JPH09297204A - 異方性散乱素子及びそれを用いる液晶ディスプレイ - Google Patents
異方性散乱素子及びそれを用いる液晶ディスプレイInfo
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- JPH09297204A JPH09297204A JP9053465A JP5346597A JPH09297204A JP H09297204 A JPH09297204 A JP H09297204A JP 9053465 A JP9053465 A JP 9053465A JP 5346597 A JP5346597 A JP 5346597A JP H09297204 A JPH09297204 A JP H09297204A
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Abstract
を用い、液晶ディスプレイの高輝度化を図る。 【解決手段】 異方性散乱粒子を液晶マトリックス中に
分散させ、その粒子が液晶分子の配向方向と同じ方向に
配列させ、また、異方性散乱粒子を樹脂と混合して延伸
することで一方向に配向させる。アスペクト比が1以上
の散乱粒子は偏光成分に対し異方性を示す。この異方性
散乱素子をその散乱軸が光源から液晶パネルに入射され
る側の偏光軸と直交させるように組み合わせる。
Description
よびバックライトを有効に利用することができる液晶デ
ィスプレイに関する。
にその明るさは半分以下になっていた。実際は液晶パネ
ルの表裏に2枚の偏光板を用いるために30%から40
%の明るさになっていた。より高輝度な液晶パネルを得
るために偏光変換してこれらの欠点を補うという試みが
なされている。 (1) 偏光ビームスピリッター(以下PBS;Polarized
Beam Splitter と略す)による方法。(参考文献;ASIA
DISPLAY'95 page-731)。 (2) コレステリック偏光変換による方法(参考文献;AS
IA DISPLAY'95 page-735)。 (3) 液晶と高分子の複合体を用いる方法(参考文献:特
願平6-208319号)。
法では以下の問題が生じる。 (1) プリズムによる方法では光源からの光が平行光であ
れば損失は少ないが角度を有する場合、偏光変換効率は
落ちてしまう。それ故角度依存あるいは波長依存性が問
題である。またプリズム等を用いるために軽量、コンパ
クト性に欠けるという問題もある。 (2) コレステリックフィルムを用いる場合、全波長範囲
をカバーするには膜厚方向にコレステリックフィルム螺
旋ピッチは一定の分布を有さなくてはならず、非常に複
雑な作製法が必要となるという問題がある。 (3) 液晶と高分子の複合体を用いる場合は複合体の屈折
率が液晶材料によって限定されるので、大きな異方性散
乱を得ることができず、そのため大きな偏光変換効率が
得られないという問題がある。その製造には相分離等の
技術を用いる必要があり、複雑となる。
解決するために鋭意検討の結果、アスペクト比が1以上
の散乱粒子をそれと屈折率の異なる透光性マトリックス
媒体中に、分散し、ほぼ一方向に配列して固定すると、
異方性散乱機能を示す素子が得られ、この異方性散乱素
子を用いて偏光変換を行うと、液晶パネルのバックライ
トによる高輝度化著しいことを見い出した。したがっ
て、本発明の目的はアスペクト比が1以上の散乱粒子を
屈折率の異なる支持媒質中に分散配列してなる異方性散
乱素子を提供することにある。上記散乱粒子のが短軸長
さと長軸長さで偏光成分に対して異方性を有することが
望ましい。また上記散乱粒子の短軸長さがRayleigh散乱
領域以下である一方,長軸長さがMie散乱領域あるいは幾
何学散乱領域であり、偏光成分に対し異方性を有するも
ので、好ましい。また上記散乱粒子の短軸長さが用いる
光の波長より短いこと異方性散乱の面で望ましい。散乱
粒子として酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、
炭化シリコン、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ホウ酸アルミ
およびガラスからなる群から選ばれる1種を挙げること
ができる。他方、上記支持媒質が透光性であることが光
