JPH09288846A

JPH09288846A - 情報記録媒体及びその再生方法

Info

Publication number: JPH09288846A
Application number: JP8098008A
Authority: JP
Inventors: Yoshitaka Kawanishi; 義隆川西
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1996-04-19
Filing date: 1996-04-19
Publication date: 1997-11-04

Abstract

(57)【要約】【課題】作動距離が１〜２ｍｍの従来の光学ヘッドを
用いることを可能とし、また、従来の再生方法よりも収
差補正板の数を半減させることを可能とする。【解決手段】情報記録媒体１０は、基板１２上に情報
記録層１４１〜１５０を順次積層し、最上層の情報記録
層１５０上に紫外線硬化樹脂からなる保護膜１６を備え
ている。情報記録層１４１，…の間隔は、光学系の解析
限界距離以下で、かつ上下の情報記録層１４１，…によ
る干渉が起こらない距離以上となっている。情報記録層
１４１，…は、例えば凸凹の記憶ピットと反射膜とから
なる。情報記録層１４１，…の反射膜は、例えば、光ビ
ームＬの入射方向から奥に進むに従って反射率が高くな
るように設定されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ビームにより情
報を再生する情報記録媒体、及びその再生方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、光ディスクの高密度化のための技
術として、記録ピットの形状を微小化することにより２
次元方向に記憶容量を増やす技術と、情報記録層を多層
化することにより３次元方向に記憶容量を増やす技術と
が提案されている。

【０００３】前者の技術では、読み出しの光ビームをよ
り狭く絞ること、又は光ビームの波長を短くすることが
要求される。しかし、対物レンズの開口数ＮＡは、大き
いほど光ビームを絞ることができるが、０．６程度が実
用的な限界である。また、半導体レーザで実用に耐え得
る波長は、短くても６３５ｎｍである。このように、前
者の技術では、現在以上の進展を図ることが困難であ
る。

【０００４】一方、後者の技術として、以下に示す３種
類が提案されている。

【０００５】第１従来技術として、Wayne I.Imaino et
al. がSPIE Vol.2338 Optical DataStorage(1994/254-2
59)に発表した情報記録媒体がある。この情報記録媒体
８０は、図１１に示すように、片面に情報記録層８０１
を有する基板８０２上に、両面に情報記録層８０３，８
０４を有する基板８０５を、０．４ｍｍの空隙８０６を
設け積層したものである。そして、情報記録層８０１，
…に対応した収差補正板８０７を用いるとともに対物レ
ンズ８０８を移動させて、光ビームＬの焦点位置を調節
することにより、情報の再生を行う。

【０００６】第２従来技術として、K.Osato et al.がSP
IE Vol.2514 Optical Data Storage(1995/40-45)に発表
した情報記録媒体がある。この情報記録媒体８２は、図
１２に示すように、基板８２１上に情報記録層８２２，
８２３が積まれた構造となっており、光ビームＬの進入
方向から見て、手前から奥に向かって情報記録層８２
２，８２３の反射率を高く設定し、かつ情報記録層８２
２，８２３間の間隔を対物レンズ８２４の収差以内で収
まる４０μｍ程度の間隔としたものである。そして、収
差補正板を用いずに、対物レンズ８２４を移動させて、
光ビームＬの焦点を上下の情報記録層８２２，８２３へ
移動させることにより、情報の再生を行う。

【０００７】第３従来技術として、特開平３−２０９６
４２号公報に開示されている情報記録媒体がある。この
情報記録媒体８４は、図１３に示すように、透明基板８
４１〜８４５と情報記録層８５１〜８５５とが交互に積
み重ねられ、光ビームＬの進入方向から見て、手前から
奥に向かって情報記録層８５１，…の反射率を高く設定
したものである。そして、収差補正板８５８を取り替え
て、光ビームＬの焦点を上下の情報記録層８５１，…へ
移動させることにより、情報の再生を行う。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】第１従来技術の情報記
録媒体８０では、情報記録層８０１，…の間隔が広いた
めに、光学ヘッドの作動距離を長くとらなければならな
い。一方、作動距離をあまり長くすることは、小型化の
障害となるため許されない。その結果、情報記録層８０
１，…の数が作動距離により制限されるとともに、情報
記録媒体８０と光学ヘッドとが衝突する可能性が高くな
るという問題点を有する。また、作動距離を長くするに
は、対物レンズ８０８の直径を大きくするか、又は対物
レンズ８０８の開口数ＮＡを小さくすることが必要とな
る。しかし、対物レンズ８０８の直径を大きくすると、
光学ヘッドが大きく重くなるため高速アクセスに対応が
できなくなる。また、開口数ＮＡを小さくすると、情報
記録層８０１，…上の光ビームＬの収束径が大きくなる
ので、記録容量の面密度を上げられなくなる。

