JPH09305001A - 帯電装置及びこの帯電装置を備えた画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】イオンデポジション方式の帯電装置であって、
基板の破損を防止し、且つ万が一基板が破損した場合で
も周辺部に散乱することを防止できる帯電装置及びこの
帯電装置を備えた画像形成装置を提供することを目的と
する。 【解決手段】この帯電装置は、イオン発生器１を有して
いる。イオン発生器１は、セラミック基板２の一方の面
に配設された誘電電極３と、絶縁層４を介して配設され
たイオン発生電極５Ａ、５Ｂを有し、これらの電極は、
高周波・高電圧を供給する交流電源８及びバイアス電圧
を供給する直流電源９に接続されている。セラミック基
板２の他方の面には、ヒータ電極７Ａ、７Ｂが配設され
ているとともに、ヒータ電極７Ａ、７Ｂを覆うようにセ
ラミック基板２の全面にわたって補強部材として機能す
るバインダー層１０が装着されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、帯電装置に係
り、特にイオンデポジション方式に適用されるイオン発
生器を備えた帯電装置、及びこの帯電装置を備えた画像
形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真式の画像形成装置は、静電潜像
を担持する感光体、及びこの感光体を所定の極性に帯電
するための帯電装置を有している。従来の画像形成装置
には、コロナ放電を利用した帯電装置が適用されていた
が、近年、画像形成装置の小型化、オゾン発生量の低減
などを目的として、接触帯電法を利用した帯電装置、特
開平６ー７５４５７号に開示されているイオンデポジシ
ョン方式の帯電装置など種々の帯電装置が提案され、有
効な装置として実用化されようとしている。

【０００３】イオンデポジション方式の帯電装置は、幅
１０ｍｍ、長さ３５０ｍｍ、厚さ０．５乃至１ｍｍ程度
のセラミック基板、このセラミック基板の一方の面上に
積層して形成された誘電電極、絶縁層、イオン発生電
極、及び表面保護層を備えている。

【０００４】このイオンデポジション方式の帯電装置
は、誘電電極とイオン発生電極との間に交流電圧を印加
し、且つイオン発生電極にバイアス電圧を印加すること
により、付近の空気をイオン化させるものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このイオンデポジショ
ン方式の帯電装置に備えられているセラミック基板は、
０．５乃至１ｍｍ程度と薄く、しかも一方向に延出され
た細長い形状に形成されているため、脆く、帯電装置と
して製造される製造工程や画像形成装置本体に組み込ま
れる際の組立工程において、折れや欠け等の破損を生じ
易い。このため、取り扱いには十分な注意が必要とされ
る。

【０００６】また、このセラミック基板は、画像形成装
置に組み込まれ、製品として出荷される際の輸送時に破
損したり、ユーザが帯電装置の組み込まれたドラムユニ
ットを落とすなどの取り扱い上のミスにより破損し、ユ
ニット内部や画像形成装置内、及び外部周辺に破片が散
乱することがある。この散乱した破片により、画像形成
装置の動作に支障を来すばかりでなく、ユーザを傷付け
る虞がある。

【０００７】そこで、この発明の目的は、イオンデポジ
ション方式の帯電装置であって、基板の破損を防止し、
且つ万が一基板が破損した場合でも周辺部に散乱するこ
とを防止できる帯電装置及びこの帯電装置を備えた画像
形成装置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この発明は、上記問題点
に基づきなされたもので、平板状のセラミックによって
形成された基板と、この基板の一方の面上に絶縁体層を
介して配置され、所定の電位差を提供することにより放
電を発生させる放電用電極体と、前記基板の他方の面上
に設けられ、前記基板を補強する補強層と、を備えたこ
とを特徴とする帯電装置を提供するものである。

