JPH09271772A - 膜装置による塩素系殺菌剤含有液の不純物の除去方法 - Google Patents
膜装置による塩素系殺菌剤含有液の不純物の除去方法Info
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- JPH09271772A JPH09271772A JP10201796A JP10201796A JPH09271772A JP H09271772 A JPH09271772 A JP H09271772A JP 10201796 A JP10201796 A JP 10201796A JP 10201796 A JP10201796 A JP 10201796A JP H09271772 A JPH09271772 A JP H09271772A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 塩素殺菌処理液中の不純物を除去する際に、
ＵＦやＲＯ等の膜の塩素による劣化、能力低下を防止す
るとともに、膜装置に供給する液体に適度の殺菌性を保
持してＵＦやＲＯ等の膜、膜装置等の雑菌の発生、繁殖
を防止し、膜装置の不純物除去能力を最大限に発揮させ
て高純度の処理液を安価に得る。 【手段】 塩素を添加して細菌等を殺菌した液体に紫外
線を照射して塩素を分解除去するについて、液体中の塩
素の濃度に応じて、紫外線照射の中断または紫外線照射
量を低減することによって、液体中の塩素の濃度をＵＦ
やＲＯ等の膜に支障をきたさない範囲に調整し、この塩
素濃度を調整した液体をＵＦやＲＯ等の膜装置で処理し
て不純物を除去する。
ＵＦやＲＯ等の膜の塩素による劣化、能力低下を防止す
るとともに、膜装置に供給する液体に適度の殺菌性を保
持してＵＦやＲＯ等の膜、膜装置等の雑菌の発生、繁殖
を防止し、膜装置の不純物除去能力を最大限に発揮させ
て高純度の処理液を安価に得る。 【手段】 塩素を添加して細菌等を殺菌した液体に紫外
線を照射して塩素を分解除去するについて、液体中の塩
素の濃度に応じて、紫外線照射の中断または紫外線照射
量を低減することによって、液体中の塩素の濃度をＵＦ
やＲＯ等の膜に支障をきたさない範囲に調整し、この塩
素濃度を調整した液体をＵＦやＲＯ等の膜装置で処理し
て不純物を除去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば、次亞塩
素酸ナトリウム、クロラミン等の塩素系殺菌剤（以下塩
素という）を添加して液体中の細菌等を殺菌を行い、こ
の塩素を含む液体をＵＦやＲＯ等の膜装置で処理して不
純物を除去する方法に関するものであり、特に、塩素を
添加して細菌等を殺菌した液体中の塩素の濃度に応じ
て、紫外線照射を中断または紫外線照射量を低減するこ
とによって、液体中の塩素を完全に除去せずに残留させ
て、塩素濃度をＵＦやＲＯ等の膜に支障をきたさない範
囲に調整し、このように液体中の塩素濃度を調整した液
体を、ＵＦやＲＯ等の膜装置で処理して液体中の不純物
を除去することに特徴がある。
素酸ナトリウム、クロラミン等の塩素系殺菌剤（以下塩
素という）を添加して液体中の細菌等を殺菌を行い、こ
の塩素を含む液体をＵＦやＲＯ等の膜装置で処理して不
純物を除去する方法に関するものであり、特に、塩素を
添加して細菌等を殺菌した液体中の塩素の濃度に応じ
て、紫外線照射を中断または紫外線照射量を低減するこ
とによって、液体中の塩素を完全に除去せずに残留させ
て、塩素濃度をＵＦやＲＯ等の膜に支障をきたさない範
囲に調整し、このように液体中の塩素濃度を調整した液
体を、ＵＦやＲＯ等の膜装置で処理して液体中の不純物
を除去することに特徴がある。
【０００２】
【従来の技術】細菌等を含む液体に塩素を添加して細菌
等を殺菌することが行われているが、細菌等の殺菌を行
った高濃度の塩素を含む液体を、そのまま、ＵＦやＲＯ
等の膜で処理すると、膜が高濃度の塩素によって劣化し
たり、能力が低下する等の問題があるため、従来は、高
濃度の塩素を含む液体に亜硫酸水素ナトリウムや亜硫酸
ナトリウム等の還元剤を添加して塩素を分解除去する方
法が行われている。しかし、液体に亜硫酸水素ナトリウ
ムや亜硫酸ナトリウム等の還元剤を添加することは、Ｕ
ＦやＲＯ等の膜装置はむろん、後段のイオン交換装置等
の液体処理系のイオン負荷を増大する問題が指摘されて
いる。
等を殺菌することが行われているが、細菌等の殺菌を行
った高濃度の塩素を含む液体を、そのまま、ＵＦやＲＯ
等の膜で処理すると、膜が高濃度の塩素によって劣化し
たり、能力が低下する等の問題があるため、従来は、高
濃度の塩素を含む液体に亜硫酸水素ナトリウムや亜硫酸
ナトリウム等の還元剤を添加して塩素を分解除去する方
法が行われている。しかし、液体に亜硫酸水素ナトリウ
ムや亜硫酸ナトリウム等の還元剤を添加することは、Ｕ
ＦやＲＯ等の膜装置はむろん、後段のイオン交換装置等
の液体処理系のイオン負荷を増大する問題が指摘されて
いる。
【０００３】前述した問題の対策としては、ＵＦやＲＯ
等の膜を頻繁に洗浄したり、交換しているが、膜の頻繁
な洗浄、交換は処理コストの増加を招き、また、亜硫酸
水素ナトリウムや亜硫酸ナトリウム等の還元剤を添加す
る代わりに、液体を活性炭を充填した濾過装置で処理
し、これらの塩素を除去することも行われているが、濾
過装置の活性炭の充填層内に雑菌等が繁殖して、処理液
中に雑菌が流出したり、活性炭の再生設備を付設する必
要がある等の不都合があった。
等の膜を頻繁に洗浄したり、交換しているが、膜の頻繁
な洗浄、交換は処理コストの増加を招き、また、亜硫酸
水素ナトリウムや亜硫酸ナトリウム等の還元剤を添加す
る代わりに、液体を活性炭を充填した濾過装置で処理
し、これらの塩素を除去することも行われているが、濾
過装置の活性炭の充填層内に雑菌等が繁殖して、処理液