【０００９】第２従来技術の情報記録媒体８２では、情
報記録層８２２，８２３の間隔は、対物レンズ８２４の
解析限界距離以内で、かつ上下の層で干渉が起きない４
０μｍ程度である。しかし、情報記録層８２２，…を三
層以上とすると、情報記録層８２２，…の最下層と最上
層との間隔が、対物レンズ８２４の解析限界距離を越え
てしまう。そのため、収差が発生し光ビームＬの絞り込
みが不十分になるので、光ビームＬがぼやけた状態とな
り、情報の再生ができなくなる。なお、通常の光学系の
解析限界距離は５０μｍ程度である。

【００１０】第３従来技術の情報記録媒体８４では、上
下の情報記録層８５１，…の間隔が１００μｍ以上あっ
て対物レンズ８５７の解析限界距離を越えているので、
収差が発生する。したがって、ｎ層の情報記録層８５
１，…を再生するにはｎ−１枚の収差補正板８５８が必
要となり、光学ヘッドが大きく重くなるため高速アクセ
スができない。

【００１１】

【発明の目的】本発明の主な目的は、作動距離が１〜２
ｍｍの従来の光学ヘッドを用いることを可能とし、ま
た、従来の再生方法よりも収差補正板の数を半減させる
ことを可能とした、多層構造の情報記録媒体とその再生
方法を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の情報記録
媒体は、積層された複数の情報記録層を備え、これらの
情報記録層に対する収束光の照射により情報が再生され
る情報記録媒体において、前記情報記録層は、三層以上
設けられるとともに、隣り合うもの同士の間隔が前記収
束光を照射する光学系の解析限界を越えない距離である
ことを特徴とするものである。請求項２記載の情報記録
媒体の再生方法は、請求項１記載の情報記録媒体に対し
て情報を再生する方法であって、前記複数の情報記録層
のいずれかに前記収束光を照射して収差が生じた場合に
収差補正板を用いるものである。

【００１３】光学系の解析限界内に存在する情報記録層
に対しては、収差を補正する必要はない。なおかつ、光
学系の解析限界を越えて積層された情報記録層に対して
は、解析限界距離程度の厚みの補正を行えばよい。その
ため、収差補正板の数を大幅に削減できるとともに、収
差補正板の厚みを薄くできる。また、情報記録層の間隔
を小さくすることにより光学ヘッドの作動距離を短くで
きるので、作動距離により制限されていた情報記録層の
積層数を大幅に増加できるとともに、通常の市販されて
いる作動距離が１〜２ｍｍの光学ヘッドを使用できる。

【００１４】請求項３記載の情報記録媒体は、積層され
た複数の情報記録層を備え、これらの情報記録層に対す
る収束光の照射により情報が再生されるものである。前
記情報記録層は、それぞれ特定波長の光に対して大きい
反射率を有するとともにこの特定波長以外の光を透過さ
せる性質を有し、かつ異なる前記特定波長ごとに少なく
とも二つの種類に分けられ、同じ種類が連続しないよう
に積層されている。これらの種類ごとにおける前記情報
記録層の間隔は、前記収束光を照射する光学系の解析限
界距離以下である。請求項４記載の情報記録媒体の再生
方法は、請求項３記載の情報記録媒体に対して情報を再
生する方法であって、前記情報記録層のそれぞれにその
情報記録層に対応する前記特定波長の前記収束光を照射
するものである。

【００１５】従来の単一波長による再生では上下の情報
記録層が単一波長に対して同じ反射率を有するので、情
報記録層の間隔を例えば３０μｍ以下にすると光学的な
干渉が現れ再生信号が劣化した。本発明のように波長の
異なる複数の光ビームを用いると、情報記録層の間隔を
３０μｍ以下としても、再生を行っている情報記録層の
上下の情報記録層ではその光ビームが透過してしまうの
で、光学的な干渉を回避できる。そのため、情報記録層
の間隔を極めて小さくできることにより、情報記録媒体
の厚みを増やすことなく従来以上の多層化が可能となる
とともに、同じ層数であれば情報記録媒体の厚みを薄く
抑えられる。また、情報記録層の間隔を小さくすること
により光学ヘッドの作動距離を短くできるので、作動距
離により制限されていた情報記録層の積層数を大幅に増
加できるとともに、通常の市販されている作動距離が１
ｍｍ〜２ｍｍの光学ヘッドを用いることができる。