【０００９】また、この発明によれば、平板状のセラミ
ックによって形成された基板と、この基板の一方の面上
に配置された第１電極と、この第１電極上に設けられた
絶縁体層と、この絶縁体層を介して前記第１電極に所定
間隔で離間して配置され、前記第１電極との間で所定の
電位差を提供することにより放電を発生させる第２電極
と、前記基板の他方の面上に配置され、前記基板及び絶
縁体層を加熱する加熱用電極体と、この加熱用電極体を
覆うように前記基板の他方の面上の全面にわたって設け
られ、基板を補強する絶縁体によって形成された補強層
と、を備えたことを特徴とする帯電装置が提供される。

【００１０】さらに、この発明によれば平板状のセラミ
ックによって形成された基板と、この基板の一方の面上
に配置された第１電極と、この第１電極上に設けられた
絶縁体層と、この絶縁体層を介して前記第１電極に所定
間隔で離間して配置され、前記第１電極との間で所定の
電位差を提供することにより放電を発生させる第２電極
と、前記基板の他方の面上に配置され、前記基板及び絶
縁体層を加熱する加熱用電極体と、この加熱用電極体を
覆うように前記基板の他方の面上の全面にわたって設け
られ、基板を補強するとともに、前記基板に対して粘着
性を有する絶縁体によって形成された補強層と、を備え
たことを特徴とする帯電装置が提供される。

【００１１】またさらに、この発明によれば、平板状の
セラミックによって形成された基板と、この基板の一方
の面上に配置された第１電極と、この第１電極上に設け
られた絶縁体層と、この絶縁体層を介して前記第１電極
に所定間隔で離間して配置され、前記第１電極との間で
所定の電位差を提供することにより放電を発生させる第
２電極と、前記基板の他方の面上に配置され、前記基板
及び絶縁体層を加熱する加熱用電極体と、この加熱用電
極体を覆うように前記基板の他方の面上の全面にわたっ
て設けられ、基板を補強するとともに、前記基板に対し
て接着層を介して貼り付けられたフィルム状の絶縁体に
よって形成された補強層と、を備えたことを特徴とする
帯電装置が提供される。

【００１２】さらにまた、この発明によれば、感光体を
所定の電位に帯電させる帯電手段と、この帯電手段によ
って帯電された前記感光体に画像データに対応した光ビ
ームを照射して静電潜像を形成する露光手段と、前記感
光体に形成された静電潜像を現像する現像手段と、を備
えた画像形成装置であって、前記帯電手段は、平板状の
セラミックによって形成された基板と、この基板の一方
の面上に絶縁体層を介して配置され、所定の電位差を提
供することにより放電を発生させる放電用電極体と、前
記基板の他方の面上に設けられ、前記基板を補強する補
強層と、を備えたことを特徴とする画像形成装置が提供
される。

【００１３】またさらに、この発明によれば、感光体を
所定の電位に帯電させる帯電手段と、この帯電手段によ
って帯電された前記感光体に画像データに対応した光ビ
ームを照射して静電潜像を形成する露光手段と、前記感
光体に形成された静電潜像を現像する現像手段と、を備
えた画像形成装置であって、前記帯電手段は、平板状の
セラミックによって形成された基板と、この基板の一方
の面上に配置された第１電極と、この第１電極上に設け
られた絶縁体層と、この絶縁体層を介して前記第１電極
に所定間隔で離間して配置され、前記第１電極との間で
所定の電位差を提供することにより放電を発生させる第
２電極と、前記基板の他方の面上に配置され、前記基板
及び絶縁体層を加熱する加熱用電極体と、この加熱用電
極体を覆うように前記基板の他方の面上の全面にわたっ
て設けられ、基板を補強する絶縁体によって形成された
補強層と、を備えたことを特徴とする画像形成装置が提
供される。

