JPH09267464A - レーザーダイレクト製版用平版刷版材およびそれを用いる印刷方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 現像処理工程の不要なレーザーダイレクト製
版用平版刷版材の提供。 【解決手段】 親水化処理または撥インキ化処理を施し
た金属表面を有する支持体の処理表面にパルス発振レー
ザーを照射することにより、照射された表面がインキ付
着性となることを特徴とするレーザーダイレクト製版用
平版刷版材。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、親水化処理または撥イ
ンキ化処理を施した金属表面を有する支持体の処理表面
にパルス発振レーザーを照射することにより、照射され
た表面がインキ付着性となることを特徴とするレーザー
ダイレクト製版用平版刷版材およびそれを用いた印刷方
法に関する。本発明の製版方法はオフセット印刷版を製
版するときに使用されるものであって、一般商業印刷、
新聞印刷、包装材印刷など従来のオフセット印刷市場で
利用できる。

【０００２】

【従来の技術】印刷方式には、凸版印刷、オフセット印
刷が主体である平版印刷、グラビア印刷に代表される凹
版印刷、およびスクリーン印刷に大別される。このうち
オフセット印刷は全印刷産業中で８０％をシェアーを占
めており、今後も需要の増加が期待されている。

【０００３】オフセット印刷は、大部数の印刷が可能で
あり、有用である。ところが、オフセット印刷の領域で
は、技術革新は必ずしも速くない。オフセット印刷では
アルミ板上に感光乳剤を塗工した刷版(ＰＳ版と称する)
を使用する従来の製版方法が主流である。この製版方法
は水銀灯から発生する活性光線を製版用写真ネガチブを
通してＰＳ版面へ露光した後、現像液で非露光部あるい
は露光部の感光乳剤を除去、即ち現像し、印刷用画線を
形成させ、印刷物生産に供するための刷版を製作する。
数年来、製版コストの低減化、製版時間の短縮、現像廃
液の処理負担の軽減化など印刷業界の抱えている問題点
に対処することを目的に、コンピューターからの画像情
報を直接版材へ書き込むコンピュータ・トウ・プレート
システムが提案されている。ところが、上述の現行製版
方法からコンピュータ・トウ・プレートシステムへの変
換は遅れている。

【０００４】コンピュータ・トウ・プレートシステムへ
の変換を加速するための要件としては、(１)コンピュー
タ内に記録された印刷画像情報が刷版上に直接再現でき
ること、(２)得られた刷版はＰＳ版と同等もしくはそれ
を上回る印刷適性、耐刷性をもつこと、(３)現像工程で
廃液が発生しないこと、(４)労働衛生、自然環境保全が
確保できるものであること、(５)従来の生産工程の大幅
な変更が必要でないこと、(６)既存の印刷機械、付属設
備が使用でき、新規設備投資が少額であること、などで
ある。現在このような要件を満足させるコンピュータ・
トウ・プレートシステムは発表されていない。

【０００５】上述の要件を満足し、しかも現像処理工程
が不要な平版印刷板がいくつか提案されている。

【０００６】例えば、親油性又は親水性に処理されたプ
レート上にインクジェット方式により熱可塑性樹脂を付
着させたものが提案されている。しかしこのものは印刷
物に連続諧調を形成するだけ十分小さなインキ小滴を形
成する事が出来ない。すなわちインクジェット方式にお
ける機械上の改良では、解像度の十分なものが得られて
いないのが現状である。

【０００７】また、火花放電技術を用いて湿式、又は乾
式のオフセット印刷版を製版するものがある(特開平４
−３１２８９０号)。このものは電極と導電性をもつ板
上との間を一定間隔にたもって火花放電をおこさせる必
要があり、一定間隔を保つ制御技術が必要である。ま
た、放電される一つ一つの円形の点には広がりがあり、
点が重なることがある。この挙動は焼け過ぎ(オーバー
ラン)とよばれており、材料面での工夫が必要になって
くる。その例として特表平４−５０１８３３号がある。
また、放電される版表面が導電性でない場合、版表面も
破壊する必要があり、また電界は版表面または媒質中に
よって起こる変化のためにゆがめられて、不規則な火花
放電経路をたどる。したがって、火花放電技術では所望
の点を得る事がむずかしい。

