JPH09271705A - Coating device - Google Patents
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- JPH09271705A JPH09271705A JP8656096A JP8656096A JPH09271705A JP H09271705 A JPH09271705 A JP H09271705A JP 8656096 A JP8656096 A JP 8656096A JP 8656096 A JP8656096 A JP 8656096A JP H09271705 A JPH09271705 A JP H09271705A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示器のガラス基板等の各種基板上にフォトレジスト
液等の塗布膜を形成する塗布装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating apparatus for forming a coating film such as a photoresist solution on various substrates such as semiconductor wafers and glass substrates for liquid crystal displays.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、この種の塗布装置は、図10に示
すように、基板Wを真空吸着するステージ101と、こ
のステージ101上で基板Wに沿って移動する一方に伸
びるスリット状の吐出口を有するノズル102とを備
え、このノズル102をそのスリット状の吐出口から塗
布液を吐出させながら一定速度で移動させることにより
基板W上に塗布膜Fを形成するようにしたものである。
この場合、その塗布膜Fの厚み(以下、塗布膜厚とい
う。)は、塗布液の吐出量に比例し、ノズル102の移
動速度に反比例する。そのため、塗布膜厚が一定範囲内
に収まるように、基板Wに対して試験的に塗布膜を形成
した上でノズル102の吐出口の幅を予め調節し、ノズ
ル102や塗布液を一定の温度に保持した状態でノズル
102の吐出口から一定の吐出圧で塗布液が吐出される
ようになっている。2. Description of the Related Art Conventionally, as shown in FIG. 10, a coating apparatus of this type conventionally has a stage 101 for vacuum-adsorbing a substrate W and a slit-like ejection extending on the stage 101 while moving along the substrate W. The nozzle 102 having an outlet is provided, and the coating film F is formed on the substrate W by moving the nozzle 102 at a constant speed while ejecting the coating liquid from the slit-shaped ejection port.
In this case, the thickness of the coating film F (hereinafter referred to as the coating film thickness) is proportional to the discharge amount of the coating liquid and inversely proportional to the moving speed of the nozzle 102. Therefore, the width of the ejection port of the nozzle 102 is adjusted in advance after the coating film is formed on the substrate W in a trial so that the coating film thickness falls within a certain range, and the nozzle 102 and the coating liquid are kept at a certain temperature. The coating liquid is discharged from the discharge port of the nozzle 102 at a constant discharge pressure while being held at.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記の塗布装置では、
ノズル102や塗布液が一定の温度に保持されているた
め、外気温度等の変化に対しても比較的安定した厚みで
塗布膜を形成することができるが、塗布膜厚の変動を例
えば数μm乃至十数μmというような微小な範囲内に収
めるように調節しようとすると、ノズル102の移動速
度、塗布液の粘度・吐出圧等の温度以外の不可避的な変
動によりその調節は必ずしも容易ではないという問題が
ある。In the above coating apparatus,
Since the nozzle 102 and the coating liquid are kept at a constant temperature, the coating film can be formed with a relatively stable thickness even with changes in the outside air temperature, etc., but the fluctuation of the coating film thickness is, for example, several μm. If an attempt is made to adjust the value so that it falls within a minute range such as tens of μm, the adjustment is not always easy due to unavoidable fluctuations other than temperature such as the moving speed of the nozzle 102, the viscosity of the coating liquid, the discharge pressure, and the like. There is a problem.
【0004】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、塗布膜厚の変動を微小な範囲内に収めることが
可能な塗布装置を提供するものである。The present invention has been made in view of the above problems, and provides a coating apparatus capable of keeping the fluctuation of the coating film thickness within a minute range.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に塗布
膜を形成する塗布装置であって、基板を保持する基板保
持手段と、塗布液を吐出するためのスリット状の吐出口
を有する塗布液供給手段と、基板の表面と上記吐出口と
が相対的に移動するように、上記基板保持手段と上記塗
布液供給手段とを相対的に移動させる駆動手段と、基板
上に形成された塗布膜厚を測定する膜厚測定手段と、上
記膜厚測定手段による塗布膜厚の測定結果に基づいて、
上記吐出口の開口幅を調節する開口幅調節手段と、を備
えたものである(請求項1)。The present invention is a coating apparatus for forming a coating film on a substrate, which has a substrate holding means for holding the substrate and a slit-shaped discharge port for discharging the coating liquid. A coating liquid supply unit, a drive unit that relatively moves the substrate holding unit and the coating liquid supply unit so that the surface of the substrate and the discharge port relatively move, and are formed on the substrate. Based on the measurement result of the coating film thickness by the coating film thickness measuring means for measuring the coating film thickness and the film thickness measuring means,
An opening width adjusting means for adjusting the opening width of the discharge port is provided (Claim 1).
【0006】上記構成の本発明では、基板保持手段に保
持された基板の表面と塗布液供給手段が有するスリット
状の吐出口とが相対的に移動するように、駆動手段によ
り基板保持手段と塗布液供給手段とを相対的に移動させ
ながら、吐出口から塗布液を吐出させて基板上に塗布膜
を形成する。そして、膜厚測定手段が基板上に形成され
た塗布膜厚を測定し、この測定結果に基づいて開口幅調
節手段が吐出口の開口幅を調節する。In the present invention having the above-mentioned structure, the driving means drives the substrate holding means and the coating means so that the surface of the substrate held by the substrate holding means and the slit-shaped ejection port of the coating liquid supply means move relatively to each other. While relatively moving the liquid supply means, the coating liquid is discharged from the discharge port to form a coating film on the substrate. Then, the film thickness measuring means measures the coating film thickness formed on the substrate, and the opening width adjusting means adjusts the opening width of the ejection port based on the measurement result.
【0007】また、本発明は、上記塗布装置であって、
上記吐出口の長手方向に沿って上記塗布液供給手段の外
面に形成されたガイドと、上記ガイドに沿って移動可能
に設けられ、上記膜厚測定手段が有する測定ヘッドを支
持する移動体と、上記移動体を上記ガイドに沿って移動
させる移動体駆動手段と、をさらに備えたものである
(請求項2)。The present invention also provides the above coating apparatus,
A guide formed on the outer surface of the coating liquid supply means along the longitudinal direction of the discharge port, and a movable body that is provided so as to be movable along the guide and that supports a measurement head included in the film thickness measurement means, A moving body driving means for moving the moving body along the guide is further provided (claim 2).
【0008】上記構成の本発明では、吐出口の長手方向
に沿って塗布液供給手段の外面に形成されたガイドに沿
って移動体駆動手段が移動体を移動させながら、この移
動体に支持されている測定ヘッドが基板上に形成された
塗布膜厚を測定する。In the present invention having the above-mentioned structure, the moving body driving means moves the moving body along the guide formed on the outer surface of the coating liquid supply means along the longitudinal direction of the discharge port, and is supported by the moving body. The measuring head measures the coating film thickness formed on the substrate.
