JPH09278456A - 光学素子の成形用型及びその製造方法及び光学素子の 成形方法 - Google Patents
光学素子の成形用型及びその製造方法及び光学素子の 成形方法Info
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- JPH09278456A JPH09278456A JP7902396A JP7902396A JPH09278456A JP H09278456 A JPH09278456 A JP H09278456A JP 7902396 A JP7902396 A JP 7902396A JP 7902396 A JP7902396 A JP 7902396A JP H09278456 A JPH09278456 A JP H09278456A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、安価な光学素子の成形用型を提供
することを目的とする。 【解決手段】 本発明に係る光学素子の成形用型７は、
加熱軟化した成形素材４を成形用金型で押圧することに
より、光学素子を成形する光学素子の成形用金型であっ
て、上記成形用金型７はガラス遷移挙動を示す非晶質材
であり、ガラス素材のガラス遷移温度をＧＴｇ、上記成
型用金型７の成形に用いられるブランクの融点をＢＴ
ｍ、上記成形用金型７の結晶化開始温度をＴｘとする
と、上記成形用金型７のガラス遷移温度Ｔｇが、ＧＴｇ
＜Ｔｇ＜ＢＴｍ、Ｔｇ＜Ｔｘで示す範囲であることを特
徴とするものである。
することを目的とする。 【解決手段】 本発明に係る光学素子の成形用型７は、
加熱軟化した成形素材４を成形用金型で押圧することに
より、光学素子を成形する光学素子の成形用金型であっ
て、上記成形用金型７はガラス遷移挙動を示す非晶質材
であり、ガラス素材のガラス遷移温度をＧＴｇ、上記成
型用金型７の成形に用いられるブランクの融点をＢＴ
ｍ、上記成形用金型７の結晶化開始温度をＴｘとする
と、上記成形用金型７のガラス遷移温度Ｔｇが、ＧＴｇ
＜Ｔｇ＜ＢＴｍ、Ｔｇ＜Ｔｘで示す範囲であることを特
徴とするものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学素子の成形用
型及びその製造方法及び光学素子の成形方法に関する。
型及びその製造方法及び光学素子の成形方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】高精度の光学ガラス素子を加圧成形して
製造するための金型材料としては高温でもガラスに対し
て化学的に不活性であり、ガラスの成形面となる部分が
充分硬く、損傷を受けにくく、高温での成形により成形
面が塑性変形や粒成長を起こさずに、繰り返し成形が行
えるように耐熱衝撃性に優れ、さらに、超精密加工が行
えるように加工性に優れていることが必要である。
製造するための金型材料としては高温でもガラスに対し
て化学的に不活性であり、ガラスの成形面となる部分が
充分硬く、損傷を受けにくく、高温での成形により成形
面が塑性変形や粒成長を起こさずに、繰り返し成形が行
えるように耐熱衝撃性に優れ、さらに、超精密加工が行
えるように加工性に優れていることが必要である。
【０００３】これらの条件をある程度満足する金型材料
として、例えば、特開昭６０−１７６９２８号公報や特
開昭６０−１９５０２６号公報では超硬合金やＳｉＣを
母材に用いることが開示されている。
として、例えば、特開昭６０−１７６９２８号公報や特
開昭６０−１９５０２６号公報では超硬合金やＳｉＣを
母材に用いることが開示されている。
【０００４】一方、表面層に関しては、特開昭６３−２
３８２２号公報において、窒化クロムや炭化クロム等の
クロム化合物を用いることが開示されている。
３８２２号公報において、窒化クロムや炭化クロム等の
クロム化合物を用いることが開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の光学ガ
ラス素子の成形用型は母材を焼結により形成した後、外
形を研削加工して所定の形状に仕上げ、成形面の研削及
び研磨加工を行い、型表面に成膜する必要があり、型が
完成するまでの工数が多い。
ラス素子の成形用型は母材を焼結により形成した後、外
形を研削加工して所定の形状に仕上げ、成形面の研削及
び研磨加工を行い、型表面に成膜する必要があり、型が
完成するまでの工数が多い。
【０００６】また、型の母材となる超硬合金及びセラミ
ック材は結晶化されているため、格子欠陥及び粒界等が
あり、研磨加工により満足な面精度を得るためには困難
を要する。
ック材は結晶化されているため、格子欠陥及び粒界等が
あり、研磨加工により満足な面精度を得るためには困難
を要する。
【０００７】上記に示す通り、型加工は難しく、長時間
かかるため、コスト高になり、成形された光学素子も高
価になるという課題があった。
かかるため、コスト高になり、成形された光学素子も高
価になるという課題があった。
【０００８】請求項１、２記載の発明は、安価な成形用
型を提供することを目的とする。請求項３、４記載の発
明は、一つの成形用型で多種の光学素子を安価に成形可
能な成形用金型の製造方法を提供することを目的とす
る。請求項５、６記載の発明は、ガラス遷移挙動を示す
非晶質材を用いて成形される光学素子を提供することを
目的とする。
型を提供することを目的とする。請求項３、４記載の発
明は、一つの成形用型で多種の光学素子を安価に成形可
能な成形用金型の製造方法を提供することを目的とす
る。請求項５、６記載の発明は、ガラス遷移挙動を示す
非晶質材を用いて成形される光学素子を提供することを
目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明に係
る光学素子の成形用型は、ガラス遷移挙動を示す非晶質
材を使用した事を特徴とするものである。
る光学素子の成形用型は、ガラス遷移挙動を示す非晶質
材を使用した事を特徴とするものである。
【００１０】請求項２記載の発明に係る光学素子の成形
用型は、加熱軟化したガラス素材を一対の成形用型で押
圧することにより、光学素子を成形する光学素子の成形
用型であって、上記成形用型はガラス遷移挙動を示す非
晶質材であり、ガラス素材のガラス遷移温度をＧＴｇ、
上記成型用型の成形に用いられるブランクの融点をＢＴ
ｍ、上記成形用型の結晶化開始温度をＴｘとすると、上
記成形用型のガラス遷移温度Ｔｇが、ＧＴｇ＜Ｔｇ＜Ｂ
Ｔｍ、Ｔｇ＜Ｔｘで示す範囲であることを特徴とするも
のである。
用型は、加熱軟化したガラス素材を一対の成形用型で押
圧することにより、光学素子を成形する光学素子の成形
用型であって、上記成形用型はガラス遷移挙動を示す非
晶質材であり、ガラス素材のガラス遷移温度をＧＴｇ、
上記成型用型の成形に用いられるブランクの融点をＢＴ
ｍ、上記成形用型の結晶化開始温度をＴｘとすると、上
記成形用型のガラス遷移温度Ｔｇが、ＧＴｇ＜Ｔｇ＜Ｂ
Ｔｍ、Ｔｇ＜Ｔｘで示す範囲であることを特徴とするも
のである。
【００１１】請求項３記載の発明に係る光学素子の成形
用型の製造方法は、ガラス遷移挙動を示す非晶質材を使
用し、成形により製造する事を特徴とするものである。
用型の製造方法は、ガラス遷移挙動を示す非晶質材を使
用し、成形により製造する事を特徴とするものである。
【００１２】請求項４記載の発明に係る光学素子の成形
用型の製造方法は、ガラス素材を加熱軟化し一対の成形
用型で押圧することにより、光学素子を成形する光学素
子の成形用型の製造方法において、上記成型用型のガラ
ス遷移温度Ｔｇとし、上記成型用型の結晶化開始温度を
Ｔｘとすると、上記成形用型を温度Ｔ（Ｔｇ＜Ｔ＜Ｔ
ｘ）に加熱する工程と、所望の光学素子と同形状のブラ
ンクを上記成形用型で押圧して上記成形用型の成形面を
形成する工程とを含むことを特徴とするものである。
用型の製造方法は、ガラス素材を加熱軟化し一対の成形
用型で押圧することにより、光学素子を成形する光学素
子の成形用型の製造方法において、上記成型用型のガラ
ス遷移温度Ｔｇとし、上記成型用型の結晶化開始温度を
Ｔｘとすると、上記成形用型を温度Ｔ（Ｔｇ＜Ｔ＜Ｔ
ｘ）に加熱する工程と、所望の光学素子と同形状のブラ
ンクを上記成形用型で押圧して上記成形用型の成形面を
形成する工程とを含むことを特徴とするものである。
【００１３】請求項５記載の発明に係る光学素子の成形
方法は、ガラス遷移挙動を示す非晶質材を使用した光学
素材成形用型を用いてプレス成形することを特徴とする
ものである。
方法は、ガラス遷移挙動を示す非晶質材を使用した光学
素材成形用型を用いてプレス成形することを特徴とする
ものである。
【００１４】請求項６記載の発明に係る光学素子の成形
