JPH09295266A - ウェットブラストエッチング装置 - Google Patents
ウェットブラストエッチング装置Info
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- JPH09295266A JPH09295266A JP10916896A JP10916896A JPH09295266A JP H09295266 A JPH09295266 A JP H09295266A JP 10916896 A JP10916896 A JP 10916896A JP 10916896 A JP10916896 A JP 10916896A JP H09295266 A JPH09295266 A JP H09295266A
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- blast etching
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は高精度のウェットブラストエッチン
グを可能にすることを目的とする。 【解決手段】 ワーク１に砥粒を混入した液体を高圧噴
射して該ワーク１をエッチングするウェットブラストエ
ッチング装置において、ワーク１を載置する載置部２を
磁石で構成し、該載置部２の上面に載置されたワーク１
上に載置され前記砥粒を混入した液体を通過させる所望
形状の窓孔３を形成したワークマスク４を設け、このワ
ークマスク４は前記磁石に着磁される部材で形成するも
のである。
グを可能にすることを目的とする。 【解決手段】 ワーク１に砥粒を混入した液体を高圧噴
射して該ワーク１をエッチングするウェットブラストエ
ッチング装置において、ワーク１を載置する載置部２を
磁石で構成し、該載置部２の上面に載置されたワーク１
上に載置され前記砥粒を混入した液体を通過させる所望
形状の窓孔３を形成したワークマスク４を設け、このワ
ークマスク４は前記磁石に着磁される部材で形成するも
のである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はウェットブラスト法
を用いたエッチング装置に関するものである。
を用いたエッチング装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来か
ら、樹脂粒や金属粒などの砥粒（直径数μｍ〜数百μ
ｍ）を混入した水をワークに向けて加工エアーとともに
数十ｍ／ｓｅｃ〜約３００ｍ／ｓｅｃ程度の速度で高圧
噴射せしめ、ワークをエッチング処理するウェットブラ
ストエッチング法が提案されている。
ら、樹脂粒や金属粒などの砥粒（直径数μｍ〜数百μ
ｍ）を混入した水をワークに向けて加工エアーとともに
数十ｍ／ｓｅｃ〜約３００ｍ／ｓｅｃ程度の速度で高圧
噴射せしめ、ワークをエッチング処理するウェットブラ
ストエッチング法が提案されている。
【０００３】このウェットブラストエッチング法におい
ては、ワークのエッチング部分とエッチング不要部分と
を区分する為（所望のパターンのエッチングを行う
為）、砥粒を混入した水を通過させる窓孔を形成したワ
ークマスクをワークの上に載置し、砥粒を混入した水を
この窓孔を通過させてワークに高圧噴射し、ワークを所
望通りにエッチングしている。
ては、ワークのエッチング部分とエッチング不要部分と
を区分する為（所望のパターンのエッチングを行う
為）、砥粒を混入した水を通過させる窓孔を形成したワ
ークマスクをワークの上に載置し、砥粒を混入した水を
この窓孔を通過させてワークに高圧噴射し、ワークを所
望通りにエッチングしている。
【０００４】しかしながら、このような従来法は、単に
ワークマスクをワーク上に載置するものである為、砥粒
を混入した水が高圧噴射されると、このワークマスクが
微動したり、また、ワーク表面に水分があったりすると
ワークと密着せずワークマスクとワークの間に砥粒が回