【0009】また、本発明は、上記塗布装置であって、
上記吐出口は対向方向に変位可能な対向壁により形成さ
れ、上記開口幅調節手段は上記対向壁に変位力を与え
て、上記吐出口の開口幅を調節するものである(請求項
3)。The present invention also provides the above coating apparatus,
The discharge port is formed of a facing wall that is displaceable in the facing direction, and the opening width adjusting means applies a displacement force to the facing wall to adjust the opening width of the discharge port (claim 3).
【0010】上記構成の本発明では、開口幅調節手段が
吐出口を形成している対向方向に変位可能な対向壁に変
位力を与えて、吐出口の開口幅を調節する。In the present invention having the above structure, the opening width adjusting means adjusts the opening width of the discharge port by applying a displacement force to the opposing wall that forms the discharge port and is displaceable in the opposite direction.
【0011】また、本発明は、上記塗布装置であって、
上記開口幅調節手段は上記吐出口の長手方向に沿った複
数の区画部に対応させて上記塗布液供給手段に設けら
れ、上記区画部に対応する塗布膜厚の測定結果に基づい
て、上記区画部ごとに開口幅を調節するものである(請
求項4)。The present invention also provides the above coating apparatus,
The opening width adjusting means is provided in the coating liquid supply means corresponding to a plurality of partition portions along the longitudinal direction of the discharge port, and the partition portions are provided based on the measurement result of the coating film thickness corresponding to the partition portions. The opening width is adjusted for each part (claim 4).
【0012】上記構成の本発明では、吐出口の長手方向
に沿った複数の区画部に対応する塗布膜厚の測定結果に
基づいて、開口幅調節手段は区画部ごとに吐出口の開口
幅を調節する。In the present invention having the above structure, the opening width adjusting means determines the opening width of the discharge port for each partition based on the measurement result of the coating film thickness corresponding to the plurality of partitions along the longitudinal direction of the discharge port. Adjust.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施形態の塗布
装置の斜視図である。この塗布装置は、基板Wを吸着保
持するステージ10と、このステージ10に吸着保持さ
れた基板W上にフォトレジスト液等の透明又は半透明の
塗布液を供給するノズル20と、このノズル20を基板
W上に沿って移動させるノズル移動手段30と、塗布液
が供給されて形成された基板W上の塗布膜の厚みを測定
する膜厚計40とを備えている。1 is a perspective view of a coating apparatus according to an embodiment of the present invention. This coating apparatus includes a stage 10 that sucks and holds a substrate W, a nozzle 20 that supplies a transparent or semi-transparent coating liquid such as a photoresist liquid onto the substrate W that is sucked and held by the stage 10, and the nozzle 20. A nozzle moving unit 30 that moves along the substrate W and a film thickness meter 40 that measures the thickness of the coating film formed by supplying the coating liquid on the substrate W are provided.
【0014】ステージ10は、中央部の基板Wの載置部
11に上下方向に貫通する複数の貫通孔12が形成さ
れ、載置部11上に載置された基板Wをその貫通孔12
を介して下面側から真空吸引することにより載置部11
上に保持するようにしたものである。また、ステージ1
0の両側端部には、ノズル移動手段30の後述する支持
体が摺動するガイド用のレール13、14が形成されて
いる。基板Wはこのステージ10の載置部11上に図略
の搬送ロボットにより載置される。The stage 10 has a plurality of through holes 12 penetrating in the vertical direction formed in the mounting portion 11 of the substrate W in the central portion, and the substrate W mounted on the mounting portion 11 has the through holes 12 formed therein.
By vacuum suction from the lower surface side through the mounting portion 11
It's meant to be kept on top. Also, stage 1
Rails 13 and 14 for guides on which a support body of the nozzle moving means 30 described later slides are formed at both end portions of 0. The substrate W is placed on the placing portion 11 of the stage 10 by a transfer robot (not shown).
【0015】ノズル20は、図2乃至図4に示すように
構成されている。図2はノズル20の図1とは反対側か
ら見た斜視図、図3はその側断面図、図4はその底面図
である。なお、いずれも膜厚計40と関係する構成部分
については図示を省略している。すなわち、ノズル20
は、横方向に長手状の一対の対向壁21、22が突き合
わされて構成され、内部に塗布液の供給路23を有する
と共に、下面にその供給路23に連なるスリット状の吐
出口24が開口するようにしたものである。この吐出口
24を構成する一対の対向壁21、22間の間隔、すな
わち、吐出口24の幅は、例えば、0.1mm程度に設
定されている。対向壁22は供給路23が形成されるべ
く所要の厚みを有する一方、対向壁21は対向壁22よ
りも厚みの薄い部材で形成され、その外面の上下方向中
間部適所に形成された横方向の溝211aによって一方
側部から他方側部にかけて横方向の肉薄部211が形成
されている。The nozzle 20 is constructed as shown in FIGS. 2 is a perspective view of the nozzle 20 viewed from the side opposite to FIG. 1, FIG. 3 is a side sectional view thereof, and FIG. 4 is a bottom view thereof. It should be noted that the illustration of the components related to the film thickness meter 40 is omitted. That is, the nozzle 20
Is composed of a pair of opposed walls 21 and 22 that are long in the lateral direction but abutted against each other, has a supply passage 23 for the coating liquid inside, and has a slit-shaped discharge port 24 connected to the supply passage 23 on the lower surface. It is something that is done. The distance between the pair of opposing walls 21 and 22 forming the discharge port 24, that is, the width of the discharge port 24 is set to about 0.1 mm, for example. The opposing wall 22 has a required thickness so that the supply passage 23 is formed, while the opposing wall 21 is formed of a member thinner than the opposing wall 22, and a lateral direction formed at a proper position in the vertical direction intermediate portion of the outer surface thereof. The groove 211a forms a thin portion 211 in the lateral direction from one side portion to the other side portion.
【0016】この横方向に形成された肉薄部211は、
対向壁21の屈曲支点として機能するもので、対向壁2
1の下端部に対向壁21、22の対向方向に適当な力を
与えることで対向壁21が弾性変形できるようにしたも
のである。また、対向壁21の下端部外面側には、その
対向壁21に変位力を与える複数(この実施形態では6
個)のピエゾアクチュエータ212が吐出口24の長手
方向に沿って所定の間隔で配設されている。このピエゾ
アクチュエータ212は、その本体部212aが対向壁
21の上端部に一端が取り付けられたL字形状の支持体
213に固定され、各先端部212bが対向壁21の下
端部に取り付けられている。このように対向壁21に複
数のピエゾアクチュエータ212を配設することによ
り、吐出口24は長手方向に沿って複数の区画部に区画
されることになり、対向壁21の各ピエゾアクチュエー
タ212に対応する部分が変位されることにより各区画
部ごとに吐出口24の開口幅が調節ができるようにな
る。The thin portion 211 formed in the lateral direction is
It functions as a bending fulcrum of the facing wall 21, and the facing wall 2
The opposing wall 21 can be elastically deformed by applying an appropriate force to the lower end portion of 1 in the opposing direction of the opposing walls 21 and 22. In addition, on the outer surface side of the lower end portion of the opposing wall 21, a plurality of displacement forces (6 in this embodiment) that apply displacement force to the opposing wall 21 are provided.