【０００８】更に、赤外線レーザーを用いて湿式、又は
乾式のオフセット印刷版を製版するものがある。比較的
安価なレーザー設備で効果的なイメージングを付与する
事が出来る(特開平６−１８６７５０号及び特開平６−
１９９０６４号)。しかし、赤外線吸収層が熱により溶
融除去された後、版表面上にある他の層を溶剤などのし
かるべき方法で除去する必要がある。溶剤を使用する
為、湿式現像になり、かつ取り除くための時間がかか
る。これを防ぐために熱により分解し揮発するものをも
ちいることが考えられるが、分解物が多く、環境上の心
配や、十分に取り除くために非常に強い出力を有する高
出力のレーザーが必要になってくる。また取扱いを考え
ると赤外線レーザー光は無色で目に見えないために安全
を考慮する必要がある。また、最上部に撥インキ化層を
有し、その下にチタン金属層を有する支持体に近赤外領
域(７００〜１５００nm)の赤外線レーザーを照射する湿
式、又は乾式のオフセット印刷版を提供するものがある
(特開平７−３１４９３４号)。これは赤外線レーザー照
射によりチタン金属層に赤外線を吸収させチタンをアブ
レーションさせ、さらに最上部の撥インキ化層を弱体化
させ、容易に除去される状態になった後、最上部を洗浄
工程で除去する必要があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、低い電力レ
ベルから中位の電力レベルで動作する、小型で、比較的
安価なパルスレーザー設備を用いて、迅速で効果的に作
成できる現像処理工程不要の平版刷版材を提供する。こ
の平版刷版材は、コンピュータ・トウ・プレートにおい
て、印刷産業界の技術革新に貢献できるものと考える。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、親水化処理ま
たは撥インキ化処理を施した金属表面を有する支持体の
処理表面にパルス発振レーザーを照射することにより、
照射された表面がインキ付着性となることを特徴とする
レーザーダイレクト製版用平版刷版材を提供する。

【００１１】また本発明は、上述する版材にパルスレー
ザー光を画像に応じて照射し、次いで平版印刷インキを
版材の照射部位上に付着させ、印刷を行うオフセット印
刷方法を提供する。

【００１２】本発明は、印刷コストの低減、製版時間の
短縮、製版環境の汚染の防止などの効果をもたらすもの
である。

【００１３】本発明の平版印刷方法では、親水化処理の
場合と撥インキ化処理の場合とでは、その原理が異な
る。親水化処理を施した場合には、パルス発振レーザー
を照射した部分は親水性が失われると共にインキ付着性
になり、レーザーが照射されない部分は親水性が保持さ
れる。印刷時には、まず水を印刷材に供給して、親水性
部分に水が保持されるが、インキ付着性部分には水がほ
とんど保持されない。そこに油性インキを供給すると、
インキ付着性部分にのみインキが存在して、印刷が可能
となる。この方法を一般的に湿式印刷方法といい、使用
する版材をコンベンショナル平版という。予め水を供給
するのは、水が無い場合、親水性部分にもインキが残る
からである。撥インキ化処理の場合、パルス発振レーザ
ーを照射した部分は撥インキ性がなくなると共にインキ
付着性になり、印刷が可能となる。この場合は撥インキ
化処理層は高い撥インキ性を有しているので、水などの
供給は不要である。この方式は乾式印刷方式で、使用す
る版材は水なし平版という。