方法は、ガラス素材を加熱軟化し一対の成形用型で押圧
することにより、光学素子を成形する光学素子の成形方
法において、上記成形用型はガラス遷移挙動を示す非晶
質材であり、ガラス素材のガラス遷移温度をＧＴｇ、上
記成形用型のガラス遷移温度をＴｇ、上記成型用型の成
形に用いられるブランクの融点をＢＴｍ、上記成形用型
の結晶化開始温度をＴｘとすると、上記成形用型のガラ
ス遷移温度Ｔｇが、ＧＴｇ＜Ｔｇ＜ＢＴｍ、Ｔｇ＜Ｔｘ
で示す範囲であり、この成形用型を温度Ｔ’（ＧＴｇ≦
Ｔ’＜Ｔｇ）に加熱し光学素子を成形することを特徴と
するものである。
方法は、ガラス素材を加熱軟化し一対の成形用型で押圧
することにより、光学素子を成形する光学素子の成形方
法において、上記成形用型はガラス遷移挙動を示す非晶
質材であり、ガラス素材のガラス遷移温度をＧＴｇ、上
記成形用型のガラス遷移温度をＴｇ、上記成型用型の成
形に用いられるブランクの融点をＢＴｍ、上記成形用型
の結晶化開始温度をＴｘとすると、上記成形用型のガラ
ス遷移温度Ｔｇが、ＧＴｇ＜Ｔｇ＜ＢＴｍ、Ｔｇ＜Ｔｘ
で示す範囲であり、この成形用型を温度Ｔ’（ＧＴｇ≦
Ｔ’＜Ｔｇ）に加熱し光学素子を成形することを特徴と
するものである。
【００１５】請求項１記載の発明に係る光学素子の成形
用型は、ガラス遷移挙動を示す非晶質材を使用したもの
であり、この非晶質材のガラス化遷移温度以上、結晶化
温度未満の範囲内の温度に加熱したときに現れる過冷却
液体状態における粘性流動によって成形することができ
るので、切削による後加工が不要になる。
用型は、ガラス遷移挙動を示す非晶質材を使用したもの
であり、この非晶質材のガラス化遷移温度以上、結晶化
温度未満の範囲内の温度に加熱したときに現れる過冷却
液体状態における粘性流動によって成形することができ
るので、切削による後加工が不要になる。
【００１６】請求項２記載の発明に係る光学素子の成形
用型は、成形用型のガラス遷移温度Ｔｇが成形用型の結
晶化開始温度Ｔｘより低いため、ＴｇからＴｘの温度範
囲で非晶質材である成形用型が過冷却液体状態となり、
上記成形用型でブランクを押圧した時、上記成形用型の
ガラス遷移温度Ｔｇがブランクの融点ＢＴｍより低いた
め成形用型は過冷却液体状態でブランクによって固化し
ていることで、上記成形用型の成形面が形成される。
用型は、成形用型のガラス遷移温度Ｔｇが成形用型の結
晶化開始温度Ｔｘより低いため、ＴｇからＴｘの温度範
囲で非晶質材である成形用型が過冷却液体状態となり、
上記成形用型でブランクを押圧した時、上記成形用型の
ガラス遷移温度Ｔｇがブランクの融点ＢＴｍより低いた
め成形用型は過冷却液体状態でブランクによって固化し
ていることで、上記成形用型の成形面が形成される。
【００１７】また、上記成形用型でガラス素材を押圧し
た時は、上記成形用型のガラス遷移温度Ｔｇがガラス素
材のガラス遷移温度ＧＴｇより高いため、ガラス素材が
過冷却液体状態で上記成形用型によって固化しているこ
とで、光学素子が成形される。
た時は、上記成形用型のガラス遷移温度Ｔｇがガラス素
材のガラス遷移温度ＧＴｇより高いため、ガラス素材が
過冷却液体状態で上記成形用型によって固化しているこ
とで、光学素子が成形される。
【００１８】請求項３記載の発明に係る光学素子の成形
用型の製造方法によれば、ガラス遷移挙動を示す非晶質
材を金型内で押圧成形することで、光学素子の成形用型
を製造する方法であり、この製造方法によれば、成形面
の研磨を除き後加工が不要で精密な形状精度の成形用型
を得ることができる。
用型の製造方法によれば、ガラス遷移挙動を示す非晶質
材を金型内で押圧成形することで、光学素子の成形用型
を製造する方法であり、この製造方法によれば、成形面
の研磨を除き後加工が不要で精密な形状精度の成形用型
を得ることができる。
【００１９】請求項４記載の発明に係る光学素子の成形
用型の製造方法によれば、ブランクを成形用型で押圧す
る度に、成形用型の成形面を所望の形状に変化させるこ
とができ、ブランクを多種用意することで一つの成形用
型で多種の光学素子を成形することが可能となる。
用型の製造方法によれば、ブランクを成形用型で押圧す
る度に、成形用型の成形面を所望の形状に変化させるこ
とができ、ブランクを多種用意することで一つの成形用
型で多種の光学素子を成形することが可能となる。
【００２０】請求項５記載の光学素子の成形方法は、ガ
ラス遷移挙動を示す非晶質材を成形用型に用いて、ガラ
ス素材をその転移点以上に加熱軟化して、ガラス素材の
転移点付近に加熱された成形用型により、プレス成形し
ガラス素材を冷却して光学素子を製造できる。
ラス遷移挙動を示す非晶質材を成形用型に用いて、ガラ
ス素材をその転移点以上に加熱軟化して、ガラス素材の
転移点付近に加熱された成形用型により、プレス成形し
ガラス素材を冷却して光学素子を製造できる。
【００２１】請求項６の作用は、上記成形用型でガラス
素材を押圧する際、上記成形用型を上記成形用型のガラ
ス遷移温度Ｔｇより低い温度で加熱することにより、成
形用型が変形することを防止し、上記成形用型をガラス
素材のガラス遷移温度ＧＴｇより高い温度で加熱するこ
とにより、上記成形用型でガラス素材を押圧し、所望の
光学素子を成形することを可能とするものである。
素材を押圧する際、上記成形用型を上記成形用型のガラ
ス遷移温度Ｔｇより低い温度で加熱することにより、成
形用型が変形することを防止し、上記成形用型をガラス
素材のガラス遷移温度ＧＴｇより高い温度で加熱するこ
とにより、上記成形用型でガラス素材を押圧し、所望の
光学素子を成形することを可能とするものである。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を詳細
に説明する。
に説明する。
【００２３】（実施の形態１） （構成）Ｚｒが５５％、Ｃｕが３０％、Ａｌが１０％、
Ｎｉが５％（数値は原子％）の組成を有する、溶融合金
を作り、図１に示すように、この溶融合金を鋳造装置１
の湯口２より銅製鋳型３に鋳込み急冷させて非晶質成形
素材４を得た。冷却終了後、図２に示すように、得よう
とするガラス成形用金型７に対応する形状の成形用金型
５内に非晶質成形素材４を移し、再度その非晶質成形素
材４のガラス遷移温度Ｔｇと結晶化温度Ｔｘ間の温度に
加熱（本実施の形態１では４７０℃）する。尚、図１、
図２中、１６はヒータである。
Ｎｉが５％（数値は原子％）の組成を有する、溶融合金
を作り、図１に示すように、この溶融合金を鋳造装置１
の湯口２より銅製鋳型３に鋳込み急冷させて非晶質成形
素材４を得た。冷却終了後、図２に示すように、得よう
とするガラス成形用金型７に対応する形状の成形用金型
５内に非晶質成形素材４を移し、再度その非晶質成形素
材４のガラス遷移温度Ｔｇと結晶化温度Ｔｘ間の温度に
加熱（本実施の形態１では４７０℃）する。尚、図１、
図２中、１６はヒータである。
【００２４】温度安定後、移動型６を下動させ５０ＭＰ
ａの圧力で成形し、この非晶質成形素材４のガラス遷移
温度Ｔｇ以下まで冷却させ、この後、成形用金型５内か
ら取り出しガラス成形用金型７とする。成形により得ら
れたガラス成形用金型７は、前記成形用金型５の形状を
正確に再現しており、形状精度０．５μｍの形状精度で
あった。このガラス成形用金型７の成形面７ａを研磨加
工により形状精度０．１μｍに仕上げ、ガラス成形用金
型７を完成させた。
ａの圧力で成形し、この非晶質成形素材４のガラス遷移
温度Ｔｇ以下まで冷却させ、この後、成形用金型５内か
ら取り出しガラス成形用金型７とする。成形により得ら
れたガラス成形用金型７は、前記成形用金型５の形状を
正確に再現しており、形状精度０．５μｍの形状精度で
あった。このガラス成形用金型７の成形面７ａを研磨加
工により形状精度０．１μｍに仕上げ、ガラス成形用金
型７を完成させた。
【００２５】図３は、上述の工程で得られたガラス成形
用金型７を用いたガラス成形装置を示すものであり、加
熱炉８、上型９、下型１０、上型用ヒータ１１、下型用
ヒータ１２、搬送用アーム１３、搬送皿１４を備えて構
成されている。
用金型７を用いたガラス成形装置を示すものであり、加
熱炉８、上型９、下型１０、上型用ヒータ１１、下型用
ヒータ１２、搬送用アーム１３、搬送皿１４を備えて構
成されている。
【００２６】（作用）上記構成のガラス成形装置によ
り、直径１０ｍｍで両平面を有するＳＦ系のガラス素材
１５を搬送皿１４に載置して搬送アーム１３に保持さ
せ、加熱炉８内で４５０℃まで加熱する。この後、非酸
化性雰囲気にされた成形室１７の上型９、下型１０間に
搬送用アーム１３の動作でガラス素材１５を搬送する。
り、直径１０ｍｍで両平面を有するＳＦ系のガラス素材
１５を搬送皿１４に載置して搬送アーム１３に保持さ
せ、加熱炉８内で４５０℃まで加熱する。この後、非酸
