JPH09267096A

JPH09267096A - オゾンを用いた水処理装置

Info

Publication number: JPH09267096A
Application number: JP7862496A
Authority: JP
Inventors: Takayuki Morioka; 崇行森岡; Yasuhiro Kato; 康弘加藤; Ryutaro Takahashi; 龍太郎高橋; Takeo Shigeniwa; 竹生茂庭; Mitsumasa Okada; 光正岡田
Original assignee: Fuji Electric Co Ltd
Current assignee: Fuji Electric Co Ltd
Priority date: 1996-04-01
Filing date: 1996-04-01
Publication date: 1997-10-14

Abstract

(57)【要約】【課題】上水、下水、産業排水、プールなどの分野で、
水中の有機物の酸化分解、殺菌、脱臭等の処理のために
現在盛んに導入されつつある、オゾン利用水処理装置に
おいて、除去すべき物質の処理性能、特にトリハロメタ
ン前駆物質など難分解性物質の処理性能を向上させる。【解決手段】高濃度オゾン発生器とＤＵＴやＳＶＩ−Ｄ
Ｔなどの下方注入式反応槽とを用いたオゾン利用水処理
装置において、オゾン注入の下降管の下部には紫外線照
射装置を、また下降管の下部付近には反応触媒注入口を
設けて、オゾンの注入とともに、紫外線照射装置からの
紫外線照射と、反応触媒注入口からのＥＤＴＡ、ＥＤＤ
Ａ、または過酸化水素の注入とを組み合わせることによ
り、オゾンと紫外線や他の酸化剤や触媒の作用で生成す
る、極めて強い酸化剤のＯＨラジカルを反応させて、難
分解性物質を酸化し、除去率を向上させた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、オゾンの持つ強
力な酸化力を利用して、水中の有機物の酸化分解、殺
菌、脱臭等の処理を行うオゾンを用いた水処理装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】オゾンを用いた水処理装置が、上水、下
水、産業排水、プールなどの広範囲な分野で、現在盛ん
に導入されつつある。これはオゾンの持つ強い酸化作用
及び不飽和結合（二重結合、三重結合）に特異的に作用
するという特性を、水処理の分野で有効に利用するため
で、上水処理の分野では主に異臭味物質と言われるジメ
チルイソボルネオール（２ＭＩＢ）やジェオスミンの除
去に、下水処理の分野では再利用を目的とした高度な殺
菌や脱色に、産業排水処理の分野では染色排水の脱色や
顔料工程からの排水の脱色に、またプールでは殺菌に適
用されている。

【０００３】オゾンを用いた水処理では、オゾンガスを
水へ溶解させると同時に反応を行わせるために、オゾン
反応槽を設置する。図１（ａ）には、その代表的な例と
して、向流３段式の横流式接触池を示す。ここでは、オ
ゾン反応槽が底部から気泡でオゾンを注入する槽が３槽
という構成になっているが、もちろん１槽であっても良
い。オゾン反応槽の接触槽３の底部には散気装置５が置
かれ、通常は６０μｍ程度の細孔をもつセラミック製の
散気管から構成されるこの散気装置５によって、オゾン
ガスが処理するための原水に注入される。この際に、オ
ゾンガスは散気装置５を通過することによって小さな気
泡６となり原水へ溶け込むが、この現象は、言い換える
と、気泡の表面から原水へオゾンの『ガスから水』（気
相から液相）への物質移動が生じたことであり、その後
この液相のオゾンが除去すべき物質と反応して、処理の
目的を達成するものである。

【０００４】従って、オゾンを用いた水処理では、ガス
状態のオゾンを水へ溶解させることが処理の第一歩であ
るが、実際には全てのオゾンを水へ溶解できるわけでは
なく、溶解しなかったオゾンガスは排オゾンとして系外
へ排出される。水に吸収されたオゾンの割合を示す指標
として、オゾン吸収率Ｒabs があり、（１）式で示され
る。