【００１４】親水化処理は親水性物質を塗布することに
より行われ、親水性物質としては無機系のものおよび有
機のもののいずれであってもよく、例えば、ポリビニル
ホスホン酸、ポリビニルスルホン酸、アルカリ金属シリ
ケート、有機ポリ酸(例えば、ポリアクリル酸、ポリメ
タクリル酸、ポリマレイン酸など)、水溶性金属塩(例え
ば、酢酸亜鉛など)を含む親水性セルロース(例えば、カ
ルボキシメチルセルロースなど)、ポリアクリルアミ
ド、トリヒドロキシベンザルカルボン酸、リンタングス
テン酸、ポリビニルアルコールと水溶性コロイド(例え
ば、アラビア・ゴム、カルボキシメチルセルロース、デ
キストリンなど)の混合物、リン酸エステルポリマー、
フッ化ジルコン酸塩等が挙げられる。特に、ポリビニル
ホスホン酸、ポリビニルスルホン酸およびアルカリ金属
シリケートが好ましい。上記親水性物質の溶液(例え
ば、水溶液)を通常の方法で塗布することにより行われ
る。親水性物質が金属表面に化学的に付着する場合は塗
布後水洗してもかまわない。親水化処理により水との接
触角が２０度、好ましくは１０度以下になるようにする
のが好適である。水との接触角が２０度を越えると、オ
フセット印刷が難しくなる傾向がある。

【００１５】撥インキ化処理はフッ素樹脂やシリコーン
等の撥水撥油物質の塗布により行われる。撥インキ化処
理は撥水撥油化処理とも考えられる。フッ素樹脂として
は、ポリトリフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエ
チレン、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロ
ピレンを共重合させた物、パーフルオロアルキル基(Ｃn
Ｆ_2n+1-)を有する不飽和化合物の単独重合体及び他の重
合可能な不飽和化物との共重合体などが挙げられる。シ
リコーンとしては、シリコーンゴムが好ましく、ベース
ポリマーの線状ジオルガノポリシロキサンを部分的に架
橋させることによって得られる。例えば、シラノール基
末端ポリジメチルシロキサンと多官能シランとの縮合型
シリコーンゴム、シラノール基末端ポリジメチルシロキ
サンおよびポリメチルヒドロシロキサンと多官能シラン
との縮合型シリコーンゴム、ビニルジメチル末端ポリジ
メチルシロキサンとポリメチルヒドロシロキサンとの付
加型シリコーンゴムなどが挙げられる。これらの樹脂は
通常適当な溶剤に溶解した後、塗布される。好適なコー
ティング材料の一つとしては商品名ＳＲＸ−２９０（東
レ・ダウコーニング・シリコーン社製）と商品名ＳＲＸ
−２４２ＡＣ(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)
からなるシリコーン硬化剥離材がある。

【００１６】上記親水化処理または撥インキ化処理は金
属表面を有する支持体の金属表面に行われる。「金属表
面を有する支持体」とは非金属の支持体上に金属を蒸着
またはその他の方法で被着したもののみならず、支持体
全体が金属である金属プレート等も含む概念である。金
属表面は酸化された金属であってもよい。金属としては
アルミニウム、亜鉛、クロム、ステンレス、銅、スズ、
ニッケル等が挙げられる。金属表面は親水化処理層や撥
インキ化処理層との定着性を高めるために、粗面化処
理、陽極酸化またはプラズマ処理を行ってもよい。非金
属支持体の例としては、プラスチック(例えば、ポリエ
チレンテレフタレートやポリプロピレン)や紙が挙げら
れる。

【００１７】上記のような親水化処理または撥インキ化
処理表面を有する金属表面を有する支持体の処理表面に
パルスレーザーを照射すると、照射された表面はインキ
付着性に変化する。照射された表面の変化がどのように
なってインキ付着性になるかその理由は明かではない
が、パルス発振レーザーにより高エネルギーが瞬時に与
えられたとき、支持体表面に急速に高熱が発生し表面の
親水性物質あるいは撥インキ性物質を化学的に変化させ
たり、アブレーションにより除去されたり、アブレーシ
ョンにより露出した金属面が酸化されることなどが考え
られる。レーザーの照射エネルギー密度を低くするため
には親水化処理層または撥インキ化処理層はその性能を
有する薄い層であればよい。