The individual piezo actuators 212 are arranged at predetermined intervals along the longitudinal direction of the ejection port 24. The piezo actuator 212 has a main body 212 a fixed to an L-shaped support 213 having one end attached to the upper end of the facing wall 21, and each tip 212 b attached to the lower end of the facing wall 21. . By disposing the plurality of piezo actuators 212 on the facing wall 21 in this way, the discharge port 24 is partitioned into a plurality of partition portions along the longitudinal direction, and corresponds to each piezo actuator 212 of the facing wall 21. By displacing the portion to be opened, the opening width of the ejection port 24 can be adjusted for each partition.
【0017】このピエゾアクチュエータ212は、図略
の内部のピエゾ素子に駆動電圧が印加されたとき、その
先端部212bがその駆動電圧のレベルに応じた割合で
図3に示す矢印方向に伸縮するように構成されたもの
で、その伸縮割合に応じて対向壁21を肉薄部211を
支点にして変位させ、他方の対向壁22との間隔、すな
わち、吐出口24の幅を変更する。すなわち、ピエゾア
クチュエータ212は、ノズル20の吐出口24の開口
幅を調節する開口幅調節手段を構成する。In this piezo actuator 212, when a drive voltage is applied to a piezoelectric element (not shown), the tip portion 212b of the piezo actuator 212 expands and contracts in the direction of the arrow shown in FIG. 3 at a rate according to the level of the drive voltage. According to the expansion / contraction ratio, the opposing wall 21 is displaced with the thin portion 211 as a fulcrum, and the distance between the opposing wall 22 and the width of the discharge port 24 is changed. That is, the piezo actuator 212 constitutes an opening width adjusting means for adjusting the opening width of the ejection port 24 of the nozzle 20.
【0018】なお、この実施形態においては、対向壁2
1が基板Wに対するノズル20の移動方向の前面側に位
置し、対向壁22がその移動方向の後面側に位置するよ
うにして、後述する膜厚計40の測定ヘッド41を対向
壁22側に取付け可能にしている。In this embodiment, the opposing wall 2
1 is positioned on the front surface side in the moving direction of the nozzle 20 with respect to the substrate W, and the facing wall 22 is positioned on the rear surface side in the moving direction, so that the measuring head 41 of the film thickness meter 40 described later is positioned on the facing wall 22 side. It can be installed.
【0019】また、ノズル20の上面中央部には、給送
パイプ25が取り付けられており、この給送パイプ25
を介して図略の塗布液供給タンクからフォトレジスト等
の塗布液が一定の圧力でノズル20内に給送されるよう
になっている。A feed pipe 25 is attached to the center of the upper surface of the nozzle 20.
A coating liquid such as a photoresist is fed into the nozzle 20 from the coating liquid supply tank (not shown) via the via at a constant pressure.
【0020】また、図1に示すように、対向壁22の外
面には、吐出口24の長手方向に伸びる直線状のガイド
221が一方側部から他方側部にかけて形成されてい
る。このガイド221には、その上を移動する移動体2
22が離脱不能に配設されている。また、ノズル20の
ガイド221の両端上部には一対のプーリ223、22
4が取り付けられると共に、ノズル20の上面中央部に
移動体222を移動させる駆動部を構成するステッピン
グモータ225が取り付けられている。Further, as shown in FIG. 1, a linear guide 221 extending in the longitudinal direction of the discharge port 24 is formed on the outer surface of the facing wall 22 from one side portion to the other side portion. This guide 221 has a moving body 2 moving above it.
22 is arranged so as not to be detachable. In addition, a pair of pulleys 223, 22 are provided above the both ends of the guide 221 of the nozzle 20.
4 is attached, and a stepping motor 225 that constitutes a drive unit that moves the moving body 222 is attached to the central portion of the upper surface of the nozzle 20.
【0021】このステッピングモータ225には、その
回転軸225aに巻き付けホイール226が取り付けら
れており、この巻き付けホイール226に巻き付けられ
たワイヤ227の両端が上記プーリ223、224を介
して移動体222の両側部に係止されている。これによ
り、ステッピングモータ225の回転軸225aが回転
すると、巻き付けホイール226がワイヤ227の一方
側を巻き取ると共に、他方側を解き放つことにより回転
軸225aの回転方向に応じて移動体222がガイド2
21に沿って左右方向に移動する。移動体222には、
膜厚計40の測定ヘッド41が基板Wを向いた状態で取
り付けられており、移動体222がガイド221の一方
側部から他方側部に移動することにより、基板W上の塗
布膜厚がノズル20の移動方向と直交する方向である基
板Wの幅方向に沿って測定できるようになっている。A winding wheel 226 is attached to a rotary shaft 225a of the stepping motor 225, and both ends of a wire 227 wound around the winding wheel 226 are provided on both sides of the moving body 222 via the pulleys 223 and 224. It is locked to the part. As a result, when the rotating shaft 225a of the stepping motor 225 rotates, the winding wheel 226 winds up one side of the wire 227 and unwinds the other side, whereby the moving body 222 guides the moving body 222 in accordance with the rotating direction of the rotating shaft 225a.
Move left and right along 21. In the moving body 222,
The measurement head 41 of the film thickness meter 40 is attached in a state of facing the substrate W, and the moving body 222 moves from one side portion of the guide 221 to the other side portion thereof, so that the coating film thickness on the substrate W becomes a nozzle. The measurement can be performed along the width direction of the substrate W, which is a direction orthogonal to the moving direction of 20.
【0022】ノズル移動手段30は、ノズル20の幅方
向両側端部から突出する固定軸26、27を固定支持す
ると共に、ステージ10の両側端部のレール13、14
上を移動する左右両側の支持体31、32と、この支持
体31、32を一体に連結すると共に、ステージ10の
下面側を経由して配設された連結体33と、この連結体
33の中央部であってレール13、14と同じ方向に穿
設された雌ねじに螺合されたねじ軸34と、このねじ軸
34に連結されたステッピングモータ35とを備えてい
る。これにより、ステッピングモータ35が回転駆動し
てねじ軸34が回転すると、連結体33が移動すること
により支持体31、32がステージ10のレール13、
14上を摺動し、ノズル20が基板W面に沿って移動す
る。The nozzle moving means 30 fixedly supports the fixed shafts 26 and 27 projecting from the both ends of the nozzle 20 in the width direction, and the rails 13 and 14 at both end parts of the stage 10.