【００１６】請求項５記載の情報記録媒体は、積層され
た複数の情報記録層を備え、これらの情報記録層に対す
る収束光の照射により情報が再生されるものである。そ
して、前記情報記録層は、再生専用の情報記録層と書き
換え可能な情報記録層とが交互に積層されている。前記
情報記録層の間隔は、前記収束光を照射する光学系の解
析限界距離以下である。請求項６記載の情報記録媒体の
再生方法は、請求項５記載の情報記録媒体に対して情報
を再生する方法であって、前記複数の情報記録層のいず
れかに前記収束光を照射して収差が生じた場合に収差補
正板を用いるものである。

【００１７】書き換え可能な情報記録層と再生専用の情
報記録層を交互に積層したことにより、光学系の解析限
界距離以内に書き換え可能な情報記録層が１層のみ存在
する構成をとれる。そのため、情報記録層の間隔を小さ
くしても、書き換え可能な情報記録層に記録する時に他
の書き換え可能な情報記録層に記録された情報を消去す
ることを防止できる。したがって、情報記録層の間隔を
極めて小さくできることにより、情報記録媒体の厚みを
増やすことなく従来以上の多層化が可能となるととも
に、同じ層数であれば情報記録媒体の厚みを薄く抑えら
れる。また、情報記録層の間隔を小さくすることにより
光学ヘッドの作動距離を短くできるので、作動距離によ
り制限されていた情報記録層の積層数を大幅に増加でき
るとともに、通常の市販されている作動距離が１ｍｍ〜
２ｍｍの光学ヘッドを用いることができる。

【００１８】請求項７記載の情報記録媒体は、請求項
１，３又は５記載の情報記録媒体において、前記情報記
録層が下層保護膜、記録膜及び上層保護膜を備え、前記
記録膜がＩｎ_0.47Ｓｅ_0.53であるものである。

【００１９】上層保護膜及び下層保護膜によって、記録
膜の記録・消去時の熱の影響による基板又はその他の情
報記録層への悪影響を防止できる。また、上層保護膜、
下層保護膜及び記録膜の膜厚調整により、反射率、吸収
率、透過率、位相差等の光学調整が可能となる。さら
に、記録膜にＩｎ_0.47Ｓｅ_0.53を用いることにより、透
過率を高く、多層化が可能となり、記録部と未記録部の
吸収率を等しくできるのでオーバライト時の消し残りが
なくなり、再生時のクロストークが著しく改善される。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づき、本発明の実
施形態について説明する。ただし、図面において同一部
分は同一符号を付すことにより重複説明を省略する。

【００２１】図１及び図２は、本発明の第一実施形態を
示す概略断面図である。以下、これらの図面に基づき説
明する。

【００２２】本実施形態の情報記録媒体１０は、基板１
２上に情報記録層１４１〜１５０を順次積層し、最上層
の情報記録層１５０上に紫外線硬化樹脂からなる保護膜
１６を備えている。情報記録層１４１，…の間隔は、光
学系の解析限界距離以下で、かつ上下の情報記録層１４
１，…による干渉が起こらない距離以上となっている。
情報記録層１４１，…は、例えば凸凹の記憶ピットと反
射膜とからなる。情報記録層１４１，…の反射膜は、例
えば、光ビームＬの入射方向から奥に進むに従って反射
率が高くなるように設定されている。一番奥の情報記録
層１５０の反射膜としては、Ａｌ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ等
の金属反射膜が最適である。その他の情報記録層１４１
〜１４９の反射膜としては、シリコンに酸素又は窒素を
加えることにより屈折率及び消衰係数を調整したシリコ
ン酸化物又はシリコン窒化物であって、光ビームＬの入
射方向から奥に進むにつれた屈折率を高くした半透明反
射膜が好ましい。情報記録層１４１，…の反射膜は、第
ｎ層の情報記録層の反射率をＲ_n、第ｎ−１層の反射率
をＲ_n-1した場合、Ｒ_n-1＝（１−Ｒ_n-1）²Ｒ_nの関
係を満たすことが最適である。この条件を満たすとき、
全ての情報記録層１４１，…の反射率は等しくなるの
で、再生光学系のゲインの調整が不要となる。また、本
実施形態の情報記録媒体１０の各情報記録層１４１，…
の反射率を全て同一としてもよい。このとき、再生光学
系のパワーは、入射パワーをＰｄ、読み取りパワーをＰ
ｒ、各情報記録層１４１，…の反射率をＲとすると、第
ｎ番目の情報記録層と第ｎ−１番目の情報記録層の関係
が、Ｐｄ（１−Ｒ）^2(n-1)Ｒ＝Ｐを満たすように入射パ
ワーを調整することで、再生光学系のゲインの調整が不
要となる。基板１２は、例えば、外形が円盤状であり、
材質がポリカーボネイトであり、透光性を有している。

