devices made therefrom |
| CA2133849C (en) * | 1993-11-12 | 1999-08-17 | Turan Erdogan | Method for making stable optical devices employing radiation-induced index changes |
| DE69512688T2 (de) * | 1994-09-23 | 2000-05-04 | British Telecommunications P.L.C., London | Methode zur Herstellung eines planaren Wellenleiters |
| JPH08334641A (ja) * | 1995-06-09 | 1996-12-17 | Fujikura Ltd | 光導波路作製方法 |
-
1997
- 1997-01-20 JP JP00753397A patent/JP3649835B2/ja not_active Expired - Fee Related
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- 1997-03-17 US US08/819,521 patent/US5978538A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6640039B1 (en) | 1998-02-12 | 2003-10-28 | Central Glass Co., Ltd. | Optical waveguide array and method of manufacturing the same |
| WO1999041625A1 (fr) * | 1998-02-12 | 1999-08-19 | Japan Science And Technology Corporation | Reseau de guide d'onde optique et procede de fabrication |
| US6977137B2 (en) | 1999-07-29 | 2005-12-20 | Corning Incorporated | Direct writing of optical devices in silica-based glass using femtosecond pulse lasers |
| JP2001311847A (ja) * | 2000-02-22 | 2001-11-09 | Nec Corp | 屈折率の修正方法、屈折率の修正装置、及び光導波路デバイス |
| US6772514B2 (en) | 2000-06-12 | 2004-08-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of machining glass substrate and method fabricating high-frequency circuit |
| JP2003043275A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Fujikura Ltd | 光合分波器及び光合分波器の製造方法 |
| US7046881B2 (en) | 2001-07-30 | 2006-05-16 | Fujikura, Ltd. | Manufacturing method for optical coupler/splitter and method for adjusting optical characteristics of planar lightwave circuit device |
| US6945078B2 (en) | 2002-08-27 | 2005-09-20 | Fujikura Ltd. | Optical waveguide in the interior of silica glass and method of forming optical waveguide |
| JP2004238280A (ja) * | 2003-02-03 | 2004-08-26 | Carl-Zeiss-Stiftung | 光構造化性物体とガラスおよび／またはガラスセラミック処理方法 |
| DE10304382A1 (de) * | 2003-02-03 | 2004-08-12 | Schott Glas | Photostrukturierbarer Körper sowie Verfahren zur Bearbeitung eines Glases und/oder einer Glaskeramik |
| US7262144B2 (en) | 2003-02-03 | 2007-08-28 | Schott Ag | Photostructurable body and process for treating a glass and/or a glass-ceramic |
| US7257294B2 (en) | 2004-03-26 | 2007-08-14 | Keio University | Method for processing transparent material, apparatus for processing the same and optical function device |
| US7405883B2 (en) | 2004-12-03 | 2008-07-29 | Ohara Inc. | Optical component and method of manufacture of optical component |
| JP2006276892A (ja) * | 2006-07-07 | 2006-10-12 | Mitsubishi Electric Corp | 光路変換コネクタの製造方法 |
| WO2009013920A1 (ja) * | 2007-07-24 | 2009-01-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
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| DE102009006400A1 (de) | 2008-02-08 | 2009-08-13 | Ohara Inc., Sagamihara | Glaselement für optische Teile und dafür verwendete Glaszusammensetzung |
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