JPH09294988A - 純水製造装置 - Google Patents

純水製造装置

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JPH09294988A
JPH09294988A JP8113627A JP11362796A JPH09294988A JP H09294988 A JPH09294988 A JP H09294988A JP 8113627 A JP8113627 A JP 8113627A JP 11362796 A JP11362796 A JP 11362796A JP H09294988 A JPH09294988 A JP H09294988A
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Yoshiteru Misumi
好輝 三角
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 DIを備える純水製造装置において、処理水
質を低下させることなく、DIの濃縮水及び電極水を回
収処理する。 【解決手段】 DI2からの濃縮水を脱炭酸塔4で脱炭
酸処理し、RO装置1でRO処理した後DI2に送給す
る。DI2の電極水を活性炭塔5で脱塩素処理した後、
脱炭酸塔4に戻す。 【効果】 濃縮水及び電極水中の炭酸成分及びイオン類
を効率的に除去することができるため、濃縮水及び電極
水の循環によるDIのイオン負荷の増加が防止される。
酸化性のCl2 を含む電極水を脱塩素処理することによ
り、RO膜の酸化劣化を防止できる。水回収率を高めて
も、DI処理水質が低下することはなく、高水質の処理
水を安定かつ効率的に得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は純水製造装置に係
り、特に、電気脱イオン装置を備える純水製造装置であ
って、電気脱イオン装置から排出される濃縮水及び電極
水を効率的に処理して水の回収率を高めた純水製造装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体、レンズ、液晶等の洗浄用水、医
薬用水等に用いられる純水の製造装置あるいは燃料電池
用水処理装置等に、連続式電気脱イオン装置(Continuo
us De-Ionizer;以下「DI」と称す。)が用いられてい
る。このDIは、複数のアニオン交換膜及びカチオン交
換膜を交互に配列し、正の電極室と負の電極室との間に
濃縮水室と脱イオン水製造室とを交互に形成し、脱イオ
ン水製造室にアニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂とを
混合して充填した構成となっている。
【0003】このDIは特に逆浸透による製造水の更な
る水質向上に対して効果的な脱イオン処理が可能であ
り、イオン交換樹脂の再生を必要とせず、完全な連続採
水が可能で、極めて高純度の水が得られるという優れた
効果を奏する。
【0004】DIでは、脱イオン水製造室に流入した被
処理液中のイオンが親和力、濃度及び移動度に基いてイ
オン交換樹脂と反応して、電位の傾きの方向に樹脂中を
移動し、更に、脱イオン水製造室と濃縮水室とを仕切る
カチオン交換膜又はアニオン交換膜を横切って移動し、
すべての室において電荷の中和が保たれるようになる。
そして、イオン交換膜の半浸透特性及び電位の傾きの方
向性により、被処理液中のイオンは脱イオン水製造室で
は減少し、隣りの濃縮水室では濃縮されることになる。
このため、脱イオン水製造室から脱イオン水が回収され
る。
【0005】このようなDIの前処理手段として、一般
に、逆浸透膜分離装置(RO装置)が設けられている。
このRO装置で原水中の電解質、TOC成分を除去する
ことにより、DIにおける負荷を低減し、高純度の処理
水を得ることができるようになる。
【0006】ところで、DIの濃縮水室からは、被処理
水のイオンが濃縮された濃縮水が排出され、また、電極
室からは、電極室に集まったイオン類や発生したガスを
DIから排出するために電極水が排出される。これらの
イオン含有排水を系外に排出した場合、その排水量分だ
け水回収率が低下する。因みに、DIの濃縮水及び電極
水を全量系外に排出した場合のDIの水回収率は80%
程度である。
【0007】従って、節水及び排水処理設備の負荷軽減
の面からは、DIから排出される濃縮水及び電極水を回
収、処理して再利用することが望まれる。
【0008】従来、図2に示す如く、RO装置1の透過
水をDI2で処理する系において、DI2の濃縮水の一
部をポンプPでDI2の濃縮水室入口に循環し、残部を
タンク3に溜め、RO装置1の逆洗水として使用する
か、他の系で使用することが提案されている。
【0009】また、図3に示す如く、DI2の濃縮水の
一部をポンプPでDI2の濃縮水室入口に循環し、残部
をRO装置1の入口側に循環する方法も提案されてい
る。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】図2,3に示す如く、
