JPH09283416A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
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- JPH09283416A JPH09283416A JP8098029A JP9802996A JPH09283416A JP H09283416 A JPH09283416 A JP H09283416A JP 8098029 A JP8098029 A JP 8098029A JP 9802996 A JP9802996 A JP 9802996A JP H09283416 A JPH09283416 A JP H09283416A
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- Japan
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- reticle
- magazine
- relay station
- exposure
- library
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数のレチクルを用いて同一の感光基板を露
光する場合のレチクルのセッティングの時間を短縮して
生産性を向上させる。 【解決手段】 照明光学系からの光束で所定の被投影位
置に置かれたレチクルを照明し、該レチクルの像を投影
光学系を介して感光基板上に投影して基板を露光する投
影露光装置において、１つの感光基板の露光に用いられ
る複数のレチクルを収容している可搬なレチクルマガジ
ンと、該レチクルマガジンを収納するレチクルライブラ
リと、前記被投影位置近傍に設けられ前記レチクルマガ
ジンを待機させる中継所と、前記レチクルマガジンを前
記レチクルライブラリから前記中継所上へと搬送するマ
ガジン搬送手段と、を設ける。
光する場合のレチクルのセッティングの時間を短縮して
生産性を向上させる。 【解決手段】 照明光学系からの光束で所定の被投影位
置に置かれたレチクルを照明し、該レチクルの像を投影
光学系を介して感光基板上に投影して基板を露光する投
影露光装置において、１つの感光基板の露光に用いられ
る複数のレチクルを収容している可搬なレチクルマガジ
ンと、該レチクルマガジンを収納するレチクルライブラ
リと、前記被投影位置近傍に設けられ前記レチクルマガ
ジンを待機させる中継所と、前記レチクルマガジンを前
記レチクルライブラリから前記中継所上へと搬送するマ
ガジン搬送手段と、を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レチクル上に形成され
たパターンをプレート（感光基板）上に投影露光する投
影露光装置で、特に一つのプレートの露光に複数のレチ
クルを用いる投影露光装置に関するものである。
たパターンをプレート（感光基板）上に投影露光する投
影露光装置で、特に一つのプレートの露光に複数のレチ
クルを用いる投影露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、投影露光装置において１つのプレ
ートを露光するのに複数のレチクルを用いる場合があ
る。例えば製造すべきデバイスが液晶デバイスなどの面
積の大きなデバイスであり、一つのレチクルの露光フィ
ールドでデバイス全体をカバーすることができず、複数
のフィールドに分割してそのそれぞれのフィールドに別
々のレチクルを用いる場合などである。その場合例えば
複数のレチクルを載置したレチクルチェンジャを用い
て、レチクルを順次切り換えて露光する。そうした場合
あるプレート（あるいは同種のプレートのロット）の一
連の露光が終了し、異なる複数のレチクルの組を用いる
次回の露光のために装置をセットアップする時に、レチ
クルチェンジャ上の複数のレチクルを、１枚、１枚、レ
チクルチェンジャからレチクルローダ等を経由して、所
定のレチクル・ライブラリに返却した後、次の露光に使
用される複数のレチクルを、レチクルライブラリからレ
チクルを１枚、１枚、引き出しレチクルローダを経由し
て、レチクルテーブル及びレチクルチェンジャ上に搬送
していた。また、レチクルは１枚ずつの搬送のためレチ
クル毎にケースに入れられ、ライブラリに収納してい
た。
ートを露光するのに複数のレチクルを用いる場合があ
る。例えば製造すべきデバイスが液晶デバイスなどの面
積の大きなデバイスであり、一つのレチクルの露光フィ