化性雰囲気にされた成形室１７の上型９、下型１０間に
搬送用アーム１３の動作でガラス素材１５を搬送する。
【００２７】搬送終了後、型温４００℃に設定された上
型９、下型１０の可動により、８０ＭＰａの圧力で成形
される。その後、成形室外に搬出され搬送皿１４から成
形された光学素子が取り出される。以上の工程により、
成形された光学素子の面精度は高精度であり、微小焼き
付きによるガラスの欠落などなく良好であった。ガラス
成形用金型７においても損傷、劣化がなかった。
型９、下型１０の可動により、８０ＭＰａの圧力で成形
される。その後、成形室外に搬出され搬送皿１４から成
形された光学素子が取り出される。以上の工程により、
成形された光学素子の面精度は高精度であり、微小焼き
付きによるガラスの欠落などなく良好であった。ガラス
成形用金型７においても損傷、劣化がなかった。
【００２８】（効果）本実施の形態１のガラス成形用金
型７によれば、金型形状を成形によって高精度に製作す
ることができるので、焼結、研削工程が不要になる。
尚、本実施の形態１ではＺｒ55Ｃｕ30Ａｌ10Ｎｉ5 をガ
ラス成形用金型の材科として使用したが、ガラス遷移挙
動を示す非晶質材であれば他の材料でも良い。また、本
実施の形態１では成形面に表面層を施さなかったが必要
に応じて成形面に膜付けをしても良い。
型７によれば、金型形状を成形によって高精度に製作す
ることができるので、焼結、研削工程が不要になる。
尚、本実施の形態１ではＺｒ55Ｃｕ30Ａｌ10Ｎｉ5 をガ
ラス成形用金型の材科として使用したが、ガラス遷移挙
動を示す非晶質材であれば他の材料でも良い。また、本
実施の形態１では成形面に表面層を施さなかったが必要
に応じて成形面に膜付けをしても良い。
【００２９】（実施の形態２） （構成）Ｚｒが５５％、Ｃｕが３０％、Ａｌが１０％、
Ｎｉが５％（数値は原子％）の組成を有する、溶融合金
を作り、図１に示すように、この溶融合金を鋳造装置１
の湯口２より銅製鋳型３に鋳込み急冷させて非晶質成形
素材４を得た。冷却終了後、図２に示すように、得よう
とするガラス成形用金型７に対応する形状の成形用金型
５内に非晶質成形素材４を移し、再度その非晶質成形素
材４のガラス遷移温度Ｔｇと結晶化温度Ｔｘ間の温度に
加熱（本実施の形態２では４７０℃）する。
Ｎｉが５％（数値は原子％）の組成を有する、溶融合金
を作り、図１に示すように、この溶融合金を鋳造装置１
の湯口２より銅製鋳型３に鋳込み急冷させて非晶質成形
素材４を得た。冷却終了後、図２に示すように、得よう
とするガラス成形用金型７に対応する形状の成形用金型
５内に非晶質成形素材４を移し、再度その非晶質成形素
材４のガラス遷移温度Ｔｇと結晶化温度Ｔｘ間の温度に
加熱（本実施の形態２では４７０℃）する。
【００３０】温度安定後、移動型６を下動させ５０ＭＰ
ａの圧力で成形し、この非晶質成形素材４のガラス遷移
温度Ｔｇ以下まで冷却させ、この後、成形用金型５内か
ら取り出しガラス成形用金型７とする。成形により得ら
れたガラス成形用金型７は、前記成形用金型５の形状を
正確に再現しており、形状精度０．５μｍの形状精度で
あった。このガラス成形用金型７の成形面７ａを加工に
より形状精度０．１μｍに仕上げ、ガラス成形用金型７
を完成させた。
ａの圧力で成形し、この非晶質成形素材４のガラス遷移
温度Ｔｇ以下まで冷却させ、この後、成形用金型５内か
ら取り出しガラス成形用金型７とする。成形により得ら
れたガラス成形用金型７は、前記成形用金型５の形状を
正確に再現しており、形状精度０．５μｍの形状精度で
あった。このガラス成形用金型７の成形面７ａを加工に
より形状精度０．１μｍに仕上げ、ガラス成形用金型７
を完成させた。
【００３１】このガラス成形用金型７を非酸化性雰囲気
中で６００℃で２時間熱処理を行い非晶質材を結晶化さ
せた。
中で６００℃で２時間熱処理を行い非晶質材を結晶化さ
せた。
【００３２】（作用）図３に示す実施の形態１と同様構
成のガラス成形装置により、直径１０ｍｍで両平面を有
するＬａ系のガラス素材１５を搬送皿１４に載置して搬
送アーム１３に保持させ、加熱炉８内で７００℃まで加
熱する。この後、非酸化性雰囲気にされた成形室１７の
上型９、下型１０間に搬送用アーム１３の動作で、ガラ
ス素材１５を搬送する。
成のガラス成形装置により、直径１０ｍｍで両平面を有
するＬａ系のガラス素材１５を搬送皿１４に載置して搬
送アーム１３に保持させ、加熱炉８内で７００℃まで加
熱する。この後、非酸化性雰囲気にされた成形室１７の
上型９、下型１０間に搬送用アーム１３の動作で、ガラ
ス素材１５を搬送する。
【００３３】搬送終了後、型温６１０℃に設定された上
型９、下型１０の可動により、８０ＭＰａの圧力で成形
される。その後、成形室外に搬出され搬送皿１４から成
形された光学素子が取り出される。以上の工程により、
成形された光学素子の面精度は高精度であり、微小焼き
付きによるガラスの欠落などなく良好であった。ガラス
成形用金型７においても損傷、劣化がなかった。
型９、下型１０の可動により、８０ＭＰａの圧力で成形
される。その後、成形室外に搬出され搬送皿１４から成
形された光学素子が取り出される。以上の工程により、
成形された光学素子の面精度は高精度であり、微小焼き
付きによるガラスの欠落などなく良好であった。ガラス
成形用金型７においても損傷、劣化がなかった。
【００３４】（効果）本実施の形態２のガラス成形用金
型７によれば、金型形状を成形によって高精度に製作す
ることができるので、焼結、研削工程が不要になる。
尚、本実施の形態２では非晶質材を結晶化させることに
より、金型材質のガラス遷移温度以上の転移点をもつガ
ラスにおいても金型を変形させずに成形を行うことがで
きる。
型７によれば、金型形状を成形によって高精度に製作す
ることができるので、焼結、研削工程が不要になる。
尚、本実施の形態２では非晶質材を結晶化させることに
より、金型材質のガラス遷移温度以上の転移点をもつガ
ラスにおいても金型を変形させずに成形を行うことがで
きる。
【００３５】本実施の形態２では、Ｚｒ55Ｃｕ30Ａｌ10
Ｎｉ5 をガラス成形用金型の材科として使用したが、ガ
ラス遷移挙動を示す非晶質材であれば他の材料でも良
い。また、本実施の形態１では成形面に表面層を施さな
かったが必要に応じて成形面に膜付けをしても良い。
Ｎｉ5 をガラス成形用金型の材科として使用したが、ガ
ラス遷移挙動を示す非晶質材であれば他の材料でも良
い。また、本実施の形態１では成形面に表面層を施さな
かったが必要に応じて成形面に膜付けをしても良い。
【００３６】（実施の形態３） （構成）Ｚｒが５５％、Ｃｕが３０％、Ａｌが１０％、
Ｎｉが５％（数値は原子％）の組成を有する、溶融合金
を作り、図４に示すように、この溶融合金を鋳造装置１
の湯口２よりガラス成形用金型２７の成形面上の非球面
形状の近似形状部２３ａを有する銅製鋳型２３に鋳込み
急冷させて非晶質成形素材２４を得た。
Ｎｉが５％（数値は原子％）の組成を有する、溶融合金
を作り、図４に示すように、この溶融合金を鋳造装置１
の湯口２よりガラス成形用金型２７の成形面上の非球面
形状の近似形状部２３ａを有する銅製鋳型２３に鋳込み
急冷させて非晶質成形素材２４を得た。
【００３７】冷却終了後、図５に示すように、得ようと
するガラス成形用金型２７に対応する形状の成形用金型
２５内に非晶質成形素材２４を移し、再度その非晶質素
材２４のガラス遷移温度Ｔｇと結晶化温度Ｔｘ間の温度
に加熱（本実施の形態３では４７０℃）する。
するガラス成形用金型２７に対応する形状の成形用金型
２５内に非晶質成形素材２４を移し、再度その非晶質素
材２４のガラス遷移温度Ｔｇと結晶化温度Ｔｘ間の温度
に加熱（本実施の形態３では４７０℃）する。
【００３８】温度安定後、所望の非球面形状２６ａを有
する移動型２６を下動させ、４０ＭＰａの圧力で押圧成
形した後、その非晶質成形素材のガラス遷移温度Ｔｇ以
下まで冷却させ成形形用金型２５から取り出す。成形に
より得られたガラス成形用金型２７は、成形用金型２
５、移動型２６の形状を正確に再現しており、非球面の
形状精度は０．２μｍの形状精度であった。
する移動型２６を下動させ、４０ＭＰａの圧力で押圧成
形した後、その非晶質成形素材のガラス遷移温度Ｔｇ以
下まで冷却させ成形形用金型２５から取り出す。成形に
より得られたガラス成形用金型２７は、成形用金型２
５、移動型２６の形状を正確に再現しており、非球面の
形状精度は０．２μｍの形状精度であった。
【００３９】（作用）このようにして得られたガラス成
形用金型２７を用いて、実施の形態１と同様の成形方法
により成形を行った結果、得られた光学素子の面精度は
高精度であり、微小焼き付きによるガラスの欠落等なく
