JPH09287924A - 外径測定装置 - Google Patents

外径測定装置

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JPH09287924A
JPH09287924A JP13407396A JP13407396A JPH09287924A JP H09287924 A JPH09287924 A JP H09287924A JP 13407396 A JP13407396 A JP 13407396A JP 13407396 A JP13407396 A JP 13407396A JP H09287924 A JPH09287924 A JP H09287924A
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JP
Japan
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light beam
scanning light
parallel
lens
parallel scanning
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Pending
Application number
JP13407396A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuuji Akishiba
雄二 秋柴
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Keyence Corp
Original Assignee
Keyence Corp
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Publication date
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Publication of JPH09287924A publication Critical patent/JPH09287924A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 大型化することなく走査領域が広くかつ走査
光線ビームの平行度の高い外径測定装置を提供すること
である。 【解決手段】 fθレンズ15、回転多面鏡14および
回転多面鏡1に入射するビーム12を、同一平面上に配
置して平行走査光線ビーム発生手段11の薄型化を図
る。加えて、平行走査光線ビームの平行度を向上させる
ために、fθレンズ15の光軸を平行走査光線ビームの
光軸に対して傾斜させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平行走査光線ビー
ムにより被測定物の外径を測定する外径測定装置に関
し、詳細には平行走査光線ビームを発生するための光学
部材の配置に関するものである。なお、ここで用いる
「光線ビームの光軸」とは光線ビームの中心を通る軸の
ことである。
【0002】
【従来の技術】従来より、平行走査光線ビームを出射す
る平行走査光線ビーム発生手段と、平行走査光線ビーム
発生手段から出射された平行走査光線ビームを受光する
受光手段とを対峙させ、平行走査光線ビームの走査領域
に被測定物を配置し、受光手段が受光する平行走査光線
ビームの時間から被測定物の走査方向に対する外径を測
定する外径測定装置がある。
【0003】このような外径測定装置の構成を図2に示
す。この外径測定装置は、平行走査光線ビーム発生部1
と受光部2および本体部3とで構成され、平行走査光線
ビーム発生部1は、レーザビーム12を固定ミラー13
に向けて照射するレーザ光源11と、この固定ミラー1
3により反射されたレーザビーム12を回転走査光線ビ
ーム12aに変換する回転多面鏡14と、この回転走査
光線ビーム12aを平行走査光線ビーム12bに変換す
るfθレンズ15と、窓1aから外部に出射する平行走
査光線ビーム12bの平行走査の開始又は平行走査の終
了を検出するフォトダイオードの受光素子16とにより
構成されている。さらにfθレンズはその光軸が平行走
査光線ビームの光軸に対して平行走査光線ビームになる
ように配置されている。
【0004】受光部2は、平行走査光線ビーム発生部1
から出射された平行走査光線ビーム12bを集光する集
光レンズ21と、集光レンズ21の焦点位置に配置され
集光レンズ21で集光された光線ビームを受光するフォ
トダイオードの受光素子22とにより構成されている。
なお、23はビームスプリッタ、24は受光素子で、平
行走査光線ビーム発生部1と受光部2とを対向させる場
合に両者の光軸合わせを容易にするために設けられたも
のである。
【0005】本体部3は、平行走査光線ビーム発生部1
の受光素子16の出力信号を2値化する2値化回路34
を有する。更に、クロック信号を発生するクロック発振
器33と、波形処理回路31の出力パルスa幅をクロッ
ク発振器33のクロックパルスCPでカウントするカウ
ンタ32とにより構成されている。カウンタ32は、2
値化回路34の出力タイミングでカウント値がリセット
される。
【0006】なお、35は受光部2の受光素子24の出
力を入力し、受光部2と平行走査光線ビーム発生部1と
の光軸の一致性の表示等を図る光軸信号処理回路で、受
光部2で受光する走査光線ビームが受光素子24の所定
の位置に受光されることにより光軸の一致性を判別す
る。
【0007】このように構成された外径測定装置は、平
行走査光線ビーム発生部1と受光部2との間に被測定物