損失の点から望ましい。また延伸等で配列すること軽量
化の点からも樹脂または高分子であることが望ましい。
特に、上記支持媒質が液晶であって、液晶中に分散して
配列を行うことでより配列の自由度が増すことが考えら
れるので、望ましい。また、液晶中で配列した後、液晶中
にあらかじめ混合しておいた(あるいは液晶そのもの
が)重合性物質を光あるいは熱によって重合して支持媒
質中に散乱粒子を固定してなるのが比重等の差を考える
と、好ましい。なお、上記散乱粒子と支持媒質との屈折
率差が0.05以上、上記散乱粒子の上記支持媒質中の
容積分率3%以上、素子厚みが3μm以上、上記散乱粒
子の厚み方向への配列数が3個以上である場合に異方性
散乱素子を形成することができるが、上記散乱粒子と支
持媒質との屈折率差または上記支持媒質中の散乱粒子の
密度を調整することにより後方散乱を主体とする異方性
散乱素子と前方散乱を主体とする異方性散乱素子を形成
することができる。また、本発明の他の目的は、上記異
方性散乱素子を用いる液晶ディスプレイを提供しようと
するものであり、その一つは後方散乱を主体とする異方
性散乱素子を使用する場合で、少なくとも表面側に偏光
板を有する液晶パネル、該液晶パネルの裏面側に位置す
るバックライト装置と、上記液晶パネルとバックライト
装置との間に位置する、アスペクト比が1以上の散乱粒
子を屈折率の異なる支持媒質中に分散配列してなる後方
散乱を主体とする異方性散乱面素子と、バックライト装
置の裏面側に反射板あるいは散乱板を備え、上記異方性
散乱素子の散乱方向と上記液晶面素子の偏光軸あるいは
吸収軸とをほぼ一致させてなる構成される。上記反射板
と液晶パネルとの間に位相差板を、特に1/4波長板を
備えるのが光の有効利用という面で好ましい。使用する
バックライト装置としては光源から導光板を通じて照明
を行うサイド型バックライト装置と直下型のバックライ
ト装置が代表として挙げられる。さらに、本発明は前方
散乱を主体とする異方性散乱素子を使用する反射型液晶
ディスプレイを提供しようとするもので、液晶パネル、
該液晶パネルの裏面側に位置する反射板ないしは散乱板
と、上記液晶パネルの表面側に位置する、アスペクト比
が1以上の散乱粒子を屈折率の異なる支持媒質中に、前
方散乱が得られるように分散配列してなる異方性散乱素
子とを備え、外光が上記液晶パネルに入射される前に上
記異方性散乱素子に入射するようにして構成される。
ために角度依存による損失は少ない。また、複雑な作製
過程を経ないために簡単に製造可能である。その効率を
高めるためには後方散乱を利用する場合には異方性散乱
素子は屈折率の大きな(より散乱が大きい)物質からな
る粒子を配列したものが好ましい。また、位相差板との
組み合わせにより、偏光変換効率は改善される。より、
角度依存性を改善するために異方性散乱粒子の配列がね
じれ構造を有することが望ましい。
いて詳細に説明する。まず、粒子と散乱との関係につい
て、粒子径(d)と光の波長(λ)との関係により次の3
つの場合に大別できる。 (1) 幾何光学的領域(d≫λ) この領域では光の散乱は粒子表面の反射によるため、粒
子の比表面積が大きいほど光の散乱能力も大きくなる。
したがって、散乱能Sは粒子径dの逆数に比例する。 S∝1/d よって、散乱は粒径に反比例して大きくなる (2) Mie散乱領域(d〜λ) 粒径と光の波長がほぼ同じレベルの領域ではMie散乱
の式が成立する。本発明の散乱はほぼこの領域に当ては
まる。 S〜d2π・K/4(Kは定数) Mie散乱の場合、光散乱が最大となる粒子径は屈折率
にもよるが酸化チタンの場合にはd=λ/2の時になる
とされている。(詳しくは石原産業(株)発行のISH
IHARA TIPAQUE NEWS 「T100超微粒
子酸化チタンについて」、P.Stamatakis et.al.,J.Coating
s Tech.,62(10),951(1990)を参照のこと。) (3) Rayleigh散乱領域(d≪λ) この領域では次のRayleighのし記で全散乱能は
あらわされる。 S∝d6/λ4 (詳しくは 久保輝一郎他著 ”粉体”丸善(1985)p177
を参照) これよりこの領域では散乱能Sはdの6乗に比例して急
速に減少する。以上の散乱と粒子径との関係を図4に示
す。図4より、粒子径が小さくなる(Rayleigh散乱領