り込んでエッチング部分が不正確になってしまうという
問題がある。
ワークマスクをワーク上に載置するものである為、砥粒
を混入した水が高圧噴射されると、このワークマスクが
微動したり、また、ワーク表面に水分があったりすると
ワークと密着せずワークマスクとワークの間に砥粒が回
り込んでエッチング部分が不正確になってしまうという
問題がある。
【０００５】本発明はこのような欠点を解決したウェッ
トブラストエッチング装置を提供するものである。
トブラストエッチング装置を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】添付図面を参照して本発
明の要旨を説明する。
明の要旨を説明する。
【０００７】ワーク１に砥粒を混入した液体を高圧噴射
して該ワーク１をエッチングするウェットブラストエッ
チング装置において、ワーク１を載置する載置部２を磁
石で構成し、該載置部２の上面に載置されたワーク１上
に載置され前記砥粒を混入した液体を通過させる所望形
状の窓孔３を形成したワークマスク４を設け、このワー
クマスク４は前記磁石に着磁される部材で形成されてい
ることを特徴とするウェットブラストエッチング装置に
係るものである。
して該ワーク１をエッチングするウェットブラストエッ
チング装置において、ワーク１を載置する載置部２を磁
石で構成し、該載置部２の上面に載置されたワーク１上
に載置され前記砥粒を混入した液体を通過させる所望形
状の窓孔３を形成したワークマスク４を設け、このワー
クマスク４は前記磁石に着磁される部材で形成されてい
ることを特徴とするウェットブラストエッチング装置に
係るものである。
【０００８】また、請求項１記載のウェットブラストエ
ッチング装置において、ワークマスク４として、前記磁
石に着磁される金属部材４ｃの下側にワーク１の上面に
当接するゴム部材４ｂを設け、この金属部材４ｃ及びゴ
ム部材４ｂには前記砥粒を混入した液体を通過させる所
望形状の窓孔３が形成されているワークマスク４を採用
したことを特徴とするウェットブラストエッチング装置
に係るものである。
ッチング装置において、ワークマスク４として、前記磁
石に着磁される金属部材４ｃの下側にワーク１の上面に
当接するゴム部材４ｂを設け、この金属部材４ｃ及びゴ
ム部材４ｂには前記砥粒を混入した液体を通過させる所
望形状の窓孔３が形成されているワークマスク４を採用
したことを特徴とするウェットブラストエッチング装置
に係るものである。
【０００９】また、請求項１記載のウェットブラストエ
ッチング装置において、ワークマスク４として、表裏に
ゴム部材４ａ，４ｂを設け、このゴム部材４ａ，４ｂの
間に前記磁石には着磁される金属部材４ｃを配し、表裏
のゴム部材４ａ，４ｂ及び金属部材４ｃには前記砥粒を
混入した液体を通過させる所望形状の窓孔３が形成され
ているワークマスク４を採用したことを特徴とするウェ
ットブラストエッチング装置に係るものである。
ッチング装置において、ワークマスク４として、表裏に
ゴム部材４ａ，４ｂを設け、このゴム部材４ａ，４ｂの
間に前記磁石には着磁される金属部材４ｃを配し、表裏
のゴム部材４ａ，４ｂ及び金属部材４ｃには前記砥粒を
混入した液体を通過させる所望形状の窓孔３が形成され
ているワークマスク４を採用したことを特徴とするウェ
ットブラストエッチング装置に係るものである。
【００１０】また、請求項２，３いずれか１項に記載の
ウェットブラストエッチング装置において、ゴム部材４
ａ，４ｂとしてウレタンゴムを採用したことを特徴とす
るウェットブラストエッチング装置に係るものである。
ウェットブラストエッチング装置において、ゴム部材４
ａ，４ｂとしてウレタンゴムを採用したことを特徴とす
るウェットブラストエッチング装置に係るものである。
【００１１】また、請求項１記載のウェットブラストエ
ッチング装置において、ワークマスク４として、ゴム部
材７に鉄粉等の前記磁石に着磁される粉体若しくは微小