ールドでデバイス全体をカバーすることができず、複数
のフィールドに分割してそのそれぞれのフィールドに別
々のレチクルを用いる場合などである。その場合例えば
複数のレチクルを載置したレチクルチェンジャを用い
て、レチクルを順次切り換えて露光する。そうした場合
あるプレート（あるいは同種のプレートのロット）の一
連の露光が終了し、異なる複数のレチクルの組を用いる
次回の露光のために装置をセットアップする時に、レチ
クルチェンジャ上の複数のレチクルを、１枚、１枚、レ
チクルチェンジャからレチクルローダ等を経由して、所
定のレチクル・ライブラリに返却した後、次の露光に使
用される複数のレチクルを、レチクルライブラリからレ
チクルを１枚、１枚、引き出しレチクルローダを経由し
て、レチクルテーブル及びレチクルチェンジャ上に搬送
していた。また、レチクルは１枚ずつの搬送のためレチ
クル毎にケースに入れられ、ライブラリに収納してい
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のごとき従来の技
術においては、次の様な問題点があった、即ち、（１）
現ロットの露光が終了し、次ロットの露光を行う際に、
レチクルチェンジャ上の現ロットのレチクルをレチクル
を搬送するためのレチクルローダを介して１枚ずつレチ
クルチェンジャからレチクルを保管しているレチクルラ
イブラリに返却し、次ロットのレチクルをレチクルライ
ブラリから１枚ずつレチクルローダを介して搬送してい
たため、現ロットの露光終了から次ロットの露光開始ま
でに多大な時間を必要とする、（２）複数の投影露光装
置間で同じレチクルを使用する場合、レチクルは１枚ず
つケースに入れられてレチクルライブラリに収納されて
いたため、現投影露光装置から別の投影露光装置に移送
する時に、ケースを１つずつ取り出して運ぶため、移送
に要する時間がかかる、という問題点があった。
術においては、次の様な問題点があった、即ち、（１）
現ロットの露光が終了し、次ロットの露光を行う際に、
レチクルチェンジャ上の現ロットのレチクルをレチクル
を搬送するためのレチクルローダを介して１枚ずつレチ
クルチェンジャからレチクルを保管しているレチクルラ
イブラリに返却し、次ロットのレチクルをレチクルライ
ブラリから１枚ずつレチクルローダを介して搬送してい
たため、現ロットの露光終了から次ロットの露光開始ま
でに多大な時間を必要とする、（２）複数の投影露光装
置間で同じレチクルを使用する場合、レチクルは１枚ず
つケースに入れられてレチクルライブラリに収納されて
いたため、現投影露光装置から別の投影露光装置に移送
する時に、ケースを１つずつ取り出して運ぶため、移送
に要する時間がかかる、という問題点があった。
【０００４】本発明は、上述の問題点に鑑みてなされた
もので、生産性の向上に貢献する投影露光装置を提案し
ようとするものである。
もので、生産性の向上に貢献する投影露光装置を提案し
ようとするものである。
【０００５】
【課題を解決する為の手段】上記目的のため、本発明で
は、照明光学系からの光束で所定の被投影位置に置かれ
たレチクルを照明し、該レチクルの像を投影光学系を介
して感光基板上に投影して基板を露光する投影露光装置
において、１つの感光基板の露光に用いられる複数のレ
チクルを収容している可搬なレチクルマガジンと、該レ
チクルマガジンを収納するレチクルライブラリと、前記
被投影位置近傍に設けられ前記レチクルマガジンを待機
させる中継所と、前記レチクルマガジンを前記レチクル
ライブラリから前記中継所上へと搬送するマガジン搬送
手段と、を設けた。このように本発明においては１つの
基板の露光に用いられる複数のレチクルを１つのレチク
ルマガジンに収容し、レチクルの保管場所であるレチク
ルライブラリからレチクルが露光時に設置される位置の
近傍に設けられた中継所までマガジン単位で一括して搬
送することにより、レチクルを一枚一枚搬送する従来の
方法に比べてセットアップ時間が短縮でき、生産性が向
上する。
は、照明光学系からの光束で所定の被投影位置に置かれ
たレチクルを照明し、該レチクルの像を投影光学系を介
して感光基板上に投影して基板を露光する投影露光装置
において、１つの感光基板の露光に用いられる複数のレ
チクルを収容している可搬なレチクルマガジンと、該レ
チクルマガジンを収納するレチクルライブラリと、前記
被投影位置近傍に設けられ前記レチクルマガジンを待機
させる中継所と、前記レチクルマガジンを前記レチクル
ライブラリから前記中継所上へと搬送するマガジン搬送