中に雑菌が流出したり、活性炭の再生設備を付設する必
要がある等の不都合があった。
【０００４】また、ＵＦやＲＯ等の膜装置で処理する液
体中の塩素を完全に除去すると、液体中に殺菌成分がな
くなるために、膜装置を始めとして、後段の濾過装置や
イオン交換装置等で雑菌が繁殖して、雑菌の汚染によっ
て、処理液の純度が低下する問題もあった。
体中の塩素を完全に除去すると、液体中に殺菌成分がな
くなるために、膜装置を始めとして、後段の濾過装置や
イオン交換装置等で雑菌が繁殖して、雑菌の汚染によっ
て、処理液の純度が低下する問題もあった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、塩素
を添加して液体中の細菌等を殺菌を行い、この殺菌処理
をした液体中の塩素を完全に除去せずに残留させて、塩
素濃度をＵＦやＲＯ膜に支障をきたさない範囲に調整
し、この液体をＵＦやＲＯ等の膜装置で処理して不純物
を除去することによって、ＵＦやＲＯ等の膜の塩素によ
る劣化、能力低下を防止することにあり、また、ＵＦや
ＲＯ等の膜装置に供給する液体に適度の殺菌性を保持す
ることによって、ＵＦやＲＯ等の膜を始め、ＵＦやＲＯ
等の膜装置内、付属配管、機器内における雑菌の発生、
繁殖を防止することにあり、ひいては、ＵＦやＲＯ等の
膜装置の不純物除去能力を最大限に発揮させて高純度の
処理液を得ることにある。
を添加して液体中の細菌等を殺菌を行い、この殺菌処理
をした液体中の塩素を完全に除去せずに残留させて、塩
素濃度をＵＦやＲＯ膜に支障をきたさない範囲に調整
し、この液体をＵＦやＲＯ等の膜装置で処理して不純物
を除去することによって、ＵＦやＲＯ等の膜の塩素によ
る劣化、能力低下を防止することにあり、また、ＵＦや
ＲＯ等の膜装置に供給する液体に適度の殺菌性を保持す
ることによって、ＵＦやＲＯ等の膜を始め、ＵＦやＲＯ
等の膜装置内、付属配管、機器内における雑菌の発生、
繁殖を防止することにあり、ひいては、ＵＦやＲＯ等の
膜装置の不純物除去能力を最大限に発揮させて高純度の
処理液を得ることにある。
【０００６】また、本発明の目的は、塩素を含む液体に
亜硫酸水素ナトリウムや亜硫酸ナトリウム等の還元剤を
添加せずに、ＵＦやＲＯ等の膜装置を始め、後段のイオ
ン交換装置等の不純物を除去する液体処理系におけるイ
オン負荷を増大することなく、かつ、活性炭を充填した
濾過装置やその再生設備を付設することなく、塩素含有
液を効率的に、コストを安価に処理することにある。
亜硫酸水素ナトリウムや亜硫酸ナトリウム等の還元剤を
添加せずに、ＵＦやＲＯ等の膜装置を始め、後段のイオ
ン交換装置等の不純物を除去する液体処理系におけるイ
オン負荷を増大することなく、かつ、活性炭を充填した
濾過装置やその再生設備を付設することなく、塩素含有
液を効率的に、コストを安価に処理することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、塩素を添加し
て液体中の細菌等を殺菌を行い、この殺菌処理をした塩
素を含む液体をＵＦやＲＯ等の膜装置で処理して不純物
を除去する方法に関するものであり、細菌等を殺菌した
塩素を含む液体に対して紫外線照射し、塩素を分解除去
するについて、液体中の塩素の濃度に応じて、紫外線照
射の中断または紫外線照射量を低減することによって、
液体中の塩素の濃度をＵＦやＲＯ等の膜に支障をきたさ
ない範囲に調整し、この塩素濃度を調整した液体をＵＦ
やＲＯ等の膜装置で処理して不純物を除去することに特
徴がある。
て液体中の細菌等を殺菌を行い、この殺菌処理をした塩
素を含む液体をＵＦやＲＯ等の膜装置で処理して不純物
を除去する方法に関するものであり、細菌等を殺菌した
塩素を含む液体に対して紫外線照射し、塩素を分解除去
するについて、液体中の塩素の濃度に応じて、紫外線照
射の中断または紫外線照射量を低減することによって、
液体中の塩素の濃度をＵＦやＲＯ等の膜に支障をきたさ
ない範囲に調整し、この塩素濃度を調整した液体をＵＦ
やＲＯ等の膜装置で処理して不純物を除去することに特
徴がある。
【０００８】また、本発明は、前述した膜装置による塩
素系殺菌剤含有液の不純物の除去方法において、紫外線
照射の中断または紫外線照射量を低減することによっ
て、液体中の塩素系殺菌剤の濃度を、塩素系殺菌剤の濃
度をＵＦやＲＯ等の膜に支障をきたさない範囲である
０．１〜０．３ｐｐｍに調整する処理（通常処理）を行
っている間に、紫外線照射の中断または紫外線照射量を
低減することによって、液体中の塩素系殺菌剤の濃度
を、０．５〜１０分の短時間であれば、ＵＦやＲＯ等の
膜に支障をきたさない範囲である０．３〜１ｐｐｍに調
整する処理する処理（付加処理）を間欠的に行うことに
特徴がある。
素系殺菌剤含有液の不純物の除去方法において、紫外線
照射の中断または紫外線照射量を低減することによっ
て、液体中の塩素系殺菌剤の濃度を、塩素系殺菌剤の濃
度をＵＦやＲＯ等の膜に支障をきたさない範囲である
０．１〜０．３ｐｐｍに調整する処理（通常処理）を行
っている間に、紫外線照射の中断または紫外線照射量を
低減することによって、液体中の塩素系殺菌剤の濃度
を、０．５〜１０分の短時間であれば、ＵＦやＲＯ等の
膜に支障をきたさない範囲である０．３〜１ｐｐｍに調
整する処理する処理（付加処理）を間欠的に行うことに
特徴がある。
【０００９】また、本発明は、前述した塩素を含む液体
のＵＦやＲＯ等の膜装置による処理を行うについて、塩
素を添加して液体中の細菌等を殺菌した後、塩素を含有
する液体を、光触媒の存在下において、紫外線照射して
塩素系殺菌剤を効率的に分解除去することに特徴があ
る。
のＵＦやＲＯ等の膜装置による処理を行うについて、塩
素を添加して液体中の細菌等を殺菌した後、塩素を含有
する液体を、光触媒の存在下において、紫外線照射して
塩素系殺菌剤を効率的に分解除去することに特徴があ