【００１８】従来技術における近赤外レーザー光を照射
する方法では、近赤外領域の(７００〜１５００nm)レー
ザー光を照射することにより赤外吸収層をアブレーショ
ンし、撥インキ化層を後工程の洗浄により取り除く必要
がある。本発明は、パルス発振レーザー光を照射するだ
けで、後工程を必要とせず、インキ付着性を付与するこ
とが可能となる利点がある。従来技術には、赤外線吸収
層としてチタン金属層を有するものがあるが、本発明は
金属を特に限定しない。しかし、本発明の親水化処理層
または撥インキ化処理層に接する好ましい金属としては
アルミニウム、亜鉛、クロム、ステンレス、銅、スズ、
ニッケルがあげられる。

【００１９】本発明では、現像工程不要の刷版材を形成
するために、パルス発振レーザーをもちいる。パルス発
振レーザーは、波長１９３〜１５００nmの範囲内で使用
可能で、波長選択性がない。すなわち、処理された金属
面がパルス発振レーザーにより高エネルギーが与えら
れ、発生する熱によって照射前の性質とは異なる表面が
得られるとも考えられる。特に好ましいパルス発振レー
ザーの条件は、波長１９３〜７００nm、発振時間が５〜
５０ナノ秒で、パルス周波数１０Ｈzでは２６６nmの出
力が１０〜５０mＷ、パルス周波数５０Ｈzでは２６６nm
の出力が５０〜１００mＷ、パルス周波数１００Ｈzでは
２６６nmの出力が０.１〜１Ｗおよび１ＫＨzでは２６６
nmの出力が１〜１０Ｗである。発振時間が上記の範囲で
あれば１パルスのピークエネルギーは大きく、表面を変
化させるのに十分なエネルギーがえられる。レーザー波
長の増大と共に、必要とする出力も増加する。例えば、
パルス周波数１０Ｈzでは３５５nmの出力が２０〜５０m
Ｗ、５５３nmの出力が５０〜１００mＷ、１０６５nmの
出力が７５〜１５０mＷであることが好ましい。

【００２０】またパルスであるために出力としては上記
の範囲のレベルでよく、この範囲であればレーザー光源
も小さく、かつ安価である。波長として７００〜１５０
０nmの赤外レーザーを使用することも可能であるが、１
９３〜７００nmに比べると、レーザー光が目視できない
ため取扱い上あるいは安全性の面での問題がある。ま
た、赤外レーザーの場合、使用する量も大きく、かつエ
ネルギーの損失も大きくなる。

【００２１】使用可能なパルス発振レーザーとしては、
Ｎd:ＹＡＧレーザー、エキシマレーザー、チタン−サフ
ァイアーレーザー、窒素ガスレーザー、銅ガスレーザ
ー、ガリウム−砒素半導体レーザーがある。メインテナ
ンスの容易さ、汎用性、運転コストからみてガスレーザ
ーよりも、固体レーザーの方が好ましい。

【００２２】親水化処理または撥インキ化処理によって
できる層は薄い程良い。なぜならば、パルス発振レーザ
ーで照射されるエネルギーは少なくてすむ。

【００２３】版材表面への画像形成は具体的には、レー
ザー光を印刷画像情報に応答させて版材表面に走査露光
することによって行うのが好ましい。この場合、画像情
報がコンピューターに入力されており、その情報に基づ
いて、走査露光する。

【００２４】版材表面に画像を形成する他の方法とし
て、画像に応じて加工したマスクを版材に重ねて、その
上からレーザー光を照射する方法がある。マスクとして
は、印刷用写真ネガチブ及び金属マスクなどが用いられ
る。

【００２５】

【実施例】以下の実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。尚、特に断
らない限り、「部」は重量基準である。また、版材の走査
露光方法は版材を移動テーブルにて、１cm/secの速度で
動かして行い、実施例に示した実験では、パルスレーザ
ーのパルス周波数は１０Hzとした。