良好であった。また、ガラス成形用２７においても損
傷、劣化がなかった。
形用金型２７を用いて、実施の形態１と同様の成形方法
により成形を行った結果、得られた光学素子の面精度は
高精度であり、微小焼き付きによるガラスの欠落等なく
良好であった。また、ガラス成形用２７においても損
傷、劣化がなかった。
【００４０】（効果）本実施の形態３のガラス成形用金
型２７によれば、金型形状を成形によって高精度に作製
することができるので、焼結、研削工程が不要になる。
また、成形面も成形により製作することができるので、
移動型２６の成形面２６ａを一度加工すれば成形面の研
削、研磨加工なしで同形状のガラス成形用金型を繰り返
しを製造することが可能となり、金型コストを低減する
ことができる。
型２７によれば、金型形状を成形によって高精度に作製
することができるので、焼結、研削工程が不要になる。
また、成形面も成形により製作することができるので、
移動型２６の成形面２６ａを一度加工すれば成形面の研
削、研磨加工なしで同形状のガラス成形用金型を繰り返
しを製造することが可能となり、金型コストを低減する
ことができる。
【００４１】尚、本実施の形態３ではＺｒ55.5Ｃｕ30Ａ
ｌ10Ｎｉ5 をガラス成形用金型の材料として使用した
が、ガラス遷移挙動を示す非晶質材であれば他の材料で
も良い。また、本実施の形態３では成形面に表面層を施
さなつかたが必要に応じて成形面に膜付けをしても良
い。さらに、実施の形態３では成形面を非球面形状とし
たが、アナモフィック、回折格子等の加工性の悪い形状
を成形面形状とでする場合、更に効果が期待できる。
ｌ10Ｎｉ5 をガラス成形用金型の材料として使用した
が、ガラス遷移挙動を示す非晶質材であれば他の材料で
も良い。また、本実施の形態３では成形面に表面層を施
さなつかたが必要に応じて成形面に膜付けをしても良
い。さらに、実施の形態３では成形面を非球面形状とし
たが、アナモフィック、回折格子等の加工性の悪い形状
を成形面形状とでする場合、更に効果が期待できる。
【００４２】（実施の形態４） （構成）図６、図７は溶融合金１０１から原形成形用型
１１６及び１１７を鋳造する鋳造装置の断面図を示す。
図８乃至図１０及び図１１乃至図１３は成形用型及び光
学素子の成形装置の断面図を示す。図６において、Ｃｏ
68.8Ｆｅ4.2 Ｓｉ15Ｂ12（数値は原子％）の組成を有す
る溶融合金１０１は中空円筒形であり、外周にヒーター
１０２を備えたプランジャースリーブ１０３の内部に挿
入される。
１１６及び１１７を鋳造する鋳造装置の断面図を示す。
図８乃至図１０及び図１１乃至図１３は成形用型及び光
学素子の成形装置の断面図を示す。図６において、Ｃｏ
68.8Ｆｅ4.2 Ｓｉ15Ｂ12（数値は原子％）の組成を有す
る溶融合金１０１は中空円筒形であり、外周にヒーター
１０２を備えたプランジャースリーブ１０３の内部に挿
入される。
【００４３】プランジャー１０４は、プランジャースリ
ーブ１０３の内径に嵌合する形状であり、図示しないエ
アーシリンダによりプランジャースリーブ１０３内部を
上下動する。鋳型１０５は銅製であり、上部に排気口１
０６が設けられ、下部はプランジャースリーブ１０３の
上部に接合されている。上述した鋳造により得られた原
形成形用型１１６及び１１７は、図８乃至図１０に示さ
れるブランク１１５を押圧することにより、成形面１１
２ａ及び１１３ａを有する上型１１２及び下型１１３に
なる。
ーブ１０３の内径に嵌合する形状であり、図示しないエ
アーシリンダによりプランジャースリーブ１０３内部を
上下動する。鋳型１０５は銅製であり、上部に排気口１
０６が設けられ、下部はプランジャースリーブ１０３の
上部に接合されている。上述した鋳造により得られた原
形成形用型１１６及び１１７は、図８乃至図１０に示さ
れるブランク１１５を押圧することにより、成形面１１
２ａ及び１１３ａを有する上型１１２及び下型１１３に
なる。
【００４４】従って、原形成形用型１１６及び１１７の
ブランク成形により、将来成形面となる部分（押圧面）
１１６ａ及び１１７ａは平面もしくは球面でよい。
ブランク成形により、将来成形面となる部分（押圧面）
１１６ａ及び１１７ａは平面もしくは球面でよい。
【００４５】本実施の形態４では、所望の光学素子が凸
型両面非球面レンズであるため、将来成形面となる部分
１１６ａ及び１１７ａは上記非球面の近似球面とした。
図８乃至図１０において、ブランク１１５は保持部材１
０８に載置され、搬送装置１０９により、加熱炉１１０
から成形室１１１の内部まで移動可能である。
型両面非球面レンズであるため、将来成形面となる部分
１１６ａ及び１１７ａは上記非球面の近似球面とした。
図８乃至図１０において、ブランク１１５は保持部材１
０８に載置され、搬送装置１０９により、加熱炉１１０
から成形室１１１の内部まで移動可能である。
【００４６】二つの原形成形用型１１６及び１１７は、
成形室１１１の内部で対向配置されており、各々の外周
に上型ヒーター１１４及び下型ヒーター１１９を備えて
いる。原形成形用型１１７は、図示してないエアーシリ
ンダにより上下動力可能となっている。また、成形室１
１１の内部は、非酸化性雰囲気で満たされている。
成形室１１１の内部で対向配置されており、各々の外周
に上型ヒーター１１４及び下型ヒーター１１９を備えて
いる。原形成形用型１１７は、図示してないエアーシリ
ンダにより上下動力可能となっている。また、成形室１
１１の内部は、非酸化性雰囲気で満たされている。
【００４７】ブランク１１５は、ニオブ（Ｎｂ）からな
りその融点ＢＴｍは２５２０℃である。また、ブランク
１１５の原形成形用型１１６及び１１７の押圧面１１６
ａ及び１１７ａに当接する部分１１５ａ及び１１５ｂの
形状は所望の光学素子１１８の光学機能面と同形状であ
り、また、上記ブランク１１５の上記原形成形用型１１
６及び１１７の押圧面１１６ａ及び１１７ａに当接する
部分１１５ａ及び１１５ｂは研磨されている。
りその融点ＢＴｍは２５２０℃である。また、ブランク
１１５の原形成形用型１１６及び１１７の押圧面１１６
ａ及び１１７ａに当接する部分１１５ａ及び１１５ｂの
形状は所望の光学素子１１８の光学機能面と同形状であ
り、また、上記ブランク１１５の上記原形成形用型１１
６及び１１７の押圧面１１６ａ及び１１７ａに当接する
部分１１５ａ及び１１５ｂは研磨されている。
【００４８】図１１乃至図１３において、ガラス素材１
０７は保持部材１０８に載置され搬送装置１０９によ
り、加熱炉１１０から成形室１１１内部まで移動可能と
なっている。
０７は保持部材１０８に載置され搬送装置１０９によ
り、加熱炉１１０から成形室１１１内部まで移動可能と
なっている。
【００４９】上型１１２及び下型１１３は成形室１１１
の内部で対向配置されており、各々外周に上型ヒーター
１１４及び下型ヒーター１１９を備えている。下型１１
３は図示しないエアーシリンダにより上下動が可能であ
る。また、成形室１１１の内部は非酸化性雰囲気で満た
されている。ガラス素材１０７は、重フリント系ガラス
であり、そのガラス遷移温度ＧＴｇは３９３℃、軟化温
度は４４９℃である。
の内部で対向配置されており、各々外周に上型ヒーター
１１４及び下型ヒーター１１９を備えている。下型１１
３は図示しないエアーシリンダにより上下動が可能であ
る。また、成形室１１１の内部は非酸化性雰囲気で満た
されている。ガラス素材１０７は、重フリント系ガラス
であり、そのガラス遷移温度ＧＴｇは３９３℃、軟化温
度は４４９℃である。
【００５０】なお、図８乃至図１０及び図１１乃至図１
３に示される成形装置は、ブランク１１５とガラス素材
１０７、原形成形用型１１６及び１１７と上型１１２及
び下型１１３との差異以外は同一の構成となっている。
３に示される成形装置は、ブランク１１５とガラス素材
１０７、原形成形用型１１６及び１１７と上型１１２及
び下型１１３との差異以外は同一の構成となっている。
【００５１】（作用）図６において、Ｃｏ68.8Ｆｅ4.2
Ｓｉ15Ｂ12（数値は原子％）の組成を有する溶融合金１
０１は、プランジャースリーブ１０３の内部に挿入さ
れ、プランジャースリーブ１０３の外周に設けられたヒ
ーター１０２により７８０℃に加熱される。加熱された
溶融合金１０１はプランジャー１０４により鋳型１０５
の内部へ圧力６０ＭＰａ、最大射出速度２．０ｍ／ｓで
押し出される。圧力保持を０．０５秒程行い、鋳型１０
５は常温なので溶融合金１０１は急冷される。その後プ
ランジャー１０４の圧力を０Ｐａにして３０分程放置し
た。
Ｓｉ15Ｂ12（数値は原子％）の組成を有する溶融合金１
０１は、プランジャースリーブ１０３の内部に挿入さ
れ、プランジャースリーブ１０３の外周に設けられたヒ
ーター１０２により７８０℃に加熱される。加熱された