The support bodies 31 and 32 on the left and right sides that move up, the support bodies 31 and 32 are integrally connected, and the connection body 33 disposed via the lower surface side of the stage 10 and the connection body 33 are provided. A screw shaft 34 screwed into a female screw formed in the central portion in the same direction as the rails 13 and 14 and a stepping motor 35 connected to the screw shaft 34 are provided. As a result, when the stepping motor 35 is rotationally driven and the screw shaft 34 is rotated, the connecting body 33 is moved, so that the supporting bodies 31 and 32 move to the rail 13 of the stage 10.
Sliding on 14, the nozzle 20 moves along the surface of the substrate W.
【0023】膜厚計40は、塗布装置の図略の基台に取
り付けられており、ノズル20により基板W上に形成さ
れた透明又は半透明の塗布膜面に光源からの光を照射
し、塗布膜の表面からの反射光と、基板W表面と塗布膜
との界面からの反射光との干渉光の分光反射スペクトル
を検出することにより塗布膜厚を測定するものである。
すなわち、この膜厚計40は、図5にその概略構成を示
すように、光源42の光をハーフミラー43で反射さ
せ、ミラー型結像素子44と光ファイバ45を介して基
板W上に照射する。この照射光は、塗布膜表面と基板W
表面で反射され、これらの反射光は光ファイバ45を介
してミラー型結像素子44に集光された後、ハーフミラ
ー43を通過して分光器46に入射されるように構成さ
れている。The film thickness meter 40 is attached to a base (not shown) of the coating device, and irradiates light from a light source onto a transparent or semitransparent coating film surface formed on the substrate W by the nozzle 20. The coating film thickness is measured by detecting the spectral reflection spectrum of the interference light of the reflected light from the surface of the coating film and the reflected light from the interface between the surface of the substrate W and the coating film.
That is, the film thickness meter 40 reflects the light of the light source 42 by the half mirror 43 and irradiates it onto the substrate W via the mirror-type imaging element 44 and the optical fiber 45, as shown in the schematic configuration of FIG. To do. This irradiation light is applied to the surface of the coating film and the substrate W.
The light is reflected on the surface, and these reflected lights are condensed on the mirror type image forming element 44 via the optical fiber 45, then pass through the half mirror 43 and enter the spectroscope 46.
【0024】ここで、光ファイバ45の先端部は測定ヘ
ッド41となり、この測定ヘッド41は移動体222に
係止されて移動体222と共に基板Wの幅方向に移動
し、膜厚計40は基板Wの幅方向の塗布膜厚を連続的に
測定する。分光器46で検出された信号は塗布膜厚を算
出するマイクロコンピュータ47に与えられ、マイクロ
コンピュータ47は検出された塗布膜の分光反射スペク
トルから所定の計算式に基づき塗布膜厚を算出する。こ
の算出結果は、膜厚データとして後述する制御部50に
送出されるようになっている。Here, the tip of the optical fiber 45 becomes a measuring head 41, and this measuring head 41 is locked by the moving body 222 and moves in the width direction of the substrate W together with the moving body 222. The coating thickness of W in the width direction is continuously measured. The signal detected by the spectroscope 46 is given to the microcomputer 47 which calculates the coating film thickness, and the microcomputer 47 calculates the coating film thickness from the detected spectral reflection spectrum of the coating film based on a predetermined calculation formula. The calculation result is sent to the control unit 50 described later as film thickness data.
【0025】図6は、上記のように構成された塗布装置
の主要な制御構成を示すブロック図である。制御部50
は、所定の演算処理を行うCPU51、所定のプログラ
ムが記憶されているROM52、処理データを一時的に
記憶するRAM53等から構成され、上記所定のプログ
ラムに従って塗布装置の全体の動作を制御する。FIG. 6 is a block diagram showing the main control configuration of the coating apparatus constructed as described above. Control unit 50
Is composed of a CPU 51 that performs a predetermined arithmetic process, a ROM 52 that stores a predetermined program, a RAM 53 that temporarily stores processing data, and the like, and controls the overall operation of the coating apparatus according to the predetermined program.
【0026】すなわち、CPU51は、スタートスイッ
チS、膜厚計40等から所定の信号が入力されることに
より、ステッピングモータ駆動回路35aを介してノズ
ル移動手段30を駆動するステッピングモータ35の動
作を、ステッピングモータ駆動回路225bを介して移
動体222を移動するステッピングモータ225の動作
を、ピエゾアクチュエータ駆動回路212cを介してノ
ズル20の吐出口24の開口幅を調節するピエゾアクチ
ュエータ212の動作をそれぞれ制御する。ピエゾアク
チュエータ駆動回路212cは、一定範囲内の可変電圧
を各ピエゾアクチュエータ212に供給できるようにな
っている。That is, the CPU 51 operates the stepping motor 35 for driving the nozzle moving means 30 via the stepping motor drive circuit 35a when a predetermined signal is input from the start switch S, the film thickness meter 40 and the like. The operation of the stepping motor 225 that moves the moving body 222 via the stepping motor drive circuit 225b and the operation of the piezo actuator 212 that adjusts the opening width of the discharge port 24 of the nozzle 20 are controlled via the piezo actuator drive circuit 212c. . The piezo actuator drive circuit 212c can supply a variable voltage within a fixed range to each piezo actuator 212.
【0027】また、CPU51は、搬送ロボット駆動回
路を介して基板Wの受渡しを行う図略の搬送ロボットを
制御し、真空装置駆動回路を介して基板Wをステージ1
0上に吸着保持する図略の真空装置を制御するようにな
っている。Further, the CPU 51 controls a transfer robot (not shown) which delivers the substrate W via the transfer robot drive circuit, and transfers the substrate W to the stage 1 via the vacuum device drive circuit.
A vacuum device (not shown) that is held by suction on 0 is controlled.
【0028】上記のように構成された塗布装置は次のよ
うに動作する。まず、制御部50の指令に基づき、図略
の搬送ロボットにより基板Wがステージ10上に載置さ
れると、図略の真空装置により基板Wがステージ10上
に吸着保持され、ノズル20がノズル移動手段30の駆
動により図1の手前側の始端位置から矢印方向に一定速
度で移動する。このノズル20の移動開始と同時に、ノ
ズル20内部に塗布液が図略の塗布液タンクから一定の
圧力で供給され、ノズル20は吐出口24から塗布液を
一定の吐出圧で基板W上に吐出させながら終端位置にま
で移動する。The coating apparatus constructed as described above operates as follows. First, based on a command from the control unit 50, when a substrate W is placed on the stage 10 by a transfer robot (not shown), the substrate W is suction-held on the stage 10 by a vacuum device (not shown), and the nozzle 20 is a nozzle. When the moving means 30 is driven, the moving means 30 moves at a constant speed in the arrow direction from the front end position in FIG. Simultaneously with the start of the movement of the nozzle 20, the coating liquid is supplied into the nozzle 20 from a coating liquid tank (not shown) at a constant pressure, and the nozzle 20 discharges the coating liquid from the discharge port 24 onto the substrate W at a constant discharge pressure. While moving, move to the end position.