【００２６】実施例１ 表面を粗面化し、陽極酸化されたアルミ支持体にポリビ
ニルホスホン酸の２％水−メタノール混合溶液(水／メ
タノール＝１／３)をバーコーター＃１０で塗布し、８
０℃で４分乾燥した。その板を１分間水洗して余分のポ
リビニルホスホン酸を除去し、８０℃で５分乾燥した。
Ｎd：ＹＡＧレーザー(第４同期モード ２６６nm、スペ
クトラ・フィジックス(Spectra Physics)社製、クワン
タ・レイ(Quanta-Ray)ＧＣＲ−４)を用いて光源強度１
５mＷ、エネルギー密度１５０mJ/cm²、パルス幅１５nse
cでこの板を走査露光した。湿し水として水道水／酸性
エッチ液(商品名：ＥＵー３、富士写真フィルム社製)／
ＩＰＡ(イソプロパノール)＝１６５０／１６.７／１８
５.３を使用し、インキとして藍インキ（商品名：New C
hampion F Gloss 59藍、大日本インキ社製)を使用し、
オフセット印刷機(商品名：ハマダスター700CDX、ハマ
ダ印刷機社製)で印刷を行った。印刷品質及び評価は表
１に示した。

【００２７】実施例２ 表面を粗面化し、陽極酸化されたアルミ支持体にポリビ
ニルホスホン酸の２％水−メタノール混合溶液(水／メ
タノール＝１／３)をバーコーター＃１０で塗布し、８
０℃で４分乾燥した。その板を１分間水洗して余分のポ
リビニルホスホン酸を除去し８０℃で５分乾燥した。Ｎ
d:ＹＡＧレーザー(第３同期モード ３５５nm、スペク
トラ・フィジックス(Spectra Physics)社製、クワンタ
・レイ(Quanta-Ray)ＧＣＲ−４)を用いて光源強度１７m
Ｗ、エネルギー密度１７０mJ/cm²、パルス幅１５nsecで
この板を走査露光した。この版を実施例１と同様にして
印刷を行った。印刷品質及び評価は表１に示した。

【００２８】実施例３ 表面を粗面化し、陽極酸化されたアルミ支持体にポリビ
ニルホスホン酸の２％水−メタノール混合溶液(水／メ
タノール＝１／３)をバーコーター＃１０で塗布し、８
０℃で４分乾燥した。その板を１分間水洗して余分のポ
リビニルホスホン酸を除去し、８０℃で５分乾燥した。
Ｎd:ＹＡＧレーザー(第２同期モード ５３３nm、スペ
クトラ・フィジックス(Spectra Physics)社製、クワン
タ・レイ(Quanta-Ray)ＧＣＲ−４)を用いて光源強度３
５mＷ、エネルギー密度３５０mJ/cm²、パルス幅１５nse
cでこの板を走査露光した。この版を実施例１と同様に
して印刷を行った。印刷品質及び評価は表１に示した。

【００２９】実施例４ 表面を粗面化し、陽極酸化されたアルミ支持体にポリビ
ニルホスホン酸の２％水−メタノール混合溶液(水／メ
タノール＝１／３)をバーコーター＃１０で塗布し、８
０℃で４分乾燥した。その板を１分間水洗して余分のポ
リビニルホスホン酸を除去し８０℃で５分乾燥した。Ｎ
d:ＹＡＧレーザー(発振波長 １０６５nm、スペクトラ・
フィジックス(Spectra Physics)社製、クワンタ・レイ
(Quanta-Ray)ＧＣＲ−４)を用いて光源強度７５mＷ、エ
ネルギー密度７５０mJ/cm²、パルス幅１５nsecでこの板
を走査露光した。レーザー光が照射された部分はインキ
付着性が悪かった。また照射部と非照射部の境目がシャ
ープでなかった。この版を実施例１と同様にして印刷を
行った。印刷品質及び評価は表１に示した。