手段と、を設けた。このように本発明においては１つの
基板の露光に用いられる複数のレチクルを１つのレチク
ルマガジンに収容し、レチクルの保管場所であるレチク
ルライブラリからレチクルが露光時に設置される位置の
近傍に設けられた中継所までマガジン単位で一括して搬
送することにより、レチクルを一枚一枚搬送する従来の
方法に比べてセットアップ時間が短縮でき、生産性が向
上する。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の装置は一つのロットの感
光基板の露光に複数のレチクルを用いる場合に特に適用
される。その場合同じ基板に対して異なる複数のレチク
ルを順次用いて一連の露光を行う。そのため装置は露光
が複数のレチクルを載せることができ、露光時に所定の
被投影位置上に置かれるレチクルを順次切り換えるレチ
クルチェンジャを用いるのが好適である。それに付随し
て中継所に置かれたレチクルマガジン内の個々のレチク
ルを該レチクルチェンジャ上に設置するレチクル搬送手
段とを更に設けるとよい。
光基板の露光に複数のレチクルを用いる場合に特に適用
される。その場合同じ基板に対して異なる複数のレチク
ルを順次用いて一連の露光を行う。そのため装置は露光
が複数のレチクルを載せることができ、露光時に所定の
被投影位置上に置かれるレチクルを順次切り換えるレチ
クルチェンジャを用いるのが好適である。それに付随し
て中継所に置かれたレチクルマガジン内の個々のレチク
ルを該レチクルチェンジャ上に設置するレチクル搬送手
段とを更に設けるとよい。
【０００７】本発明の投影露光装置において、中継所を
少なくとも２つの前記レチクルマガジンを載置可能に構
成すると更なる生産性の向上が可能になる。即ちそのよ
うな場合、ある一つのレチクルマガジンに収容されてい
るレチクルが前記レチクルチェンジャ上に置かれて露光
が行われている間に次のロットの感光基板の露光に用い
られるレチクルを収容した別のレチクルマガジンをレチ
クルライブラリから中継所に搬送し中継所上で待機させ
ることができるからである。即ち、前ロットのレチクル
のセッティング中あるいは露光中に並行して次ロットに
用いるレチクルを収容したレチクルマガジンを露光位置
付近の中継所まで持って待機させておき、更にまた次ロ
ットのレチクルのセッティング中あるいは露光中に並行
して前ロットのレチクルを収容したレチクルマガジンの
ライブラリへの返却を行う、というように露光動作と準
備動作を並行して行う訳である。
少なくとも２つの前記レチクルマガジンを載置可能に構
成すると更なる生産性の向上が可能になる。即ちそのよ
うな場合、ある一つのレチクルマガジンに収容されてい
るレチクルが前記レチクルチェンジャ上に置かれて露光
が行われている間に次のロットの感光基板の露光に用い
られるレチクルを収容した別のレチクルマガジンをレチ
クルライブラリから中継所に搬送し中継所上で待機させ
ることができるからである。即ち、前ロットのレチクル
のセッティング中あるいは露光中に並行して次ロットに
用いるレチクルを収容したレチクルマガジンを露光位置
付近の中継所まで持って待機させておき、更にまた次ロ
ットのレチクルのセッティング中あるいは露光中に並行
して前ロットのレチクルを収容したレチクルマガジンの
ライブラリへの返却を行う、というように露光動作と準
備動作を並行して行う訳である。
【０００８】これらの動作はコンピュータ等の制御系に
より統一的に制御することが可能である。
より統一的に制御することが可能である。
【０００９】更にレチクルマガジン、あるいは該マガジ
ンを収容するケースにハンドキャリーできる取手を取り
付けると、ある投影露光装置から別の装置にある感光基
板の一ロットの露光に用いるレチクルを一括して容易に
運搬できるので好適である。
ンを収容するケースにハンドキャリーできる取手を取り
付けると、ある投影露光装置から別の装置にある感光基
板の一ロットの露光に用いるレチクルを一括して容易に
運搬できるので好適である。
【００１０】
【実施例】以下図面に基いて本発明の実施例を説明す
る。図１は、本発明の実施例が適用される投影露光装置
の全体構成を図式的に示す図である。本装置は特に液晶
デバイス製造に用いられる。露光装置はレチクル１の像
を不図示のプレート上に投影する投影レンズ４投影レン
ズの上方に位置し露光用のレチクルを保持するレチクル
テーブル２、複数のレチクルを載置しレチクルテーブル
上のレチクルを交換するレチクルチェンジャ３、後述す
るレチクル中継所６aおよびステージ６b、レチクルを収