4を配置し、平行走査光線ビーム発生部1で、レーザ光
源11からレーザビーム12を固定ミラー13に向けて
照射し、この固定ミラー13により反射されたレーザビ
ーム12を回転多面鏡14の回転によって回転走査光線
ビーム12aに変換し、この回転走査光線ビーム12a
をfθレンズ15によって平行走査光線ビーム12bに
変換し、この平行走査光線ビーム12bを窓1aから出
射し、被測定物4を高速走査する。この走査は、回転多
面鏡14の1つの鏡面で1回の走査がされる。つまり8
面鏡であれば1回転で8回走査される。
【0008】受光部2は、平行走査光線ビーム発生部1
から出射された平行走査光線ビーム12bを集光レンズ
21の焦点位置にある受光素子22で受光するようにさ
れており、平行走査光線ビーム12bが被測定物4によ
り遮られない場合にはハイレベル(又はローレベル)、
平行走査光線ビーム12bが被測定物4より遮られない
場合にはローレベル(又はハイレベル)の出力電圧が出
力される。
【0009】図示状態では、平行走査光線ビーム発生部
1の窓1aの上枠を基準にして被測定物4までの走査方
向(平行走査光線ビーム12bと直角方向)の距離(寸
法)Lを測定する場合で、受光素子22の出力は、走査
開始から平行走査光線ビーム12bが被測定物4により
遮られるまでの間は平行走査光線ビーム12bを受光し
ハイレベルであり、被測定物4により遮られて次の走査
が開始するまでの間は平行走査光線ビーム12bを受光
しないのでローレベルとなっている。
【0010】一方、平行走査光線ビーム発生部1の受光
素子16は、窓1aの上枠あるいは上枠に形成されたマ
ークで反射される窓1aから出射される寸前の走査光線
ビームを受光し、その信号、即ち走査開始を示す信号
(走査同期信号とする)を本体部3の2値化回路34に
送る。2値化回路34で2値化された信号bは波形処理
回路31に送られる。
【0011】波形処理回路31は、被測定物4により遮
られるまでの間の波形を矩形状の波形a(tは寸法Lに
対応する)に成形してカウンタ32に送り、カウンタ3
2は矩形状の波形aの継続をクロック発振器33のクロ
ックパルスCPでカウントし測定値を求める。なお、本
体部3の信号処理は周知であるのでその説明は省略す
る。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図2に示す外
径測定装置では、レーザ光源11と回転多面鏡14とf
θレンズ15が略同一平面状に配置されているため、固
定ミラー13で反射されて回転多面鏡14に向かうビー
ム12の光軸と平行走査光線ビーム12bの光軸がなす
角度を0にすることができない。この角度が0でない場
合は図3に示すように、回転多面鏡14が回転するにつ
れて固定ミラー13から回転多面鏡14までの距離が変
化する(図3の14a、14b)。この距離が変化する
と図4に示すように回転多面鏡14での反射位置60が
変化するので、回転走査光線ビーム12aがfθレンズ
15の光軸に対して対称に入射されなくなる。
【0013】ここで「レンズの光軸」とは、図5に示す
ように、レンズの2つの球面のそれぞれの半径R1およ
びR2の中心f1およびf2を結んだ仮想の線50をい
う。
【0014】このため平行走査光線ビーム12bは平行
にはならず、fθレンズ15と回転多面鏡14の距離に
より広がり角を有する走査光線ビーム12b’となって
しまう(図6)。この広がり角度は、回転多面鏡14と
fθレンズとの距離、即ち焦点距離を調整することによ
り平行に近づけることができるが、fθレンズの光軸に
対して走査光線ビームが対称でないため、広がり角度を
0にすることができない。
【0015】走査光線ビーム12b’が平行でない場合
は、被測定物を平行走査光線ビーム発生手段1と受光部
2の間のどの位置に配置して測定するかにより測定値が
変化する。即ち、平行走査光線ビーム発生手段11に近
い位置に被測定物4が配置された場合は平行走査光線ビ
ーム12bを遮る時間が長くなるので測定値は大きくな
り、受光部2に近い位置に配置された場合は平行走査光
線ビーム12bを遮る時間が短くなるので測定値は小さ
くなる。
【0016】この非対称性は、図7に示すようにハーフ
ミラー41を用いて、fθレンズ15の光軸と一致させ
た状態で回転多面鏡14にビーム12を入射させるよう
に構成することにより解決され、fθレンズ15の光軸
に対して対称な平行走査光線ビーム12bを得ることが
できるが、この場合はハーフミラーを用いるためコスト
が高くなり、さらにはハーフミラーにより非点収差が生
じビームの大きさを小さくすることができなくなり、結
果として測定精度が低下するという問題点がある。
【0017】また、図8に示すようにして回転多面鏡1
4の下方からビーム12を入射させることにより図7と
同様にfθレンズ12の光軸に対称な平行走査光線ビー
ム12bを得ることができるが、回転多面鏡14を傾斜
させて配置したり、ビームを回転多面鏡の下方から入射
させなければならないため、平行走査光線ビーム発生手
段1が厚み方向に大型化する。
【0018】一方で、このような外径測定装置において
は、より大きい被測定物の外径を測定できるようfθレ
ンズ15を大型化し走査領域を広くすることが要求され
ている。ところが走査領域を広くしようとするとfθレ
ンズ15が大きくなるだけでなく、回転多面鏡14に入
射するビームのfθレンズ15の光軸に対する角度を大
きくせざるを得なくなる。この角度が大きくなりすぎる
と走査光線ビーム12b’の平行度が悪化してもはや所
望の測定精度を達せられなくなるため、走査領域の広い
外径測定装置を図2のような配置では構成することがで
きない。