【００１４】さらにまた、この発明によれば、感光体を
所定の電位に帯電させる帯電手段と、この帯電手段によ
って帯電された前記感光体に画像データに対応した光ビ
ームを照射して静電潜像を形成する露光手段と、前記感
光体に形成された静電潜像を現像する現像手段と、を備
えた画像形成装置であって、前記帯電手段は、平板状の
セラミックによって形成された基板と、この基板の一方
の面上に配置された第１電極と、この第１電極上に設け
られた絶縁体層と、この絶縁体層を介して前記第１電極
に所定間隔で離間して配置され、前記第１電極との間で
所定の電位差を提供することにより放電を発生させる第
２電極と、前記基板の他方の面上に配置され、前記基板
及び絶縁体層を加熱する加熱用電極体と、この加熱用電
極体を覆うように前記基板の他方の面上の全面にわたっ
て設けられ、基板を補強するとともに、前記基板に対し
て粘着性を有する絶縁体によって形成された補強層と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置が提供される。

【００１５】またさらに、この発明によれば、感光体を
所定の電位に帯電させる帯電手段と、この帯電手段によ
って帯電された前記感光体に画像データに対応した光ビ
ームを照射して静電潜像を形成する露光手段と、前記感
光体に形成された静電潜像を現像する現像手段と、を備
えた画像形成装置であって、前記帯電手段は、平板状の
セラミックによって形成された基板と、この基板の一方
の面上に配置された第１電極と、この第１電極上に設け
られた絶縁体層と、この絶縁体層を介して前記第１電極
に所定間隔で離間して配置され、前記第１電極との間で
所定の電位差を提供することにより放電を発生させる第
２電極と、前記基板の他方の面上に配置され、前記基板
及び絶縁体層を加熱する加熱用電極体と、この加熱用電
極体を覆うように前記基板の他方の面上の全面にわたっ
て設けられ、基板を補強するとともに、前記基板に対し
て接着層を介して貼り付けられたフィルム状の絶縁体に
よって形成された補強層と、を備えたことを特徴とする
画像形成装置が提供される。

【００１６】この発明の帯電装置によれば、セラミック
製の基板の一方の面に補強層を有しているため、平板状
の基板が補強され、基板の破損が防止できる。また、基
板の一方の面に設けられる補強層は、粘着性を有する絶
縁体、或は接着層を有するフィルム状の絶縁体によって
形成されているため、たとえ基板が破損したとしても、
その破片が周辺に飛散することを防止できる。すなわ
ち、破損した基板の破片は、補強層の粘着性、或は接着
層によって拘束されるため、周辺に飛散することはな
い。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
実施の形態について詳細に説明する。図１には、この発
明の実施の形態に係る帯電装置の主要部であるイオン発
生器の基本的な構造が示されている。

【００１８】図１に示すように、イオン発生器１は、所
定の方向に延出されて細長い形状に形成されたセラミッ
ク基板２を有している。このセラミック基板２は、例え
ば幅１０ｍｍ，長さ３５０ｍｍ，厚さ０．５ｍｍであ
る。

【００１９】このセラミック基板２の一方の面上のほぼ
中央部には、所定の方向、すなわちセラミック基板２が
延出された方向と同一の方向に延出して形成された第１
電極として機能する誘導電極３が配設されている。誘導
電極３は、例えば幅約４０μｍ、厚さ１乃至５μｍであ
る。また、セラミック基板２の一方の面は、誘導電極３
と共に、絶縁層４によって被覆されている。この絶縁層
４の厚さは、例えば２０乃至５０μｍである。

【００２０】絶縁層４の上には、所定の方向に延出され
て形成された第２電極として機能する２本のイオン発生
電極５Ａ、及び５Ｂが配設されている。イオン発生電極
５Ａ及び５Ｂの厚さは、例えば１０乃至３０μｍであ
り、２本のイオン発生電極５Ａ及び５Ｂの間の間隔は、
例えば８０μｍである。絶縁層４上には、イオン発生電
極５Ａ及び５Ｂを保護する表面保護層６が形成されてい
る。