粒体が混在されているワークマスク４を採用したことを
特徴とするウェットブラストエッチング装置に係るもの
である。
ッチング装置において、ワークマスク４として、ゴム部
材７に鉄粉等の前記磁石に着磁される粉体若しくは微小
粒体が混在されているワークマスク４を採用したことを
特徴とするウェットブラストエッチング装置に係るもの
である。
【００１２】また、請求項５記載のウェットブラストエ
ッチング装置において、ゴム部材７としてウレタンゴム
を採用したことを特徴とするウェットブラストエッチン
グ装置に係るものである。
ッチング装置において、ゴム部材７としてウレタンゴム
を採用したことを特徴とするウェットブラストエッチン
グ装置に係るものである。
【００１３】また、請求項１記載のウェットブラストエ
ッチング装置において、ワーク１と載置部２との間にゴ
ム部材６を介存せしめたことを特徴とするウェットブラ
ストエッチング装置に係るものである。
ッチング装置において、ワーク１と載置部２との間にゴ
ム部材６を介存せしめたことを特徴とするウェットブラ
ストエッチング装置に係るものである。
【００１４】また、請求項１記載のウェットブラストエ
ッチング装置において、ワーク１と載置部２との間に、
砥粒を混入した液体によりエッチングされる程度に柔ら
かい補助部材５を介存せしめたことを特徴とするウェッ
トブラストエッチング装置に係るものである。
ッチング装置において、ワーク１と載置部２との間に、
砥粒を混入した液体によりエッチングされる程度に柔ら
かい補助部材５を介存せしめたことを特徴とするウェッ
トブラストエッチング装置に係るものである。
【００１５】また、請求項８記載のウェットブラストエ
ッチング装置において、補助部材５と載置部２との間に
ゴム部材６を介存せしめたことを特徴とするウェットブ
ラストエッチング装置に係るものである。
ッチング装置において、補助部材５と載置部２との間に
ゴム部材６を介存せしめたことを特徴とするウェットブ
ラストエッチング装置に係るものである。
【００１６】また、請求項７，９いずれか１項に記載の
ウェットブラストエッチング装置において、ゴム部材６
として、ウレタンゴムを採用したことを特徴とするウェ
ットブラストエッチング装置に係るものである。
ウェットブラストエッチング装置において、ゴム部材６
として、ウレタンゴムを採用したことを特徴とするウェ
ットブラストエッチング装置に係るものである。
【００１７】また、請求項７，８，９いずれか１項に記
載のウェットブラストエッチング装置において、ワーク
マスク４として、請求項２，３，５いずれか１項に記載
のワークマスク４を採用したことを特徴とするウェット
ブラストエッチング装置に係るものである。
載のウェットブラストエッチング装置において、ワーク
マスク４として、請求項２，３，５いずれか１項に記載
のワークマスク４を採用したことを特徴とするウェット
ブラストエッチング装置に係るものである。
【００１８】
【作用並びに効果】請求項１に係る発明によれば、ワー
クマスク４は磁石の磁力により所定の位置に固定される
為、正確なエッチングが達成される。また、ワークマス
ク４は特別な固定手段ではなく、磁石の磁力による固定
手段の為、非常に簡易に固定が行えることになる。
クマスク４は磁石の磁力により所定の位置に固定される
為、正確なエッチングが達成される。また、ワークマス
ク４は特別な固定手段ではなく、磁石の磁力による固定
手段の為、非常に簡易に固定が行えることになる。
【００１９】請求項２に係る発明によれば、ワーク１と
ワークマスク４との間に弾性を有するゴム部材４ｂが存
する為、該ワーク１とワークマスク４とは確実に密着
し、それだけ正確なエッチングが達成される。例えば、
ワークマスク４にそりがあったりした場合でもこのゴム
部材４ｂによりワーク１との密着性は良好となる。
ワークマスク４との間に弾性を有するゴム部材４ｂが存
する為、該ワーク１とワークマスク４とは確実に密着