【００２３】本実施形態における再生光学系は、図１に
示すように、予めフィルム基板１８を含めて設計を行
い、最上層の情報記録層１５０とその直下の情報記録層
１４９とに焦点が合うように設定しておき、上下の情報
記録層１４８，…は対物レンズ２０を僅かにずらし読み
分ける。また、光学系の解析限界距離以上の下層の情報
記録層１４１の再生では、収差が発生する。そこで、図
２に示すように、フィルム基板１８上に収差補正フィル
ム２１を積層した収差補正板２２を、情報記録媒体１０
と対物レンズ２０との間に狭むことにより、収差の補正
を行う。

【００２４】図３は、本発明の第二実施形態を示す概略
断面図である。以下、この図面に基づき説明する。

【００２５】本実施形態の情報記録媒体３０は、基板１
２上に波長λ１の光ビームＬ１に対して反射率を有し、
波長λ２の光ビームＬ２を透過させる情報記録層３２
１，３２２と、波長λ２の光ビームＬ２に対して反射率
を有し、波長λ１の光ビームＬ１を透過させる情報記録
層３２３，３２４とを、交互に積層したものである。情
報記録層３２１，３２２の間隔及び情報記録層３２３，
３２４の間隔は、光学系の解析限界距離以下で、かつ上
下の情報記録層３２１，…による干渉が起こらない距離
以上となっている。最上層の情報記録層３２４上には、
保護膜１６が設けられている。

【００２６】図４は、本発明の第三実施形態を示す概略
断面図である。以下、この図面に基づき説明する。

【００２７】本実施形態の情報記録媒体４０は、書き換
え可能（又は追記可能）な情報記録層４２１，４２２と
再生専用の情報記録層４２３，４２４とを、基板１２上
に交互に積層したものであり、最上層の情報記録層４２
４上に保護膜１６を備えている。情報記録層４２１，…
の間隔は、光学系の解析限界距離以下で、かつ上下の情
報記録層４２１，…による干渉が起こらない距離以上と
なっている。情報記録層４２３，４２４は、凸凹の記憶
ピットと反射膜とからなる。情報記録層４２３，４２４
の反射膜は、例えば、光ビームＬの入射方向から奥に進
むに従って反射率が高くなるように設定されている。一
番奥の再生専用の情報記録層４２４の反射膜としては、
Ａｌ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ等の金属反射膜が最適である。
その他の情報記録層４２２の反射膜は、シリコンに酸素
又は窒素を加えることにより屈折率及び消衰係数を調整
したシリコン酸化物又はシリコン窒化物であって、光ビ
ームＬの入射方向から奥に進むにつれて屈折率を高くし
た半透明反射膜が最適である。また、本実施形態の情報
記録媒体４０の各情報記録層４２２，４２４の反射率は
全て同一としてもよい。情報記録層４２１，４２２は、
例えば有機系記録材料のシアニン色素、ナフトキノン系
色素、フタロシアニン系色素等、又は相変化型記録材料
のＴｅ−ＴｅＯ₂、ＩｎＳｅ等からなる。

【００２８】図５は、本発明の第四実施形態を示す概略
断面図である。以下、この図面に基づき説明する。

【００２９】本実施形態の情報記録媒体５０は、基板１
２上に再生専用の情報記録層５２１，５２２を積層し、
これらの上に書き換え可能（又は追記可能）な情報記録
層５２３，５２４を積層したものであり、最上層の情報
記録層５２４上に保護膜１６を備えている。情報記録層
５２１，５２３は、波長λ１の光ビームＬ１に対して反
射率を有し、波長λ２の光ビームＬ２を透過させる。情
報記録層５２２，５２４は、波長λ２の光ビームＬ２に
対して反射率を有し、波長λ１の光ビームＬ１を透過さ
せる。情報記録層５２１，５２３の間隔及び情報記録層
５２２，５２４の間隔は、光学系の解析限界距離以下
で、かつ上下の情報記録層５２１，…による干渉が起こ
らない距離以上となっている。