【００２１】この表面保護層６は、イオン発生電極５Ａ
及び５Ｂの放電に伴う酸化、及び変性を防止するために
設けられている。一方、セラミック基板２の他方の面上
には、加熱用電極体として機能する、例えば２本のヒー
タ電極７Ａ及び７Ｂが配設されている。このヒータ電極
７Ａ及び７Ｂは、イオンの発生にともなってイオン発生
電極５Ａ及び５Ｂの近傍に付着する硝酸塩を熱分解する
ために設けられている。

【００２２】また、セラミック基板２の他方の面は、ヒ
ータ電極７Ａ及び７Ｂとともに、後述する保護手段とし
て機能するバインダー層１０によって覆われている。誘
導電極３及びイオン発生電極５Ａ、５Ｂは、交流電圧を
発生する交流電源８に接続されている。また、イオン発
生電極５Ａ、５Ｂは、バイアス電圧を印加するための直
流電源に接続されている。交流電源８から発生される交
流電圧の周波数は、数ＫＨｚ乃至数百ＫＨｚであり、誘
導電極３とイオン発生電極５Ａ及び５Ｂとの間に印加さ
れる出力電圧は、１乃至３ＫＶｐ−ｐの高周波・高電圧
である。

【００２３】絶縁層４を介して誘導電極３とイオン発生
電極５Ａ及び５Ｂとの間に、上述したような高周波・高
電圧が印加されると、イオン発生電極５Ａ及び５Ｂの周
辺の空気がイオン化される。直流電源９から供給される
バイアス電圧として、負の電圧がイオン発生電極５Ａ及
び５Ｂに印加された場合には、イオン発生電極５Ａ及び
５Ｂの周辺の空気は、負にイオン化され、イオン発生器
１から負のイオンのみが発生される。また、直流電源９
から供給されるバイアス電圧として、正の電圧がイオン
発生電極５Ａ及び５Ｂに印加された場合には、イオン発
生電極５Ａ及び５Ｂの周辺の空気は、正にイオン化さ
れ、イオン発生器１から正のイオンのみが発生される。
図１に示した例では、イオン発生電極５Ａ及び５Ｂに負
の直流電圧が印加されているため、イオン発生器１から
負のイオン１１が発生されている。

【００２４】図２には、図１に示したイオン発生器を適
用した電子写真式の画像形成装置の一例が示されてい
る。図２に示すように、画像形成装置は、ほぼ中央に回
転自在に位置された感光体としての感光体ドラム１００
を有している。感光体ドラム１００は、図示しないモー
タにより所定の回転速度で回転される。

【００２５】感光体ドラム１００の周囲の所定の位置に
は、ドラム表面を所定の電荷に帯電させる帯電手段とし
てのイオン発生器１を含む帯電装置１０１、画像データ
に対応して感光体ドラム１００の軸線方向に沿って感光
体ドラム１００の表面にレーザビームを照射することで
感光体ドラム１００の表面に静電潜像を形成する露光手
段としてのレーザ露光装置１０２、レーザ露光装置１０
２による露光により感光体ドラム１００の表面上に形成
された静電潜像に現像剤としてのトナーを供給して所望
の画像濃度で現像する現像ローラ１０３ａを有する現像
手段としての現像装置１０３、図示しない用紙カセット
から給紙された被転写材すなわちコピー用紙Ｐに感光体
ドラム１００に形成されたトナー像を転写するとともに
トナー像が転写された用紙Ｐを感光体ドラム１００から
分離させるための転写・剥離チャージャ１０４、感光体
ドラム１００の表面に残留したトナーを清掃するクリー
ニング装置１０５、及び、感光体ドラム１００の表面に
残った電位を除電する除電装置１０６が、順に、配置さ
れている。

【００２６】用紙Ｐが搬送される方向であって、感光体
ドラム１００に対して熱を与えにくい位置には、ローラ
表面が互いに圧接されたヒートローラ対１１０ａ及び１
１０ｂを含み、トナー像が転写された用紙Ｐを加熱する
ことでトナー像を溶融させつつトナー像と用紙Ｐとを加
圧して用紙Ｐにトナー像を定着させる定着装置１１０が
設けられている。