し、それだけ正確なエッチングが達成される。例えば、
ワークマスク４にそりがあったりした場合でもこのゴム
部材４ｂによりワーク１との密着性は良好となる。
【００２０】また、ゴム部材４ｂは砥粒に対して耐摩耗
性が高い為、ゴム部材４ｂに形成されている窓孔３のエ
ッチングは少なく、よって、この点においても正確なエ
ッチングが達成される。
性が高い為、ゴム部材４ｂに形成されている窓孔３のエ
ッチングは少なく、よって、この点においても正確なエ
ッチングが達成される。
【００２１】請求項３に係る発明によれば、ゴム部材４
ａの存在故に金属部材４ｃは砥粒から保護され、該金属
部材４ｃの耐久性がそれだけ高まることになる。また、
ゴム部材４ａ，４ｂの間には金属部材４ｃが存する為、
該ゴム部材４ａ，４ｂののびは抑制され、それだけ寸法
安定性に秀れたワークマスク４となる。
ａの存在故に金属部材４ｃは砥粒から保護され、該金属
部材４ｃの耐久性がそれだけ高まることになる。また、
ゴム部材４ａ，４ｂの間には金属部材４ｃが存する為、
該ゴム部材４ａ，４ｂののびは抑制され、それだけ寸法
安定性に秀れたワークマスク４となる。
【００２２】請求項５に係る発明は、ゴム部材７に着磁
される粉体等を混合したワークマスク４を採用する為、
請求項１，２の上記作用をすべて備えたものとなる。
される粉体等を混合したワークマスク４を採用する為、
請求項１，２の上記作用をすべて備えたものとなる。
【００２３】請求項７に係る発明は、ワーク１と載置部
２との間にゴム部材６が存する為、載置部２が砥粒を混
入した水により損傷されることが防止される。
２との間にゴム部材６が存する為、載置部２が砥粒を混
入した水により損傷されることが防止される。
【００２４】請求項８に係る発明は、ワーク１と載置部
２との間に補助部材５が存する為、高圧噴射される砥粒
を混入した水は該補助部材５も抉ることになり、それだ
け、ワーク１に穿設される孔１ａはきれいな孔１ａとな
る。特に該孔１ａの下縁がきれいになる。
２との間に補助部材５が存する為、高圧噴射される砥粒
を混入した水は該補助部材５も抉ることになり、それだ
け、ワーク１に穿設される孔１ａはきれいな孔１ａとな
る。特に該孔１ａの下縁がきれいになる。
【００２５】請求項９に係る発明は請求項７，８の上記
作用をすべて備えたものとなる。
作用をすべて備えたものとなる。
【００２６】本発明は上述のように構成したから高精度
のウェットブラストエッチングが可能となる。
のウェットブラストエッチングが可能となる。
【００２７】
【発明の実施の形態】図１は第一実施例、図２は第二実
施例、図３は第三実施例、図４は第四実施例、図５は第
五実施例、図６は第六実施例である。
施例、図３は第三実施例、図４は第四実施例、図５は第
五実施例、図６は第六実施例である。
【００２８】載置部２は、載置部２そのものを磁石で構
成しても、また、基体部に磁石板を付設してもどちらで
も良い。
成しても、また、基体部に磁石板を付設してもどちらで
も良い。
【００２９】図１のワークマスク４は厚さ約１ｍｍの鉄
製やステンレス製の板材であり、このワークマスク４に
は砥粒を混入した水が通過する窓孔３が穿設される。
製やステンレス製の板材であり、このワークマスク４に
は砥粒を混入した水が通過する窓孔３が穿設される。
【００３０】図２のワークマスク４は厚さ約０.１ｍｍ
のゴム部材４ａ，４ｂ（ウレタンゴム）間に厚さ約０.
１ｍｍの鉄製の金属部材４ｃが配されたサンドイッチ状
の構造である。この場合において、金属部材４ｃに形成
した砥粒を混入した水が通過する窓孔３がゴム部材４
ａ，４ｂの窓孔３より径大なのはゴム部材４ｂをパター
ニング用マスクとして使用する為である（ゴム部材４ｂ
の窓孔３に所望のパターンを決定させる。）。尚、エッ
チングパターンの精度が比較的緩やかな場合は金属部材
４ｃ及びゴム部材４ａ，４ｂの窓孔３は同径にしても良
い。
のゴム部材４ａ，４ｂ（ウレタンゴム）間に厚さ約０.