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の実施態様の一例を説明す
ると、細菌等を含む液体を殺菌槽に流入させ、殺菌槽に
設けた薬品貯槽より塩素として、たとえば、次亞塩素酸
ナトリウムまたはクロラミンを１〜５ｐｐｍ添加して液
体中の細菌等の殺菌処理を行う。
ると、細菌等を含む液体を殺菌槽に流入させ、殺菌槽に
設けた薬品貯槽より塩素として、たとえば、次亞塩素酸
ナトリウムまたはクロラミンを１〜５ｐｐｍ添加して液
体中の細菌等の殺菌処理を行う。
【００１１】前述した細菌等の殺菌を行った処理液には
塩素が０．５〜２ｐｐｍと多量に残留するので、この殺
菌処理液を紫外線ランプを内蔵した透過管を複数本配設
した紫外線照射装置内に流入させて、紫外線照射を数秒
〜１分間程度行い、塩素を分解除去することによって、
殺菌処理液の残留塩素濃度を、ＲＯ膜に支障をきたさな
い範囲である、０．１〜０．３ｐｐｍに調整させた時点
で紫外線照射を中断する。
塩素が０．５〜２ｐｐｍと多量に残留するので、この殺
菌処理液を紫外線ランプを内蔵した透過管を複数本配設
した紫外線照射装置内に流入させて、紫外線照射を数秒
〜１分間程度行い、塩素を分解除去することによって、
殺菌処理液の残留塩素濃度を、ＲＯ膜に支障をきたさな
い範囲である、０．１〜０．３ｐｐｍに調整させた時点
で紫外線照射を中断する。
【００１２】なお、紫外線照射を行って殺菌処理液の残
留塩素濃度をＲＯ膜に支障をきたさない範囲である０．
１〜０．３ｐｐｍに調整させるには、たとえば、残留塩
素濃度２ｐｐｍの殺菌処理液に対して紫外線照射処理を
行う場合においては、一定時間は紫外線照射を行わず
に、残留塩素濃度２ｐｐｍの殺菌処理液として貯留して
置き、次に、一定時間は紫外線照射を行って、たとえば
残留塩素濃度０．３ｐｐｍに調整し、これを貯留してい
た残留塩素濃度２ｐｐｍの殺菌処理液と混合させて、殺
菌処理液全体のの残留塩素濃度を０．１〜０．３ｐｐｍ
に調整させてもかまわない。
留塩素濃度をＲＯ膜に支障をきたさない範囲である０．
１〜０．３ｐｐｍに調整させるには、たとえば、残留塩
素濃度２ｐｐｍの殺菌処理液に対して紫外線照射処理を
行う場合においては、一定時間は紫外線照射を行わず
に、残留塩素濃度２ｐｐｍの殺菌処理液として貯留して
置き、次に、一定時間は紫外線照射を行って、たとえば
残留塩素濃度０．３ｐｐｍに調整し、これを貯留してい
た残留塩素濃度２ｐｐｍの殺菌処理液と混合させて、殺
菌処理液全体のの残留塩素濃度を０．１〜０．３ｐｐｍ
に調整させてもかまわない。
【００１３】また、殺菌処理液の残留塩素濃度をＲＯ等
の膜に支障をきたさない範囲である０．１〜０．３ｐｐ
ｍの範囲に調整させる他の方法としては、たとえば、残
留塩素濃度２ｐｐｍの殺菌処理液に対して、一定時間は
紫外線ランプの一部を消灯して、紫外線照射量を低下さ
せた状態で紫外線照射処理を行って、残留塩素濃度１ｐ
ｐｍの殺菌処理液として貯留して置き、次に、一定時間
は紫外線ランプの全部を点灯して紫外線照射を行って、
たとえば残留塩素濃度０．２ｐｐｍに調整し、これを貯
留していた残留塩素濃度１ｐｐｍの殺菌処理液と混合さ
せて、殺菌処理液全体のの残留塩素濃度を０．１〜０．
３ｐｐｍに調整させてもよい。
の膜に支障をきたさない範囲である０．１〜０．３ｐｐ
ｍの範囲に調整させる他の方法としては、たとえば、残
留塩素濃度２ｐｐｍの殺菌処理液に対して、一定時間は
紫外線ランプの一部を消灯して、紫外線照射量を低下さ
せた状態で紫外線照射処理を行って、残留塩素濃度１ｐ
ｐｍの殺菌処理液として貯留して置き、次に、一定時間
は紫外線ランプの全部を点灯して紫外線照射を行って、
たとえば残留塩素濃度０．２ｐｐｍに調整し、これを貯
留していた残留塩素濃度１ｐｐｍの殺菌処理液と混合さ
せて、殺菌処理液全体のの残留塩素濃度を０．１〜０．
３ｐｐｍに調整させてもよい。
【００１４】殺菌処理液の残留塩素濃度を調整させるた
めに行う紫外線照射機構としては、前述したように、紫
外線照射装置内に配設した複数本の紫外線ランプを一挙
に消灯するやり方でもよいし、また、複数本の紫外線ラ
ンプの一部分を消灯して紫外線照射量を低減するやり方
でもよいし、あるいは、複数本の紫外線ランプの紫外線
照射量を調光して紫外線照射量を低減するやり方でもか
まわない。
めに行う紫外線照射機構としては、前述したように、紫
外線照射装置内に配設した複数本の紫外線ランプを一挙
に消灯するやり方でもよいし、また、複数本の紫外線ラ
ンプの一部分を消灯して紫外線照射量を低減するやり方
でもよいし、あるいは、複数本の紫外線ランプの紫外線
照射量を調光して紫外線照射量を低減するやり方でもか
まわない。
【００１５】殺菌処理液の残留塩素濃度を０．１〜０．
３ｐｐｍに調整するのは、この殺菌処理液をＲＯ膜を設
けたＲＯ膜装置によつて処理して不純物を除去する際
に、殺菌処理液中の塩素をＲＯ膜に支障をきたさない範
囲にすることによって、ＲＯ膜が塩素で劣化または能力
低下することを防ぎ、ＲＯ膜の不純物除去能力を十分に
発揮させるためであり、さらに、殺菌処理液の塩素を完
全に除去せずに、適度の殺菌性を保持することによっ
て、ＲＯ膜、ＲＯ膜装置の内部、ＲＯ膜装置の付属配管
内部、機器内部における雑菌の発生、繁殖を防止するた
めである。
３ｐｐｍに調整するのは、この殺菌処理液をＲＯ膜を設
けたＲＯ膜装置によつて処理して不純物を除去する際
に、殺菌処理液中の塩素をＲＯ膜に支障をきたさない範
囲にすることによって、ＲＯ膜が塩素で劣化または能力
低下することを防ぎ、ＲＯ膜の不純物除去能力を十分に
発揮させるためであり、さらに、殺菌処理液の塩素を完
全に除去せずに、適度の殺菌性を保持することによっ
て、ＲＯ膜、ＲＯ膜装置の内部、ＲＯ膜装置の付属配管
内部、機器内部における雑菌の発生、繁殖を防止するた
めである。