納したレチクルマガジン５aを収容するレチクルライブ
ラリ９、レチクルマガジン５aをレチクルライブラリか
ら中継所に搬送するためのマガジンローダ８、中継所に
置かれたレチクルマガジン５aからレチクルをチェンジ
ャ上に搬送するレチクルローダ７などから構成されてい
る。レチクルチェンジャ３、マガジンローダ８、レチク
ルローダ７等の可動部は不図示の制御系に接続され動作
を制御される。以下に説明する装置の動作は該制御系の
制御のもとに行われる。
る。図１は、本発明の実施例が適用される投影露光装置
の全体構成を図式的に示す図である。本装置は特に液晶
デバイス製造に用いられる。露光装置はレチクル１の像
を不図示のプレート上に投影する投影レンズ４投影レン
ズの上方に位置し露光用のレチクルを保持するレチクル
テーブル２、複数のレチクルを載置しレチクルテーブル
上のレチクルを交換するレチクルチェンジャ３、後述す
るレチクル中継所６aおよびステージ６b、レチクルを収
納したレチクルマガジン５aを収容するレチクルライブ
ラリ９、レチクルマガジン５aをレチクルライブラリか
ら中継所に搬送するためのマガジンローダ８、中継所に
置かれたレチクルマガジン５aからレチクルをチェンジ
ャ上に搬送するレチクルローダ７などから構成されてい
る。レチクルチェンジャ３、マガジンローダ８、レチク
ルローダ７等の可動部は不図示の制御系に接続され動作
を制御される。以下に説明する装置の動作は該制御系の
制御のもとに行われる。
【００１１】この露光装置において１枚のレチクルによ
る露光フィールドよりサイズの大きい液晶基板のような
デバイスを露光する時は、デバイスを複数のフィールド
に分割し、それぞれのフィールドに対応する複数のレチ
クルを用いる必要がある。複数のレチクル１はレチクル
チェンジャ３上に設置され、順次切り換えられて同一の
デバイス基板に対して一連の露光を行う。
る露光フィールドよりサイズの大きい液晶基板のような
デバイスを露光する時は、デバイスを複数のフィールド
に分割し、それぞれのフィールドに対応する複数のレチ
クルを用いる必要がある。複数のレチクル１はレチクル
チェンジャ３上に設置され、順次切り換えられて同一の
デバイス基板に対して一連の露光を行う。
【００１２】このような場合、同じ一組の複数のレチク
ルを用いた露光ロットが終了すると、レチクルチェンジ
ャ上に置かれた複数のレチクル１よりなる組は次回の露
光に用いられる次のレチクル組と交換される。本装置に
おいてレチクル１はこのような意味でのレチクルの組ご
とに（つまり組単位で）一つのレチクルマガジン５a
（レチクルを収容する棚上の可搬ケース）に収容してい
る。レチクルマガジン５aは 図２に示すようにマガジ
ンケース５bに入っておりレチクルライブラリ９に収容
される。レチクルライブラリ９は図１に示すようにマガ
ジンケース５bに納められた複数のレチクルマガジンを
収容保管している。
ルを用いた露光ロットが終了すると、レチクルチェンジ
ャ上に置かれた複数のレチクル１よりなる組は次回の露
光に用いられる次のレチクル組と交換される。本装置に
おいてレチクル１はこのような意味でのレチクルの組ご
とに（つまり組単位で）一つのレチクルマガジン５a
（レチクルを収容する棚上の可搬ケース）に収容してい
る。レチクルマガジン５aは 図２に示すようにマガジ
ンケース５bに入っておりレチクルライブラリ９に収容
される。レチクルライブラリ９は図１に示すようにマガ
ジンケース５bに納められた複数のレチクルマガジンを
収容保管している。
【００１３】この装置で露光を行う場合、露光するため
の装置の露光データをセットした後、装置を起動する
と、レチクルライブラリ９から現露光に必要な複数枚の
レチクル１を収めたマガジン５ａが、マガジン用のロー
ダ８によって取り出され、レチクルテーブルおよびレチ
クルチェンジャの近傍に位置する中継所６aまで搬送さ
れ載置される。このローダ（８）は全方向（Ｘ，Ｙ，Ｚ
方向）に動かすことができる。図３では、レチクルの中
継所（６ａ）とレチクルライブラリ（９）間でのローダ
（８）を介しての受け渡しを示す。図３（ａ）→（ｄ）
の流れはレチクルライブラリ９から中継所６ａへの搬送
方法を、また図３（ｄ）→（ａ）の流れは中継所６ａか
らレチクルライブラリ９への搬送方法を示す。ここで
は、前者を用いて説明する。
の装置の露光データをセットした後、装置を起動する
と、レチクルライブラリ９から現露光に必要な複数枚の
レチクル１を収めたマガジン５ａが、マガジン用のロー
ダ８によって取り出され、レチクルテーブルおよびレチ