【０００５】Ｒabs （％）＝（Ｐ−Ｐe ）／Ｐ・１００ ────── （１）ここで、Ｐ：気相供給オゾン濃度（ｇ／Ｎｍ³）、Ｐe
：気相排オゾン濃度（ｇ／Ｎｍ³）、である。また１
００％からオゾン吸収率Ｒabs を引いた値が、ガスのま
ま排出され処理のためには無駄になったオゾンの割合を
示す。従ってオゾン処理の効率を上げるためには、まず
Ｒabs を大きくすることが必要である。これは接触槽底
部の散気装置からの気泡が原水と接触している時間、す
なわち原水中を通過する時間でより効果的にオゾンを溶
かし込むことであり、そのためには、単位時間での溶解
量、すなわちオゾンの溶解速度を大きくすることが重要
になる。

【０００６】反応槽でのオゾンの溶解（吸収）速度ｒ、
および平衡液相オゾン濃度Ｃ* は、次の（２）、（３）
式で表される。ｒ＝Ｋ_L・ａ・（Ｃ* −Ｃ） ──────────── （２）Ｃ* ＝Ｓ・Ｐ ───────────────── （３）ここで、ｒ：オゾンの溶解（吸収）速度すなわち単位液
相あたりの気相から液相へのオゾンの移動速度（ｇ／ｍ
³ｓｅｃ）、Ｋ_L：総括物質移動係数（ｍ／ｓｅｃ）、
ａ：単位液相あたりの気液接触面積（１／ｍ）、Ｃ* ：
気相オゾン濃度に平衡な液相オゾン濃度（ｇ／Ｎ
ｍ³）、Ｃ：液相オゾン濃度（ｇ／Ｎｍ³）、Ｓ：分配
係数で平衡時の気相オゾン濃度に対する液相オゾン濃度
の比、である。また、Ｎｍ³は標準状態（０℃、１気
圧）における体積を表わす。

【０００７】（２）、（３）式から、オゾンの溶解速度
ｒを大きくするには、高濃度オゾン発生器などを用いて
オゾンガス濃度すなわち気相供給オゾン濃度Ｐを高くす
ることが有効であることがわかる。現状では、従来型の
オゾン発生器で用いられているオゾンガス濃度は２０ｇ
／Ｎｍ³程度がほとんどである。従って、従来型のオゾ
ン発生器では、図１（ａ）に示したような形のオゾン反
応槽と組み合わせて用いられる。

【０００８】しかし、最近はオゾン発生器の性能向上が
著しく、高濃度のオゾンが容易に用いられる状況になっ
てきている。オゾンガス濃度１２０ｇ／Ｎｍ³クラスの
高濃度オゾン発生器と、図１（ａ）のオゾン反応槽とを
組み合わせた処理装置を考えると、同じオゾン注入率で
は、従来型のオゾン発生器の２０ｇ／Ｎｍ³に比べて、
オゾンガス量が１／６に低下するために反応槽内混合状
況の不均一になり短絡流が増加するという問題や、反応
槽底部に設置する散気管の本数が１／６になるために、
均一なオゾンガスの溶解が行われなくなるという問題が
発生する。

【０００９】この問題の解決のために、オゾンガス濃度
が高い場合には図１（ｂ）のような下方注入式反応槽
（以下ＤＵＴ（Ｄｅｅｐ−Ｕ−Ｔｕｂｅ）と記載）が用
いられる。高濃度オゾン発生器とこのＤＵＴとを組み合
わせた処理装置では、ＤＵＴの構造上から、オゾンガス
が細い下降管９に入れるためにオゾンガス量は少ないほ
うがむしろ運転しやすいことや、流れがほぼ押し出し流
であるためガス量によってあまり影響を受けずに短絡流
などの考慮が不要であることなどの利点がある。

【００１０】現在、反応槽にこの下方注入方式を適用す
ることによって、オゾン溶解技術に関して大きな進歩が
見られつつある。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】オゾンによる水処理装
置では、各分野から目的物質の最終的な処理性能をより
良くすることが要望されている。この要望に答えるため
に、オゾンの溶解に関しては、性能が良く更に合理的な
装置を開発をすることが、また元来オゾンとの反応性が
低く難分解性と言われている物質の処理に関しては、除
去率を更に向上させることが、当面の重要な課題とな
る。

【００１２】まず、オゾンの更に有効な溶解という課題
に関しては、本発明では高濃度オゾン発生器を適用でき
て高いオゾン吸収率が得られる反応槽を開発するという
観点から、高濃度オゾン発生器と組み合わせることで大
きな利点のあるＤＵＴの特性の解析により、さらに性能
を向上させた水処理装置を提供することを目的とする。