【００１６】なお、殺菌処理液の残留塩素濃度が０．１
ｐｐｍ未満であると、塩素濃度が低くなり過ぎて、殺菌
性が弱くなり、細菌が発生する可能性があり、ＲＯ膜、
ＲＯ膜装置の内部等の細菌汚染の恐れがあるので不適当
であり、また、殺菌処理液の残留塩素濃度が０．３ｐｐ
ｍ以上であると、塩素濃度が高過ぎて、ＲＯ膜が塩素に
よって劣化または能力低下が起きて、ＲＯ膜の不純物除
去能力に支障がでるので不適当である。
ｐｐｍ未満であると、塩素濃度が低くなり過ぎて、殺菌
性が弱くなり、細菌が発生する可能性があり、ＲＯ膜、
ＲＯ膜装置の内部等の細菌汚染の恐れがあるので不適当
であり、また、殺菌処理液の残留塩素濃度が０．３ｐｐ
ｍ以上であると、塩素濃度が高過ぎて、ＲＯ膜が塩素に
よって劣化または能力低下が起きて、ＲＯ膜の不純物除
去能力に支障がでるので不適当である。
【００１７】前述したように、通常の場合、殺菌処理液
の残留塩素濃度を０．１〜０．３ｐｐｍに調整すれば、
殺菌処理液中の塩素をＵＦやＲＯ膜に支障を起こさず、
ＲＯ膜装置のＲＯ膜が塩素で劣化または能力低下を起こ
さない。しかし、紫外線照射の中断または紫外線照射量
を低減した場合、殺菌処理液の流速が遅く、温度が高い
ときには、ＵＦやＲＯ膜による処理前の殺菌処理液中の
細菌が急激に、異常に繁殖することもある。
の残留塩素濃度を０．１〜０．３ｐｐｍに調整すれば、
殺菌処理液中の塩素をＵＦやＲＯ膜に支障を起こさず、
ＲＯ膜装置のＲＯ膜が塩素で劣化または能力低下を起こ
さない。しかし、紫外線照射の中断または紫外線照射量
を低減した場合、殺菌処理液の流速が遅く、温度が高い
ときには、ＵＦやＲＯ膜による処理前の殺菌処理液中の
細菌が急激に、異常に繁殖することもある。
【００１８】そこで、このような状態が予想される場合
には、前述した殺菌処理液中の塩素系殺菌剤の濃度をＲ
Ｏ膜に支障をきたさない範囲である０．１〜０．３ｐｐ
ｍに調整する通常処理を行っている間に、通常処理と同
様に、紫外線照射の中断または紫外線照射量を低減する
ことによって、殺菌処理液中の塩素系殺菌剤の濃度を、
０．３〜１ｐｐｍという高濃度に調整する付加処理を
０．５〜１０分という短時間であって、１日１回 〜１
ケ月１回程度間欠的に行うことによって、ＲＯ膜の細菌
の繁殖を効果的に防止するとともに、ＲＯ膜に支障をき
たさないことを知見した（ＵＦ膜についても同様）。
には、前述した殺菌処理液中の塩素系殺菌剤の濃度をＲ
Ｏ膜に支障をきたさない範囲である０．１〜０．３ｐｐ
ｍに調整する通常処理を行っている間に、通常処理と同
様に、紫外線照射の中断または紫外線照射量を低減する
ことによって、殺菌処理液中の塩素系殺菌剤の濃度を、
０．３〜１ｐｐｍという高濃度に調整する付加処理を
０．５〜１０分という短時間であって、１日１回 〜１
ケ月１回程度間欠的に行うことによって、ＲＯ膜の細菌
の繁殖を効果的に防止するとともに、ＲＯ膜に支障をき
たさないことを知見した（ＵＦ膜についても同様）。
【００１９】前述した付加処理において、殺菌処理液の
残留塩素濃度を０．３〜１ｐｐｍという高濃度に調整す
るのは、殺菌処理液の残留塩素濃度が０．３ｐｐｍ未満
であると、ＲＯ膜の処理前に殺菌処理液中に急激、異常
に繁殖した細菌を効果的に殺菌できないためであり、ま
た、殺菌処理液の残留塩素濃度が１ｐｐｍを超えると、
ＲＯ膜が塩素によって劣化または能力低下するおそれが
あるためであり、また、付加処理時間を０．５〜１０分
にするのは、０．５分未満であると、効果的な殺菌が出
来ず、また、１０分を超えるとと、ＲＯ膜が塩素によっ
て劣化または能力低下するおそれがあるためである。
残留塩素濃度を０．３〜１ｐｐｍという高濃度に調整す
るのは、殺菌処理液の残留塩素濃度が０．３ｐｐｍ未満
であると、ＲＯ膜の処理前に殺菌処理液中に急激、異常
に繁殖した細菌を効果的に殺菌できないためであり、ま
た、殺菌処理液の残留塩素濃度が１ｐｐｍを超えると、
ＲＯ膜が塩素によって劣化または能力低下するおそれが
あるためであり、また、付加処理時間を０．５〜１０分
にするのは、０．５分未満であると、効果的な殺菌が出
来ず、また、１０分を超えるとと、ＲＯ膜が塩素によっ
て劣化または能力低下するおそれがあるためである。
【００２０】前述した紫外線照射による殺菌処理液の残
留塩素濃度の調整を行う際に、紫外線照射を光触媒の存
在下で行うと、殺菌処理液の残留塩素濃度の調整を、こ
れを用いない場合に比較して、短時間で効果的に行うこ
とができる。光触媒として使用できるものとしては、た
とえば、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）、チタン酸ストロンチ
ウム（ＳｒＴｉＯ2 ）、硫化カドミウム（ＣｄＳ）、硫
化モリブデン（ＭｏＳ2 ）、酸化亜鉛（Ｚｎｏ）、酸化
タングステン（ＷＯ3 ）、酸化銅（ＣｕＯ2 ）、酸化鉄
（Ｆｅ2 Ｏ3 ）、シリコン（Ｓｉ）等の半導体単体、ま
たはこれらの半導体単体に金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、
銅（Ｃｕ）、錫（Ｓｎ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウ
ム（Ｒｈ）、酸化ニッケル（ＮｉＯ）、酸化ロジウム
（ＲｈＯ2 ）等の金属もしくは金属酸化物に担持したも
のがある。
留塩素濃度の調整を行う際に、紫外線照射を光触媒の存
在下で行うと、殺菌処理液の残留塩素濃度の調整を、こ
れを用いない場合に比較して、短時間で効果的に行うこ
とができる。光触媒として使用できるものとしては、た
とえば、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）、チタン酸ストロンチ
ウム（ＳｒＴｉＯ2 ）、硫化カドミウム（ＣｄＳ）、硫
化モリブデン（ＭｏＳ2 ）、酸化亜鉛（Ｚｎｏ）、酸化
タングステン（ＷＯ3 ）、酸化銅（ＣｕＯ2 ）、酸化鉄