域)と急速に散乱係数Sが小さくなることがわかる。以
上の領域は粒子の径(d)だけでなく屈折率差によって
も大きく影響する。一般的に屈折率差が大きいほど粒径
にくらべて波長が小さくてもMie散乱領域となる傾向
にある。
明することができる。図1に本発明の異方性散乱素子の
構造を示す。図1において11はアスペクト比の異なる
粒子、12は屈折率の異なる媒質を示している。図1A
において粒子は棒状ないしはラグビーボール状をしてい
るが、図1Bのように層状にでも良い。板状でもアスペ
クト比が異なっていれば良い。図1A、Bとも粒子は配
列しているが完全な一方向に揃わなくともバラツキが少
々あっても良いと考えれる。
変換を行う原理について説明する。図3において光源か
らの光31は紙面に垂直方向の偏光32と紙面に水平方
向の偏光33からなると考える。異方性散乱素子34は
紙面に水平方向に長軸方向35を有している場合を考え
る。このとき紙面に垂直方向の偏光32は異方性散乱板
の短軸方向に進むため、粒子の短軸長さが波長より充分
小さい領域であれば図4のRayleigh散乱領域となり散乱
せずにそのまま進み異方性散乱板34を通過した偏光3
6となる。他方、光源からのもう一方の偏光33は異方
性散乱素子34の長軸方向35に進むため波長と粒子の
長軸長さとの関係が図4の散乱が大きくなるMie散乱領
域に近いRayleigh散乱領域以上の散乱領域(Mie散乱
領域および幾何光学散乱領域)になると散乱光37また
は39となる。
けられる。 (1) 粒子と媒質との屈折率差(△n)がさほど大きくな
い場合、あるいは散乱粒子の密度が少ない(例えば異方
性散乱面素子の厚みが薄い、粒子の容積%が小さい)場
合には前方散乱が主に行われる。これは散乱能が弱いた
めに前方散乱光37となるものである。また、散乱され
た光37は一般的に偏光状態を保っておらず、紙面に垂
直な方向の偏光と紙面に平行な偏光とが混じった状態と
なる。また、異方性散乱板の散乱能がより弱いと散乱も
弱くなり、偏光成分が保存される傾向となる。 (2) 次に屈折率差(△n)が大きい場合、あるいは光が
透過する方向(通常厚み方向)に対して散乱粒子の数が
多い(例えば異方性散乱素子の厚みが厚い、粒子の媒質
に対する容積%が大きい)場合には後方散乱が生じる。
この場合、偏光33は異方性散乱面素子34を通過せず
後方に戻る散乱光39となる。この場合にも、偏光成分
は保存されず偏光が混じった光40となる。一般に散乱
の場合、図5に示すように横軸を屈折率差あるいは散乱
粒子の数として縦軸を散乱光の透過率(全光束)とする
と最初の領域では前方散乱主体の領域であるため透過率
はほぼ変わらず、屈折率差あるいは散乱粒子数が上がる
と後方散乱が生じてきて光は後方に散乱され、透過率は
減少することとなる。本発明の異方性散乱素子の場合も
同様に散乱方向の偏光は図5と同様な透過率の現象を生
じると考えられる。
る。図6において異方性散乱素子および偏光等の配置は
図3と同じとする。このとき紙面に垂直な偏光(1)(点
線)は垂直の偏光成分をほぼ保って透過する。これは短
軸方向が充分光の波長より短ければ横軸が大きくなって
も保たれるであろう。紙面に平行な偏光の散乱光(2)
(実線)は図9と同様に横軸が大きくなるに従い、後方
散乱が大きくなり、透過率が低下する。このとき(2)の
散乱光の紙面に垂直な偏光成分(3)(一点鎖線)は上記
に述べたように散乱能が弱いと偏光成分は保たれるため
横軸の小さい部分では小さく、右に行くに従い強い散乱
により大きくなる。もっと散乱が強くなると後方散乱が
生じるために(2)と同様に小さくなると考えれる。結
局、透過した全体の紙面に垂直な偏光成分(4)(太い実
線)は(1)+(3)の成分となり、(4)のような曲線とな
る。以上のように本発明に係る異方性散乱面素子では、
それを通過した光は片方の偏光を保存してそのまま通過
させ、もう片方の偏光を散乱させ、偏光状態を変えさせ
ることができる。つまり、もとの偏光32にプラスさせ
ることが出来る。これは図3の前方散乱37の場合、紙
面に垂直な偏光が36以外に38の一部に生じているこ
とからも容易にわかる。また、図3のように偏光素子4
2(偏光板)を設け、その偏光軸41を紙面垂直方向に
設置しておけば(偏光素子の偏光軸と異方性散乱素子の
透過軸(短軸方向)と一致していることとなる)透過し