クルチェンジャの近傍に位置する中継所６aまで搬送さ
れ載置される。このローダ（８）は全方向（Ｘ，Ｙ，Ｚ
方向）に動かすことができる。図３では、レチクルの中
継所（６ａ）とレチクルライブラリ（９）間でのローダ
（８）を介しての受け渡しを示す。図３（ａ）→（ｄ）
の流れはレチクルライブラリ９から中継所６ａへの搬送
方法を、また図３（ｄ）→（ａ）の流れは中継所６ａか
らレチクルライブラリ９への搬送方法を示す。ここで
は、前者を用いて説明する。
【００１４】図３（ａ）の様に、露光に必要なレチクル
１のはいったマガジン５ａをレチクルライブラリから取
り出す位置（Ｚ方向）までローダ８が動き、ローダ８の
アーム部がレチクルライブラリ９からマガジン５ａを取
り出し、図３（ｂ）の状態になる。次に図３（ｃ）の様
に、中継所６ａの高さにあわせて、ローダ８が動き、さ
らにアームを伸ばして中継所６ａにセットしていき、図
３（ｄ）の様にマガジン５ａを中継所にセットしてアー
ムを抜き出す。この様にしてレチクル１が複数枚収まっ
たマガジン５ａを中継所にセットする。
１のはいったマガジン５ａをレチクルライブラリから取
り出す位置（Ｚ方向）までローダ８が動き、ローダ８の
アーム部がレチクルライブラリ９からマガジン５ａを取
り出し、図３（ｂ）の状態になる。次に図３（ｃ）の様
に、中継所６ａの高さにあわせて、ローダ８が動き、さ
らにアームを伸ばして中継所６ａにセットしていき、図
３（ｄ）の様にマガジン５ａを中継所にセットしてアー
ムを抜き出す。この様にしてレチクル１が複数枚収まっ
たマガジン５ａを中継所にセットする。
【００１５】次に、中継所６ａにセットした後、レチク
ル用ローダ７によってレチクル１を取り出せる所定の位
置まで中継所６ａを水平移動する。中継所６ａは、図４
で示すように、一方向（Ｘ方向）に動かすことができる
ステージ６ｂの上に乗っている。
ル用ローダ７によってレチクル１を取り出せる所定の位
置まで中継所６ａを水平移動する。中継所６ａは、図４
で示すように、一方向（Ｘ方向）に動かすことができる
ステージ６ｂの上に乗っている。
【００１６】中継所６ａが所定の位置まで移動した後、
レチクル用のローダ７でレチクルを一枚ずつマガジン５
ａから取り出し、レチクルテーブル２、レチクルチェン
ジャ３上に搬送する。レチクルテーブル２は投影レンズ
４の真上に位置し、投影露光時に投影されるレチクルを
載置する。本実施例の装置では該レチクルテーブル２を
用いてレチクルチェンジャ３上にレチクル１を設置す
る。この設置の仕方を図６を参照して説明する。図６
（ａ）に示すように通常レチクルチェンジャ３は投影レ
ンズ４の上方にあるレチクルテーブル２の更に上方に位
置する。レチクルチェンジャ３にはレチクル１の大きさ
よりもわずかに小さい穴３aが設けられており、レチク
ルマガジン５aからレチクルローダ７によりレチクルテ
ーブル２上にレチクル１を搬送する際にはレチクルテー
ブル２が該穴３aを通り抜けるようにしてレチクルチェ
ンジャ３を下方に移動させ、図６（ｂ）の状態とする。
この状態でレチクルローダ７によりレチクルマガジン５
aから引き出したレチクル１をレチクルテーブル２上に
搬送載置する（図６（ｃ））。そしてレチクルチェンジ
ャ３を再びレチクルテーブル２より上方に移動させるこ
とで、図６（ｄ）に示すようにレチクルチェンジャ３上
にレチクル１が載置される。こうしてレチクルチェンジ
ャ３上の一つの位置にレチクル１が載置されたら、レチ
クルチェンジャ３を水平移動してその隣のレチクル１を
載せる、という過程を繰り返してレチクルチェンジャ３
上にレチクルマガジン５a内にあるそのロットの露光に
必要なすべてのレチクル１をセットする。
レチクル用のローダ７でレチクルを一枚ずつマガジン５
ａから取り出し、レチクルテーブル２、レチクルチェン
ジャ３上に搬送する。レチクルテーブル２は投影レンズ
４の真上に位置し、投影露光時に投影されるレチクルを
載置する。本実施例の装置では該レチクルテーブル２を
用いてレチクルチェンジャ３上にレチクル１を設置す
る。この設置の仕方を図６を参照して説明する。図６
（ａ）に示すように通常レチクルチェンジャ３は投影レ
ンズ４の上方にあるレチクルテーブル２の更に上方に位
置する。レチクルチェンジャ３にはレチクル１の大きさ
よりもわずかに小さい穴３aが設けられており、レチク
ルマガジン５aからレチクルローダ７によりレチクルテ
ーブル２上にレチクル１を搬送する際にはレチクルテー
ブル２が該穴３aを通り抜けるようにしてレチクルチェ
ンジャ３を下方に移動させ、図６（ｂ）の状態とする。