（Ｆｅ2 Ｏ3 ）、シリコン（Ｓｉ）等の半導体単体、ま
たはこれらの半導体単体に金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、
銅（Ｃｕ）、錫（Ｓｎ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウ
ム（Ｒｈ）、酸化ニッケル（ＮｉＯ）、酸化ロジウム
（ＲｈＯ2 ）等の金属もしくは金属酸化物に担持したも
のがある。
【００２１】なお、前述した光触媒をネット状やラシリ
ング状等の形状にしたり、また光触媒をガラス等の粒子
状の担体あるいは石英ガラスや硬質ガラス等を被覆した
ネット状やラシリング状等の形状の担体にコーティング
したり、さらには、光触媒を膜状、薄板状にして殺菌槽
の内面や構成部品の側面等の流体の接触個所に貼り付け
たり、コーティングしてもよい。
ング状等の形状にしたり、また光触媒をガラス等の粒子
状の担体あるいは石英ガラスや硬質ガラス等を被覆した
ネット状やラシリング状等の形状の担体にコーティング
したり、さらには、光触媒を膜状、薄板状にして殺菌槽
の内面や構成部品の側面等の流体の接触個所に貼り付け
たり、コーティングしてもよい。
【００２２】紫外線照射手段として使用する紫外線ラン
プとしては、低圧または高圧水銀灯以外に、ブラックラ
イト、キセノンランプを使用でき、場合によっては太陽
光を使用してもよく、これら以外にも、可視または紫外
線領域の光線を照射できるものであればどのようなもの
でも使用できる。
プとしては、低圧または高圧水銀灯以外に、ブラックラ
イト、キセノンランプを使用でき、場合によっては太陽
光を使用してもよく、これら以外にも、可視または紫外
線領域の光線を照射できるものであればどのようなもの
でも使用できる。
【００２３】
【実施例１】水道水を活性炭を充填した濾過装置で処理
をした濾過液の水質検査をしたところ、ＴＯＣ０．８ｐ
ｐｍ、大腸菌１０3 個／ｍｌが含まれていたので、この
濾過液に次亞塩素酸ナトリウム２ｐｐｍ添加して殺菌処
理を行い、大腸菌をほとんど含まない殺菌処理液を得
た。
をした濾過液の水質検査をしたところ、ＴＯＣ０．８ｐ
ｐｍ、大腸菌１０3 個／ｍｌが含まれていたので、この
濾過液に次亞塩素酸ナトリウム２ｐｐｍ添加して殺菌処
理を行い、大腸菌をほとんど含まない殺菌処理液を得
た。
【００２４】この殺菌処理液には塩素が１．３ｐｐｍ残
留していたので、これを２５４ｎｍ付近の紫外線を照射
する６２ｗの紫外線ランプ（日本フォトサイエンス製Ａ
Ｚ−５）を内蔵した石英ガラス製の透過管を６本配設し
た紫外線照射装置内に４ｍ3／ｈｒの流速で流入させ
て、紫外線照射を２５秒間行い、ＴＯＣを０．６ｐｐｍ
とするとともに、塩素が０．１ｐｐｍとなった時点で、
前述した紫外線ランプの内４本を消灯して紫外線照射量
を１／３に低減した状態にした。
留していたので、これを２５４ｎｍ付近の紫外線を照射
する６２ｗの紫外線ランプ（日本フォトサイエンス製Ａ
Ｚ−５）を内蔵した石英ガラス製の透過管を６本配設し
た紫外線照射装置内に４ｍ3／ｈｒの流速で流入させ
て、紫外線照射を２５秒間行い、ＴＯＣを０．６ｐｐｍ
とするとともに、塩素が０．１ｐｐｍとなった時点で、
前述した紫外線ランプの内４本を消灯して紫外線照射量
を１／３に低減した状態にした。
【００２５】そして、この残留塩素を０．１ｐｐｍ含む
紫外線照射処理液を（株）クラレ製の合成高分子ＵＦを
挿填した精密濾過装置内に０．６ｍ3 ／ｈｒの流速で流
入させて、精密濾過処理を行い、ＴＯＣ、その他の不純
物をほとんど含まない精密濾過液を採水したが、精密濾
過装置内や配管内の液体中には残留塩素が存在するため
に、雑菌が発生せず、精密濾過液に雑菌が漏出すること
はなく、また、紫外線ランプは一部点灯のために、消費
電力は０．７円／ｍ3 と安価であり、さらに、ＵＦは菌
汚染がないため、ライフは６ケ月と長くなった。
紫外線照射処理液を（株）クラレ製の合成高分子ＵＦを
挿填した精密濾過装置内に０．６ｍ3 ／ｈｒの流速で流
入させて、精密濾過処理を行い、ＴＯＣ、その他の不純
物をほとんど含まない精密濾過液を採水したが、精密濾
過装置内や配管内の液体中には残留塩素が存在するため
に、雑菌が発生せず、精密濾過液に雑菌が漏出すること
はなく、また、紫外線ランプは一部点灯のために、消費
電力は０．７円／ｍ3 と安価であり、さらに、ＵＦは菌
汚染がないため、ライフは６ケ月と長くなった。
【００２６】
【比較例１】前述した残留塩素１．３ｐｐｍ含む殺菌処
理液を、別系列の実施例１と同一の紫外線照射装置内に
同様の流速で流入させて、紫外線ランプ６本を全部点灯
したままで紫外線照射を２５秒分間行い、ＴＯＣを０．
３ｐｐｍにするとともに、残留塩素がほとんどなくなっ
た時点で紫外線照射を中断した。
理液を、別系列の実施例１と同一の紫外線照射装置内に
同様の流速で流入させて、紫外線ランプ６本を全部点灯
したままで紫外線照射を２５秒分間行い、ＴＯＣを０．
３ｐｐｍにするとともに、残留塩素がほとんどなくなっ
た時点で紫外線照射を中断した。
【００２７】そして、この残留塩素を含まない紫外線照
射処理液を、前述した精密濾過装置内に同様の流速で流
入させて、精密濾過処理を行い、ＴＯＣ、その他の不純
物をほとんど含まない精密濾過液を採水したが、この精
密濾過液中には残留塩素が存在しないために、精密濾過
装置内や配管内には雑菌が発生、繁殖して、精密濾過液
への雑菌の漏出が認められ、また、消費電力は紫外線ラ
ンプ全灯点灯のため、２．４円／ｍ3 と高価であり、さ
らに、ＵＦは菌汚染のため、１週間に１回の洗浄を必要
とした。
射処理液を、前述した精密濾過装置内に同様の流速で流
入させて、精密濾過処理を行い、ＴＯＣ、その他の不純
物をほとんど含まない精密濾過液を採水したが、この精
密濾過液中には残留塩素が存在しないために、精密濾過