１ｍｍの鉄製の金属部材４ｃが配されたサンドイッチ状
の構造である。この場合において、金属部材４ｃに形成
した砥粒を混入した水が通過する窓孔３がゴム部材４
ａ，４ｂの窓孔３より径大なのはゴム部材４ｂをパター
ニング用マスクとして使用する為である（ゴム部材４ｂ
の窓孔３に所望のパターンを決定させる。）。尚、エッ
チングパターンの精度が比較的緩やかな場合は金属部材
４ｃ及びゴム部材４ａ，４ｂの窓孔３は同径にしても良
い。
【００３１】図３のワークマスク４はゴム部材７に鉄粉
を混在せしめたものである。
を混在せしめたものである。
【００３２】図４はワーク１の下側にゴム部材６（ウレ
タンゴム）を設けた場合である。
タンゴム）を設けた場合である。
【００３３】図５はワーク１の下側に合成樹脂製の補助
部材５を設けた場合である。
部材５を設けた場合である。
【００３４】図６はワーク１の下側に合成樹脂製の補助
部材５を設け、この補助部材５の下側にゴム部材６を設
けた場合である。
部材５を設け、この補助部材５の下側にゴム部材６を設
けた場合である。
【００３５】図面はこの六つの実施例しか図示していな
いが、請求項に記載したように、種々の組み合わせが可
能である。
いが、請求項に記載したように、種々の組み合わせが可
能である。
【００３６】また、本発明者は砥粒に対しての耐久性、
入手し易さ等の種々の理由からゴム部材としてはウレタ
ンゴムが最適であることを確認している。
入手し易さ等の種々の理由からゴム部材としてはウレタ
ンゴムが最適であることを確認している。
【００３７】符号８は砥粒を混入した水を高圧噴射する
ノズルである。
ノズルである。
【００３８】本実施例は上述のような構成であるから、
第一実施例においては、ワークマスク４が確実に固定さ
れ、また、第二実施例においてはワークマスク４とワー
ク１との密着性及びパターン寸法の精度保持がゴム部材
４ｂにより達成されるとともにゴム部材４ａにより金属
部材４ｃは砥粒から保護され、また、第三実施例におい
てはワークマスク４とワーク１との密着性及びパターン
寸法の精度保持がゴム部材７により達成され、第四，
五，六実施例においては、ゴム部材６により載置部２の
磁石が保護されるとともに補助部材５によりワーク１に
穿設される孔１ａがきれいに形成されることになる。
第一実施例においては、ワークマスク４が確実に固定さ
れ、また、第二実施例においてはワークマスク４とワー
ク１との密着性及びパターン寸法の精度保持がゴム部材
４ｂにより達成されるとともにゴム部材４ａにより金属
部材４ｃは砥粒から保護され、また、第三実施例におい
てはワークマスク４とワーク１との密着性及びパターン
寸法の精度保持がゴム部材７により達成され、第四，
五，六実施例においては、ゴム部材６により載置部２の
磁石が保護されるとともに補助部材５によりワーク１に
穿設される孔１ａがきれいに形成されることになる。
【図１】第一実施例の説明断面図である。
【図２】第二実施例の説明断面図である。
【図３】第三実施例の説明断面図である。
【図４】第四実施例の説明断面図である。
【図５】第五実施例の説明断面図である。
【図６】第六実施例の説明断面図である。
１ ワーク ２ 載置部 ３ 窓孔 ４ ワークマスク ４ａ ゴム部材 ４ｂ ゴム部材 ４ｃ 金属部材 ５ 補助部材 ６ ゴム部材 ７ ゴム部材
Claims (11)
- 【請求項１】 ワークに砥粒を混入した液体を高圧噴射
して該ワークをエッチングするウェットブラストエッチ
ング装置において、ワークを載置する載置部を磁石で構
成し、該載置部の上面に載置されたワーク上に載置され
前記砥粒を混入した液体を通過させる所望形状の窓孔を
形成したワークマスクを設け、このワークマスクは前記
磁石に着磁される部材で形成されていることを特徴とす
るウェットブラストエッチング装置。 - 【請求項２】 請求項１記載のウェットブラストエッチ
ング装置において、ワークマスクとして、前記磁石に着
磁される金属部材の下側にワークの上面に当接するゴム
部材を設け、この金属部材及びゴム部材には前記砥粒を
混入した液体を通過させる所望形状の窓孔が形成されて
いるワークマスクを採用したことを特徴とするウェット
ブラストエッチング装置。 - 【請求項３】 請求項１記載のウェットブラストエッチ
ング装置において、ワークマスクとして、表裏にゴム部
材を設け、このゴム部材の間に前記磁石には着磁される
金属部材を配し、表裏のゴム部材及び金属部材には前記
砥粒を混入した液体を通過させる所望形状の窓孔が形成
されているワークマスクを採用したことを特徴とするウ
ェットブラストエッチング装置。 - 【請求項４】 請求項２，３いずれか１項に記載のウェ
ットブラストエッチング装置において、ゴム部材として
ウレタンゴムを採用したことを特徴とするウェットブラ