【００２７】なお、帯電装置１０１に含まれるイオン発
生器１は、感光体ドラム１００から５００乃至３０００
μｍの間隔をおいて配置されている。次に、この画像形
成装置の動作について説明する。

【００２８】まず、図示しないモータが付勢され、感光
体ドラム１００が所定の回転速度で回転される。同時
に、帯電装置１０１に含まれるイオン発生器１が作動さ
れ、感光体ドラム１００の表面に所定の電位が与えられ
る。すなわち、イオン発生器１には、交流電源８から所
定の高周波・高電圧が供給されると共に、直流電源９か
ら負のバイアス電圧が供給される。そして、イオン発生
器１から負のイオンが感光体ドラム１００に提供され、
感光体ドラム１００の初期表面電位は、例えば、おおむ
ね、−６５０ボルトに設定される。

【００２９】引き続いて、レーザ露光装置１０２によ
り、感光体ドラム１００の表面に、原稿の画像に対応す
る画像データに応じて変調されたレーザビームが照射さ
れる。なお、レーザ露光装置１０２から出射されるレー
ザビームの出射タイミングすなわち書き出し開始位置
は、用紙Ｐの大きさに対応されて図示しない記憶装置に
予め記憶されている書き出し位置に基づいて、図示しな
い水平同期信号から所定の主走査方向クロック分だけデ
ィレイが付加されることはいうまでもない。

【００３０】これにより、感光体ドラム１００の外周面
に、画像データに対応する静電潜像が形成される。この
ようにして形成された静電潜像は、たとえば、−４５０
ボルトの現像バイアス電圧が印加されている現像装置１
０３の現像ローラ１０３ａから供給されるトナーによっ
て現像される。

【００３１】続いて、所定の転写電圧が印加されている
転写・剥離チャージャ１０４からの転写出力により、用
紙Ｐに、トナー像として転写される。用紙Ｐに転写され
たトナー像は、転写・剥離チャージャ１０４からの剥離
出力により、用紙Ｐとともに感光体ドラム１００の表面
から剥離され、定着装置１１０に向けて搬送され、定着
装置１１０を介して用紙Ｐに定着される。

【００３２】用紙Ｐにトナー像を転写した感光体ドラム
１００は、引き続き回転され、クリーニング装置１０５
を介して残存トナーが取り除かれたのち除電装置１０６
により除電され、引き続いて、次の画像形成に利用され
る。

【００３３】図３には、図１に示したイオン発生器１の
外観が概略的に示されている。図３に示すように、この
イオン発生器１は、セラミック基板２の一方の表面、す
なわちヒータ電極７Ａ及び７Ｂが配設されている面の全
面にわたって設けられたバインダー層１０を有してい
る。このバインダー層１０は、接着剤を含む接着層１２
を介してセラミック基板２の全面に接着されている。

【００３４】バインダー層１０は、セラミック基板２よ
りも外圧に対するせん断特性が良好、すなわち欠け難い
材質であるため、薄く、脆いセラミック基板２の強度を
補強する補強部材として機能する。また、接着層１２に
よってバインダー層１０がセラミック基板２に接着され
ているため、セラミック基板２に折れや欠け等の破損が
生じた場合でも、その破片がバインダー層によって拘束
され、周辺部に飛散することが防止される。

【００３５】したがって、セラミック基板２の破損に伴
って飛散する破片によって画像形成装置の動作に支障を
来す問題や、ユーザを傷付けるなどの問題を解消するこ
とができる。

【００３６】次に、このバインダー層１０を有するセラ
ミック基板２の強度試験を実行した。これは、所定の高
さからセラミック基板を落下させたときの衝撃（外圧）
に対するセラミック基板の破損状況を観測したものであ
る。

【００３７】この試験結果は、図６に示されている。図
６中の破線Ａで示したグラフは、バインダー層１０を未
装着のセラミック基板の試験結果であり、実線Ｂで示し
たグラフは、図３に示したようなバインダー層１０が全
面にわたって設けられたセラミック基板２の試験結果で
ある。