装置内や配管内には雑菌が発生、繁殖して、精密濾過液
への雑菌の漏出が認められ、また、消費電力は紫外線ラ
ンプ全灯点灯のため、２．４円／ｍ3 と高価であり、さ
らに、ＵＦは菌汚染のため、１週間に１回の洗浄を必要
とした。
【００２８】
【実施例２】実施例１で用いた殺菌処理液を同じ紫外線
照射装置内に４ｍ3 ／ｈｒの流速で流入させて、紫外線
照射を２５秒間行い、ＴＯＣを０．６ｐｐｍとするとと
もに、塩素が０．１ｐｐｍとなった時点で、前述した紫
外線ランプの内４本を消灯して紫外線照射量を１／３に
低減した状態で通常処理をし、この残留塩素を０．２ｐ
ｐｍ含む紫外線照射処理液を同じＵＦを挿填した精密濾
過装置内に０．１ｍ3／ｈｒの流速で流入させて、精密
濾過処理を行い、ＴＯＣ、その他の不純物をほとんど含
まない精密濾過液を採水した。
照射装置内に４ｍ3 ／ｈｒの流速で流入させて、紫外線
照射を２５秒間行い、ＴＯＣを０．６ｐｐｍとするとと
もに、塩素が０．１ｐｐｍとなった時点で、前述した紫
外線ランプの内４本を消灯して紫外線照射量を１／３に
低減した状態で通常処理をし、この残留塩素を０．２ｐ
ｐｍ含む紫外線照射処理液を同じＵＦを挿填した精密濾
過装置内に０．１ｍ3／ｈｒの流速で流入させて、精密
濾過処理を行い、ＴＯＣ、その他の不純物をほとんど含
まない精密濾過液を採水した。
【００２９】しかし、殺菌処理液の流速が０．１ｍ3 ／
ｈｒと遅く、液温が２９度と高かったため、ＵＦの直前
において細菌が急激に繁殖し、１２０時間後にＵＦより
細菌の漏洩が見られたので、紫外線ランプの内１本を消
灯して紫外線照射量を１／６に低減して、殺菌処理液中
の塩素系殺菌剤の濃度を、０．７ｐｐｍという高濃度に
調整した付加処理を５分、１日に１回間欠的に行い、Ｕ
Ｆの細菌の繁殖を効果的に殺菌した結果、ＵＦよりより
細菌の漏洩は見られず、また、精密濾過装置内や配管内
の液体中には残留塩素が存在するために、細菌が発生せ
ず、精密濾過液に雑菌が漏出することはなく、ＴＯＣ、
その他の不純物をほとんど含まない精密濾過液を採水で
き、紫外線ランプは一部点灯のために、消費電力は０．
８円／ｍ3 と安価であり、さらに、ＵＦは菌汚染がない
ため、ライフは５ケ月と長くなった。
ｈｒと遅く、液温が２９度と高かったため、ＵＦの直前
において細菌が急激に繁殖し、１２０時間後にＵＦより
細菌の漏洩が見られたので、紫外線ランプの内１本を消
灯して紫外線照射量を１／６に低減して、殺菌処理液中
の塩素系殺菌剤の濃度を、０．７ｐｐｍという高濃度に
調整した付加処理を５分、１日に１回間欠的に行い、Ｕ
Ｆの細菌の繁殖を効果的に殺菌した結果、ＵＦよりより
細菌の漏洩は見られず、また、精密濾過装置内や配管内
の液体中には残留塩素が存在するために、細菌が発生せ
ず、精密濾過液に雑菌が漏出することはなく、ＴＯＣ、
その他の不純物をほとんど含まない精密濾過液を採水で
き、紫外線ランプは一部点灯のために、消費電力は０．
８円／ｍ3 と安価であり、さらに、ＵＦは菌汚染がない
ため、ライフは５ケ月と長くなった。
【００３０】
【実施例３】前述した紫外線ランプを内蔵した石英ガラ
ス製の透過管を６本配設するとともに、光触媒として二
酸化チタン（ＴｉＯ2 、アナターゼ型）をコーティング
した直径５ｍｍのガラスビーズを１５リットル充填した
紫外線照射装置内に、実施例１で述べた残留塩素１．３
ｐｐｍ含む殺菌処理液を、２０ｍ3 ／ｈｒの流速で流入
させて、紫外線照射を４秒間行い、ＴＯＣを０．３ｐｐ
ｍとするとともに、塩素が０．１ｐｐｍとなった時点
で、前述した紫外線ランプの内４本を消灯して紫外線照
射量を１／３に低減した状態にした。
ス製の透過管を６本配設するとともに、光触媒として二
酸化チタン（ＴｉＯ2 、アナターゼ型）をコーティング
した直径５ｍｍのガラスビーズを１５リットル充填した
紫外線照射装置内に、実施例１で述べた残留塩素１．３
ｐｐｍ含む殺菌処理液を、２０ｍ3 ／ｈｒの流速で流入
させて、紫外線照射を４秒間行い、ＴＯＣを０．３ｐｐ
ｍとするとともに、塩素が０．１ｐｐｍとなった時点
で、前述した紫外線ランプの内４本を消灯して紫外線照
射量を１／３に低減した状態にした。
【００３１】そして、この残留塩素を含む紫外線照射処
理液を、実施例１で述べた精密濾過装置内に０．６ｍ3
／ｈｒの流速で流入させて、精密濾過処理を行い、ＴＯ
Ｃ、その他の不純物をほとんど含まない精密濾過液を採
水したが、精密濾過装置内や配管内の液体中には残留塩
素が存在するために雑菌が発生せず、精密濾過液に雑菌
が漏出することはなく、また、紫外線ランプは一部点灯
のために消費電力は０．１円／ｍ3 と安価であり、さら
に、ＵＦは菌汚染がないため、ライフは５ケ月と長くな
った。
理液を、実施例１で述べた精密濾過装置内に０．６ｍ3
／ｈｒの流速で流入させて、精密濾過処理を行い、ＴＯ
Ｃ、その他の不純物をほとんど含まない精密濾過液を採
水したが、精密濾過装置内や配管内の液体中には残留塩
素が存在するために雑菌が発生せず、精密濾過液に雑菌
が漏出することはなく、また、紫外線ランプは一部点灯
のために消費電力は０．１円／ｍ3 と安価であり、さら
に、ＵＦは菌汚染がないため、ライフは５ケ月と長くな
った。
【００３２】
【比較例２】前述した残留塩素１．３ｐｐｍ含む殺菌処
理液を、別系列の実施例１と同一の紫外線照射装置内に
同様の流速で流入させて、紫外線ランプ６本を全部点灯
したままで紫外線照射を１５秒間行い、ＴＯＣを０．２
ｐｐｍにするとともに、残留塩素がほとんどなくなった
時点で紫外線照射を中断した。
理液を、別系列の実施例１と同一の紫外線照射装置内に
同様の流速で流入させて、紫外線ランプ６本を全部点灯
したままで紫外線照射を１５秒間行い、ＴＯＣを０．２
ｐｐｍにするとともに、残留塩素がほとんどなくなった
時点で紫外線照射を中断した。
【００３３】そして、この残留塩素を含まない紫外線照