た光36はそのまま偏光素子に損失無く通過し、光43
となる。また散乱した光37は両方の偏光成分を有して
いるが偏光素子42において紙面に平行方向の偏光はカ
ットされ、紙面に垂直方向の偏光44のみとなるこのよ
うに偏光素子と組み合わせることで片方の偏光のみを効
率よく取り出せることとなる。また偏光素子と組み合わ
せると、図3の透過光36は紙面に垂直な偏光成分のみ
ではなく少量の紙面平行成分を有している場合もあるの
で偏光の純度を上げるという意味で重要である。図3に
おいて後方散乱39の場合、偏光は36しか通過しない
ので見かけ上は増えていないが反射板を光源の後方に備
えることなどでもう一度、異方性散乱素子入射させるこ
とで偏光成分を増やすことができる。この場合も偏光素
子と組み合わせることで上記と同様な効果が期待でき
る。
なされる原理を詳しく説明する。図2は光源からの光が
斜め方向から入射されるエッジライト型のバックライト
を想定した原理図である。図2において光源21から発
せられた光22は偏光成分として23、24の両偏光成
分を有している。このとき23と24は偏光の向きを示
しており、直交している。25は異方性散乱面素子であ
り、素子ににおいて26は散乱する偏光成分であり、2
7は散乱しない偏光成分の方向を示している(以下、こ
れらをそれぞれ、散乱軸と透過軸と呼ぶ)。
光成分である23は散乱を受けずに透過する。散乱軸に
水平な偏光成分である24は散乱する。このとき屈折率
が大きな散乱粒子を用いると後方散乱28が生じ、これ
らの偏光成分は後方に散乱される。後方に散乱された成
分はバックライト中の例えば反射板30に反射されて再
び異方性散乱面素子25に戻ってくる。散乱した偏光成
分29は元の偏光状態を通常有していない、そのため異
方性散乱素子の透過軸に水平な偏光成分を有しているた
め再び透過する偏光31と後方散乱される偏光32とに
分離される。上記のような課程の繰り返しで光源31か
らの光32はほぼ同一方向の偏光となって異方性散乱素
子を透過することとなり、偏光変換素子として機能する
こととなる。このため通常の2倍の明るさの液晶パネル
を得ることができる。
3を反射板30上に設置することにより、後方散乱され
た偏光成分の方向を変えることができ、より効率のより
偏光変換素子を得ることができる。特に、1/4λ板は9
0度偏光方向を変えることができ、より効率的な偏光変
換を行う位相差板といえる。
屈折率に異方性があるものではなく、屈折率は同等でも
アスペクト比が異なることで異方性を有することを特徴
とする。例えば棒状の酸化チタンの場合、短軸方向が用
いる波長よりも充分小さければ散乱は小さく、透過す
る。しかしながら長軸が波長よりも大きければ散乱が生
じ、一方向の偏光のみが透過されるという現象が生じ
る。この現象は異方性散乱素子が幾十にも積み重ねた構
造である場合多重散乱が生じより大きな効果が得られ
る。
いて説明する。異方性散乱素子を作製するには異方性散
乱粒子(屈折率の大きな材料、例えば酸化チタン、酸化
ジルコニウム、酸化亜鉛、炭化シリコン、窒化ケイ素、
炭化ケイ素、ホウ酸アルミ、グラスなどが望ましい)を
用いる必要がある。これらの粒子を一方向に配列させる
ことで異方性散乱素子が作製できる。また、これらの粒
子は偏光成分に対して異方性であるため棒状が望まし
い。また、散乱特性を良好にするためにも光の透過方向
に幾十にも層を成した状態が望ましい。また、散乱異方
性を効果的にするためには透過軸方向の長さが光の波長
に対してより短いほど透過率が高くなり、偏光保存性も
良い。
率が異方性散乱粒子よりも小さい)に分散し、延伸する
配列方法が挙げられる。最も簡単な方法といえる。ま
た、磁気異方性あるいは電場異方性を有するものでは一
方向に電場あるいは磁場を印加しながら支持基体中で固
定化することによって配列が得られる。また、流動性媒
質中に粒子を分散させ、ずり応力(シェア)を一方向に
加えることでアスペクト比の異なる粒子を配列すること
が出来る。
る。図7Aは異方性素子の上方向から見た図である。基
板に挟まれた媒質内に分散されたランダムに近い粒子7
1は一方向のずり応力72により、応力を緩和するよう
に配列73する。図7Bは厚み方向から見た図である。
子しか作製できないが、液晶に混合することにより、任
意のねじれ構造を得ることができる。この場合斜め入射