溶融合金１０１はプランジャー１０４により鋳型１０５
の内部へ圧力６０ＭＰａ、最大射出速度２．０ｍ／ｓで
押し出される。圧力保持を０．０５秒程行い、鋳型１０
５は常温なので溶融合金１０１は急冷される。その後プ
ランジャー１０４の圧力を０Ｐａにして３０分程放置し
た。
【００５２】このような鋳造により得られた原形成形用
型１１６及び１１７はガラス遷移挙動を示す非晶質材で
あり、ガラス遷移温度Ｔｇは４５０℃、結晶化開始温度
Ｔｘは５１２℃である。図８において、鋳造により得ら
れた原形成形用型１１６及び１１７を成形室１１１の内
部に対向配置する。一方、ブランク１１５は保持部材１
０８に載置し加熱炉１１０により５１０℃まで加熱され
る。
型１１６及び１１７はガラス遷移挙動を示す非晶質材で
あり、ガラス遷移温度Ｔｇは４５０℃、結晶化開始温度
Ｔｘは５１２℃である。図８において、鋳造により得ら
れた原形成形用型１１６及び１１７を成形室１１１の内
部に対向配置する。一方、ブランク１１５は保持部材１
０８に載置し加熱炉１１０により５１０℃まで加熱され
る。
【００５３】次に、図９に示すように、加熱された上記
ブランク１１５を対向配置の二つの原形成形用型１１６
及び１１７との間に搬送装置１０９により移動する。上
型ヒーター１１４及び下型ヒーター１１９により原形成
形用型１１６及び１１７は各々予め原形成形用型１１６
及び１１７が過冷却状態にある温度（ガラス遷移温度Ｔ
ｇ４５０℃と結晶化開始温度Ｔｘ５１２℃との間の温
度）４９０℃に加熱されている。搬送終了後、原形成形
用型１１７が図示されていないエアーシリンダにより上
方に移動し、ブランク１１５を上記原形成形用型１１６
及び１１７とで圧力１０ＭＰａで押圧する。
ブランク１１５を対向配置の二つの原形成形用型１１６
及び１１７との間に搬送装置１０９により移動する。上
型ヒーター１１４及び下型ヒーター１１９により原形成
形用型１１６及び１１７は各々予め原形成形用型１１６
及び１１７が過冷却状態にある温度（ガラス遷移温度Ｔ
ｇ４５０℃と結晶化開始温度Ｔｘ５１２℃との間の温
度）４９０℃に加熱されている。搬送終了後、原形成形
用型１１７が図示されていないエアーシリンダにより上
方に移動し、ブランク１１５を上記原形成形用型１１６
及び１１７とで圧力１０ＭＰａで押圧する。
【００５４】次に、図１０に示すように、上記圧力を４
０秒間保持し、その後に原形成形用型１１７を図示しな
いエアーシリンダにより下方に移動しブランク１１５か
ら離型する。すると、原形成形用型１１６及び１１７は
ブランク１１５の研磨面１１５ａ及び１１５ｂ、即ち、
光学素子１１８の光学機能面１１８ａ及び１１８ｂの反
転した形状が転写した成形面１１２ａ及び１１３ａを有
する成形用型１１２及び１１３になる。接触式表面形状
測定機により測定された成形面１１２ａ及び１１３ａの
転写精度は０．１μｍ以下であった。
０秒間保持し、その後に原形成形用型１１７を図示しな
いエアーシリンダにより下方に移動しブランク１１５か
ら離型する。すると、原形成形用型１１６及び１１７は
ブランク１１５の研磨面１１５ａ及び１１５ｂ、即ち、
光学素子１１８の光学機能面１１８ａ及び１１８ｂの反
転した形状が転写した成形面１１２ａ及び１１３ａを有
する成形用型１１２及び１１３になる。接触式表面形状
測定機により測定された成形面１１２ａ及び１１３ａの
転写精度は０．１μｍ以下であった。
【００５５】次に、図１１に示すように、上記ブランク
成形により得られた上型１１２及び下型１１３を成形室
１１１の内部に対向配置する。一方、ガラス素材１０７
は保持部材１０８に載置し加熱炉１１０により４４５℃
まで加熱される。そして、図１２に示すように、加熱さ
れた上記ガラス素材１０７を対向配置する上型１１２及
び下型１１３との間に搬送装置９により移動する。
成形により得られた上型１１２及び下型１１３を成形室
１１１の内部に対向配置する。一方、ガラス素材１０７
は保持部材１０８に載置し加熱炉１１０により４４５℃
まで加熱される。そして、図１２に示すように、加熱さ
れた上記ガラス素材１０７を対向配置する上型１１２及
び下型１１３との間に搬送装置９により移動する。
【００５６】上型ヒーター１１４及び下型ヒーター１１
９により上型１１２及び下型１１３は各々予めガラス素
材１０７が過冷却状態にある温度（ガラス遷移温度ＧＴ
ｇ３９３℃以上の温度）４００℃に加熱されている。搬
送終了後、下型１１３が図示しないエアーシリンダによ
り上方に移動し、ガラス素材１０７を上型１１２及び下
型１１３とで圧力６５ＭＰａで押圧する。図１３におい
て、上記圧力を１０秒間保持し、その後に下型１１３を
図示しないエアーシリンダにより下方に移動しガラス素
材１０７から離型する。すると、ガラス素材１０７を基
に、上型１１２及び下型１１３の成形面１１２ａ及び１
１３ａの反転した形状の、即ち、所望の形状の光学素子
１１８が得られる。
９により上型１１２及び下型１１３は各々予めガラス素
材１０７が過冷却状態にある温度（ガラス遷移温度ＧＴ
ｇ３９３℃以上の温度）４００℃に加熱されている。搬
送終了後、下型１１３が図示しないエアーシリンダによ
り上方に移動し、ガラス素材１０７を上型１１２及び下
型１１３とで圧力６５ＭＰａで押圧する。図１３におい
て、上記圧力を１０秒間保持し、その後に下型１１３を
図示しないエアーシリンダにより下方に移動しガラス素
材１０７から離型する。すると、ガラス素材１０７を基
に、上型１１２及び下型１１３の成形面１１２ａ及び１
１３ａの反転した形状の、即ち、所望の形状の光学素子
１１８が得られる。
【００５７】接触式表面形状測定機により測定された成
形面１１２ａ及び１１３ａの転写精度は０．２μｍ以下
であった。また、原形成形用型１１６及び１１７が上型
１１２及び下型１１３になる際、原形成形用型１１６及
び１１７をブランク１１５により成形するため、上型１
１２及び下型１１３の成形面１１２ａ及び１１３ａの周
辺に若干の駄肉ができるがガラス素材１０７の成形には
支障がない。
形面１１２ａ及び１１３ａの転写精度は０．２μｍ以下
であった。また、原形成形用型１１６及び１１７が上型
１１２及び下型１１３になる際、原形成形用型１１６及
び１１７をブランク１１５により成形するため、上型１
１２及び下型１１３の成形面１１２ａ及び１１３ａの周
辺に若干の駄肉ができるがガラス素材１０７の成形には
支障がない。
【００５８】（効果）本実施の形態４によれば、原形成
形用型１１６及び１１７がガラス遷移挙動を示す非晶材
であるため、上記原形成形用型１１６及び１１７でブラ
ンク１１５を押圧することでその成形面を形成すること
可能であり、よって、一つの成形用型で多種の光学素子
が成形可能となり、型の加工が短時間ですみ、かつ、型
材料が効率よく用いられるため、成形用型が安価になる
という効果がある。また、型加工コストの安い上記成形
用型１１６及び１１７を用いて成形することで、光学素
子１１８を安価に製造できる。
形用型１１６及び１１７がガラス遷移挙動を示す非晶材
であるため、上記原形成形用型１１６及び１１７でブラ
ンク１１５を押圧することでその成形面を形成すること
可能であり、よって、一つの成形用型で多種の光学素子
が成形可能となり、型の加工が短時間ですみ、かつ、型
材料が効率よく用いられるため、成形用型が安価になる
という効果がある。また、型加工コストの安い上記成形
用型１１６及び１１７を用いて成形することで、光学素
子１１８を安価に製造できる。
【００５９】（実施の形態５） （構成）実施の形態５においては、図６に示す鋳造装置
において、Ｃｏ75Ｓｉ10Ｂ15（数値は原子％）の組成を
有する溶融合金１０１は中空円筒形であり外周にヒータ
ー１０２を備えたプランジャースリーブ１０３の内部に
挿入される。プランジャー１０４はプランジャースリー
ブ１０３の内径に嵌合する形状であり、図示しないエア
ーシリンダによりプランジャースリーブ１０３の内部を
上下動する。鋳型１０５は銅製であり上部に排気口１０
６が設けられ、下部はプランジャースリーブ１０３の上
部に接合されている。上記鋳造により得られた原形成形
用型１１６及び１１７は図８乃至図１０に示されるブラ
ンク１１５を押圧することにより、成形面１１２ａ及び
１１３ａを有する上型１１２及び下型１１３になる。
において、Ｃｏ75Ｓｉ10Ｂ15（数値は原子％）の組成を
有する溶融合金１０１は中空円筒形であり外周にヒータ
ー１０２を備えたプランジャースリーブ１０３の内部に
挿入される。プランジャー１０４はプランジャースリー
ブ１０３の内径に嵌合する形状であり、図示しないエア
ーシリンダによりプランジャースリーブ１０３の内部を
上下動する。鋳型１０５は銅製であり上部に排気口１０
６が設けられ、下部はプランジャースリーブ１０３の上
部に接合されている。上記鋳造により得られた原形成形