【００３８】破損状況として○は、セラミック基板に異
常がなかったことを示し、△は、セラミック基板にひび
割れが発生したことを示し、×は、折れや欠け等の破損
が発生したことを示している。

【００３９】図６の試験結果に示すように、バインダー
層１０を有していないセラミック基板は、約４０ｃｍの
高さから落下させた場合にひび割れが発生したのに対し
て、図３に示したようなバインダー層１０を有するセラ
ミック基板２は、約１００ｃｍの高さから落下させた場
合でも異常が観測されなかった。そして、このバインダ
ー層１０を有するセラミック基板２は、１４０ｃｍの高
さから落下させた場合であっても、ひび割れが発生した
のみであって、周辺に破片が飛散するような破損をする
ことはなかった。

【００４０】セラミック基板２を補強するバインダー層
１０として使用可能な材料の一例を図７に示す。図７に
示すように、セラミック基板２に装着されるバインダー
層１０として、マイラテープ、カプトンテープ、セロハ
ンテープ、テフロンテープ、及びウレタンシートを両面
テープで装着したものなどのように、各種テープを利用
する方法や、ウレタンゴムを加熱溶着する方法、シリコ
ンゴムやウレタンゴム等のゴムシート及びポリエステ
ル、エポキシ、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート等のプラスチックシートを接着剤により接着
する方法等が有効的である。

【００４１】なお、この実施例で使用可能な接着剤の一
例としては、ユリア樹脂系接着剤、酢酸ビニルエマルジ
ョン系接着剤、エポキシ系樹脂接着剤などがある。ま
た、セラミック基板２の表面に、例えばエポキシ系接着
剤等の接着剤のみを塗布するような方法であってもセラ
ミック基板２を補強するのに十分であり、各種テープ
や、ゴムシート、及びプラスチックシート等を接着する
方法と同等の効果が得られる。

【００４２】図４には、バインダー層１０としてマイラ
テープ２０をセラミック基板２の表面に装着した場合の
イオン発生器の断面が示されている。このマイラテープ
２０は、図３の斜視図に示したように、ヒータ電極７Ａ
及び７Ｂを覆うとともに、セラミック基板２表面の全面
にわたって装着されている。

【００４３】図５には、バインダー層１０としてエポキ
シ系接着剤３０をセラミック基板２の表面に装着した場
合のイオン発生器の断面が示されている。このエポキシ
系接着剤３０も同様に、図３の斜視図に示したように、
ヒータ電極７Ａ及び７Ｂを覆うとともに、セラミック基
板２表面の全面にわたって装着されている。

【００４４】上述したように、この帯電装置に適用され
るイオン発生器は、基板としてのセラミック基板の一方
の表面、すなわちイオン発生部としての誘電電極及びイ
オン発生電極が設けられている面の反対側の面に補強部
材としてのバインダー層を備えている。このため、帯電
装置の製造時、帯電装置を画像形成装置に組み込む組み
立て時、及び輸送時にかかる外圧は、バインダー層１０
によって緩和され、セラミック基板２の破損を防止でき
る。

【００４５】また、バインダー層１０として各種テープ
をセラミック基板２の全面にわたって貼付けたり、ゴム
シート及びプラスチックシートなどを接着層を介してセ
ラミック基板２の全面に接着することにより、万が一セ
ラミック基板２が破損したとしても、個々の破片を拘束
することが可能となり、装置の内部及び周辺部に破片が
飛散することを防止できる。このため、飛散した破片に
よって画像形成装置の動作に支障を来す虞や、ユーザを
傷付けるなどの不具合を防止することができる。

【００４６】さらに、バインダー層１０としてマイラシ
ート、ウレタンゴムシート、プラスチックシートなどの
ように破損し難い材料を利用することにより、セラミッ
ク基板２とともにバインダー層１０が破損することを防
止できる。