【００３０】実施例５ 表面を粗面化し、陽極酸化されたアルミ支持体にポリビ
ニルホスホン酸の２％水−メタノール混合溶液(水／メ
タノール＝１／３)をバーコーター＃１０で塗布し、８
０℃で４分乾燥した。その板を１分間水洗して余分のポ
リビニルホスホン酸を除去し８０℃で５分乾燥した。Ａ
ｒＦレーザー(発振波長 １９３nm、ラムダ・フィジッ
ク(Lambda Physik)社製)を用いて光源強度１５mＷ、エ
ネルギー密度１５０mJ/cm²、パルス幅１５nsecでこの板
を走査露光した。この版を実施例１と同様にして印刷を
行った。印刷品質及び評価は表１に示した。

【００３１】実施例６ 表面を粗面化し、陽極酸化されたアルミ支持体を２号珪
酸ソーダの３％水溶液に８０℃で１分間浸積し、水洗し
て余分の珪酸ソーダをおとした後、８０℃で５分乾燥し
た。Ｎd:ＹＡＧレーザー(第４同期モード ２６６nm、
スペクトラ・フィジックス(Spectra Physics)社製、ク
ワンタ・レイ(Quanta-Ray)ＧＣＲ−４)を用いて光源強
度１５mＷ、エネルギー密度１５０mJ/cm²、パルス幅１
５nsecでこの板を走査露光した。この版を実施例１と同
様にして印刷を行った。印刷品質及び評価は表１に示し
た。

【００３２】実施例７ 表面を粗面化し、陽極酸化されたアルミ支持体にポリビ
ニルスルホン酸の２％水−メタノール混合溶液(水／メ
タノール＝１／３)をバーコーター＃１０で塗布し、８
０℃で４分乾燥した。その板を１分間水洗して余分のポ
リビニルスルホン酸を除去し８０℃で５分乾燥した。Ｎ
d：ＹＡＧレーザー(第４同期モード ２６６nm、スペク
トラ・フィジックス(Spectra Physics)社製、クワンタ
・レイ(Quanta-Ray)ＧＣＲ−４)を用いて光源強度１５m
Ｗ、エネルギー密度１５０mJ/cm²、パルス幅１５nsecで
この板を走査露光した。この版を実施例１と同様にして
印刷を行った。印刷品質及び評価は表１に示した。

【００３３】実施例８ 亜鉛メッキ表面をもつ鉄支持体にポリビニルホスホン酸
の２％水−メタノール混合溶液(水／メタノール＝１／
３)をバーコーター＃１０で塗布し、８０℃で４分乾燥
した。その板を１分間水洗して余分のポリビニルホスホ
ン酸を除去し８０℃で５分乾燥した。Ｎd:ＹＡＧレーザ
ー(第４同期モード ２６６nm、スペクトラ・フィジック
ス(Spectra Physics)社製、クワンタ・レイ(Quanta-Ra
y)ＧＣＲ−４)を用いて光源強度１５mＷ、エネルギー密
度１５０mJ/cm²、パルス幅１５nsecでこの板を走査露光
した。この版を実施例１と同様にして印刷を行った。印
刷品質及び評価は表１に示した。

【００３４】実施例９ ステンレス支持体にポリビニルホスホン酸の２％水−メ
タノール混合溶液(水／メタノール＝１／３)をバーコー
ター＃１０で塗布し、８０℃で４分乾燥した。その板を
１分間水洗して余分のポリビニルホスホン酸を除去し８
０℃で５分乾燥した。Ｎd:ＹＡＧレーザー(第４同期モ
ード ２６６nm、スペクトラ・フィジックス(Spectra Ph
ysics)社製、クワンタ・レイ(Quanta-Ray)ＧＣＲ−４)
を用いて光源強度１５mＷ、エネルギー密度１５０mJ/cm
²、パルス幅１５nsecでこの板を走査露光した。この版
を実施例１と同様にして印刷を行った。印刷品質及び評
価は表１に示した。