光に対しても散乱成分が保存されやすく、角度依存が小
さくなる。図8にねじれた状態の異方性散乱素子の模式
図を示す。図8Aは上部から見た図であり、図8Bは厚
み方向から見た図である。81は媒質、82は粒子を示
している。
て詳細に説明する。アスペクト比の異なる酸化チタンと
して3種類のもの(石原産業(株)より購入)を用い
た。以下、表1に示す。
ン系オリコ゛マーとの混合物(70:30wt%)にそれぞれ3種
類の酸化チタン:高分子化合物=2:1(wt%)の割合で混合
し、3本ローラにて混練し、酸化チタンを分散させた。こ
のとき重合開始剤としてヘ゛ンソ゛フェノンを2wt%加えた。な
お、酸化チタンに代え、屈折率の大きなもの、例えばチタン酸
カリウム、窒化シリコン(SiNx)あるいはシリコンカーハ゛イト゛(SiC)等があ
げられる。よく分散した上記混合物を硝子基板上に塗布
し、紫外線を強度20mW/cm2(360nmフィルター)で2分間照射
し、硬化してフィルム状の樹脂混合物を作製した。このとき
ランフ゜としては高圧水銀灯を用いた。フィルムの厚みとしては
約3μm〜100μmのものを塗布後の時間調整により作
製した。このとき媒質の屈折率はほぼ1.5であった。
上記フィルムを約2倍から3倍の延伸率で一方向に延伸し
た。顕微鏡観察によると3種類の棒状酸化チタン、それぞ
れが全てほぼ延伸方向に配列していた。上記のように作
製した異方性散乱素子上で偏光板を回転すると偏光軸と
散乱軸(延伸方向)が一致したときもっとも暗く、直交
した場合(透過軸と一致)もっとも明るいという結果を
得た。
mの厚みの異方性散乱素子の透過率を測定した。このと
き偏光素子としてニコルフ゜リス゛ムを用いて異方性散乱素子の
散乱軸に対して偏光軸を直交させた時の透過率をを直交
透過率、平行にしたときの透過率を平行透過率とし定義
して測定した。また、散乱粒子を添加していないときの
偏光素子の透過率を50%として測定した。また、測定
方法として散乱した光を出来るだけ集めるため積分球を
用いて透過率を測定した。光の波長としては可視光(4
00から800nm)を用いた。表2に実施例1で作製
した3種類の酸化チタンの約20μmの厚みのものについて
それぞれ透過率を測定した結果を示す。図9はそれをグ
ラフに示したものである。
化チタン(1)の直交透過率が高く、また全てのサンプルで偏
光素子のみの場合の50%を越えていることがわかっ
た。下記表3と図7にそれぞれの酸化チタンの短軸長さと
直交透過率との関係を、下記表4と図8に長軸長さと直
交透過率との関係を示す。
さが大きいほど直交透過率が下がっていることがわか
る。これは短軸長さが波長に近づいている影響であると
考えられる。また、長軸方向の長さはこの範囲(1.7μm
〜5.1μm)ではほぼ影響は少なかった。
交透過率の波長依存性を測定した。結果を図12に示
す。図12より、短波長になるに従い、直交透過率が下
がっていることがわかる。これは短軸長さとは長が近づ
くためと考えられる。短軸長さが大きいほど短波長の光
の直交透過率の低下が激しく、また、より長波長側で落
ち込むようになっている。これは先程も述べたように短
軸長さと光の波長が近づいてきているためであると推定
される。また、より短軸方向の長さが用いる波長に対し
て小さい程良い結果が得られることがわかった。
乱素子における酸化チタン(1)の容積分率の依存を検討し
た。作製法は実施例2と同様に行った。厚みは約20μ
mとした。直交、平行透過率の測定結果を図13に示
す。図13より、酸化チタン(1)の容積分率が多くなるに従
い直交透過率が増加し、より多くなるに従い、減少して
いくことがわかった。他方、平行透過率は容積分率が増
えるに従い、急激に減少していくことがわかった。これ
は図6にほぼ対応していることがわかった。これより、
厚み20μmのとき酸化チタンの場合には0.5容量%以上
で異方性散乱が生じており、偏光成分が増加しており、
3容量%以上で後方散乱が生じてきていることがわか
る。このとき、0.5容量%で20μmの場合には厚み
方向には約7個相当の粒子が存在しており、7重の多重
散乱を受けることとなる。また、3容量%では40層程
度の粒子層ができていることになる。また、80容量%
以上で急激に直交透過率が低下しているが、これは酸化
チタンの分散が完全でないものと考えられる。