【００４７】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、イオンデポジション方式の帯電装置であって、基板
の破損を防止し、且つ万が一基板が破損した場合でも周
辺部に散乱することを防止できる帯電装置、及びこの帯
電装置を備えた画像形成装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、この発明の帯電装置の主要部であるイ
オン発生器の構造を概略的に示す断面図である。

【図２】図２は、図１に示したイオン発生器を適用した
電子写真式の画像形成装置の一例を概略的に示す図であ
る。

【図３】図３は、図１に示したイオン発生器の外観を示
す斜視図である。

【図４】図４は、バインダー層としてマイラテープが適
用されたイオン発生器を概略的に示す断面図である。

【図５】図５は、バインダー層としてエポキシ系接着剤
が塗布されたイオン発生器を概略的に示す断面図であ
る。

【図６】図６は、図３に示したようにバインダー層を有
するイオン発生器の強度試験の結果を示す図である。

【図７】図７は、バインダー層として適用可能な材料の
一例を示す図である。

【符号の説明】

１…イオン発生器 ２…セラミック基板 ３…誘電電極 ４…絶縁層 ５Ａ及び５Ｂ…イオン発生電極 ６…表面保護層 ７Ａ及び７Ｂ…ヒータ電極 ８…交流電源 ９…直流電源 １０…バインダー層 １２…接着層 ２０…マイラーテープ ３０…エポキシ系接着剤 １００…感光体ドラム １０１…帯電装置 １０２…レーザ露光装置 １０３…現像装置 １０４…転写・剥離チャージャ １０５…クリーニング装置 １０６…除電装置 １１０…定着装置