【００３５】実施例１０ クロムメッキ表面をもつ鉄支持体にポリビニルホスホン
酸の２％水−メタノール混合溶液(水／メタノール＝１
／３)をバーコーター＃１０で塗布し、８０℃で４分乾
燥した。その板を１分間水洗して余分のポリビニルホス
ホン酸を除去し８０℃で５分乾燥した。Ｎd:ＹＡＧレー
ザー(第４同期モード ２６６nm、スペクトラ・フィジッ
クス(Spectra Physics)社製、クワンタ・レイ(Quanta-R
ay)ＧＣＲ−４)を用いて光源強度１５mＷ、エネルギー
密度１５０mJ/cm²、パルス幅１５nsecでこの板を走査露
光した。この版を実施例１と同様にして印刷を行った。
印刷品質及び評価は表１に示した。

【００３６】実施例１１ 表面が平坦なアルミ支持体に次の配合を シリコーン SRX-290 （東レ・タ゛ウコーニンク゛・シリコーン社製） ：100 触媒 SRX-242AC（東レ・タ゛ウコーニンク゛・シリコーン社製） ： 5 シランカッフ゜リンク゛剤 SZ6020（東レ・タ゛ウコーニンク゛・シリコーン社製）： 0.09 トルエン ：494.91 バーコーター＃７で塗布し、１３０℃で２０秒間乾燥し
た。Ｎd：ＹＡＧレーザー(第４同期モード ２６６nm、
スペクトラ・フィジックス(Spectra Physics)社製、ク
ワンタ・レイ(Quanta-Ray)ＧＣＲ−４)を用いて光源強
度２０mＷ、エネルギー密度２００mJ/cm²、パルス幅１
５nsecでこの板を走査露光した。インキとして水無し平
版用黒インキ(商品名：ドライ オ カラー アーティス
墨、大日本インキ社製)を使用し、オフセット印刷機(商
品名：ハマダスター700CDX、ハマダ印刷機社製)で湿し
水を用いずに印刷を行った。印刷品質及び評価は表１に
示した。

【００３７】実施例１２ 表面が平坦なポリエステルフィルムに次の配合を ホ゜リエステル接着剤 ハイホ゛ン7031L（日立化成ホ゜リマー社製） ：40 硬化剤 タケネートD-101（武田薬品工業社製） ： 2 シ゛フ゛チル錫シ゛ラウレート ： 0.4 酢酸エチル ：57.6 バーコーター＃７で塗布し、９０℃で５分乾燥した。そ
の上にアルミを300オンク゛ストローム蒸着した後、つぎの配合を シリコーン SRX-290 （東レ・タ゛ウコーニンク゛・シリコーン社製） ：100 触媒 SRX-242AC（東レ・タ゛ウコーニンク゛・シリコーン社製） ： 5 シランカッフ゜リンク゛剤 SZ6020（東レ・タ゛ウコーニンク゛・シリコーン社製）： 0.09 トルエン ：494.91 バーコーター＃７で塗布し、１３０℃で２０秒間乾燥し
た。Ｎd：ＹＡＧレーザー(第４同期モード ２６６nm、
スペクトラ・フィジックス(Spectra Physics)社製、ク
ワンタ・レイ(Quanta-Ray)ＧＣＲ−４)を用いて光源強
度３０mＷ、エネルギー密度３００mJ/cm²、パルス幅１
５nsecでこの板を走査露光した。この版を実施例１１と
同様にして印刷を行った。印刷品質及び評価は表１に示
した。

【００３８】

【表１】 実施例Ｎｏ． インキ付着性¹⁾ 地汚れ²⁾ 耐刷性³⁾ １ ○ ○ ８ ２ ○ ○ ８ ３ ○ ○ ５ ４ △ ○ ２ ５ ○ ○ ８ ６ ○ ○ ７ ７ ○ ○ ２ ８ ○ ○ １ ９ ○ ○ １ １０ ○ ○ ３ １１ △〜○ ○ ０.５ １２ △〜○ ○ ０.５ １)レーザー光で照射された部分がインキで付着されたの度合いを目視で調べ た。 ○・・・全面付着 △・・・一部付着 ×・・・付着せず ２)印刷時の地汚れの有無を目視評価した。 ○・・・地汚れなし ×・・・地汚れあり ３)印刷可能部数を表し、数字単位は「万枚」である。 また、実施例１と４に示されているように、ポリビニル
ホスホン酸処理をしたアルミ板にパルスレーザーを照射
した場合、エネルギー密度の高い赤外レーザー光(１０
６５nm)を照射する実施例４よりもエネルギー密度の低
い紫外レーザー光(２６６nm)を照射した実施例１の方が
照射部位のインキ付着性が高いことがうらずけられた。
また、インキのついたあとを観察すると紫外レーザー光
を照射した方が照射部位と非照射部位との境目のシャー
プ差がはっきりしていた。すなわち画像の解像度が高い
ことが言える。