ストエッチング装置。 - 【請求項５】 請求項１記載のウェットブラストエッチ
ング装置において、ワークマスクとして、ゴム部材に鉄
粉等の前記磁石に着磁される粉体若しくは微小粒体が混
在されているワークマスクを採用したことを特徴とする
ウェットブラストエッチング装置。 - 【請求項６】 請求項５記載のウェットブラストエッチ
ング装置において、ゴム部材としてウレタンゴムを採用
したことを特徴とするウェットブラストエッチング装
置。 - 【請求項７】 請求項１記載のウェットブラストエッチ
ング装置において、ワークと載置部との間にゴム部材を
介存せしめたことを特徴とするウェットブラストエッチ
ング装置。 - 【請求項８】 請求項１記載のウェットブラストエッチ
ング装置において、ワークと載置部との間に、砥粒を混
入した液体によりエッチングされる程度に柔らかい補助
部材を介存せしめたことを特徴とするウェットブラスト
エッチング装置。 - 【請求項９】 請求項８記載のウェットブラストエッチ
ング装置において、補助部材と載置部との間にゴム部材
を介存せしめたことを特徴とするウェットブラストエッ
チング装置。 - 【請求項１０】 請求項７，９いずれか１項に記載のウ
ェットブラストエッチング装置において、ゴム部材とし
て、ウレタンゴムを採用したことを特徴とするウェット
ブラストエッチング装置。 - 【請求項１１】 請求項７，８，９いずれか１項に記載
のウェットブラストエッチング装置において、ワークマ
スクとして、請求項２，３，５いずれか１項に記載のワ
ークマスクを採用したことを特徴とするウェットブラス
トエッチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10916896A JPH09295266A (ja) | 1996-04-30 | 1996-04-30 | ウェットブラストエッチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10916896A JPH09295266A (ja) | 1996-04-30 | 1996-04-30 | ウェットブラストエッチング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09295266A true JPH09295266A (ja) | 1997-11-18 |
Family
ID=14503385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10916896A Pending JPH09295266A (ja) | 1996-04-30 | 1996-04-30 | ウェットブラストエッチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09295266A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003092344A1 (en) * | 2002-04-24 | 2003-11-06 | Ube Industries, Ltd. | Production of via hole in flexible circuit printable board |
-
1996
- 1996-04-30 JP JP10916896A patent/JPH09295266A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003092344A1 (en) * | 2002-04-24 | 2003-11-06 | Ube Industries, Ltd. | Production of via hole in flexible circuit printable board |
| US7918021B2 (en) | 2002-04-24 | 2011-04-05 | Ube Industries, Ltd. | Production of via hole in a flexible printed circuit board by applying a laser or punch |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050826 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050905 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20051104 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060601 |