この状態でレチクルローダ７によりレチクルマガジン５
aから引き出したレチクル１をレチクルテーブル２上に
搬送載置する（図６（ｃ））。そしてレチクルチェンジ
ャ３を再びレチクルテーブル２より上方に移動させるこ
とで、図６（ｄ）に示すようにレチクルチェンジャ３上
にレチクル１が載置される。こうしてレチクルチェンジ
ャ３上の一つの位置にレチクル１が載置されたら、レチ
クルチェンジャ３を水平移動してその隣のレチクル１を
載せる、という過程を繰り返してレチクルチェンジャ３
上にレチクルマガジン５a内にあるそのロットの露光に
必要なすべてのレチクル１をセットする。
【００１７】このようにレチクルチェンジャ３上のレチ
クルのセッティングが終わったら、チェンジャ３上のレ
チクルを順次レチクルテーブル２上に載置し、アライメ
ント等を行った後露光を行う。なおレチクルチェンジャ
３上のレチクル１をレチクルテーブル２に載せる際には
図６の（ｄ）→（ｃ）という過程を行う。
クルのセッティングが終わったら、チェンジャ３上のレ
チクルを順次レチクルテーブル２上に載置し、アライメ
ント等を行った後露光を行う。なおレチクルチェンジャ
３上のレチクル１をレチクルテーブル２に載せる際には
図６の（ｄ）→（ｃ）という過程を行う。
【００１８】そのロットの露光が終了し、次ロットの露
光を行う場合は、上述した搬送方法が逆になり、ローダ
７でレチクル・テーブル２からレチクル１を取り出し、
中継所６ａにあるマガジン５ａに返した後、ステージ６
ｂ上でマガジン用ローダ８との受け渡し位置まで中継所
６ａを移動してローダ８を介してレチクル・ライブラリ
９まで返却する。そして、次ロットの露光で使用するレ
チクル１の収められているマガジン５ａを取り出し上記
と同じ方法でレチクルを搬送する。
光を行う場合は、上述した搬送方法が逆になり、ローダ
７でレチクル・テーブル２からレチクル１を取り出し、
中継所６ａにあるマガジン５ａに返した後、ステージ６
ｂ上でマガジン用ローダ８との受け渡し位置まで中継所
６ａを移動してローダ８を介してレチクル・ライブラリ
９まで返却する。そして、次ロットの露光で使用するレ
チクル１の収められているマガジン５ａを取り出し上記
と同じ方法でレチクルを搬送する。
【００１９】上にで述べた例では、中継所６ａにマガジ
ン５ａを１つ配置できる場合であるが、以下では、中継
所にマガジン５ａを２つ配置できるようにした変形例に
ついて図５を参照して説明する。この変形例の中継所１
０ａは図５に示すように２つのレチクルマガジン５ａ、
５ａ’を載せることができる。
ン５ａを１つ配置できる場合であるが、以下では、中継
所にマガジン５ａを２つ配置できるようにした変形例に
ついて図５を参照して説明する。この変形例の中継所１
０ａは図５に示すように２つのレチクルマガジン５ａ、
５ａ’を載せることができる。
【００２０】図５に示した変形例では最初に露光するロ
ットに必要なレチクル１の搬送は、図１で示す様に中継
所６ａにマガジン５ａが１つ配置された場合と同じだ
が、次ロット以降では最初のロットの露光中に、次ロッ
トの露光に必要なレチクルの搬送が可能になる。最初の
ロットの露光中に次ロットで必要なレチクル１が収納さ
れているマガジン５ａ’をレチクルライブラリ９からマ
ガジンローダ８で取り出しマガジン５ａの載っていない
もう一方の中継所１０ａに次ロット用のマガジン５ａ’
を載せ、所定の位置まで移動して待機させておく、最初
のロットの露光が終了した後、レチクルテーブル２等か
らレチクル１を最初のロット用のレチクル１が収納され
ていたマガジン５ａにもどし、そのマガジン５ａをライ
ブラリ９に返す前に、次ロット用のマガジン５ａ’が所
定の位置に来るように中継所１０ａを移動させ、ローダ
７を介してレチクルテーブル２更にレチクルチェンジャ
３にレチクル１を搬送する。このレチクル１の搬送後、
中継所１０ａを移動させて、マガジン用のローダ８を介
して露光の終了したロットのマガジン５ａを中継所１０
ａからレチクル・ライブラリ９へ搬送する。そして、さ
らに次のロットで使用するレチクル１が収納されている
マガジン５ａ’をレチクルライブラリ９からローダ８で
取り出して、同様の方法にて中継所１０ａに移動させて
おくことにより、１ロット用の中継所６ａを持つものよ
りもレチクル搬送にかかる時間を短縮することが可能と
なる。
ットに必要なレチクル１の搬送は、図１で示す様に中継
所６ａにマガジン５ａが１つ配置された場合と同じだ
が、次ロット以降では最初のロットの露光中に、次ロッ