【００１３】次の課題にあるオゾンの難分解性物質と
は、例えば上水処理の分野では、ＴＨＭ（トリハロメタ
ン）前駆物質（すなわちＴＨＭを生成する有機物）や農
薬などがあてはまる。この難分解性物質の除去率向上と
いう課題に関しては、本発明ではオゾンによる処理と同
時に強力な酸化剤を使用することによって、除去対象物
質の分解性能をあげる方法と装置を提供することを目的
とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】オゾンの更に有効な溶解
に関しては、ＤＵＴや後述するＳＶＩ−ＤＴ反応槽の適
用することでこの問題を解決した。近年、高濃度オゾン
発生器との組合せで、オゾン反応槽としてＤＵＴが着目
されている。ＤＵＴの水深は通常２０〜３０ｍであり、
従来は経験の上からＤＵＴのオゾンの溶解にはこの水深
が大きな作用を持つと言われていた。

【００１５】本発明者らはこのＤＵＴの処理効果を、シ
ミュレーションモデルを用いて解析した。そして解析結
果から、高濃度オゾン発生器を使用する場合には、水深
よりもガスのオゾン濃度のほうが大きく作用して、例え
ば水深６〜１０ｍでも求める性能が得られることを明ら
かにした。（参考文献：加藤康弘他、『シミュレーショ
ンによる下方注入式オゾン反応槽のオゾン吸収特性に関
する研究』、第２回日本オゾン協会年次研究講演会、講
演集、１９９３年３月、ｐｐ．６８〜７１）また、装置
の重要な構成要素である下降管の特性を定量的に解析し
た。その結果から、オゾンガス濃度及びガスの空塔速度
を適切に設計すれば、通常はＤＵＴの全滞留時間のわず
か数％の滞留時間で、ほぼ下降管内でオゾンの溶解が終
了することが判明した。実際、ＤＵＴの下降管は、装置
全体から見ると相対的にはかなり細い管で設計される。
その基本的な理由は、オゾンガスを吹き込んだ場合に発
生する、約３０ｃｍ／秒の気泡の上昇速度を上回る下降
液流速が必要なためであり、その結果として、上述のよ
うな短い滞留時間となる。

【００１６】次に、難分解性物質の除去率向上に関して
は、オゾンによる処理と共に、酸化方法としての紫外
線、または酸化触媒としてのＥＤＴＡ（エチレンジアミ
ン４酢酸）、ＥＤＤＡ（エチレンジアミン２酢酸）、ま
たは酸化剤としての過酸化水素、を併用することで反応
の効率をあげ、この問題を解決した。酸化剤であるオゾ
ンに、さらに別の酸化剤を組み合わせて、難分解性物質
を処理したり、あるいは有機物をガスまで酸化分解した
りする研究は、２０年ほど前から行われており、この方
法は総称して促進酸化プロセス（以下ＡＯＰ（Ａｄｖａ
ｎｃｅｄＯｘｉｄａｔｉｏｎＰｒｏｃｅｓｓ）と記
載）と呼ばれている。この原理は、オゾンと他の酸化剤
や触媒が作用して、極めて強い酸化剤といわれるＯＨラ
ジカル（・ＯＨ）が生成し、これが難分解性物質を酸化
すると言われている。

【００１７】しかし、このような難分解性物質の処理装
置は、まだ工業的に十分実用化されたとは言いにくい。
これは、前述のように、オゾンがガスであり、これが水
へ溶解して反応するという、気液の物質移動が関与する
システムであるので、最適な装置設計が極めて難しかっ
たことが主な原因の一つである。本発明者らは、前述の
ようにＤＵＴの設計条件・運転条件を明らかにしたが、
ＤＵＴにおいてオゾンと他の酸化剤や触媒とを一緒に用
いることが大変有利であることを発見した。ＤＵＴの下
降管の出口付近、すなわち下降管の最下部近辺は、溶存
オゾンがスポット的に最も濃度の高い部分である。物質
の反応速度は濃度の高さに依存しているため、他の酸化
剤、例えば紫外線、過酸化水素や、ＥＤＴＡ、ＥＤＤＡ
などの反応触媒をオゾンに作用させるには好都合であ
る。