【0029】なお、上記の塗布液は塗布液タンク内に配
設されたヒータ等で一定範囲内の温度に保持され、ノズ
ル20も塗布液と同様に一定範囲内の温度に保持されて
いることが望ましい。ノズル20の温度保持は、内部に
付設したヒータを制御回路で制御するように構成するの
が望ましいが、そのようなヒータ等を備えていなくても
塗布装置の設置場所の温度を一定に保持するようにする
ことによっても実現可能である。The above-mentioned coating liquid is kept at a temperature within a certain range by a heater or the like provided in the coating liquid tank, and the nozzle 20 is also kept at a temperature within a certain range like the coating liquid. Is desirable. To maintain the temperature of the nozzle 20, it is desirable that the heater attached inside is controlled by a control circuit. However, even if such a heater is not provided, the temperature of the installation location of the coating device is kept constant. It can also be realized by doing so.
【0030】一方、ノズル20の移動開始と同時に、ノ
ズル20に付設されているステッピングモータ225が
回転駆動されて移動体222がガイド221上を図1の
基板Wの左端から右端方向に定速移動する。この移動体
222の移動により、測定ヘッド41がノズル20の吐
出口24から塗布液が吐出されて形成された直後の塗布
膜上をノズル20の移動方向と直交する幅方向に沿って
移動し、膜厚計40による塗布膜厚の連続的な測定が行
われる。移動体222が基板Wの右端まで移動すると、
ステッピングモータ225が逆方向に回転駆動されて移
動体222が基板Wの右端から左端方向に移動する。こ
れにより、上記と同様に測定ヘッド41が塗布膜上を基
板Wの幅方向に沿って移動し、膜厚計40による塗布膜
厚の連続的な測定が行われる。膜厚計40は、測定した
膜厚値を制御部50に順次送出する。CPU51は、上
記膜厚値と、ステッピングモータ225の移動信号から
得た測定位置とを対応付けて膜厚データとして管理す
る。Simultaneously with the start of the movement of the nozzle 20, the stepping motor 225 attached to the nozzle 20 is rotationally driven and the moving body 222 moves on the guide 221 at a constant speed from the left end to the right end of the substrate W in FIG. To do. Due to the movement of the moving body 222, the measurement head 41 moves on the coating film immediately after the coating liquid is discharged from the discharge port 24 of the nozzle 20 and formed, along the width direction orthogonal to the moving direction of the nozzle 20, The coating film thickness is continuously measured by the film thickness meter 40. When the moving body 222 moves to the right end of the substrate W,
The stepping motor 225 is rotationally driven in the opposite direction, and the moving body 222 moves from the right end of the substrate W to the left end. As a result, the measuring head 41 moves on the coating film along the width direction of the substrate W in the same manner as described above, and the coating film thickness is continuously measured by the film thickness meter 40. The film thickness meter 40 sequentially sends the measured film thickness value to the control unit 50. The CPU 51 manages the film thickness value and the measurement position obtained from the movement signal of the stepping motor 225 in association with each other as film thickness data.
【0031】移動体222は、ノズル20が基板W上を
始端位置から終端位置にまで移動して塗布膜の形成が終
了するまでの間、基板Wの右端と左端間を往復動する。
その結果、測定ヘッド41は、図7に示すような軌跡で
塗布膜上を移動して塗布膜厚を連続的に測定することに
なる。この図7では、測定ヘッド41は基板W上を5往
復しており、制御部50はCPU51によりピエゾアク
チュエータ212の配設されているノズル20の吐出口
24の各区画部単位で一往復ごとの膜厚値の平均値を算
出し、この平均値から対応するピエゾアクチュエータ2
12の駆動レベルを制御する。The moving body 222 reciprocates between the right end and the left end of the substrate W until the nozzle 20 moves from the start end position to the end position on the substrate W and the formation of the coating film is completed.
As a result, the measuring head 41 moves on the coating film along a locus as shown in FIG. 7 to continuously measure the coating film thickness. In FIG. 7, the measurement head 41 makes five reciprocations on the substrate W, and the control unit 50 causes the CPU 51 to make one reciprocation for each partition unit of the ejection port 24 of the nozzle 20 in which the piezo actuator 212 is arranged. The average value of the film thickness values is calculated, and the corresponding piezoelectric actuator 2 is calculated from this average value.
12 drive levels are controlled.
【0032】すなわち、目標値よりも塗布膜厚の厚い区
画部については、ノズル20の対向壁21が対向壁22
に接近するように屈曲して吐出口24の開口幅が狭くな
るようにその区画部のピエゾアクチュエータ212を駆
動する。また、目標値よりも塗布膜厚の薄い区画部につ
いては、ノズル20の対向壁21が対向壁22から離間
して吐出口24の開口幅が広くなるようにその区画部の
ピエゾアクチュエータ212を駆動する。That is, in the section where the coating film thickness is thicker than the target value, the facing wall 21 of the nozzle 20 is replaced by the facing wall 22.
The piezo actuator 212 in the partition is driven so that the discharge port 24 is bent so that the opening width of the discharge port 24 becomes narrower. Further, for a partition portion having a coating film thickness smaller than the target value, the piezo actuator 212 of the partition portion is driven so that the facing wall 21 of the nozzle 20 is separated from the facing wall 22 and the opening width of the discharge port 24 becomes wider. To do.
【0033】この制御は、膜厚計40で測定した膜厚値
と目標値との差を算出し、その差に対応して吐出口24
の開口度を調節するのに必要なレベルの電圧をピエゾア
クチュエータ駆動回路212cから出力し、この電圧を
ピエゾアクチュエータ212に印加することにより行わ
れる。このようなピエゾアクチュエータ212の制御を
複数回繰り返すことにより、基板Wの幅方向に対する塗
布膜厚を一定の範囲内に収めることができるようにな
り、その結果、ノズル20の移動方向にも均一な厚みの
塗布膜Fを形成することが可能となる。なお、ピエゾア
クチュエータ212の制御は、測定ヘッド41の一往復
ごとの膜厚値ではなく、複数往復ごとの膜厚値に基づき
行うようにしたり、各往路ごと又は各復路ごとの膜厚値
に基づき行うようにしたりすることもできる。In this control, the difference between the film thickness value measured by the film thickness meter 40 and the target value is calculated, and the discharge port 24 is corresponding to the difference.