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】平板状のセラミックによって形成された基
   板と、 この基板の一方の面上に絶縁体層を介して配置され、所
   定の電位差を提供することにより放電を発生させる放電
   用電極体と、 前記基板の他方の面上に設けられ、前記基板を補強する
   補強層と、 を備えたことを特徴とする帯電装置。
2. 【請求項２】平板状のセラミックによって形成された基
   板と、 この基板の一方の面上に配置された第１電極と、 この第１電極上に設けられた絶縁体層と、 この絶縁体層を介して前記第１電極に所定間隔で離間し
   て配置され、前記第１電極との間で所定の電位差を提供
   することにより放電を発生させる第２電極と、 前記基板の他方の面上に配置され、前記基板及び絶縁体
   層を加熱する加熱用電極体と、 この加熱用電極体を覆うように前記基板の他方の面上の
   全面にわたって設けられ、基板を補強する絶縁体によっ
   て形成された補強層と、 を備えたことを特徴とする帯電装置。
3. 【請求項３】平板状のセラミックによって形成された基
   板と、 この基板の一方の面上に配置された第１電極と、 この第１電極上に設けられた絶縁体層と、 この絶縁体層を介して前記第１電極に所定間隔で離間し
   て配置され、前記第１電極との間で所定の電位差を提供
   することにより放電を発生させる第２電極と、 前記基板の他方の面上に配置され、前記基板及び絶縁体
   層を加熱する加熱用電極体と、 この加熱用電極体を覆うように前記基板の他方の面上の
   全面にわたって設けられ、基板を補強するとともに、前
   記基板に対して粘着性を有する絶縁体によって形成され
   た補強層と、 を備えたことを特徴とする帯電装置。
4. 【請求項４】平板状のセラミックによって形成された基
   板と、 この基板の一方の面上に配置された第１電極と、 この第１電極上に設けられた絶縁体層と、 この絶縁体層を介して前記第１電極に所定間隔で離間し
   て配置され、前記第１電極との間で所定の電位差を提供
   することにより放電を発生させる第２電極と、 前記基板の他方の面上に配置され、前記基板及び絶縁体
   層を加熱する加熱用電極体と、 この加熱用電極体を覆うように前記基板の他方の面上の
   全面にわたって設けられ、基板を補強するとともに、前
   記基板に対して接着層を介して貼り付けられたフィルム
   状の絶縁体によって形成された補強層と、 を備えたことを特徴とする帯電装置。
5. 【請求項５】感光体を所定の電位に帯電させる帯電手段
   と、 この帯電手段によって帯電された前記感光体に画像デー
   タに対応した光ビームを照射して静電潜像を形成する露
   光手段と、 前記感光体に形成された静電潜像を現像する現像手段
   と、を備えた画像形成装置であって、 前記帯電手段は、 平板状のセラミックによって形成された基板と、 この基板の一方の面上に絶縁体層を介して配置され、所
   定の電位差を提供することにより放電を発生させる放電
   用電極体と、 前記基板の他方の面上に設けられ、前記基板を補強する
   補強層と、 を備えたことを特徴とする画像形成装置。
6. 【請求項６】感光体を所定の電位に帯電させる帯電手段
   と、 この帯電手段によって帯電された前記感光体に画像デー
   タに対応した光ビームを照射して静電潜像を形成する露
   光手段と、 前記感光体に形成された静電潜像を現像する現像手段
   と、を備えた画像形成装置であって、 前記帯電手段は、 平板状のセラミックによって形成された基板と、 この基板の一方の面上に配置された第１電極と、 この第１電極上に設けられた絶縁体層と、 この絶縁体層を介して前記第１電極に所定間隔で離間し
   て配置され、前記第１電極との間で所定の電位差を提供
   することにより放電を発生させる第２電極と、 前記基板の他方の面上に配置され、前記基板及び絶縁体
   層を加熱する加熱用電極体と、 この加熱用電極体を覆うように前記基板の他方の面上の
   全面にわたって設けられ、基板を補強する絶縁体によっ
   て形成された補強層と、 を備えたことを特徴とする画像形成装置。
7. 【請求項７】感光体を所定の電位に帯電させる帯電手段
   と、 この帯電手段によって帯電された前記感光体に画像デー
   タに対応した光ビームを照射して静電潜像を形成する露
   光手段と、 前記感光体に形成された静電潜像を現像する現像手段
   と、を備えた画像形成装置であって、 前記帯電手段は、 平板状のセラミックによって形成された基板と、 この基板の一方の面上に配置された第１電極と、 この第１電極上に設けられた絶縁体層と、 この絶縁体層を介して前記第１電極に所定間隔で離間し
   て配置され、前記第１電極との間で所定の電位差を提供
   することにより放電を発生させる第２電極と、 前記基板の他方の面上に配置され、前記基板及び絶縁体
   層を加熱する加熱用電極体と、 この加熱用電極体を覆うように前記基板の他方の面上の
   全面にわたって設けられ、基板を補強するとともに、前
   記基板に対して粘着性を有する絶縁体によって形成され
   た補強層と、 を備えたことを特徴とする画像形成装置。
8. 【請求項８】感光体を所定の電位に帯電させる帯電手段
   と、 この帯電手段によって帯電された前記感光体に画像デー
   タに対応した光ビームを照射して静電潜像を形成する露
   光手段と、 前記感光体に形成された静電潜像を現像する現像手段
   と、を備えた画像形成装置であって、 前記帯電手段は、 平板状のセラミックによって形成された基板と、 この基板の一方の面上に配置された第１電極と、 この第１電極上に設けられた絶縁体層と、 この絶縁体層を介して前記第１電極に所定間隔で離間し
   て配置され、前記第１電極との間で所定の電位差を提供
   することにより放電を発生させる第２電極と、 前記基板の他方の面上に配置され、前記基板及び絶縁体
   層を加熱する加熱用電極体と、 この加熱用電極体を覆うように前記基板の他方の面上の
   全面にわたって設けられ、基板を補強するとともに、前
   記基板に対して接着層を介して貼り付けられたフィルム
   状の絶縁体によって形成された補強層と、 を備えたことを特徴とする画像形成装置。