射処理液を、前述した精密濾過装置内に同様の流速で流
入させて、精密濾過処理を−い、ＴＯＣ、その他の不純
物をほとんど含まない精密濾過液を採水したが、この精
密濾過液には残留塩素が存在しないために、精密濾過装
置内や配管内には雑菌が発生、繁殖して、精密濾過液へ
の雑菌の漏出が認められ、また、消費電力は紫外線ラン
プ全灯点灯のため、０．５円／リットルと高価であり、
さらに、ＵＦは菌汚染のため１ケ月に１回の洗浄を必要
とした。
射処理液を、前述した精密濾過装置内に同様の流速で流
入させて、精密濾過処理を−い、ＴＯＣ、その他の不純
物をほとんど含まない精密濾過液を採水したが、この精
密濾過液には残留塩素が存在しないために、精密濾過装
置内や配管内には雑菌が発生、繁殖して、精密濾過液へ
の雑菌の漏出が認められ、また、消費電力は紫外線ラン
プ全灯点灯のため、０．５円／リットルと高価であり、
さらに、ＵＦは菌汚染のため１ケ月に１回の洗浄を必要
とした。
【００３４】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によると、塩
素を添加して細菌等を殺菌した液体中の塩素の濃度に応
じて、紫外線照射を中断または紫外線照射量を低減し
て、液体中の塩素を完全に除去せずにＵＦやＲＯ等の膜
に支障をきたさない範囲で残留させるので、この液体を
引き続いてＵＦやＲＯ等の膜装置で処理して不純物を除
去する際に、ＵＦやＲＯ等の膜、膜装置内、付属配管
内、機器内の雑菌の発生、繁殖を防止でき、高品質の処
理液を安価なコストでえることができ、また、従来装置
に比較して、紫外線ランプの消費電力を大幅に削減で
き、さらに、またＵＦやＲＯ等の膜は菌汚染がないた
め、洗浄間隔を２〜５０倍に延長することができる利点
がある。
素を添加して細菌等を殺菌した液体中の塩素の濃度に応
じて、紫外線照射を中断または紫外線照射量を低減し
て、液体中の塩素を完全に除去せずにＵＦやＲＯ等の膜
に支障をきたさない範囲で残留させるので、この液体を
引き続いてＵＦやＲＯ等の膜装置で処理して不純物を除
去する際に、ＵＦやＲＯ等の膜、膜装置内、付属配管
内、機器内の雑菌の発生、繁殖を防止でき、高品質の処
理液を安価なコストでえることができ、また、従来装置
に比較して、紫外線ランプの消費電力を大幅に削減で
き、さらに、またＵＦやＲＯ等の膜は菌汚染がないた
め、洗浄間隔を２〜５０倍に延長することができる利点
がある。
【００３４】また、本発明によると、ＵＦやＲＯ等の膜
に支障をきたさない範囲に調整した通常処理を行ってい
る間に、殺菌処理液中の塩素系殺菌剤の濃度を所定の高
濃度に調整する付加処理を短時間、間欠的に行うことに
よって、紫外線照射の中断時、紫外線照射量の低下時、
殺菌処理液の低流速時、高温度時等に起こる、ＵＦやＲ
Ｏ等の膜装置の殺菌処理液中の細菌の急激、異常な繁殖
を的確に阻止することが可能である。
に支障をきたさない範囲に調整した通常処理を行ってい
る間に、殺菌処理液中の塩素系殺菌剤の濃度を所定の高
濃度に調整する付加処理を短時間、間欠的に行うことに
よって、紫外線照射の中断時、紫外線照射量の低下時、
殺菌処理液の低流速時、高温度時等に起こる、ＵＦやＲ
Ｏ等の膜装置の殺菌処理液中の細菌の急激、異常な繁殖
を的確に阻止することが可能である。
【００３５】細菌等の殺菌をした高濃度の塩素を含む液
体を、ＵＦやＲＯ等の膜装置で処理しないので、ＵＦや
ＲＯ等の膜が塩素によって劣化したり、能力が低下する
ことはなく、ＵＦやＲＯ等の膜の不純物除去能力を最大
限に発揮させることが可能であり、高品質の処理液を安
価なコストで得ることができるとともに、ＵＦやＲＯ等
の膜の交換回数を２〜３分の１に低減でき、また、塩素
を分解除去するために液体に重亜硫酸ナトリウムや亜硫
酸ナトリウム等の還元剤を添加することもないので、Ｕ
ＦやＲＯ等の膜装置はむろん、後段のイオン交換装置等
の液体処理系のイオン負荷を５〜２０％低減でき、か
つ、活性炭濾過装置やその再生機構等の付帯設備を設置
することもなく、不純物を含まない処理液を従来より安
価なコストで採液できるメリットもある。
体を、ＵＦやＲＯ等の膜装置で処理しないので、ＵＦや
ＲＯ等の膜が塩素によって劣化したり、能力が低下する
ことはなく、ＵＦやＲＯ等の膜の不純物除去能力を最大
限に発揮させることが可能であり、高品質の処理液を安
価なコストで得ることができるとともに、ＵＦやＲＯ等
の膜の交換回数を２〜３分の１に低減でき、また、塩素
を分解除去するために液体に重亜硫酸ナトリウムや亜硫
酸ナトリウム等の還元剤を添加することもないので、Ｕ
ＦやＲＯ等の膜装置はむろん、後段のイオン交換装置等
の液体処理系のイオン負荷を５〜２０％低減でき、か
つ、活性炭濾過装置やその再生機構等の付帯設備を設置
することもなく、不純物を含まない処理液を従来より安
価なコストで採液できるメリットもある。
【００３６】さらに、本発明によると、塩素系殺菌剤を
含有する液体を、光触媒の存在下において、紫外線照射
して塩素系殺菌剤を効率的に分解除去することによっ
て、ＵＦやＲＯ等の膜、膜装置内、付属配管内、機器内
の雑菌が発生、繁殖を能率的に防止でき、高品質の処理
液をより安価なコストで得ることができ、また、従来装
置に比較して、紫外線ランプの消費電力を大幅に削減で
き、さらに、またＵＦやＲＯ等の膜は菌汚染がないた
め、洗浄間隔を１０〜５０倍に延長することができる利
点がある。
含有する液体を、光触媒の存在下において、紫外線照射
して塩素系殺菌剤を効率的に分解除去することによっ
て、ＵＦやＲＯ等の膜、膜装置内、付属配管内、機器内
の雑菌が発生、繁殖を能率的に防止でき、高品質の処理
液をより安価なコストで得ることができ、また、従来装
置に比較して、紫外線ランプの消費電力を大幅に削減で
き、さらに、またＵＦやＲＯ等の膜は菌汚染がないた
め、洗浄間隔を１０〜５０倍に延長することができる利