This is performed by outputting a voltage of a level necessary to adjust the aperture of the piezo actuator drive circuit 212c and applying this voltage to the piezo actuator 212. By repeating such control of the piezo actuator 212 a plurality of times, it becomes possible to keep the coating film thickness in the width direction of the substrate W within a certain range, and as a result, it is uniform in the moving direction of the nozzle 20. It becomes possible to form the coating film F having a thickness. The control of the piezo actuator 212 may be performed not based on the film thickness value for each reciprocation of the measurement head 41, but on the basis of the film thickness value for each reciprocation or based on the film thickness value for each reciprocation. You can choose to do so.
【0034】このように、塗布膜厚が一定範囲内に収ま
るようにするためには、塗布膜厚の種々の変動要因の関
係で1枚の基板Wのみで調節が完了する場合もあるし、
複数枚の基板Wを用いないと調節が完了しない場合もあ
る。一旦、調節が完了すると、通常は、その設定値で一
定枚数の基板Wの塗布が可能となる。塗布膜の形成され
た基板Wは、図略の搬送ロボットにより次の処理工程に
搬送される。As described above, in order to keep the coating film thickness within a certain range, the adjustment may be completed with only one substrate W due to various factors of the variation of the coating film thickness,
The adjustment may not be completed unless a plurality of substrates W are used. Once the adjustment is completed, it is usually possible to apply a fixed number of substrates W with the set value. The substrate W on which the coating film is formed is transferred to the next processing step by a transfer robot (not shown).
【0035】なお、上記の実施形態において、ノズル2
0の吐出口24の開口幅の調節は、ピエゾアクチュエー
タ212の駆動により行っているが、ノズル20を図8
及び図9に示すように構成することによっても行うこと
ができる。図8は図3に対応する図、図9は図8のA−
A線断面図である。すなわち、ノズル20を構成する一
方の対向壁21の外面の上下方向中間部に対向壁21の
屈曲支点となる図3に示す横方向の肉薄部211と同様
の肉薄部214が一方側部から他方側部にかけて形成さ
れている。また、この肉薄部214の下端部側には、対
向壁21の外面側に突出する複数(この実施形態では6
個)の突出体215が肉薄部214に沿って一方側部か
ら他方側部にかけて形成されている。この突出体215
の先端部には、それぞれねじ溝215aが形成されてい
る。すなわち、この複数の突出体215により、対向壁
21の吐出口24の長手方向に沿って各突出体215に
対応して複数の区画部が設定され、対向壁21をその区
画部ごとに変位させることが可能となっている。In the above embodiment, the nozzle 2
The adjustment of the opening width of the discharge port 24 of 0 is performed by driving the piezo actuator 212.
Also, the configuration can be performed as shown in FIG. 8 is a view corresponding to FIG. 3, and FIG. 9 is A- of FIG.
FIG. 3 is a sectional view taken along line A. That is, a thin portion 214 similar to the lateral thin portion 211 shown in FIG. 3 which is a bending fulcrum of the facing wall 21 is formed in the vertical middle portion of the outer surface of the facing wall 21 constituting the nozzle 20 from one side to the other. It is formed over the side portion. In addition, on the lower end portion side of the thin portion 214, a plurality of protrusions (in this embodiment, 6
Individual projections 215 are formed along the thin portion 214 from one side to the other side. This protrusion 215
A thread groove 215a is formed at each of the tip ends of the. That is, by the plurality of projecting bodies 215, a plurality of partition portions are set corresponding to each projecting body 215 along the longitudinal direction of the discharge port 24 of the facing wall 21, and the facing wall 21 is displaced for each partition portion. It is possible.
【0036】また、対向壁21の上端部に、水平部21
6aと垂下部216bを有するL字形状の支持体216
が取り付けられ、この水平部216aに各突出体215
に対応して複数のステッピングモータ217がその回転
軸を217aを下に向けて取り付けられている。各回転
軸217aには雄ねじ217bが一体に嵌合され、この
雄ねじ217bが突出体215のねじ溝215aに螺合
されている。これにより、ステッピングモータ217が
回転すると、その回転方向に応じて突出体215が肉薄
部214を支点として上下方向に屈曲し、それにより吐
出口24の開口幅が調節される。Further, at the upper end of the opposing wall 21, the horizontal portion 21
L-shaped support 216 having 6a and hanging part 216b
Is attached to each of the protrusions 215 on the horizontal portion 216a.
Corresponding to, a plurality of stepping motors 217 are attached with their rotation shafts 217a facing downward. A male screw 217b is integrally fitted to each rotary shaft 217a, and this male screw 217b is screwed into the screw groove 215a of the projecting body 215. As a result, when the stepping motor 217 rotates, the projecting body 215 bends in the vertical direction with the thin portion 214 as a fulcrum in accordance with the rotation direction, whereby the opening width of the discharge port 24 is adjusted.
【0037】すなわち、ステッピングモータ217が雄
ねじ217bをねじ溝215aから抜出させる方向に回
転すると、支持体216は変位しない構成とされている
ので、突出体215が肉薄部214を支点として下部方
向に屈曲される。すると、対向壁21の下端部が対向壁
22に接近するように変位されて吐出口24の開口幅が
狭くなる。また、ステッピングモータ217が雄ねじ2
17bをねじ溝215aに挿入させる方向に回転する
と、突出体215が肉薄部214を支点として上部方向
に屈曲される。すると、対向壁21の下端部が対向壁2
2から離間するように変位されて吐出口24の開口幅が
広くなる。That is, when the stepping motor 217 is rotated in the direction in which the male screw 217b is pulled out from the thread groove 215a, the support body 216 is not displaced, so that the projecting body 215 moves downward with the thin portion 214 as a fulcrum. Be bent. Then, the lower end of the facing wall 21 is displaced so as to approach the facing wall 22, and the opening width of the discharge port 24 becomes narrower. Further, the stepping motor 217 has a male screw 2
When 17b is rotated in a direction to be inserted into the screw groove 215a, the protrusion 215 is bent upward with the thin portion 214 as a fulcrum. Then, the lower end portion of the facing wall 21 is located at
The discharge port 24 is displaced so as to be separated from the nozzle 2 and the opening width of the discharge port 24 is increased.
【0038】この場合、突出体215の突出長さを、対
向壁21の肉薄部214から吐出口24までの長さに比
べて十分長くなるように設定しておくと、突出体215
のねじ溝215a位置と屈曲支点位置との間の変位量に
比べて対向壁21の屈曲支点位置と吐出口24位置との
間の変位量が少なくなり、吐出口24の開口幅の微調整
が容易にできるようになる。In this case, if the projecting length of the projecting body 215 is set to be sufficiently longer than the length from the thin portion 214 of the facing wall 21 to the discharge port 24, the projecting body 215 is formed.