乱素子における酸化チタン(1)の厚み依存を検討した。作製
法は実施例2と同様に行った。酸化チタンの容量%は8容
量%、と33容量%のものを用いた(それぞれ前方散乱
主体と後方散乱主体にほぼ相当する)。厚みはは約3か
ら150μmとした。結果を図14に示す。
度から異方性散乱効果が生じており、16μm以上で後
方散乱が生じていることがわかった。このとき粒子の数
は約3層で異方性散乱が生じていることとなり、3層以
上で散乱が効果的になるものと考えられる。また後方散
乱を利用する場合には8層以上必要なことがわかった
(理想的に配列していると考えて)。他方、33容量%
の場合、約3μm程度でも後方散乱が生じていることが
わかった。
も実施例1と同様な方法で異方性散乱素子を作製した。
用いた粒子を表5に示す。ガラスファイバーはコーニン
グ(株)、日本電気硝子(株)、モトヤマ(株)等から
入手した。炭化ケイ素、窒化ケイ素については高純度化
学(株)から、ホウ酸アルミは岡田化学(株)より入手
した。
を作製し、厚みを実施例4と同様に変えてを作製した。
直交透過率および平行透過率の測定結果を図15に示
す。図15より、屈折率差が大きいほど前方散乱の極大
となる厚み(言い換えると後方散乱がはじまる厚み)が
薄く、屈折率差が小さいほど前方散乱が極大となる厚み
が大きくなることがわかる。
なる厚みと屈折率差との関係を示す。
ば厚みさえ厚くすれば異方性散乱が生じることがわか
る。また、後方散乱は図15、図16からわかるように
屈折率差が0.13以上、好ましくは0.28以上あれ
ば効率よく生じることがわかる。これらの効果はフィル
ム厚みだけではなく粒子の容積%を変化させても同様な
ことがいえる。図15より、屈折率差が小さければ短軸
の長さが0.5μm(500nm)と波長よりも大きくなっても
あまり影響しないことがわかった。このとき屈折率差が
小さいため散乱はあまり効率的ではなかった。好ましく
は波長より小さいことが必要と思われる。
用いた方式について以下説明する。粒子は酸化チタン(1)を
用いて実施例1と同様な方法で樹脂との複合体を作製し
た。紫外線で硬化する前20μmのスペーサ(積水ファインケ
ミカル(株)製)を0.5wt%樹脂に混入させ、ガラス基板状
に垂らし、もう一方のガラス基板で挟み込み、上のガラ
ス基板を20μmの幅で60回/分、マイクロメータを用いて一
方向にシェアリンク゛した。配列は延伸と同様に行われていた
ことが顕微鏡観察によりわかった。
ックライト及び液晶パネルについて説明する。実施例1
で作製した3種類の異方性散乱素子177を図17に示
すように両側に偏光板171を設けた液晶パネル170
と、サイト゛ライト型ハ゛ックライト172の導光板173の間に設置
した。このとき液晶パネルのハ゛ックライト側の偏光軸174
と異方性散乱素子177の透過軸176が一致するよう
に異方性散乱素子177を設置した。175は導光板下
に設置された反射板である。また液晶パネルはTN型を
用いて最も明るい状態となるように電圧設定した(この
とき電圧無印加時が最も明るい状態であった)。このと
きハ゛ックライトからの明るさを測定した結果を表7に示す。フ
ィルム厚としては約20μmのものをそれぞれ選んだ。また
表7で無しは異方性散乱素子を用いなかった場合であり
基準値となる。
大幅に向上した。 酸化チタン(1)がもっとも効率が高く、
短軸方向が小さいほど効果が大きいことが分かった。
の測定を行った。結果を表8に示す。表8において明る
さはRefの場合を100%とした。比較として導光板下の反
射板25を除いた結果と合わせて表8に示す。表8よ
り、反射板のある場合はどの異方性散乱素子でも効果は
あった。しかしながら、反射板のない場合では後方散乱
の大きい異方性散乱素子では効果が少ないことがわかっ
た。これは前述の後方散乱の利用で述べたこととほぼ一
致する。
ックライト及び液晶パネルについて説明する。直下型バック
ライトとして図18に示すように蛍光灯181を用いて
かつ蛍光灯182の後方に反射板183を設けたバック
ライトに種々の異方性散乱素子185を設置した。ま
た、両側に偏光板181を備える液晶パネル180を実
施例7と同様に設置し、液晶パネル180の透過率を測
定した。184は液晶パネルのハ゛ックライト側の偏光軸、1
86は異方性散乱素子185の透過軸を示す。異方性散