【００３０】情報記録層５２１，５２２は、凸凹の記憶
ピットと反射膜とからなる。情報記録層５２３，５２４
は、例えば有機系記録材料のシアニン色素、ナフトキノ
ン系色素、フタロシアニン系色素等、又は相変化型記録
材料のＴｅ−ＴｅＯ₂，ＩｎＳｅ等からなる。

【００３１】

【実施例】図６は、本発明の第一実施形態をより具体化
した第一実施例を示す概略断面図である。以下、この図
面に基づき説明する。

【００３２】本実施例の情報記録媒体６０は、射出成形
により形成された凸凹の記録ピットを有すポリカーボネ
イト製の厚さ０．６ｍｍの基板６２１，６２２上に、そ
れぞれ半透明反射膜６４１及び金属反射膜６４２をスパ
ッタ法により成膜し、半透明反射膜６４１及び金属反射
膜６４２上にそれぞれフォトポリマリゼーション（以
下、「２Ｐ」という。）法により凸凹の記録ピットを有
する２Ｐ層６４３，６４４を形成し、２Ｐ層６４３，６
４４上にスパッタ法により半透明反射膜６４５，６４６
を成膜し、半透明反射膜６４５，６４６同士を紫外線硬
化樹脂の接着層６４７により貼り合わせ、基板６２１側
から紫外線を照射して作成した。

【００３３】半透明反射膜６４１はＳｉＯ_0.36のシリコ
ン酸化膜を膜厚７０ｎｍ、半透明反射膜６４５はＳｉＯ
_0.31のシリコン酸化膜を膜厚６０ｎｍ、半透明反射膜６
４６はＳｉＯ_0.22のシリコン酸化膜を膜厚６０ｎｍ、金
属反射膜６４２はＡｌを膜厚８０ｎｍでそれぞれ成膜し
た。このときの反射率は、金属反射膜６４２が８５％、
半透明反射膜６４６が３５．５％、半透明反射膜６４５
が２２％、半透明反射膜６４１が１５．５％となった。
また、ディテクターへの各反射層の戻り光は１５．５％
となるように設定した。

【００３４】また、情報記録媒体６０を作成する際の貼
り合わせ方法は、半透明反射膜６４６を形成した基板６
２２を半透明反射膜６４６が上になるようにスピンコー
タ上に置き、紫外線硬化樹脂「ダイキュアクリアＳＤ−
３１８」（大日本インキ化学工業株式会社製）を基板６
２２上に同心円状に塗布後、半透明反射膜６４５を形成
した基板６２１を半透明反射膜６４５が下になるように
重ね、スピンコータの回転数を８００ｒｐｍで回転させ
ることにより、膜厚４０μｍの接着層６４７を形成後、
高圧水銀灯により照度６７ｍＷ／ｃｍ²で３０秒照射し
接着層６４７を硬化させた。

【００３５】情報記録媒体６０の再生光学系の収差の補
正に用いる収差補正フィルム２１は、厚みが０．６ｍｍ
のディスク形状のポリカーボネイト製のフィルム基板１
８上に、スピンコート法により、接着層６４７に使用し
た紫外線硬化樹脂を回転数６００ｒｐｍで４０μｍの膜
厚に成膜後、紫外線を照射し硬化させた後、切り出すこ
とにより作成した。

【００３６】１．２ｍｍのポリカーボネイト製の基板上
で焦点が合うように設計されている波長６３５ｎｍの赤
色レーザを用いて、情報記録媒体６０に対して再生を行
った。再生評価の結果、各層のジッタ値は８％と良好な
値を示した。

【００３７】図７及び図８は本発明の第二実施形態をよ
り具体化した第二実施例を示し、図７は半透明反射膜の
反射率の膜厚依存性を示すグラフであり、図８は概略断
面図である。以下、図７及び図８に基づき説明する。

【００３８】図７は、詳しくは、半透明反射膜として用
いるＳｉＯ_0.22のシリコン酸化膜について、レーザ波長
６３５ｎｍ及び７８０ｎｍに対する反射率の膜厚依存性
の光学計算結果を示したものである。図７から明らかな
ように、このシリコン酸化膜は、膜厚が９５〜１１０ｎ
ｍの領域Ａでは、６３５ｎｍのレーザ光を反射させるが
７８０ｎｍのレーザ光を透過させ、膜厚が１３５〜１５
５ｎｍの領域Ｂでは、６３５ｎｍのレーザ光を透過させ
るが７８０ｎｍのレーザ光を反射させる。