The displacement amount between the bending fulcrum position of the facing wall 21 and the discharge port 24 position is smaller than the displacement amount between the screw groove 215a position and the bending fulcrum position position, and the opening width of the discharge port 24 can be finely adjusted. It will be easy to do.
【0039】また、支持体216の垂下部216bに
は、変位センサ218が取り付けられており、吐出口2
4の開口幅を測定できるようになっている。すなわち、
この変位センサ218は、その本体部218aに対して
バネ等の弾性体により進退自在に取り付けられた先端部
218bが対向壁21に接触した状態で支持体216の
垂下部216bに取り付けられており、先端部218b
の移動量に応じて対向壁21の変位量が検出できるよう
になっている。ステッピングモータ217は、膜厚計4
0の測定結果に基づき、この変位センサ218で検出さ
れた吐出口24の開口幅に応じてその回転が制御され
る。Further, a displacement sensor 218 is attached to the hanging portion 216b of the support 216, and the discharge port 2
The opening width of 4 can be measured. That is,
The displacement sensor 218 is attached to the hanging portion 216b of the support body 216 in a state in which a tip portion 218b attached to the main body portion 218a so as to move forward and backward by an elastic body such as a spring is in contact with the facing wall 21. Tip 218b
The amount of displacement of the opposing wall 21 can be detected according to the amount of movement. The stepping motor 217 is a film thickness meter 4
Based on the measurement result of 0, the rotation is controlled according to the opening width of the ejection port 24 detected by the displacement sensor 218.
【0040】また、ノズル20の吐出口24の開口幅の
調節は、図3に示すピエゾアクチュエータ212に代え
て、そのピエゾアクチュエータ212の位置に図8に示
すステッピングモータ217を取り付け、このステッピ
ングモータ217による図8に示す突出体215の変位
と同様の構成で直接、対向壁21の下端部を変位させる
ようにすることもできる。Further, the opening width of the discharge port 24 of the nozzle 20 is adjusted by replacing the piezo actuator 212 shown in FIG. 3 with a stepping motor 217 shown in FIG. 8 at the position of the piezo actuator 212. It is also possible to directly displace the lower end portion of the facing wall 21 with the same configuration as the displacement of the protrusion 215 shown in FIG.
【0041】また、上記の実施形態において、基板Wに
対する塗布膜Fの形成はノズル20を基板Wに対して移
動することにより行うようにしているが、ノズル20を
固定しておいて基板Wを移動するようにしたり、ノズル
20と基板Wの両者を互いに逆方向に移動するようにし
てもよい。要は、ノズル20の吐出口24と基板Wの表
面とが相対移動するようにされておればよい。In the above embodiment, the coating film F is formed on the substrate W by moving the nozzle 20 with respect to the substrate W. However, the nozzle 20 is fixed and the substrate W is fixed. Alternatively, the nozzle 20 and the substrate W may be moved in opposite directions. The point is that the ejection port 24 of the nozzle 20 and the surface of the substrate W may be relatively moved.
【0042】また、上記の実施形態において、膜厚計4
0は分光反射スペクトルに基づき塗布膜厚を測定するよ
うに構成したものであるが、塗布膜Fが透明又は半透明
でない場合等では、超音波を利用するもの等の他の測定
原理に基づき構成されたものであってもよい。In the above embodiment, the film thickness meter 4
0 is configured to measure the coating film thickness based on the spectral reflection spectrum, but when the coating film F is not transparent or translucent, it is configured based on another measurement principle such as that using ultrasonic waves. It may have been done.
【0043】また、膜厚計40が小型化可能なもので
は、測定ヘッド41のみを吐出口24に沿って移動させ
るのではなく、膜厚計40全体を吐出口24に沿って移
動させるようにすることもできる。なお、測定ヘッド4
1等を吐出口24に沿って移動させるには、上記実施形
態のようなワイヤ227により駆動される移動体222
を用いずに、ステッピングモータ225により駆動され
るベルト等の移動手段に測定ヘッド41等を直接取付け
ることにより行うこともできる。If the film thickness meter 40 can be miniaturized, not only the measuring head 41 is moved along the ejection port 24, but the entire film thickness meter 40 is moved along the ejection port 24. You can also do it. The measuring head 4
In order to move 1 or the like along the discharge port 24, the moving body 222 driven by the wire 227 as in the above embodiment.
It is also possible to directly attach the measuring head 41 or the like to a moving means such as a belt driven by the stepping motor 225 without using.
【0044】また、測定ヘッド41等は、ノズル20に
一体に形成されているガイド221に沿って移動する移
動体222に取り付けられ、ノズル20に取り付けたス
テッピングモータ225の回転駆動により移動体222
と共に移動するようになっているが、ノズル20とは独
立した別の個所に移動体222等からなる移動機構を設
け、この移動機構により移動を行うようにしてもよい。The measuring head 41 and the like are attached to a moving body 222 that moves along a guide 221 formed integrally with the nozzle 20, and the moving body 222 is rotated by a stepping motor 225 attached to the nozzle 20.
Although it moves together with the nozzle 20, a moving mechanism including a moving body 222 and the like may be provided at another location independent of the nozzle 20, and the moving mechanism may perform the movement.
【0045】さらに、膜厚計40が測定ヘッド41を固
定したままでも吐出口24の長手方向に沿って塗布膜厚
を測定することができるように構成されたものであれ
ば、測定ヘッド41等を吐出口24の長手方向に沿って
移動させる必要はない。Further, as long as the film thickness meter 40 is constructed so that the coating film thickness can be measured along the longitudinal direction of the ejection port 24 even with the measuring head 41 fixed, the measuring head 41, etc. Need not be moved along the longitudinal direction of the discharge port 24.
【0046】[0046]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
吐出口から塗布液を吐出させて基板上に塗布膜を形成さ
せながら、膜厚測定手段が基板上に形成された塗布膜厚
を測定し、この測定結果に基づいて吐出口の開口幅を調
節しているので、塗布膜厚の測定結果に応じて自動的に
吐出口の開口幅を調節して吐出口からの塗布液の吐出量
を調節でき、その結果、塗布膜厚の変動を微小な範囲内
に収めることができる。As described above, according to the present invention,
While the coating liquid is discharged from the discharge port to form the coating film on the substrate, the film thickness measuring means measures the coating film thickness formed on the substrate, and the opening width of the discharge port is adjusted based on the measurement result. Therefore, the opening width of the discharge port can be automatically adjusted according to the measurement result of the coating film thickness to adjust the discharge amount of the coating liquid from the discharge port. It can fit within the range.