乱素子の散乱軸を示す。いずれの場合も実施例7と同様
に明るい状態が得られた。
うに1/4λ板191を反射板192の上に設けた。他
の構成は図2と同じであるので、同一部品には同一番号
を付して説明を省略する。このときの液晶パネルの明る
さを表9に示す。
がみられた。
用いた場合の一実施例について説明する。実施例7の液
晶パネルを用いて図20のような配置で反射型液晶パネ
ルを作製した。201は液晶パネル、202は反射板、
203は異方性散乱素子である。異方性散乱素子203
の散乱軸と液晶パネルの偏光板204の偏光軸との関係
は実施例7と同様にした。種々の異方性散乱素子につい
て明るさとコントラストを測定した。結果を表10に示
す。
るが、後方散乱の大きな異方性散乱素子ではコントラス
トが低下していることがわかる。これは後方散乱のため
外光が反射しているためであり、反射液晶パネルの場合
には前方散乱主体のものが好ましいことがわかった。
乱粒子である酸化チタン(1)を用いてネマティック液晶材料である
ZLI4792(メルク(株)製)と混合した。このと
き混合比率としてZぃ4792:酸化チタン(1)=7:3重
量比とした。配向膜はポリイミドSE4110を用いて
硝子基板上に塗布、乾燥することで形成した。通常のラヒ
゛ンク゛法で上下基板とも一軸配向を施し、スヘ゜ーサとして2
0μmの硝子ファイバーを用いて基板上に分散し、通常
のシール印刷の後、加圧硬化して、均一なセル厚の空ハ゜ネル
を作製した。このときラヒ゛ンク゛方向は上下基板で同じ方向
になるようにした。この空ハ゜ネルに上記液晶混合物を通常
の真空注入法で注入し、通常の方法で封口を行い。15
0℃で1時間アニールした。このように作製した液晶ハ゜ネルを
顕微鏡観察したところ異方性散乱粒子である酸化チタンは
ほぼ液晶の分子配列方向に並んでいた。上記液晶ハ゜ネルを
実施例2と同様に異方性散乱素子として用いたところ、
液晶パネルの明るさ約1.4倍に向上していた。
場、電場等の印加により液晶の配列ひいては異方性散乱
粒子の配列を行うことが可能であることはいうまでもな
い。また、これらは当然ながら液晶モノマーを少量あるいは
全液晶成分として用いることによって紫外線による硬化
で酸化チタン粒子を固定化(例えば比重による違いでの重
力落下を防ぐ)することができる。
ネルを作製したこのとき上下基板でラビング軸を直交さ
せ、いわゆる90度ねじれネマティックハ゜ネルを作製した。(以
下、TNハ゜ネルと略す) このときカイラル剤としてS811(メルク(株)製)をヒ゜
ッチ100μmとなるようにした。このときのセル厚は20
μmとした。このTNハ゜ネルを実施例4と同様に異方性散乱
素子として用いたところ、輝度早買う1.4倍となり、
しかも目視検査による視角依存が小さいことが分かっ
た。なお当然ながら実施例4と同様に液晶モノマーを用いる
ことにより同様の安定化を行えることができる。
ることで安定で効果の高い偏光変換素子を得ることがで
き、ハ゛ックライト及び液晶パネルの明るさを大幅に向上でき
る。 (2) 位相差板(1/4λ板等)との組み合わせにより偏
光変換をより有効にでき、明るさを向上できる。 (3) 液晶を用いて配向させることにより異方性散乱粒子
のねじれ構造を得ることができ、視角依存などをも改善
できる。
ある。
゛ムを示す原理図である。
る。
る。
した図である。
との関係を示した図である。
す模式図である。
式図である。
係を示したグラフである。
過率との関係を示したグラフである。
過率との関係を示したグラフである。
長依存性との関係を示したグラフである。
過率との関係を示したグラフである。
子の厚みと透過率との関係を示したグラフである。
散乱素子の透過率と厚みとの関係を示したグラフであ
る。
の関係を示すク゛ラフである。
パネルを示す模式図である。
パネルを示す模式図である。
液晶パネルを示す模式図である。
模式図である。
散乱素子 30、175、183、192、202 反射板 33、191 位相差板 170、180、201 液晶パネル 171、181 偏光板 172 バックライト装置 173 導光板。
Claims (25)
- 【請求項1】 アスペクト比が1以上の散乱粒子を屈折
率の異なる支持媒質中に分散配列してなることを特徴と
する異方性散乱素子。 - 【請求項2】上記散乱粒子が短軸方向と長軸方向で偏光