用型１１６及び１１７は図８乃至図１０に示されるブラ
ンク１１５を押圧することにより、成形面１１２ａ及び
１１３ａを有する上型１１２及び下型１１３になる。
【００６０】従って、原形成形用型１１６及び１１７の
ブランク成形により、将来成形面となる部分１１６ａ及
び１１７ａは平面若しくは球面でよい。実施の形態５で
は所望の光学素子１１８が光学機能面１１８ａ、１１８
ｂを有する凸型両面非球面レンズであるため、将来成形
面となる部分１１６ａ及び１１７ａは上記非球面の近似
球面とした。上記以外の構成は実施の形態４の場合と同
様である。
ブランク成形により、将来成形面となる部分１１６ａ及
び１１７ａは平面若しくは球面でよい。実施の形態５で
は所望の光学素子１１８が光学機能面１１８ａ、１１８
ｂを有する凸型両面非球面レンズであるため、将来成形
面となる部分１１６ａ及び１１７ａは上記非球面の近似
球面とした。上記以外の構成は実施の形態４の場合と同
様である。
【００６１】（作用）本実施の形態５において、既述し
た場合と同様、Ｃｏ75Ｓｉ10Ｂ15の組成を有する溶融合
金１０１は図６に示すプランジャースリーブ１０３の内
部に挿入され、プランジャースリーブ１０３の外周に設
けられたヒーター１０２により７５０℃に加熱される。
加熱された上記溶融合金１０１はプランジャー１０４に
より鋳型１０５の内部へ圧力８０ＭＰａ、最大射出速度
２．０ｍ／ｓで押し出される。圧力保持を０．０５秒程
行い、鋳型１０５は常温なので溶融合金１０１は急冷さ
れる。その後プランジャー１０４の圧力を０Ｐａにして
３０分程放置した。上記鋳造により得られた原形成形用
型１１６及び１１７はガラス遷移挙動を示す非晶質材で
あり、ガラス遷移湿度Ｔｇは４４０℃、結晶化開始温度
Ｔｘは５００℃である。
た場合と同様、Ｃｏ75Ｓｉ10Ｂ15の組成を有する溶融合
金１０１は図６に示すプランジャースリーブ１０３の内
部に挿入され、プランジャースリーブ１０３の外周に設
けられたヒーター１０２により７５０℃に加熱される。
加熱された上記溶融合金１０１はプランジャー１０４に
より鋳型１０５の内部へ圧力８０ＭＰａ、最大射出速度
２．０ｍ／ｓで押し出される。圧力保持を０．０５秒程
行い、鋳型１０５は常温なので溶融合金１０１は急冷さ
れる。その後プランジャー１０４の圧力を０Ｐａにして
３０分程放置した。上記鋳造により得られた原形成形用
型１１６及び１１７はガラス遷移挙動を示す非晶質材で
あり、ガラス遷移湿度Ｔｇは４４０℃、結晶化開始温度
Ｔｘは５００℃である。
【００６２】次に、図９に示すように、上記鋳造により
得られた原形成形用型１１６及び１１７を成形室１１１
の内部に対向配置する。一方、ブランク１１５は保持部
材１０８に載置し加熱炉１１０により５００℃まで加熱
される。次に、図９に示すように、加熱された上記ブラ
ンク１１５を対向配置の二つの原形成形用型１１６及び
１１７の間に搬送装置１０９により移動する。上型ヒー
ター１１４及び下型ヒーター１１９により原形成形用型
１１６及び１１７は各々予め原形成形用型１１６及び１
１７が過冷却状態にある温度（ガラス遷移温度Ｔｇ４４
０℃と結晶化開始温度Ｔｘ５００℃との間の温度）４８
０℃に加熱されている。
得られた原形成形用型１１６及び１１７を成形室１１１
の内部に対向配置する。一方、ブランク１１５は保持部
材１０８に載置し加熱炉１１０により５００℃まで加熱
される。次に、図９に示すように、加熱された上記ブラ
ンク１１５を対向配置の二つの原形成形用型１１６及び
１１７の間に搬送装置１０９により移動する。上型ヒー
ター１１４及び下型ヒーター１１９により原形成形用型
１１６及び１１７は各々予め原形成形用型１１６及び１
１７が過冷却状態にある温度（ガラス遷移温度Ｔｇ４４
０℃と結晶化開始温度Ｔｘ５００℃との間の温度）４８
０℃に加熱されている。
【００６３】搬送終了後、原形成形用型１１７が図示し
ないエアーシリンダにより上方に移動し、ブランク１１
５を上記原形成形用型１１６及び１１７とで圧力２０Ｍ
Ｐａで押圧する。図１０において、上記圧力を６０秒間
保持し、その後に原形成形用型１１７を図示しないエア
ーシリンダにより下方に移動し、ブランク１１５から離
型する。すると、原形成形用型１１６及び１１７はブラ
ンク１１５の研磨面１１５ａ及び１１５ｂ、即ち、光学
素子１１８の光学機能面１１８ａ及び１１８ｂの反転し
た形状が転写した成形面１１２ａ及び１１３ａを有する
成形用型１１２及び１１３になる。接触式表面形状測定
機により測定された成形面１１２ａ及び１１３ａの転写
精度は０．１μｍ以下であった。
ないエアーシリンダにより上方に移動し、ブランク１１
５を上記原形成形用型１１６及び１１７とで圧力２０Ｍ
Ｐａで押圧する。図１０において、上記圧力を６０秒間
保持し、その後に原形成形用型１１７を図示しないエア
ーシリンダにより下方に移動し、ブランク１１５から離
型する。すると、原形成形用型１１６及び１１７はブラ
ンク１１５の研磨面１１５ａ及び１１５ｂ、即ち、光学
素子１１８の光学機能面１１８ａ及び１１８ｂの反転し
た形状が転写した成形面１１２ａ及び１１３ａを有する
成形用型１１２及び１１３になる。接触式表面形状測定
機により測定された成形面１１２ａ及び１１３ａの転写
精度は０．１μｍ以下であった。
【００６４】次に、図１１に示すように、上記ブランク
成形により得られた上型１１２及び下型１１３を成形室
１１１の内部に対向配置する。一方、ガラス素材１０７
は保持部材１０８に載置し加熱炉１１０により４４５℃
まで加熱される。図１２において、加熱された上記ガラ
ス素材１０７を上記上型１１２及び下型１１３の間に搬
送装置１０９により移動する。上型ヒーター１１４及び
下型ヒーター１１９により、上型１１２及び下型１１３
は、各々予めガラス素材１０７が過冷却状態にある温度
(ガラス遷移温度ＧＴｇ３９３℃以上の温度)４００℃に
加熱されている。搬送終了後、下型１１３が図示しない
エアーシリンダにより上方に移動し、上記ガラス素材１
０７を上型１１２及び下型１１３とで圧力６５ＭＰａで
押圧する。
成形により得られた上型１１２及び下型１１３を成形室
１１１の内部に対向配置する。一方、ガラス素材１０７
は保持部材１０８に載置し加熱炉１１０により４４５℃
まで加熱される。図１２において、加熱された上記ガラ
ス素材１０７を上記上型１１２及び下型１１３の間に搬
送装置１０９により移動する。上型ヒーター１１４及び
下型ヒーター１１９により、上型１１２及び下型１１３
は、各々予めガラス素材１０７が過冷却状態にある温度
(ガラス遷移温度ＧＴｇ３９３℃以上の温度)４００℃に
加熱されている。搬送終了後、下型１１３が図示しない
エアーシリンダにより上方に移動し、上記ガラス素材１
０７を上型１１２及び下型１１３とで圧力６５ＭＰａで
押圧する。
【００６５】次に、図１３に示すように、上記圧力を１
０秒間保持し、その後に下型１１３を図示しないエアー
シリンダにより下方に移動しガラス素材１０７から離型
する。すると、ガラス素材１０７を基に、上型１１２及
び下型１１３の成形面１１２ａ及び１１３ａの反転した
形状、即ち、所望の形状の光学素子１８を得ることがで
きる。接触式表面形状測定機により測定された成形面１
１２ａ及び１１３ａの転写精度は０．２μｍ以下であっ
た。また、原形成形用型１１６及び１１７が上型１１２
及び下型１１３になる際、原形成形用型１１６及び１１
７をブランク１１５により成形するため、上型１１２及
び下型１１３の成形面１１２ａ及び１１３ａの周辺に若
干の駄肉ができるがガラス素材７の成形には支障がな
い。
０秒間保持し、その後に下型１１３を図示しないエアー
シリンダにより下方に移動しガラス素材１０７から離型
する。すると、ガラス素材１０７を基に、上型１１２及
び下型１１３の成形面１１２ａ及び１１３ａの反転した
形状、即ち、所望の形状の光学素子１８を得ることがで
きる。接触式表面形状測定機により測定された成形面１
１２ａ及び１１３ａの転写精度は０．２μｍ以下であっ
た。また、原形成形用型１１６及び１１７が上型１１２
及び下型１１３になる際、原形成形用型１１６及び１１
７をブランク１１５により成形するため、上型１１２及
び下型１１３の成形面１１２ａ及び１１３ａの周辺に若
干の駄肉ができるがガラス素材７の成形には支障がな
い。
【００６６】（効果）本実施の形態５によれば、実施の
形態４と同様の効果を発揮させることができる。
形態４と同様の効果を発揮させることができる。
【００６７】（実施の形態６） （構成）実施の形態６においては、図６に示す鋳造装置
において、Ｚｒ33Ｙ27Ａｌ15Ｎｉ25（数値は原子％）の
組成を有する溶融合金１０１は、溶融合金１０１は中空
円筒形であり外周にヒーター１０２を備えたプランジャ