【0019】本発明は、より平行度の高い平行走査光線
ビームを、より小型で薄型な平行走査光線ビーム発生手
段により構成し、併せてより外径の大きい被測定物を測
定できる外径測定装置を提供することを目的とする。
【0020】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第1の
発明は、ビーム発生手段から発生したビームを反射して
回転走査光線ビームとする回転多面鏡と、前記回転走査
光線ビームを平行走査光線ビームに変換するfθレンズ
とを含む平行走査光線ビーム発生手段と、前記平行走査
光線ビームを受光する受光手段とを有し、前記平行走査
光線ビーム発生手段と前記受光手段との間の平行走査光
線ビームの走査領域内に被測定物を配置し、前記被測定
物による平行走査光線ビームの遮り時間から前記被測定
物の外径を測定する外径測定装置において、前記ビーム
発生手段から発生したビームは、前記走査領域を含む平
面に含まれ、かつ前記平行走査光線ビームに変換される
回転走査光線ビームの領域外から前記回転多面鏡に入射
し、前記fθレンズの光軸は、前記平行走査光線ビーム
の光軸に対して傾斜して配置されている外径測定装置で
ある。
【0021】この外径測定装置はfθレンズ、回転多面
鏡およびビーム発生手段が同一平面上に配置されている
ため平行走査光線ビーム発生手段は厚み方向に大型化す
ることがない。さらに、fθレンズの光軸は平行走査光
線ビームの光軸に対して傾斜して配置されているので、
走査光線ビームの平行度を高めることができる。従っ
て、より広い走査領域を有する外径測定装置を小型に構
成することができる。
【0022】第2の発明は、ビーム発生手段から発生し
たビームを反射して回転走査光線ビームとする多角形回
転鏡と、前記回転走査光線ビームを平行走査光線ビーム
に変換するfθレンズとを含む平行走査光線ビーム発生
手段と、前記平行走査光線ビームを受光する受光手段と
を有し、前記平行走査光線ビーム発生手段と前記受光手
段との間の平行走査光線ビームの走査領域内に被測定物
を配置し、前記被測定物による平行走査光線ビームの遮
り時間から前記被測定物の外径を測定する外径測定装置
において、前記回転多面鏡に入射して反射されるビーム
が、前記走査領域を含む平面に含まれ、かつ前記平行走
査光線ビームに変換される回転走査光線ビームの領域外
であるようにビーム発生手段が配置され、前記fθレン
ズの光軸は、前記平行走査光線ビームの光軸に対して傾
斜して配置されている外径測定装置である。
【0023】この外径測定装置はfθレンズ、および回
転多面鏡が同一平面上に配置され、さらに回転多面鏡に
入射するビームの光軸も同一平面上であるため平行走査
光線ビーム発生手段は厚み方向に大型化することがな
い。さらに、fθレンズの光軸は平行走査光線ビームの
光軸に対して傾斜して配置されているので、走査光線ビ
ームの平行度を高めることができる。従って、より広い
走査領域を有する外径測定装置を小型に構成することが
できる。
【0024】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の1実施例におけ
る外径測定装置の構成を示すである。fθレンズの光軸
が平行走査光線ビームの光軸に対して傾斜している以外
は、図2と同一であるので各部の動作についてはその説
明を省略する。
【0025】図9に、平行光線を傾斜させたレンズを用
いて集光させた場合の様子を示す。この図からわかるよ
うに光線は1点で集光せず、コマ収差と呼ばれる収差を
生じる。
【0026】図10に図9のコマ収差を詳細に記載した
光線の様子を示す。この光線の様子は、図3および図4
に示した回転多面鏡14の回転多面鏡による反射の非対
称性を示す光線と同様の光路をたどる。即ち、回転多面
鏡14でビーム12が反射される部分は、コマ収差の状
態を示している。従って図9のようにレンズを傾斜させ
ることにより、非対称になっている走査光線ビームを逆
平行走査光線ビームに補正することができ、平行度が向
上するのである。
【0027】なお、レンズの傾き角度については、ビー
ム12と平行走査光線ビームの光軸のなす角度、および
回転走査角度に基づき、更にfθレンズの曲率等のレン
ズデータに基づいて決定される。
【0028】また、図1の実施例においては固定ミラー
13によりレーザ光源11を反射させて、回転多面鏡1
4にビーム12を入射させているが、固定ミラー13を
省略してレーザ光源11からビーム12を直接回転多面
鏡14に入射させてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の外径測定装置の概略構成図で
ある。
【図2】従来の外径測定装置の概略構成図である。
【図3】外径測定装置において、回転多面鏡の回転につ
れて反射する位置が変化する様子を説明する図である。
【図4】外径測定装置の回転走査光線ビームの非対称性
を説明する図である。
【図5】レンズの光軸を説明する図である。
【図6】走査光線ビームが非対称かつ広がる様子を示す
図である。
【図7】走査光線ビームの非対称性を改善するための光
学部品の配置の1例である。
【図8】走査光線ビームの非対称性を改善するための光
学部品の配置の他の例である。
【図9】レンズを傾けてコマ収差が発生する状態を説明
するための図である。
【図10】図9における光線を詳細に記載した図であ
る。
【符号の説明】
1 平行走査光線ビーム発生手段 2 受光部 3 本体部 4 被測定対象物 11 レーザ光源 12 ビーム 12a 回転走査光線ビーム 12b 平行走査光線ビーム 12b’ 走査光線ビーム 13 固定ミラー 14 回転多面鏡 15 fθレンズ 50 光軸