DI2の濃縮水をDI2の入口側に直接循環する方法で
は、DI2の流入水の水質が低下し、得られる脱イオン
水の水質が上昇しないという問題がある。
【0011】図3に示す如く、DI2の濃縮水の一部を
RO装置1の入口側に循環する方法であっても、DIの
濃縮水に集められた炭酸成分の炭酸ガスがRO膜を透過
し、DI2内でHCO3 -,CO3 2- にイオン化されるこ
とでDI2のイオン負荷となり、やはり、DI2の脱イ
オン水の水質低下を引き起こす。
【0012】即ち、DIから排出される濃縮水及び電極
水中には、Na+ ,Ca2+,SO4 2 - ,Cl- などのイ
オン類の他、炭酸成分(CO2 ,HCO3 -,CO3 2-
が含まれている。また、正の電極室では酸化力のある塩
素ガス(Cl2 )が発生するため、正の電極室からの電
極水中にはCl2 も含まれている。
【0013】DIの濃縮水中の成分のうち、イオン類及
び炭酸成分のうちのイオン性のHCO3 -,CO3 2- は、
RO装置である程度除去可能であるが、CO2 ガスはR
O装置で除去することはできない。RO装置を通過した
CO2 ガスは、系内のpH条件により、一部がHC
3 -,CO3 2- に解離し、DIのイオン負荷となる。こ
のためDI処理水質が低下する。これらの炭酸成分は、
系内で蓄積される場合もあり、この結果としてDI処理
水質が更に低下する。
【0014】DIの電極水を循環した場合にも、上記と
同様の問題が起こる。また、正の電極室では酸化力のあ
る塩素ガス(Cl2 )が発生するため、これをそのまま
RO装置に循環すると、RO膜の酸化劣化の問題も生じ
る。
【0015】本発明は上記従来の問題点を解決し、DI
を備える純水製造装置であって、DIから排出される濃
縮水及び電極水を回収、処理することで水の回収率を高
めると共に、高水質の処理水を得ることができる純水製
造装置を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明の純水製造装置
は、原水を脱炭酸処理する脱炭酸手段と、該脱炭酸手段
の処理水を逆浸透膜分離処理する逆浸透膜分離手段と、
該逆浸透膜分離手段の透過水を脱イオン処理する電気脱
イオン装置とを備える純水製造装置であって、該電気脱
イオン装置から排出される濃縮水を前記脱炭酸手段に送
給する手段と、該電気脱イオン装置から排出される電極
水を脱塩素処理する脱塩素手段と、該脱塩素手段の処理
水を前記脱炭酸手段に送給する手段とを設けたことを特
徴とする。
【0017】かかる本発明の純水製造装置では、DIか
ら排出される濃縮水及び電極水を脱炭酸手段で脱炭酸処
理した後、RO装置で処理することにより、該濃縮水及
び電極水中の炭酸成分及びイオン類を効率的に除去する
ことができるため、濃縮水及び電極水の循環によるDI
のイオン負荷の増加は防止される。DIの水回収率も向
上する。
【0018】また、電極水を脱塩素手段で脱塩素処理す
ることにより、塩素によるRO膜の酸化劣化が防止され
る。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
【0020】図1は本発明の純水製造装置の実施の形態
を示す系統図である。
【0021】本実施の形態の装置は、原水を脱炭酸塔
4,RO装置1及びDI2で処理する純水製造装置に本
発明を適用したものであって、DI2から排出される電
極水を脱塩素処理するための活性炭塔5を設け、DI2
の濃縮水室2B,2Dから排出される濃縮水を脱炭酸塔
4の入口側に循環すると共に、DI2の電極室2A,2
Eから排出される電極水を活性炭塔5で脱塩素処理した
後、脱炭酸塔4の入口側に循環し、原水、濃縮水及び電
極水の脱塩素処理水に酸を添加した後、脱炭酸塔4,R
O装置1及びDI2で処理し、DI2の脱イオン水製造
室2Cから処理水を取り出すようにしたものである。
【0022】本実施の形態の純水製造装置では、DI2
の電極水は活性炭塔5で脱塩素処理された後、原水導入
側へ循環される。また、DI2の濃縮水は、そのまま原
水導入側へ循環される。
【0023】原水とDI2の濃縮水とDIの電極水の脱
塩素処理水は、酸の添加でpH4.0〜6.0程度に調
整された後、脱炭酸塔4でCO2 が除去される。
【0024】脱炭酸塔4の流出水は、ポンプPによりR
O装置1に導入されてRO処理され、含有されるイオン
類やTOC成分が除去される。このRO装置1の濃縮水
は系外へ排出される。このRO装置の水回収率(透過水
量/RO装置流入水量)は、水質と水回収率とのバラン
スの面から65〜85%程度とするのが好ましい。
【0025】RO装置1の透過水は、DI2に送給され
脱イオン処理されるが、この透過水はDI2の電極水中
のCl2 が活性炭塔5で除去され、更にDI2の電極
水、濃縮水及び原水中の炭酸成分が脱炭酸塔4で除去さ
れ、次いでイオン類やTOC成分がRO装置1で除去さ
れた、比較的水質の高い水であるため、この透過水をD
I2で処理することにより、高水質の処理水を得ること
ができる。
【0026】従って、このような純水製造装置であれ
ば、処理水の水質を低下させることなく、DIから排出
される濃縮水及び電極水を全量回収して処理することで