点がある。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 1/50 ５２０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５２０Ａ ５３１ ５３１Ｐ ５５０ ５５０Ｈ ５６０ ５６０Ｃ ５６０Ｅ 1/76 ＺＡＢ 1/76 ＺＡＢＡ
Claims (3)
- 【請求項１】 塩素系殺菌剤を添加して液体中の細菌等
を殺菌した後、液体中の塩素系殺菌剤を紫外線照射して
分解除去するについて、液体中の塩素系殺菌剤の濃度に
応じて、紫外線照射の中断または紫外線照射量を低減す
ることによって、液体中の塩素系殺菌剤の濃度を、ＵＦ
やＲＯ等の膜に支障をきたさない範囲である０．１〜
０．３ｐｐｍに調整し、この濃度を調整した液体をＵＦ
やＲＯ等の膜で処理して不純物を除去する膜装置による
塩素系殺菌剤含有液の不純物の除去方法。 - 【請求項２】 紫外線照射の中断または紫外線照射量を
低減することによって、液体中の塩素系殺菌剤の濃度を
ＵＦやＲＯ等の膜に支障をきたさない範囲である０．１
〜０．３ｐｐｍに調整する通常処理を行い、この通常処
理の間に、紫外線照射の中断または紫外線照射量を低減
することによって、液体中の塩素系殺菌剤の濃度を、
０．５〜１０分の短時間であればＵＦやＲＯ等の膜に支
障をきたさない範囲である、０．３〜１ｐｐｍに調整す
る付加処理を間欠的に行う請求項１記載の膜装置による
塩素系殺菌剤含有液の不純物の除去方法。 - 【請求項３】 塩素系殺菌剤を添加して液体中の細菌等
を殺菌した後、塩素系殺菌剤を含有する液体を、光触媒
の存在下において、紫外線照射して塩素系殺菌剤を分解
除去する請求項１または請求項２記載の膜装置による塩
素系殺菌剤含有液の不純物の除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10201796A JPH09271772A (ja) | 1996-04-02 | 1996-04-02 | 膜装置による塩素系殺菌剤含有液の不純物の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10201796A JPH09271772A (ja) | 1996-04-02 | 1996-04-02 | 膜装置による塩素系殺菌剤含有液の不純物の除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09271772A true JPH09271772A (ja) | 1997-10-21 |
Family
ID=14315993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10201796A Pending JPH09271772A (ja) | 1996-04-02 | 1996-04-02 | 膜装置による塩素系殺菌剤含有液の不純物の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09271772A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008012497A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-24 | Japan Organo Co Ltd | 水処理装置及び水処理方法 |
| JP2013184105A (ja) * | 2012-03-07 | 2013-09-19 | Kurita Water Ind Ltd | 医薬製造向け精製水製造装置及び方法 |
| JP2014198292A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | 栗田工業株式会社 | 医薬用水製造向け精製水製造方法及び装置 |
| WO2016092620A1 (ja) * | 2014-12-08 | 2016-06-16 | 三菱重工業株式会社 | 水処理装置 |
| JP2017205700A (ja) * | 2016-05-18 | 2017-11-24 | ウシオ電機株式会社 | 水処理方法および水処理装置 |
-
1996
- 1996-04-02 JP JP10201796A patent/JPH09271772A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008012497A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-24 | Japan Organo Co Ltd | 水処理装置及び水処理方法 |
| JP2013184105A (ja) * | 2012-03-07 | 2013-09-19 | Kurita Water Ind Ltd | 医薬製造向け精製水製造装置及び方法 |
| JP2014198292A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | 栗田工業株式会社 | 医薬用水製造向け精製水製造方法及び装置 |
| WO2016092620A1 (ja) * | 2014-12-08 | 2016-06-16 | 三菱重工業株式会社 | 水処理装置 |
| JPWO2016092620A1 (ja) * | 2014-12-08 | 2017-08-03 | 三菱重工業株式会社 | 水処理装置 |
| JP2017205700A (ja) * | 2016-05-18 | 2017-11-24 | ウシオ電機株式会社 | 水処理方法および水処理装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050222 |