トの露光に必要なレチクルの搬送が可能になる。最初の
ロットの露光中に次ロットで必要なレチクル１が収納さ
れているマガジン５ａ’をレチクルライブラリ９からマ
ガジンローダ８で取り出しマガジン５ａの載っていない
もう一方の中継所１０ａに次ロット用のマガジン５ａ’
を載せ、所定の位置まで移動して待機させておく、最初
のロットの露光が終了した後、レチクルテーブル２等か
らレチクル１を最初のロット用のレチクル１が収納され
ていたマガジン５ａにもどし、そのマガジン５ａをライ
ブラリ９に返す前に、次ロット用のマガジン５ａ’が所
定の位置に来るように中継所１０ａを移動させ、ローダ
７を介してレチクルテーブル２更にレチクルチェンジャ
３にレチクル１を搬送する。このレチクル１の搬送後、
中継所１０ａを移動させて、マガジン用のローダ８を介
して露光の終了したロットのマガジン５ａを中継所１０
ａからレチクル・ライブラリ９へ搬送する。そして、さ
らに次のロットで使用するレチクル１が収納されている
マガジン５ａ’をレチクルライブラリ９からローダ８で
取り出して、同様の方法にて中継所１０ａに移動させて
おくことにより、１ロット用の中継所６ａを持つものよ
りもレチクル搬送にかかる時間を短縮することが可能と
なる。
【００２１】以上に説明した現投影露光装置で使用して
いたマガジンケース５ｂはその上部に図２に示すような
取手１１を有している。これにより複数枚のレチクル１
を別の投影露光装置に運搬するとき、一度に複数枚のレ
チクルを簡単に移送することが可能となる。
いたマガジンケース５ｂはその上部に図２に示すような
取手１１を有している。これにより複数枚のレチクル１
を別の投影露光装置に運搬するとき、一度に複数枚のレ
チクルを簡単に移送することが可能となる。
【００２２】
【発明の効果】以上の様に本発明によれば、中継所を設
けることと、複数枚のレチクルを一度にライブラリから
中継所あるいは、その逆の搬送を可能にするマガジンと
マガジン用のローダを設けることによって、ロット間に
要するセットアップ時間の短縮が図れるという利点があ
る。
けることと、複数枚のレチクルを一度にライブラリから
中継所あるいは、その逆の搬送を可能にするマガジンと
マガジン用のローダを設けることによって、ロット間に
要するセットアップ時間の短縮が図れるという利点があ
る。
【００２３】また、投影露光装置間で同じレチクルを使
用する場合に、マガジンケースに取手１を付けることに
よって両手をふさがずに一度に複数枚のレチクルを運ぶ
ことができ、ハンドキャリーによる移送時間の短縮が図
れるという利点がある。
用する場合に、マガジンケースに取手１を付けることに
よって両手をふさがずに一度に複数枚のレチクルを運ぶ
ことができ、ハンドキャリーによる移送時間の短縮が図
れるという利点がある。
【００２４】レチクルチェンジャで使う複数のレチクル
を一組として一つのマガジンで管理すればデバイスの各
レイヤ毎の管理が明確で容易になるという利点もある。
を一組として一つのマガジンで管理すればデバイスの各
レイヤ毎の管理が明確で容易になるという利点もある。
【００２５】更にレチクルライブラリから中継所への搬
送時、あるいはある投影露光装置から別の投影露光装置
にレチクルを運搬する際にも、レチクルマガジンあるい
はレチクルケースごと運ぶことにより中のレチクルに埃
等の異物がつきにくいという利点もある。
送時、あるいはある投影露光装置から別の投影露光装置
にレチクルを運搬する際にも、レチクルマガジンあるい
はレチクルケースごと運ぶことにより中のレチクルに埃
等の異物がつきにくいという利点もある。
【図１】本発明による投影露光装置の一実施例を示す全
体構成図。
体構成図。
【図２】レチクルライブラリに収納されるレチクルのマ
ガジンを示す図。
ガジンを示す図。
【図３】レチクルライブラリと中継所間のマガジンの移
動の仕方を表わす図。
動の仕方を表わす図。
【図４】中継所でのマガジンの動き方を示す図。
【図５】マガジンを２つ置くことのできる中継所を示す
図。
図。
【図６】レチクルチェンジャ上へのレチクルのセッティ
ングの仕方を説明する図。
ングの仕方を説明する図。
１：レチクル ２：レチクル・テーブル ３：レチクルチェンジャ ４：投影式光学系 ５ａ：マガジン ５ｂ：マガジン・ケース ６ａ：レチクル中継所 ６ｂ：中継所を移動させるステージ ７：レチクル・ローダ ８：レチクルのマガジン・ローダ ９：レチクルライブラリ １０ａ：レチクル中継所 １０ｂ：中継所を移動させるステージ １１：マガジンの取手