水の有効利用を図ることができる。
【0027】なお、図1に示す純水製造装置は本発明の
純水製造装置の一例であって、本発明は図示のものに限
定されるものではない。例えば、脱塩素手段としては活
性炭塔の他、触媒分解塔、重亜硫酸ソーダなどによる薬
品処理手段等を用いることができる。また、脱炭酸手段
としては、脱炭酸塔の他、脱気膜等を用いることができ
る。更に、DIの濃縮水の一部はポンプを設けてDI入
口に再循環しても良い。脱塩素手段に供給する電極水は
塩素ガスの発生する正極側のみでも良い。
【0028】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
【0029】実施例1 図1に示す本発明の純水製造装置により、リン酸型燃料
電池よりの排出水と補給市水の混合水(水質は下記の通
り)を原水として処理を行うに当り、DIの濃縮水を脱
炭酸塔に返送すると共に、DIの電極水を活性炭塔を経
て脱炭酸塔に返送した。
【0030】混合水水質 電気伝導率:93μS/cm pH :7.5 M−アルカリ度:42mg/L ナトリウムイオン:24.7mg/L 塩化物イオン:24mg/L シリカ :7mg/L 全硬度 :41mg/L 脱炭酸塔、RO装置、活性炭塔及びDIとしては下記の
ものを用い、DIの印加電圧は80Vとした。
【0031】脱炭酸塔: 塔有効高さ:2m 充填物:ネットリング(径1インチ) 給水pH:5.5(HCl添加により調整) RO装置:RO膜として栗田工業(株)製「KROA−
98HN」(ポリアミド系合成複合膜)を装填したもの RO装置の水回収率=83% 活性炭塔: 活性炭=栗田工業(株)製「クリコールWG−160」
を有効高さ1m充填 通水SV=5hr-1 DI:USFilter社製DI(セル数(濃縮水室数
と脱イオン水製造室数との合計)=36) DIの通水流量は次の通りとした。
【0032】生産水(処理水)量=500L/hr 濃縮水量=120L/hr 電極水量=60L/hr DIより得られた処理水の水質(抵抗率)の経時変化を
図4に示す。
【0033】比較例1 実施例1において、DIの濃縮水及び電極水をRO装置
の入口側に返送したこと以外は同様に処理を行い、DI
より得られた処理水の水質(抵抗率)の経時変化を図4
に示した。
【0034】図4より明らかなように、本発明の純水製
造装置によれば、濃縮水及び電極水を全量回収処理して
も水質の低下を引き起こすことなく、処理を継続でき
る。これに対して、電極水の脱塩素及び脱炭酸、濃縮水
の脱炭酸を行わずにRO装置に循環した比較例1では、
運転開始5日目から水質が低下し始めた。
【0035】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の純水製造装
置によれば、DIから排出される濃縮水及び電極水を回
収、処理して再利用できるため、DIの水回収率は従来
の約80%から100%に向上し、水を有効利用するこ
とができる。しかも、このように水回収率を高めても、
DI処理水質が低下することはなく、高水質の処理水を
安定かつ効率的に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の純水製造装置の一実施例を示す系統図
である。
【図2】従来例を示す系統図である。
【図3】従来例を示す系統図である。
【図4】実施例1及び比較例1の結果を示すグラフであ
る。
【符号の説明】
1 RO装置 2 DI 4 脱炭酸塔 5 活性炭塔

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原水を脱炭酸処理する脱炭酸手段と、該
    脱炭酸手段の処理水を逆浸透膜分離処理する逆浸透膜分
    離手段と、該逆浸透膜分離手段の透過水を脱イオン処理
    する電気脱イオン装置とを備える純水製造装置であっ
    て、 該電気脱イオン装置から排出される濃縮水を前記脱炭酸
    手段に送給する手段と、該電気脱イオン装置から排出さ
    れる電極水を脱塩素処理する脱塩素手段と、該脱塩素手
    段の処理水を前記脱炭酸手段に送給する手段とを設けた
    ことを特徴とする純水製造装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001219161A (ja) * 2000-02-08 2001-08-14 Nomura Micro Sci Co Ltd 純水製造装置
JP2007511348A (ja) * 2003-11-13 2007-05-10 ユーエスフィルター・コーポレイション 水処理システム及び方法
JP2007289887A (ja) * 2006-04-26 2007-11-08 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置
JP2020000983A (ja) * 2018-06-27 2020-01-09 栗田工業株式会社 純水製造装置、純水の製造方法

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