に対して異方性を有する請求項1記載の異方性散乱素
子。 - 【請求項3】上記散乱粒子の短軸長さがRayleigh散乱領
域以下である一方,長軸長さがMie散乱領域あるいは幾何
学散乱領域であり、偏光成分に対し異方性を有する請求
項2記載の異方性散乱素子。 - 【請求項4】上記散乱粒子の短軸方向の長さが用いる光
の波長以下であることを特徴とする請求項1〜3のいず
れかに記載の異方性散乱素子。 - 【請求項5】偏光素子の偏光軸と異方性散乱素子の透過
軸を一致させたことを特徴とする請求項1〜3のいずれ
かに記載の異方性散乱素子。 - 【請求項6】上記散乱粒子の配列がねじれ構造を有する
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の異方
性散乱素子。 - 【請求項7】 上記散乱粒子が酸化チタン、酸化ジルコ
ニウム、酸化亜鉛、炭化シリコン、窒化ケイ素、炭化ケ
イ素、ホウ酸アルミおよびガラスからなる群から選ばれ
る1種である請求項1記載の異方性散乱素子。 - 【請求項8】上記支持媒質が透光性であることを特徴と
する請求項1記載の異方性散乱素子。 - 【請求項9】上記支持媒質が樹脂または高分子からなる
ことを特徴とする請求項1記載の異方性散乱素子。 - 【請求項10】 上記散乱粒子と支持媒質との屈折率差
が0.05以上である請求項1記載の異方性散乱素子。 - 【請求項11】 上記散乱粒子の上記支持媒質の容積分
率3%以上である請求項1記載の異方性散乱素子。 - 【請求項12】 素子厚みが3μm以上である請求項1
記載の異方性散乱素子。 - 【請求項13】 上記散乱粒子の厚み方向への配列数が
3個以上である請求項1記載の異方性散乱素子。 - 【請求項14】 上記散乱粒子と支持媒質との屈折率差
または上記支持媒質中の散乱粒子の密度が後方散乱を主
体とする領域にある請求項1記載の異方性散乱素子。 - 【請求項15】 上記散乱粒子と支持媒質との屈折率差
または上記支持媒質中の散乱粒子の密度が前方散乱を主
体とする領域にある請求項1記載の異方性散乱素子。 - 【請求項16】 上記支持媒質中の散乱粒子の一方向配
列が電場あるいは磁場の印加、支持媒質の一方向延伸ま
たはずり応力の適用のいずれかにより行う請求項1記載
の異方性散乱素子。 - 【請求項17】 上記支持媒質が液晶であり、液晶中に
分散して配列しすることを特徴とすることを特徴とする
請求項1〜4のいずれかに記載の異方性散乱素子。 - 【請求項18】 液晶によって配列した後、液晶中の重
合性成分を重合することにより、支持媒質中に散乱粒子
を固定してなる請求項1〜4のいずれかに記載の異方性
散乱素子。 - 【請求項19】 少なくとも表面側に偏光板を有する液
晶パネル、該液晶パネルの裏面側に位置するバックライ
ト装置と、上記液晶パネルとバックライト装置との間に
位置する、アスペクト比が1以上の散乱粒子を屈折率の
異なる支持媒質中に分散配列してなる後方散乱を主体と
する異方性散乱面素子と、バックライト装置の裏面側に
反射板あるいは散乱板を備え、上記異方性散乱素子の散
乱方向と上記液晶面素子の偏光軸あるいは吸収軸とをほ
ぼ一致させてなる液晶ディスプレイ。 - 【請求項20】 上記液晶パネルが表面側および裏面側
にそれぞれ偏光板を有する請求項20記載の液晶ディス
プレイ。 - 【請求項21】 上記異方性散乱素子と反射板ないしは
散乱板の間に位相差板を有する請求項19記載の液晶デ
ィスプレイ。 - 【請求項22】 位相差板が1/4波長板である請求項
21記載の液晶ディスプレイ。 - 【請求項23】 上記バックライト装置が光源から導光
板を通じて照明を行うサイド型バックライトである請求
項19記載の液晶ディスプレイ。 - 【請求項24】 上記バックライト装置が直下型のバッ
クライトである請求項19記載の液晶ディスプレイ。 - 【請求項25】 液晶パネルの裏面側に位置する反射板
と、上記液晶パネルの表面側に位置する、アスペクト比
が1以上の散乱粒子を屈折率の異なる支持媒質中に、前
方散乱が得られるように分散配列してなる異方性散乱素
子とを備え、外光が上記液晶パネルに入射される前に上
記異方性散乱素子に入射するようにしてなることを特徴
とする反射型液晶ディスプレイ。
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