ースリーブ１０３の内部に挿入される。プランジャー１
０４はプランジャースリーブ１０３の内径に嵌合する形
状であり、図示しないエアーシリンダによりプランジャ
ースリーブ１０３の内部を上下動する。鋳型１０５は銅
製であり上部に排気口１０６が設けられ、下部はプラン
ジャースリーブ１０３の上部に接合されている。上記鋳
造により得られた原形成形用型１１６及び１１７は図８
乃至図１０に示されるブランク１１５を押圧することに
より、成形面１１２ａ及び１１３ａを有する上型１１２
及び下型１１３になる。
において、Ｚｒ33Ｙ27Ａｌ15Ｎｉ25（数値は原子％）の
組成を有する溶融合金１０１は、溶融合金１０１は中空
円筒形であり外周にヒーター１０２を備えたプランジャ
ースリーブ１０３の内部に挿入される。プランジャー１
０４はプランジャースリーブ１０３の内径に嵌合する形
状であり、図示しないエアーシリンダによりプランジャ
ースリーブ１０３の内部を上下動する。鋳型１０５は銅
製であり上部に排気口１０６が設けられ、下部はプラン
ジャースリーブ１０３の上部に接合されている。上記鋳
造により得られた原形成形用型１１６及び１１７は図８
乃至図１０に示されるブランク１１５を押圧することに
より、成形面１１２ａ及び１１３ａを有する上型１１２
及び下型１１３になる。
【００６８】従って、原形成形用型１１６及び１１７の
ブランク成形により、将来成形面となる部分１１６ａ及
び１１７ａは平面若しくは球面でよい。実施の形態５で
は所望の光学素子１１８が光学機能面１１８ａ、１１８
ｂを有する凸型両面非球面レンズであるため、将来成形
面となる部分１１６ａ及び１１７ａは上記非球面の近似
球面とした。上記以外の構成は実施の形態４の場合と同
様である。
ブランク成形により、将来成形面となる部分１１６ａ及
び１１７ａは平面若しくは球面でよい。実施の形態５で
は所望の光学素子１１８が光学機能面１１８ａ、１１８
ｂを有する凸型両面非球面レンズであるため、将来成形
面となる部分１１６ａ及び１１７ａは上記非球面の近似
球面とした。上記以外の構成は実施の形態４の場合と同
様である。
【００６９】（作用）本実施の形態６において、既述し
た場合と同様、Ｚｒ33Ｙ27Ａｌ15Ｎｉ25の組成を有する
溶融合金１０１は図６に示すプランジャースリーブ１０
３の内部に挿入され、プランジャースリーブ１０３の外
周に設けられたヒーター１０２により７５０℃に加熱さ
れる。加熱された上記溶融合金１０１はプランジャー１
０４により鋳型１０５の内部へ圧力８０ＭＰａ、最大射
出速度２．０ｍ／ｓで押し出される。圧力保持を０．０
５秒程行い、鋳型１０５は常温なので溶融合金１０１は
急冷される。その後プランジャー１０４の圧力を０Ｐａ
にして３０分程放置した。上記鋳造により得られた原形
成形用型１１６及び１１７はガラス遷移挙動を示す非晶
質材であり、ガラス遷移湿度Ｔｇは４３５℃、結晶化開
始温度Ｔｘは５３９℃である。
た場合と同様、Ｚｒ33Ｙ27Ａｌ15Ｎｉ25の組成を有する
溶融合金１０１は図６に示すプランジャースリーブ１０
３の内部に挿入され、プランジャースリーブ１０３の外
周に設けられたヒーター１０２により７５０℃に加熱さ
れる。加熱された上記溶融合金１０１はプランジャー１
０４により鋳型１０５の内部へ圧力８０ＭＰａ、最大射
出速度２．０ｍ／ｓで押し出される。圧力保持を０．０
５秒程行い、鋳型１０５は常温なので溶融合金１０１は
急冷される。その後プランジャー１０４の圧力を０Ｐａ
にして３０分程放置した。上記鋳造により得られた原形
成形用型１１６及び１１７はガラス遷移挙動を示す非晶
質材であり、ガラス遷移湿度Ｔｇは４３５℃、結晶化開
始温度Ｔｘは５３９℃である。
【００７０】次に、図９に示すように、上記鋳造により
得られた原形成形用型１１６及び１１７を成形室１１１
の内部に対向配置する。一方、ブランク１１５は保持部
材１０８に載置し加熱炉１１０により５４０℃まで加熱
される。次に、図９に示すように、加熱された上記ブラ
ンク１１５を対向配置の二つの原形成形用型１１６及び
１１７の間に搬送装置１０９により移動する。上型ヒー
ター１１４及び下型ヒーター１１９により原形成形用型
１１６及び１１７は各々予め原形成形用型１１６及び１
１７が過冷却状態にある温度（ガラス遷移温度Ｔｇ４３
５℃と結晶化開始温度Ｔｘ５３９℃との間の温度）５０
０℃に加熱されている。
得られた原形成形用型１１６及び１１７を成形室１１１
の内部に対向配置する。一方、ブランク１１５は保持部
材１０８に載置し加熱炉１１０により５４０℃まで加熱
される。次に、図９に示すように、加熱された上記ブラ
ンク１１５を対向配置の二つの原形成形用型１１６及び
１１７の間に搬送装置１０９により移動する。上型ヒー
ター１１４及び下型ヒーター１１９により原形成形用型
１１６及び１１７は各々予め原形成形用型１１６及び１
１７が過冷却状態にある温度（ガラス遷移温度Ｔｇ４３
５℃と結晶化開始温度Ｔｘ５３９℃との間の温度）５０
０℃に加熱されている。
【００７１】搬送終了後、原形成形用型１１７が図示し
ないエアーシリンダにより上方に移動し、ブランク１１
５を上記原形成形用型１１６及び１１７とで圧力１２Ｍ
Ｐａで押圧する。図１０において、上記圧力を４０秒間
保持し、そ後に原形成形用型１１７を図示しないエアー
シリンダにより下方に移動し、ブランク１１５から離型
する。すると、原形成形用型１１６及び１１７はブラン
ク１１５の研磨面１１５ａ及び１１５ｂ、即ち、光学素
子１１８の光学機能面１１８ａ及び１１８ｂの反転した
形状が転写した成形面１１２ａ及び１１３ａを有する成
形用型１１２及び１１３になる。接触式表面形状測定機
により測定された成形面１１２ａ及び１１３ａの転写精
度は０．１μｍ以下であった。
ないエアーシリンダにより上方に移動し、ブランク１１
５を上記原形成形用型１１６及び１１７とで圧力１２Ｍ
Ｐａで押圧する。図１０において、上記圧力を４０秒間
保持し、そ後に原形成形用型１１７を図示しないエアー
シリンダにより下方に移動し、ブランク１１５から離型
する。すると、原形成形用型１１６及び１１７はブラン
ク１１５の研磨面１１５ａ及び１１５ｂ、即ち、光学素
子１１８の光学機能面１１８ａ及び１１８ｂの反転した
形状が転写した成形面１１２ａ及び１１３ａを有する成
形用型１１２及び１１３になる。接触式表面形状測定機
により測定された成形面１１２ａ及び１１３ａの転写精
度は０．１μｍ以下であった。
【００７２】次に、図１１に示すように、上記ブランク
成形により得られた上型１１２及び下型１１３を成形室
１１１の内部に対向配置する。一方、ガラス素材１０７
は保持部材１０８に載置し加熱炉１１０により４２５℃
まで加熱される。図１２において、加熱された上記ガラ
ス素材１０７を上記上型１１２及び下型１１３の間に搬
送装置１０９により移動する。上型ヒーター１１４及び
下型ヒーター１１９により、上型１１２及び下型１１３
は、各々予めガラス素材１０７が過冷却状態にある温度
(ガラス遷移温度ＧＴｇ３９３℃以上の温度)４１０℃に
加熱されている。搬送終了後、下型１１３が図示しない
エアーシリンダにより上方に移動し、上記ガラス素材１
０７を上型１１２及び下型１１３とで圧力６０ＭＰａで
押圧する。
成形により得られた上型１１２及び下型１１３を成形室
１１１の内部に対向配置する。一方、ガラス素材１０７
は保持部材１０８に載置し加熱炉１１０により４２５℃
まで加熱される。図１２において、加熱された上記ガラ
ス素材１０７を上記上型１１２及び下型１１３の間に搬
送装置１０９により移動する。上型ヒーター１１４及び
下型ヒーター１１９により、上型１１２及び下型１１３
は、各々予めガラス素材１０７が過冷却状態にある温度
(ガラス遷移温度ＧＴｇ３９３℃以上の温度)４１０℃に
加熱されている。搬送終了後、下型１１３が図示しない
エアーシリンダにより上方に移動し、上記ガラス素材１
０７を上型１１２及び下型１１３とで圧力６０ＭＰａで
押圧する。
【００７３】次に、図１３に示すように、上記圧力を１
０秒間保持し、その後に下型１１３を図示しいないエア
ーシリンダにより下方に移動しガラス素材１０７から離
型する。すると、ガラス素材１０７を基に、上型１１２
及び下型１１３の成形面１１２ａ及び１１３ａの反転し
た形状、即ち、所望の形状の光学素子１８を得ることが
できる。接触式表面形状測定機により測定された成形面
１１２ａ及び１１３ａの転写精度は０．２μｍ以下であ
った。また、原形成形用型１１６及び１１７が上型１１
２及び下型１１３になる際、原形成形用型１１６及び１
１７をブランク１１５により成形するため、上型１１２
及び下型１１３の成形面１１２ａ及び１１３ａの周辺に
若干の駄肉ができるがガラス素材７の成形には支障がな
い。
０秒間保持し、その後に下型１１３を図示しいないエア