【００３９】本実施例の情報記録媒体６６は、射出成形
により形成された凸凹の記録ピットを有するポリカーボ
ネイト製の厚さ０．６ｍｍの基板６８１，６８２上にそ
れぞれ半透明反射膜６９１，６９２をスパッタ法により
成膜し、半透明反射膜６９１，６９２上にそれぞれ２Ｐ
法により凸凹の記録ピットを有する２Ｐ層６９３，６９
４を２０μｍの膜厚で形成し、２Ｐ層６９３，６９４上
にそれぞれスパッタ法により半透明反射膜６９５，６９
６を成膜後、半透明反射膜６９５，６９６同士を紫外線
硬化樹脂の接着層６９７により貼り合わせ、基板６８１
側から紫外線を照射して作成した。

【００４０】半透明反射膜６９１，６９２，６９５，６
９６は、それぞれＳｉＯ_0.22のシリコン酸化膜を所定の
膜厚になるように成膜した。膜厚は、半透明反射膜６９
１が１３５ｎｍ、半透明反射膜６９５が１１０ｎｍ、半
透明反射膜６９６が１５０ｎｍ、半透明反射膜６９２が
９５ｎｍである。その結果、図７から明らかなように、
半透明反射膜６９１，６９６は、６３５ｎｍのレーザ光
を反射させるとともに７８０ｎｍのレーザ光を透過さ
せ、半透明反射膜６９５，６９２は、６３５ｎｍのレー
ザ光を透過させるとともに７８０ｎｍのレーザ光を反射
させる。

【００４１】また、本実施例の情報記録媒体６６の貼り
合わせ方法は、第一実施例の情報記録媒体６０と同じで
ある。

【００４２】次に、０．６ｍｍのポリカーボネイト製の
基板上で焦点が合うように設計されている、波長６３５
ｎｍのレーザ光Ｌａ及び波長７８０ｎｍのレーザ光Ｌｂ
を用いて、情報記録媒体６６の再生を行った。半透明反
射膜６９１，６９６の再生にはレーザ光Ｌａを用い、半
透明反射膜６９５，６９２の再生にはレーザ光Ｌｂを用
いた。また、半透明反射膜６９１と半透明反射膜６９６
との読み分け、又は半透明反射膜６９５と半透明反射膜
６９２との読み分けは、焦点を上下にジャンプさせるこ
とにより行った。再生評価の結果、各層のジッタ値は８
％と良好な値を示した。

【００４３】図９及び図１０は、本発明の第三実施形態
をより具体化した第三実施例における、上層保護膜の膜
厚依存性を示すグラフである。以下、図９及び図１０に
基づき説明する。

【００４４】図９は、下層保護膜として１２０ｎｍのＳ
ｉＯ₂、記録膜として７５ｎｍのＩｎ_0.47Ｓｅ_0.53、上
層保護膜としてＳｉＯ₂を用い、レーザ波長７８０ｎｍ
に対する反射率Ｒ、吸収率Ａ、位相差φについて上層保
護膜の膜厚依存性の光学計算結果を示したものである。
図９において、未記録部の反射率をＲＣ、吸収率をＡ
Ｃ、記録部の反射率をＲＡ、吸収率をＡＡとする。上層
保護膜の膜厚が９０ｎｍ近傍の領域では、記録部と未記
録部との反射率差が２５％あり位相差も最大で、かつ未
記録部と記録部との吸収率が等しく消し残りの影響が少
なく、未記録部の反射率が１５％近傍となっている。

【００４５】図１０は、下層保護膜として１５０ｎｍの
ＣａＦ₂、記録膜として７５ｎｍのＩｎ_0.47Ｓｅ_0.53、
上層保護膜としてＣａＦ₂を用い、レーザ波長７８０ｎ
ｍに対する反射率Ｒ、吸収率Ａ、位相差φについて上層
保護膜の膜厚依存性の光学計算結果を示したものであ
る。図１０において、未記録部の反射率をＲＣ、吸収率
をＡＣ、記録部の反射率をＲＡ、吸収率をＡＡとする。
上層保護膜の膜厚が１５０ｎｍ近傍の領域では、記録部
と未記録部との反射率差が２５％あり位相差も大きくと
れ、かつ未記録部と記録部との吸収率が等しく消し残り
の影響が少なく、未記録部の反射率が３６％近傍となっ
ている。