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ビーム発生手段から発生したビームを反射
    して回転走査光線ビームとする回転多面鏡と、前記回転
    走査光線ビームを平行走査光線ビームに変換するfθレ
    ンズとを含む平行走査光線ビーム発生手段と、 前記平行走査光線ビームを受光する受光手段とを有し、 前記平行走査光線ビーム発生手段と前記受光手段との間
    の平行走査光線ビームの走査領域内に被測定物を配置
    し、 前記被測定物による平行走査光線ビームの遮り時間から
    前記被測定物の外径を測定する外径測定装置において、 前記ビーム発生手段から発生したビームは前記走査領域
    を含む平面に含まれ、かつ前記平行走査光線ビームに変
    換される回転走査光線ビームの領域外から前記回転多面
    鏡に入射し、 前記fθレンズの光軸は、前記平行走査光線ビームの光
    軸に対して傾斜して配置されている、 ことを特徴とする外径測定装置
  2. 【請求項2】ビーム発生手段から発生したビームを反射
    して回転走査光線ビームとする回転多面鏡と、前記回転
    走査光線ビームを平行走査光線ビームに変換するfθレ
    ンズとを含む平行走査光線ビーム発生手段と、 前記平行走査光線ビームを受光する受光手段とを有し、 前記平行走査光線ビーム発生手段と前記受光手段との間
    の平行走査光線ビームの走査領域内に被測定物を配置
    し、 前記被測定物による平行走査光線ビームの遮り時間から
    前記被測定物の外径を測定する外径測定装置において、 前記回転多面鏡に入射して反射されるビームが、前記走
    査領域を含む平面に含まれ、かつ前記平行走査光線ビー
    ムに変換される回転走査光線ビームの領域外であるよう
    にビーム発生手段が配置され、 前記fθレンズの光軸は、前記平行走査光線ビームの光
    軸に対して傾斜して配置されている、 ことを特徴とする外径測定装置
JP13407396A 1996-04-19 1996-04-19 外径測定装置 Pending JPH09287924A (ja)

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JP13407396A JPH09287924A (ja) 1996-04-19 1996-04-19 外径測定装置

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JP13407396A JPH09287924A (ja) 1996-04-19 1996-04-19 外径測定装置

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JPH09287924A true JPH09287924A (ja) 1997-11-04

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JP (1) JPH09287924A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002116013A (ja) * 2000-10-10 2002-04-19 Keyence Corp 非接触型外形測定装置
JP2008032678A (ja) 2006-06-29 2008-02-14 Naberu:Kk 卵の品質指標検査装置

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JP2002116013A (ja) * 2000-10-10 2002-04-19 Keyence Corp 非接触型外形測定装置
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