ーシリンダにより下方に移動しガラス素材１０７から離
型する。すると、ガラス素材１０７を基に、上型１１２
及び下型１１３の成形面１１２ａ及び１１３ａの反転し
た形状、即ち、所望の形状の光学素子１８を得ることが
できる。接触式表面形状測定機により測定された成形面
１１２ａ及び１１３ａの転写精度は０．２μｍ以下であ
った。また、原形成形用型１１６及び１１７が上型１１
２及び下型１１３になる際、原形成形用型１１６及び１
１７をブランク１１５により成形するため、上型１１２
及び下型１１３の成形面１１２ａ及び１１３ａの周辺に
若干の駄肉ができるがガラス素材７の成形には支障がな
い。
【００７４】(効果)本実施の形態６によれば、実施の形
態４と同様の効果を発揮させることができる。
態４と同様の効果を発揮させることができる。
【００７５】
【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、切削によ
る後加工が不要な光学素子成形用型を提供することがで
きる。
る後加工が不要な光学素子成形用型を提供することがで
きる。
【００７６】請求項２記載の発明によれば、ブランクを
多種用意することで、一つの成形用型で多種の光学素子
を成形することが可能な光学素子成形用型を提供するこ
とができる。
多種用意することで、一つの成形用型で多種の光学素子
を成形することが可能な光学素子成形用型を提供するこ
とができる。
【００７７】請求項３記載の発明によれば、後加工が不
要で精密な形状精度の光学素子成形用型を製造できる製
造方法を提供できる。
要で精密な形状精度の光学素子成形用型を製造できる製
造方法を提供できる。
【００７８】請求項４記載の発明によれば、ブランクに
より成形面が形成可能な光学素子成形用型の製造方法を
提供できる。
より成形面が形成可能な光学素子成形用型の製造方法を
提供できる。
【００７９】請求項５記載の発明によれば、ガラス遷移
挙動を示す非晶質材を用いて光学素子を成形し得る成形
方法を提供できる。
挙動を示す非晶質材を用いて光学素子を成形し得る成形
方法を提供できる。
【００８０】請求項６記載の発明によれば、所望の形状
の光学素子を成形し得る成形方法を提供できる。
の光学素子を成形し得る成形方法を提供できる。
【図１】本発明の実施の形態１または２の鋳造装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図２】本発明の実施の形態１または２におけるガラス
成形用金型による成形の状態を示す概略図である。
成形用金型による成形の状態を示す概略図である。
【図３】本発明の実施の形態１または２のガラス成形装
置を示す概略図である。
置を示す概略図である。
【図４】本発明の実施の形態３の鋳造装置を示す概略図
である。
である。
【図５】本発明の実施の形態３におけるガラス成形用金
型による成形の状態を示す概略図である。
型による成形の状態を示す概略図である。
【図６】本発明の実施の形態４、５または６の鋳造装置
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図７】本発明の実施の形態４、５または６の鋳造装置
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図８】本発明の実施の形態４、５または６の光学素子
の成形装置を示す断面図である。
の成形装置を示す断面図である。
【図９】本発明の実施の形態４、５または６の光学素子
の成形装置による成形工程を示す断面図である。
の成形装置による成形工程を示す断面図である。
【図１０】本発明の実施の形態４、５または６の光学素
子の成形装置による成形工程を示す断面図である。
子の成形装置による成形工程を示す断面図である。
【図１１】本発明の実施の形態４、５または６の光学素
子の成形装置による成形工程を示す断面図である。
子の成形装置による成形工程を示す断面図である。
【図１２】本発明の実施の形態４、５または６の光学素
子の成形装置による成形工程を示す断面図である。
子の成形装置による成形工程を示す断面図である。
【図１３】本発明の実施の形態４、５または６の光学素
子の成形装置による成形工程を示す断面図である。
子の成形装置による成形工程を示す断面図である。
１ 鋳造装置 ５ 成形用金型 ６ 移動型 ９ 上型 １０ 下型 １５ ガラス素材 ２３ 鋳型 ２４ 非晶質成形素材 ２５ 成形用金型 ２７ ガラス成形用金型 １０１ 溶融合金 １０５ 鋳型 １１５ ブランク １１６ 原形成形用型
Claims (6)
- 【請求項１】 ガラス遷移挙動を示す非晶質材を使用し
たことを特徴とする光学素子の成形用型。 - 【請求項２】 加熱軟化したガラス素材を一対の成形用
型で押圧することにより、光学素子を成形する光学素子
の成形用型であって、上記成形用型はガラス遷移挙動を
示す非晶質材であり、ガラス素材のガラス遷移温度をＧ
Ｔｇ、上記成形用型の成形に用いられるブランクの融点
をＢＴｍ、上記成形用型の結晶化開始温度をＴｘとする
と、上記成形用型のガラス遷移温度Ｔｇが、ＧＴｇ＜Ｔ
ｇ＜ＢＴｍ、Ｔｇ＜Ｔｘで示す範囲であることを特徴と
する光学素子の成形用型。 - 【請求項３】 ガラス遷移挙動を示す非晶質材を使用
し、成形により製造する事を特徴とする光学素子の成形
用型の製造方法。 - 【請求項４】 ガラス素材を加熱軟化し一対の成形用型
で押圧することにより、光学素子を成形する光学素子成
形用型の製造方法において、上記成型用型のガラス遷移
温度Ｔｇとし、上記成型用型の結晶化開始温度をＴｘと
すると、上記成形用型を温度Ｔ（Ｔｇ＜Ｔ＜Ｔｘ）に加
熱する工程と、所望の光学素子と同形状のブランクを上
記成形用型で押圧して上記成形用型の成形面を形成する
工程とを含むことを特徴とする光学素子の成形用型の製
造方法。 - 【請求項５】 ガラス遷移挙動を示す非晶質材を使用し
た光学素子の成形用型を用いてプレス成形することを特
徴とする光学素子の成形方法。 - 【請求項６】 ガラス素材を加熱軟化し一対の成形用型
で押圧することにより、光学素子を成形する光学素子の
成形方法において、 上記成形用型はガラス遷移挙動を示す非晶質材であり、
ガラス素材のガラス遷移温度をＧＴｇ、上記成形用型の
ガラス遷移温度をＴｇ、上記成型用型の成形に用いられ
るブランクの融点をＢＴｍ、上記成形用型の結晶化開始
温度をＴｘとすると、上記成形用型のガラス遷移温度Ｔ
ｇが、ＧＴｇ＜Ｔｇ＜ＢＴｍ、Ｔｇ＜Ｔｘで示す範囲で
あり、この成形用型を温度Ｔ’（ＧＴｇ≦Ｔ’＜Ｔｇ）
に加熱し光学素子を成形することを特徴とする光学素子
の成形方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07902396A JP3875306B2 (ja) | 1996-04-01 | 1996-04-01 | 光学素子の成形用型の製造方法及び光学素子の成形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07902396A JP3875306B2 (ja) | 1996-04-01 | 1996-04-01 | 光学素子の成形用型の製造方法及び光学素子の成形方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09278456A true JPH09278456A (ja) | 1997-10-28 |
| JP3875306B2 JP3875306B2 (ja) | 2007-01-31 |
Family
ID=13678354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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-
1996
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002326230A (ja) * | 2001-05-07 | 2002-11-12 | Ricoh Co Ltd | 金型製造方法とその装置、金型及び成形品 |
| JP2003104735A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Konica Corp | 光学素子成形金型、光学素子及び光学素子成形金型の製造方法 |
| JP2006169009A (ja) * | 2004-12-13 | 2006-06-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 成形方法及び装置 |
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