【００４６】図示しないが、情報記録媒体は、射出成形
により形成された凸凹の記録ピットを有するポリカーボ
ネイト製の厚さ０．６ｍｍの基板上に半透明反射膜をス
パッタ法により成膜し、凸凹のランド・グルーブを有す
る２Ｐ層を２０μｍの膜厚で形成し、蒸着法により下層
保護膜ＳｉＯ₂を１２０ｎｍ、記録膜Ｉｎ_0.47Ｓｅ_0. ₅₃
を７５ｎｍ、上層保護膜ＳｉＯ₂を９０ｎｍの順に成膜
した第一の基板と、射出成形により形成された凸凹のラ
ンド・グルーブを有するポリカーボネイト製の厚さ０．
６ｍｍの基板上に、蒸着法により下層保護膜ＳｉＯ₂を
１２０ｎｍ、記録膜Ｉｎ_0.47Ｓｅ_0.53を７５ｎｍ、上層
保護膜ＳｉＯ₂を９０ｎｍの順に成膜し、凸凹の記録ピ
ットを有する２Ｐ層を２０μｍの膜厚で形成し、金属反
射膜をスパッタ法により成膜した第二の基板とを、紫外
線硬化樹脂の接着層により貼り合わせ、第一の基板側か
ら紫外線を照射することで固定し作成したものである。

【００４７】金属反射膜はＡｌで膜厚８０ｎｍ、半透明
反射膜はＳｉＯ_0.31のシリコン酸化膜で膜厚６０ｎｍと
した。また、本実施例の情報記録媒体の貼り合わせ方法
は、第一実施例と同じである。本実施例の情報記録媒体
の収差を補正する収差補正フィルムも、第一実施例と同
じものである。

【００４８】次に、本実施例の情報記録媒体は、０．６
ｍｍのポリカーボネイト製の基板上で焦点が合うように
設計されている、波長７８０ｎｍレーザ光で再生を行っ
た。また、再生専用の情報記録層同士の読み分け、又は
書き可能な情報記録層同士の読み分けは、焦点を上下に
ジャンプさせることにより行った。再生評価の結果、再
生専用の情報記録層におけるジッタ値は８％と良好な値
を示し、書き可能な情報記録層におけるＣ／Ｎは４８ｄ
Ｂと良好な値であった。

【００４９】

【発明の効果】請求項１記載の情報記録媒体又は請求項
２記載の情報記録媒体の再生方法によれば、光学系の解
析限界距離以内に存在する情報記録層の再生は収差を補
正する必要がなくなり、光学系の解析限界距離を越えて
積層された情報記録層に対しては、解析限界距離程度の
厚みの補正を行えばよい。そのため、収差補正板の数を
大幅に削減できるととともに、収差補正板の厚みを薄く
することが可能となるので、情報記録層を多層化しても
基板の厚みを薄く抑えられ、光学ヘッドの作動距離によ
り限定されていた情報記録層の積層数の大幅な増加が可
能となり、通常に市販されている作動距離が１ｍｍ〜２
ｍｍの光学ヘッドを用いることが可能となり、光学系の
コストの低減が可能となる。

【００５０】請求項３記載の情報記録媒体又は請求項４
記載の情報記録媒体の再生方法によれば、光学系の解析
限界距離以内に存在する情報記録層の再生は収差を補正
する必要がなくなり、上下の情報記録層の間隔を例えば
３０μｍ以下としても、ある情報記録層で再生を行って
いる特定波長の光ビームはその上下の情報記録層を透過
してしまうので、光学的な干渉を回避することが可能と
なる。その結果、従来以上の多層化が可能となり、情報
記録層の基板の厚みを薄く抑えられる。したがって、光
学ヘッドの作動距離により限定されていた情報記録層の
積層数の大幅な増加が可能となるとともに、通常に市販
されている作動距離が１ｍｍ〜２ｍｍの光学ヘッドを用
いることが可能となるので、光学系のコストの低減が可
能となる。

【００５１】請求項５記載の情報記録媒体又は請求項６
記載の情報記録媒体の再生方法によれば、書き換え可能
な情報記録層と再生専用の情報記録層を交互に積層して
いるため、光学レンズ系の解析限界距離以内に書き換え
可能な情報記録層が１層のみ存在する構成をとれる。そ
のため、書き換え可能な情報記録層に記録する時に他の
書き換え可能な情報記録層に記録された情報を消去する
ことを防止できるとともに、従来以上の多層化を可能と
し、情報記録層の基板の厚みを薄く抑えられる。したが
って、光学ヘッドの作動距離により限定されていた情報
記録層の積層数の大幅な増加が可能となるとともに、通
常に市販されている作動距離が１ｍｍ〜２ｍｍの光学ヘ
ッドを用いることが可能となるので、光学系のコストの
低減が可能となる。