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｆ
Claims (5)
- 【請求項１】 照明光学系からの光束で所定の被投影位
置に置かれたレチクルを照明し、該レチクルの像を投影
光学系を介して感光基板上に投影して基板を露光する投
影露光装置において、１つの感光基板の露光に用いられ
る複数のレチクルを収容している可搬なレチクルマガジ
ンと、該レチクルマガジンを収納するレチクルライブラ
リと、前記被投影位置近傍に設けられ前記レチクルマガ
ジンを待機させる中継所と、前記レチクルマガジンを前
記レチクルライブラリから前記中継所上へと搬送するマ
ガジン搬送手段と、を有することを特徴とする投影露光
装置。 - 【請求項２】 複数のレチクルを載せることができ、露
光時に前記所定の被投影位置上に置かれるレチクルを順
次切り換えるレチクルチェンジャと、前記中継所に置か
れたレチクルマガジン内の個々のレチクルを該レチクル
チェンジャ上に設置するレチクル搬送手段とを更に有す
ることを特徴とする請求項１に記載の投影露光装置。 - 【請求項３】 前記中継所は少なくとも２つの前記レチ
クルマガジンを載置可能であり、ある一つのレチクルマ
ガジンに収容されているレチクルが前記レチクルチェン
ジャ上に置かれて露光が行われている間に次のロットの
感光基板の露光に用いられるレチクルを収容した別のレ
チクルマガジンをレチクルライブラリから中継所に搬送
子該中継所上で待機させることができることを特徴とす
る請求項２に記載の投影露光装置。 - 【請求項４】 前記レチクルマガジンはハンドキャリー
できる取手を有すること特徴とする請求項１乃至３のい
ずれかに記載の投影露光装置。 - 【請求項５】 前記投影露光装置は液晶基板の製造用で
あることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載
の投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8098029A JPH09283416A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8098029A JPH09283416A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09283416A true JPH09283416A (ja) | 1997-10-31 |
Family
ID=14208557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8098029A Withdrawn JPH09283416A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09283416A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003068620A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-07 | Sendai Nikon:Kk | 露光装置 |
| JP2011053586A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-03-17 | Ushio Inc | 露光装置 |
| CN103984208A (zh) * | 2013-02-07 | 2014-08-13 | 上海微电子装备有限公司 | 掩模版传输系统 |
-
1996
- 1996-04-19 JP JP8098029A patent/JPH09283416A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003068620A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-07 | Sendai Nikon:Kk | 露光装置 |
| JP2011053586A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-03-17 | Ushio Inc | 露光装置 |
| CN103984208A (zh) * | 2013-02-07 | 2014-08-13 | 上海微电子装备有限公司 | 掩模版传输系统 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030701 |