【００３９】また、アルミ板表面の照射前後のＥＳＣＡ
測定を行ったところ、紫外レーザー光(２６６nm)照射で
は照射前後でＰのピーク強度は減少し、ＰおよびＡ１の
２p電子ピーク値は共に酸化により高い値にシフトする
が、赤外レーザー光(１０６５nm)照射ではこれらの電子
結合エネルギーの値にあまり大きな変化はなかった。な
お、ＥＳＣＡの測定はＸ線源としてＡI Ｋα線を照射し
てＰの２ｐ軌道のピーク値、およびＡlの２ｐ軌道のピ
ーク値を調べた。

【００４０】

【発明の効果】印刷業界では印刷産業の近代化の一環と
して、製版工程の合理化、コスト低減、写真ネガフイル
ム保管量の低減などが望まれている。本発明は、この要
求を満足させるために工夫されたものであって、親水化
処理または撥インキ化処理を施した金属表面を有する支
持体表面にパルス発振レーザーを照射することにより、
照射された表面がインキ付着性となることを特徴とする
レーザーダイレクト製版用平版刷版材を提供することで
ある。すなわち、現像処理工程を必要としない刷版を提
供できることであって、印刷産業の発展に大いに役立つ
ものである。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 親水化処理または撥インキ化処理を施し
   た金属表面を有する支持体の処理表面にパルス発振レー
   ザーを照射することにより、照射された表面がインキ付
   着性となることを特徴とするレーザーダイレクト製版用
   平版刷版材。
2. 【請求項２】 パルス発振レーザーが、Ｎd:ＹＡＧレー
   ザー、エキシマレーザー、チタン−サファイアーレーザ
   ー、窒素ガスレーザー、銅ガスレーザー、ガリウム−砒
   素半導体レーザーである請求項１記載の平版刷版材。
3. 【請求項３】 パルス発振レーザーが波長１９３〜７０
   ０nmの範囲を有する請求項１記載の平版刷版材。
4. 【請求項４】 親水化処理を施した前記支持体表面と水
   との接触角が１０度以下であることを特徴とする請求項
   １記載の平版刷版材。
5. 【請求項５】 親水化処理がポリビニルホスホン酸処
   理、ポリビニルスルホン酸処理またはシリケート処理で
   ある請求項１記載の平版刷版材。
6. 【請求項６】 撥インキ化処理がシリコーンまたはフル
   オロポリマーを塗布することにより行われる請求項１記
   載の平版刷版材。
7. 【請求項７】 金属表面がアルミニウム、亜鉛、クロ
   ム、ステンレス、銅、スズまたはニッケルである請求項
   １記載の平版刷版材。
8. 【請求項８】 金属表面を有する支持体がアルミニウム
   板またはアルミニウム合金板である請求項１記載の平版
   刷版材。
9. 【請求項９】 金属表面を有する支持体がアルミニウム
   金属表面をもつプラスチックフィルムあるいは紙である
   請求項１記載の平版刷版材。
10. 【請求項１０】 a)親水化処理または撥インキ化処理を
    施した金属表面を有する支持体を提供する工程； b)該支持体の処理表面を、パルス発振レーザー光で画像
    に応じて照射することにより、照射部分をインキ付着性
    にする工程；及び c)平版印刷用インキを支持体の処理表面に付与して印刷
    する工程；を含有するオフセット印刷方法。