【００１８】まず、オゾンと紫外線を併用する場合であ
るが、紫外線を用いるＡＯＰでは、紫外線照射装置（紫
外線ランプ）を下降管の最下部付近にとりつけ、また下
降管の紫外線照射装置設置部分近辺の下降管の円筒状内
壁の材質そのものを、光の高反射材料にするか、または
紫外線照射装置設置部分近辺の下降管の円筒状内壁に光
の高反射材料をコーティングする装置構成としている。

【００１９】これは図２に示すように、下降管９の下部
１０に外側の半径がｒ₁の円筒型の紫外線ランプ１２を
内壁の半径ｒ₂の下降管下部の円筒状内壁１３にいれた
場合、光強度は（ｒ₂−ｒ₁）に反比例して減衰するた
め、ｒ₁が一定であればｒ₂は小さい程、紫外線強度を
強くすることができ、この場所の原水中に多くのＯＨラ
ジカルが生成することが期待できるからである。また、
下降管下部の円筒状内壁の表面の性状も重要で、紫外線
をよく反射して原水に与える光エネルギーを大きくする
ため上記のような材質選定となる。

【００２０】次に、過酸化水素など他の酸化剤を注入す
る場合及びＥＤＴＡなど酸化促進触媒を用いるＡＯＰの
場合であるが、これも紫外線ランプと同じく、溶存オゾ
ンの濃度の最も高い場所に添加するのが最も有利であ
り、従って下降管の最下部付近に注入位置が置かれる。
さらにＤＵＴの下降管の出口付近、すなわち下降管の最
下部近辺に、紫外線照射装置や、他の酸化剤や触媒を添
加する注入口を設置する、もう一つの大きな利点は、処
理装置に与えられた反応時間を最大限利用できることで
ある。上述のようにＤＵＴの下降管での滞留時間は、装
置の全滞留時間の数％しかないので、ここで生成したＯ
Ｈラジカルと目的物質の反応時間は、装置全体の滞留時
間の大部分を利用できることになる。この結果、ＯＨラ
ジカルによってオゾン処理のみの場合よりも除去率が大
幅に向上し、難分解性物質が高効率で除去される。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下に高濃度オゾン発生器とＤＵ
Ｔを用いた反応槽との組合せの場合、および高濃度オゾ
ン発生器とＳＶＩ−ＤＴを用いた反応槽との組合せの場
合の実施例について述べる。図３に本発明の実施例１と
してＤＵＴを用いた場合を示す。ここでは、純酸素ボン
ベ１５からの酸素を使用して、高濃度オゾン発生器１４
からは濃度１２０ｇ／Ｎｍ³のオゾンガスを処理のため
に供給した。このオゾンガス濃度は、気相オゾンガス濃
度計１６の測定によって一定値に調整した。下方注入式
オゾン反応槽１７では、ガス流量計１８によってオゾン
ガス流量を調節してオゾン注入率を決定した。原水１
は、流量計１９の値をもとに、容積型定量ポンプ２０で
流量調整を行った。下降管９の下部には、ＵＶランプ２
１（低圧水銀ランプ、２０〜８０Ｗ）が取り付けてあ
る。本発明では、２６０ｎｍ近辺の波長のものを用いた
が、その他の紫外部領域の波長も、もちろん利用でき
る。下降管のＵＶランプ設置部は、異径管になってお
り、径を大きくすることによって、ＵＶランプ設置によ
り、実効断面積が減少しないような構造にしている。ま
た図示はしていないが、ＵＶランプの上部は、水流に対
して大きな抵抗増加にならないように流線型にしてい
る。ＥＤＴＡなど反応促進触媒及び過酸化水素は、図示
していない薬品タンクから図示していないポンプを通し
て注入口２２から供給する。その他、ＵＶランプ２１用
電源であるＵＶ電源２３や、反応槽１７下部の溶存オゾ
ンのモニターとしての溶存オゾン濃度計２４も設置して
いる。反応槽からの排ガス中に含まれる、微量のオゾン
は、排オゾン処理装置２５で分解した後、大気に排出す
る。

【００２２】下方注入式反応槽１７の高さは６０００ｍ
ｍ、直径は６００ｍｍであり、また下降管上部の直径は
８５ｍｍである。反応槽１７の滞留時間は５分、下降管
の滞留時間は０．１分である。オゾン注入率は、２ｍｇ
／ｌとした。図３の実施例１の場合の、下方注入式オゾ
ン反応槽１７内部の溶存オゾン濃度と反応槽内の行程と
の関係を図４に示す。この図で横軸の滞留時間０．１分
に相当する場所が下降管の出口で、この最深部で溶存オ
ゾンが最も高くなっている。

