JPH09275264A - レーザ加工装置 - Google Patents

レーザ加工装置

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JPH09275264A
JPH09275264A JP8083485A JP8348596A JPH09275264A JP H09275264 A JPH09275264 A JP H09275264A JP 8083485 A JP8083485 A JP 8083485A JP 8348596 A JP8348596 A JP 8348596A JP H09275264 A JPH09275264 A JP H09275264A
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laser
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Keiji Iso
圭二 礒
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 切断幅を狭くできると共に、切断面を平坦に
することのできるレーザ加工装置を提供すること。 【解決手段】 レーザ光の導光路にレーザ光の断面形状
を矩形とするマスク機構14を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザ加工装置に関
し、特に高密度多層のプリント配線基板やフレキシブル
プリント配線基板(以下、プリント基板と総称する)の
切断加工に適したレーザ加工装置に関する。
【0002】
【従来の技術】これまで、プリント基板の切断加工は、
ドリルを使うドリル工法や、打ち抜き用の型を使うプレ
ス工法が主流であった。しかし、ドリル工法では、ドリ
ル径の寸法が直径0.8mmまでで限界があるため、切
断幅に限界がある。一方、プレス工法では、型の作成に
費用がかかり、打ち抜き形状に応じて型を用意しなけれ
ばならないという不都合がある。
【0003】これに対し、最近、レーザ光を用いてプリ
ント基板に穴あけ加工や切断加工を施すレーザ加工装置
が提供されている。このレーザ加工装置は、レーザ光源
からのレーザ光を、複数の反射ミラーを含む導光路で導
き、fθレンズとも呼ばれる加工レンズを通してプリン
ト基板上に照射することにより切断加工を行うものであ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これま
でのレーザ加工装置は、レーザ光の断面形状が円形であ
るために問題点がある。図4(b)を参照して、レーザ
光の断面形状が円形であると、切断縁部(切断面)が波
打ってしまう。これは、断面円形のレーザ光は、中心の
方がエネルギー密度が高く、外側になるにつれてエネル
ギーが低下することに加えて、レーザ光は、通常、パル
ス状に照射されることに起因している。
【0005】そこで、本発明の課題は、切断幅を狭くで
きると共に、切断面を平坦にすることのできるレーザ加
工装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、被加工物にレ
ーザ光を照射して切断加工を行うレーザ加工装置におい
て、前記レーザ光の導光路にレーザ光の断面形状を矩形
とするマスクを設けたことを特徴とする。
【0007】なお、前記被加工物はX−Yステージ上に
搭載されてX軸、Y軸の2軸方向に関して自在に移動可
能にされており、前記マスクは回転駆動機構によりその
面内で回転可能にされており、前記被加工物の移動に伴
う加工対象点における移動方向の接線方向と前記加工対
象点に照射されたレーザ光の前記矩形の互いに対向し合
う2辺とが常に平行になるように前記回転駆動機構を制
御する制御部を備えることを特徴とする。
【0008】また、前記制御部は、前記X−Yステージ
におけるX軸方向の位置検出器とY軸方向の位置検出器
からの検出信号により前記加工対象点における前記接線
方向を算出し、前記マスクの回転角指令信号を出力する
ことを特徴とする。
【0009】更に、前記マスクの回転角θは、前記X軸
方向の移動速度vx と前記Y軸方向の移動速度vy とに
より、θ=tan-1y /vx で与えられることを特徴
とする。
【0010】
【発明の実施の形態】図1〜図4を参照して、本発明の
好ましい実施の形態について説明する。図1において、
本レーザ加工装置は、レーザ発振器10からのレーザ光
を、第1〜第3の反射ミラー11〜13を含む導光路を
通して、fθレンズとも呼ばれる加工レンズ15を含む
レーザ照射部に導く。このレーザ照射部は、詳細な構造
は図示説明を省略するが、入力したレーザ光をX−Yテ
ーブル16上のワーク17に焦点を結ぶように照射する
ことでワーク17の切断加工を行う。
【0011】ここで、本例では、第2の反射ミラー12
と第3の反射ミラー13との間の導光路に、レーザ光の
断面形状を矩形、特に正方形にするための金属製のマス
クを有するマスク機構14を配設した点に特徴を有す
る。マスク機構14は、ワーク17に照射するレーザ光
を絞り込むと共に、断面形状を、例えば一辺が0.1m
m程度の正方形にするための穴を有するマスクとこれを
回転駆動するためのモータ(図2の25)を有する駆動
機構とを含む。
【0012】X−Yテーブル16は、X軸方向の駆動機
構とY軸方向の駆動機構とを有して、水平面、すなわち
X−Y平面上で可動であり、ワーク17をX軸、Y軸の
2軸方向に関して移動させることで、ワーク17に対し
て所望の切断線を描くことができる。
【0013】このため、図2に示すように、X−Yテー
ブル16のX軸方向の移動量、Y軸方向の移動量はそれ
ぞれ個別の位置検出器21,22で検出され、これらの