【0047】また、本発明によれば、吐出口の長手方向
に沿って形成されたガイドに沿って移動体駆動手段が測
定ヘッドを支持した移動体を移動させながら、基板上に
形成された塗布膜厚を測定しているので、吐出口の長手
方向に沿って塗布膜厚を測定することができ、その結
果、吐出口の長手方向に沿って微小な範囲内に塗布膜厚
の変動を収めることができる。Further, according to the present invention, the coating formed on the substrate while the moving body driving means moves the moving body supporting the measuring head along the guide formed along the longitudinal direction of the ejection port. Since the film thickness is measured, it is possible to measure the coating film thickness along the longitudinal direction of the ejection port, and as a result, the variation of the coating film thickness is contained within a minute range along the longitudinal direction of the ejection port. be able to.
【0048】また、本発明によれば、吐出口の開口幅を
調節するために対向方向に変位可能な対向壁に変位力を
与えているので、容易に吐出口の開口幅を調節して塗布
膜厚の変動を微小な範囲内に収めることができる。Further, according to the present invention, since the displacement force is applied to the opposing wall which can be displaced in the opposite direction in order to adjust the opening width of the discharge port, the opening width of the discharge port can be easily adjusted. The fluctuation of the film thickness can be kept within a minute range.
【0049】また、本発明によれば、吐出口の長手方向
に沿った複数の区画部に対応する塗布膜厚の測定結果に
基づいて、開口幅調節手段は区画部ごとに吐出口の開口
幅を調節しているので、吐出口の長手方向に沿ってさら
に微小な範囲内に塗布膜厚の変動を収めることができ
る。Further, according to the present invention, the opening width adjusting means determines the opening width of the discharge port for each partition based on the measurement result of the coating film thickness corresponding to the plurality of partitions along the longitudinal direction of the discharge port. Is adjusted, it is possible to keep the variation of the coating film thickness within a finer range along the longitudinal direction of the ejection port.
【図1】本発明の一実施形態における塗布装置の斜視図
である。FIG. 1 is a perspective view of a coating device according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1の塗布装置におけるノズルの斜視図で、図
1とは反対側から見た図である。2 is a perspective view of a nozzle in the coating apparatus of FIG. 1, and is a view seen from the side opposite to FIG.
【図3】図2に示すノズルの要部側断面図である。FIG. 3 is a side sectional view of a main part of the nozzle shown in FIG.
【図4】図2に示すノズルの底面図である。FIG. 4 is a bottom view of the nozzle shown in FIG.
【図5】膜厚計の構成を説明するための図である。FIG. 5 is a diagram for explaining a configuration of a film thickness meter.
【図6】本発明の塗布装置の制御構成を示すブロック図
である。FIG. 6 is a block diagram showing a control configuration of the coating apparatus of the present invention.
【図7】膜厚計の測定ヘッドの基板上における移動軌跡
を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a movement trajectory of a measurement head of a film thickness meter on a substrate.
【図8】ノズルの変形例の構成を説明する要部側断面図
である。FIG. 8 is a side sectional view of an essential part for explaining the configuration of a modified example of the nozzle.
【図9】図8に示すノズルのA−A線断面図である。9 is a cross-sectional view taken along the line AA of the nozzle shown in FIG.
【図10】従来の塗布装置の斜視図である。FIG. 10 is a perspective view of a conventional coating device.
10 ステージ(基板保持手段) 11 載置部 12 貫通孔 20 ノズル(塗布液供給手段) 21、22 対向壁 24 吐出口 30 ノズル移動手段(駆動手段) 40 膜厚計(膜厚測定手段) 41 測定ヘッド 50 制御部 212 ピエゾアクチュエー 215 突出体 217 ステッピングモータ 221 ガイド 222 移動体 225 ステッピングモータ(移動体駆動手段) 10 Stage (Substrate Holding Means) 11 Placement Part 12 Through Hole 20 Nozzle (Coating Liquid Supply Means) 21, 22 Opposing Wall 24 Discharge Port 30 Nozzle Moving Means (Drive Means) 40 Film Thickness Meter (Film Thickness Measuring Means) 41 Measurement Head 50 Control unit 212 Piezoactuator 215 Projection body 217 Stepping motor 221 Guide 222 Moving body 225 Stepping motor (moving body driving means)
Claims (4)
って、 基板を保持する基板保持手段と、 塗布液を吐出するためのスリット状の吐出口を有する塗
布液供給手段と、 基板の表面と上記吐出口とが相対的に移動するように、
上記基板保持手段と上記塗布液供給手段とを相対的に移
動させる駆動手段と、 基板上に形成された塗布膜厚を測定する膜厚測定手段
と、 上記膜厚測定手段による塗布膜厚の測定結果に基づい
て、上記吐出口の開口幅を調節する開口幅調節手段と、 を備えたことを特徴とする塗布装置。1. A coating apparatus for forming a coating film on a substrate, comprising: substrate holding means for holding the substrate; coating liquid supply means having a slit-shaped discharge port for discharging the coating liquid; So that the surface and the discharge port move relative to each other,
Driving means for relatively moving the substrate holding means and the coating liquid supply means, a film thickness measuring means for measuring a coating film thickness formed on the substrate, and a coating film thickness measurement by the film thickness measuring means. An opening width adjusting means for adjusting the opening width of the discharge port based on the result, and a coating apparatus.
面に形成されたガイドと、 上記ガイドに沿って移動可能に設けられ、上記膜厚測定
手段が有する測定ヘッドを支持する移動体と、 上記移動体を上記ガイドに沿って移動させる移動体駆動
手段と、をさらに備えたことを特徴とする塗布装置。2. The coating apparatus according to claim 1, wherein the guide is formed on the outer surface of the coating liquid supply means along the longitudinal direction of the discharge port, and the guide is movable along the guide. A coating device further comprising: a moving body that supports a measuring head of the film thickness measuring means; and a moving body driving means that moves the moving body along the guide.
って、 上記吐出口は対向方向に変位可能な対向壁により形成さ
れ、 上記開口幅調節手段は上記対向壁に変位力を与えて、上
記吐出口の開口幅を調節することを特徴とする塗布装
置。3. The coating apparatus according to claim 1, wherein the discharge port is formed by a facing wall that is displaceable in a facing direction, and the opening width adjusting means applies a displacement force to the facing wall. A coating device, wherein the opening width of the discharge port is adjusted.
数の区画部に対応させて上記塗布液供給手段に設けら
れ、 上記区画部に対応する塗布膜厚の測定結果に基づいて、
上記区画部ごとに開口幅を調節することを特徴とする塗
布装置。4. The coating apparatus according to claim 3, wherein the opening width adjusting means is provided in the coating liquid supplying means in correspondence with a plurality of partition portions along the longitudinal direction of the discharge port, Based on the measurement result of the coating film thickness corresponding to the division,
An applicator characterized in that the opening width is adjusted for each of the compartments.
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