【００２３】実施例１の装置を使って、上水分野で問題
となっている飲料水の異臭味の原因物質の１つであるジ
オスミン（臭気物質）を、原水に３００ｎｇ／ｌになる
ように添加して行った除去実験の結果を、表１に示す。

【００２４】

【表１】

【００２５】この表１から、オゾン処理のみの場合の除
去率７５％に比べて、オゾンにＵＶ、ＥＤＴＡ、ＥＤＤ
Ａ、過酸化水素を併用した本発明の処理方法では、除去
率が９５％とかなり大きくなることがわかる。また、オ
ゾンにＵＶと薬品とを組み合わせた方法での除去率は、
ほぼ１００％に達しており、酸化剤の効果が明確に認め
られる。

【００２６】次に、実施例１の装置を使って、発明者の
在住地近辺の土壌から抽出したフミン質を原水に添加し
て行った実験の結果を、表２に示す。フミン質は水道原
水に含まれ、上水の処理（浄水処理）過程の最後のプロ
セスである塩素処理でＴＨＭという発ガン性物質を生成
する、いわゆるＴＨＭ前駆物質ということでよく知られ
ている。この前駆物質は、その生成場所、生成起因とな
る有機物などによって、ＴＨＭを生成する能力が異な
り、このＴＨＭを生成する能力をＴＨＭＦＰ（トリハロ
メタン生成能）と呼んでいる。水道原水のＴＨＭＦＰ
は、オゾンによる処理では難分解性である。

【００２７】

【表２】

【００２８】表２の結果に示すように、本実験ではオゾ
ン処理のみでは５５％しか除去できなかった。しかしな
がら、オゾンにＵＶ、ＥＤＴＡ、ＥＤＤＡ、過酸化水素
を併用した本発明の処理方法では、除去率が６０〜７５
％とこれを上回る処理性能を得ることができ、また、オ
ゾンにＵＶと薬品とを組み合わせた方法での除去率は、
７７〜８５％とさらに向上した。

【００２９】また、下降管内部表面の特性であるが、下
降管の材質にアクリルを用いたものとＳＵＳ３０４（表
面を磨いたもの）を用いた場合を比較したところ、５％
程度の処理効果の増加があった。このことから、下降管
内壁の表面が、ＵＶを反射するものであるほうが効果が
大きいことがわかった。本実施例では、ＳＵＳ管を用い
たが、いわゆるＵＶ高反射材料といわれているアルミニ
ウムにＭｇＦ₂を蒸着したものは、波長２６０ｎｍで８
７％程度のＵＶ反射率を持っているので、内壁コーティ
ング材料として用いれば、より効果的である。

【００３０】以下に高濃度オゾン発生器とＤＵＴを用い
た反応槽との組合せの場合、および高濃度オゾン発生器
とＳＶＩ−ＤＴを用いた反応槽との組合せの場合の実施
例について述べる。本発明の実施例２としてＳＶＩ−Ｄ
Ｔを用いた場合を以下に述べる。下降管を持つ反応槽は
ＤＵＴの他にもある。図５にはＳＶＩ−ＤＴ（Ｓｉｄｅ
ＳｔｒｅａｍＶｅｎｔｕｒｉＩｎｊｅｃｔｉｏｎ
ｗｉｔｈＤｏｗｎｆｌｏｗＴｕｂｅ）反応槽の構造
を示した。基本的構造は、図１（ａ）に示した反応槽と
同じであるが、散気装置のかわりに反応槽内に図示した
ような下降管９および側管２６が設置されている。この
下降管によりオゾン発生器２７で発生したオゾンを原水
１に溶解させ、この後、溶解したオゾンと目的物質の反
応分解が進み、処理液２として処理が完了する。

【００３１】図６に本発明の実施例２としてＳＶＩ−Ｄ
Ｔを用いた場合を示す。ここでは、実施例１のＤＵＴを
用いた場合とほぼ同じであり、同じ番号の装置は、同じ
動作をする。異なる点は、ＳＶＩ−ＤＴ反応槽２８の中
には、側管２６が設置されている。原水１は、側管２６
に向かうものと、下降管９（側管に対して主管という場
合がある）に導入されるものとに分かれる。この側管２
６に流れる原水に対して、オゾンガスが注入されるので
あるが、これは、エゼクター２９を用いて行われる。こ
のエゼクターの効果により、オゾンガスは、微細気泡と
なって側管を流れている原水に注入され、下降されるま
でにほぼ溶解する。