検出信号は制御部23に送られる。
【0014】制御部23は、オペレータの設定データに
もとづいて指定された切断線を描くようにX−Yテーブ
ル16の移動制御を行う他、図2の機能ブロック図で示
す機能を有する。すなわち、2つの位置検出器21,2
2からの位置検出信号にもとづいてマスクの回転制御を
も行う。マスクの回転制御は、レーザ加工の切断面を平
坦にするために重要であり、マスクはその支持部材を介
してモータ25で回転可能に配置される。マスクの材料
としては、SUS等の金属材が使用され、レーザ光の反
射光がレーザ導光系の他の光学部品に影響を及ぼさない
ように、乱反射させる必要があるので、表面にショット
ブラスト等の加工を施す。
【0015】図2から明らかなように、制御部23は高
速のパルスカウンタ23−1、演算部23−2、位置決
め部23−3を含んでいる。パルスカウンタ23−1
は、X軸位置検出器21、Y軸位置検出器22からのパ
ルス状の検出信号をカウントし、演算部23−2に供給
する。演算部23−2はX−Yテーブル16における基
準点を中心としてX軸方向の移動量とY軸方向の移動量
とからそれぞれの移動速度vx ,vy を算出し、時々刻
々と変化するワーク17上の加工対象点における移動方
向の接線方向を算出する。位置決め部23−3は、上記
算出された接線方向に対し加工対象点でのレーザ光の断
面正方形の互いに対向し合う2辺を常に平行にするため
に必要なマスクの回転角度を決定し、この決定された回
転角度に応じた数の回転角度指令パルスをアンプ24を
通してマスク駆動用のモータ25に出力する。モータ2
5は、回転角度指令パルスで規定された角度だけマスク
を回転させる。
【0016】図3はオペレータにより設定される切断
線、言い換えれば、加工対象点の移動軌跡を示し、図
中、正方形の部分はレーザ光の照射点を拡大して示す。
いくつかの例を挙げると、位置P1でθ1、位置P2で
θ2、位置P3,P4で90°角度が変えられる。演算
部23−2では、X軸方向、Y軸方向の移動速度vx
y の算出動作により上記の位置P1〜P4における移
動方向の接線方向を判別し、位置決め部23−3で位置
P1,P2ではそれぞれθ1,θ2の回転角度指令パル
スを出力する。しかし、接線方向が90°変化する位置
P3,P4ではレーザ光の断面形状が正方形であるから
角度を変える必要はない。
【0017】ここで、X軸方向、Y軸方向の移動の実速
度vx ,vy より、マスクの回転角度θは、θ=tan
-1y /vx で与えられる。
【0018】以上のように、本発明によるレーザ加工装
置では、レーザ光の断面形状が矩形で、図3のようにそ
の対向し合う2辺が常に加工対象点の移動方向の接線方
向に平行になるようにマスクが回転されるので図4
(a)に示すように、切断面は常に平坦面となる。
【0019】なお、本発明はレーザ発振器がCO2 レー
ザ、YAGレーザ、エキシマレーザ等のどのようなレー
ザ加工装置にも適用可能であり、レーザ光の形態もパル
ス状、連続波のいずれでも良い。また、加工対象物は、
特にプリント基板に適しているが、その他の樹脂、金属
のいずれにも適用できる。
【0020】
【発明の効果】本発明によるレーザ加工装置は、従来の
円形断面形状のレーザ加工装置に比べて加工切断面がシ
ャープとなり、プリント基板に対しては0.3mm切断
幅で加工速度も大幅に向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるレーザ加工装置の概略構成を示す
図である。
【図2】図1に示されたマスク機構のための制御部の構
成を示すブロック図である。
【図3】本発明によるレーザ加工装置の切断ラインとレ
ーザ光の照射点との関係を示した図である。
【図4】切断加工後の領域を拡大して本発明の場合
(a)と従来の場合(b)とについて示した図である。
【符号の説明】
10 レーザ発振器 11 第1の反射ミラー 12 第2の反射ミラー 13 第3の反射ミラー 14 マスク機構 15 加工レンズ 16 X−Yテーブル 17 ワーク 23 制御部 25 モータ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被加工物にレーザ光を照射して切断加工
    を行うレーザ加工装置において、前記レーザ光の導光路
    にレーザ光の断面形状を矩形とするマスクを設けたこと
    を特徴とするレーザ加工装置。
  2. 【請求項2】 前記被加工物はX−Yステージ上に搭載
    されてX軸、Y軸の2軸方向に関して自在に移動可能に
    されており、前記マスクは回転駆動機構によりその面内
    で回転可能にされており、前記被加工物の移動に伴う加
    工対象点における移動方向の接線方向と前記加工対象点
    に照射されたレーザ光の前記矩形の互いに対向し合う2
    辺とが常に平行になるように前記回転駆動機構を制御す
    る制御部を備えることを特徴とする請求項1記載のレー
    ザ加工装置。
  3. 【請求項3】 前記制御部は、前記X−Yステージにお
    けるX軸方向の位置検出器とY軸方向の位置検出器から
    の検出信号により前記加工対象点における前記接線方向
    を算出し、前記マスクの回転角指令信号を出力すること
    を特徴とする請求項2記載のレーザ加工装置。
  4. 【請求項4】 前記マスクの回転角θは、前記X軸方向
    の移動速度vx と前記Y軸方向の移動速度vy とによ
    り、θ=tan-1y /vx で与えられることを特徴と
    する請求項3記載のレーザ加工装置。
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