【００５２】請求項７記載の情報記録媒体によれば、上
層保護膜及び下層保護膜によって、記録膜の記録・消去
時の熱の影響による基板又はその他の情報記録層への悪
影響を防止できるとともに、上層保護膜、下層保護膜及
び記録膜の膜厚調整により反射率、吸収率、透過率、位
相差等の光学調整が可能となる。また、記録膜にＩｎ
_0.47Ｓｅ_0.53を用いることにより、透過率を高く、多層
化が可能となり、記録部と未記録部の吸収率を等しくで
きるのでオーバライト時の消し残りが無くなり、再生時
のクロストークが著しく改善される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一実施形態を示す概略断面図であ
る。

【図２】本発明の第一実施形態を示す概略断面図であ
る。

【図３】本発明の第二実施形態を示す概略断面図であ
る。

【図４】本発明の第三実施形態を示す概略断面図であ
る。

【図５】本発明の第四実施形態を示す概略断面図であ
る。

【図６】本発明の第一実施形態をより具体化した第一実
施例を示す概略断面図である。

【図７】本発明の第二実施形態をより具体化した第二実
施例における、半透明反射膜の反射率の膜厚依存性を示
すグラフである。

【図８】本発明の第二実施形態をより具体化した第二実
施例を示す概略断面図である。

【図９】本発明の第三実施形態をより具体化した第三実
施例における、上層保護膜の膜厚依存性を示すグラフで
ある。

【図１０】本発明の第三実施形態をより具体化した第三
実施例における、上層保護膜の膜厚依存性を示すグラフ
である。

【図１１】第一従来技術を示す概略断面図である。

【図１２】第二従来技術を示す概略断面図である。

【図１３】第三従来技術を示す概略断面図である。

【符号の説明】

１０，３０，４０，５０情報記録媒体１２基板１４１〜１５０，３２１〜３２４，４２１〜４２４，５
２１〜５２４情報記録層１６保護膜１８フィルム基板２０対物レンズ２１収差補正フィルム２２収差補正板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】積層された複数の情報記録層を備え、こ
れらの情報記録層に対する収束光の照射により情報が再
生される情報記録媒体において、前記情報記録層は三層以上設けられ、前記情報記録層の
間隔は、前記収束光を照射する光学系の解析限界距離以
下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２】請求項１記載の情報記録媒体に対して情
報を再生する方法であって、前記複数の情報記録層のい
ずれかに前記収束光を照射して収差が生じた場合に収差
補正板を用いる、情報記録媒体の再生方法。
【請求項３】積層された複数の情報記録層を備え、こ
れらの情報記録層に対する収束光の照射により情報が再
生される情報記録媒体において、前記情報記録層は、それぞれ特定波長の光に対して大き
い反射率を有するとともにこの特定波長以外の光を透過
させる性質を有し、かつ異なる前記特定波長ごとに少な
くとも二つの種類に分けられ、同じ種類が連続しないよ
うに積層され、これらの種類ごとにおける前記情報記録層の間隔は、前
記収束光を照射する光学系の解析限界距離以下であるこ
とを特徴とする情報記録媒体。
【請求項４】請求項３記載の情報記録媒体に対して情
報を再生する方法であって、前記情報記録層のそれぞれ
にその情報記録層に対応する前記特定波長の前記収束光
を照射する、情報記録媒体の再生方法。
【請求項５】積層された複数の情報記録層を備え、こ
れらの情報記録層に対する収束光の照射により情報が再
生される情報記録媒体において、前記情報記録層は、再生専用の情報記録層と書き換え可
能な情報記録層とが交互に積層され、前記情報記録層の
間隔は、前記収束光を照射する光学系の解析限界距離以
下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項６】請求項５記載の情報記録媒体に対して情
報を再生する方法であって、前記複数の情報記録層のい
ずれかに前記収束光を照射して収差が生じた場合に収差
補正板を用いる、情報記録媒体の再生方法。
【請求項７】前記情報記録層が下層保護膜、記録膜及
び上層保護膜を備え、前記記録膜がＩｎ_0.47Ｓｅ_0.53で
ある、請求項１，３又は５記載の情報記録媒体。