【００３２】このＳＶＩ−ＤＴの下降管に本発明を用い
た実施例２で行なったジオスミンの臭気除去実験の結果
は、実施例１の実験結果と同様で、オゾンにＵＶ、ＥＤ
ＴＡ、ＥＤＤＡ、過酸化水素を併用した本発明の処理方
法で、９５％以上の除去率が得られた。

【００３３】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、下
降管の特性を十分に利用してＡＯＰ処理を行うことが可
能となり、オゾンによる分解効果以上の能力を持つＯＨ
ラジカルを有効に生成せしめ、この結果オゾン処理以上
の処理能力が発揮され、難分解物質処理を可能とするも
のである。

【図面の簡単な説明】

【図１】代表的なオゾン反応槽を示す図：（ａ）横流式
接触池（向流３段）、（ｂ）下方注入式反応
槽

【図２】下降管下部に設置した紫外線ランプを示す図

【図３】実施例１：高濃度オゾン発生器とＤＵＴを用い
た反応槽との組合せの場合の模式図

【図４】実施例１の下方注入式オゾン反応槽内部の溶存
オゾン濃度を示す図

【図５】ＳＶＩ−ＤＴを用いた反応槽を示す図

【図６】実施例２：高濃度オゾン発生器とＳＶＩ−ＤＴ
を用いた反応槽との組合せの場合の模式図

【符号の説明】

１原水２処理水３接触槽４滞留槽５散気装置６気泡７オゾン発生器からのオゾンガス８上昇部９下降部（下降管）１０下降管の下部１１紫外線照射装置（紫外線ランプ）１２外側の半径がｒ₁の円筒型の紫外線ランプ１３内壁の半径ｒ₂の下降管下部の円筒状内壁１４高濃度オゾン発生器１５純酸素ボンベ１６気相オゾン濃度計１７下方注入式オゾン反応槽１８ガス流量計１９流量計２０容積型定量ポンプ２１ＵＶランプ２２注入口２３ＵＶランプ用電源２４溶存オゾン濃度計２５排オゾン処理装置２６側管２７オゾン発生器２８ＳＶＩ−ＤＴ反応槽２９エゼクター

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０２Ｆ 1/50 ５４０Ｃ０２Ｆ 1/50 ５４０Ａ５５０５５０Ｂ５６０５６０Ｃ５６０Ｚ 1/72 １０１ 1/72 １０１ (72)発明者茂庭竹生東京都町田市玉川学園２−４−17 (72)発明者岡田光正茨城県稲敷郡茎崎町高見原２−８−５

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下方注入式でオゾンを注入する、オゾンを
用いた水処理装置において、下降部を構成する下降管の
下部に紫外線照射装置を設けたことを特徴とするオゾン
を用いた水処理装置。
【請求項２】下方注入式でオゾンを注入する、オゾンを
用いた水処理装置において、下降部を構成する下降管の
下部、または下降管の出口部分、または上昇部を構成す
る上昇管の入口部分に反応触媒注入口を設けたことを特
徴とするオゾンを用いた水処理装置。
【請求項３】請求項１に記載のオゾンを用いた水処理装
置において、下降部を構成する下降管の下部、または下
降管の出口部分、または上昇部を構成する上昇管の入口
部分に反応触媒注入口を設けたことを特徴とするオゾン
を用いた水処理装置。
【請求項４】請求項１に記載のオゾンを用いた水処理装
置において、下降管材質が光反射材であるか、または下
降管内壁に光反射材を有していることを特徴とする水処
理装置。
【請求項５】請求項１、または請求項２、または請求項
３に記載のオゾンを用いた水処理装置において、適用す
るオゾン濃度が６０〜２００ｇ／Ｎｍ³であることを特
徴とする水処理装置。
【請求項６】請求項２、または請求項３に記載のオゾン
を用いた水処理装置において、反応触媒注入口からＥＤ
ＴＡ、またはＥＤＤＡ、または過酸化水素を注入するこ
とを特徴とするオゾンを用いた水処理装置。