JPH09258155A - Production of liquid crystal display device - Google Patents

Production of liquid crystal display device

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Publication number
JPH09258155A
JPH09258155A JP7158496A JP7158496A JPH09258155A JP H09258155 A JPH09258155 A JP H09258155A JP 7158496 A JP7158496 A JP 7158496A JP 7158496 A JP7158496 A JP 7158496A JP H09258155 A JPH09258155 A JP H09258155A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
display device
crystal display
electrode
manufacturing
Prior art date
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Pending
Application number
JP7158496A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hidetaka Noriyama
英孝 乗山
Takeshi Hojo
武 北条
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP7158496A priority Critical patent/JPH09258155A/en
Publication of JPH09258155A publication Critical patent/JPH09258155A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiency control the light transmittance in a liquid crystal display device to a desired light transmittance by forming the one spot of an energy ray to a specific or smaller spot diameter parting from another spot adjacent in a scanning direction. SOLUTION: A YAG laser is made incident on a counter substrate 301 side from an array substrate 301 in such a manner that its spot diameter (ϕ) of 3μm is focused just before the array substrate 201. The spot diameter (ϕa) on the oriented film 411 on the array substrate 201 side is 5μm and the spot diameter (ϕb) on the oriented film 413 on the counter substrate 301 side is 8μm. From the ends of pixel electrodes 251 to the other ends are scanned in parallel with the end sides of the pixel electrodes 251 along the longitudinal direction of the scanning lines and the scanning direction at the other end is turned back, by which the pixel electrodes are successively scanned and irradiated with the laser approximately in parallel. More specifically, the ends where the scanning is started is set at the positions apart respectively by 7μm in the distance from the opening end sides determined by light shielding layers 311.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置の製造
方法に係り、特に表示画素の光透過率を調節して表示品
位を向上する液晶表示装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device, and more particularly to a method of manufacturing a liquid crystal display device which adjusts the light transmittance of display pixels to improve display quality.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、薄型・軽量・低消費電
力といった特長を生かして多用されている。例えばコン
ピュータ、カー・ナビゲーション・システムあるはテレ
ビ表示システム等の、各種分野でのディスプレイ・デバ
イスとして利用されている。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices are widely used because of their features such as thinness, light weight and low power consumption. For example, it is used as a display device in various fields such as a computer, a car navigation system or a television display system.

【0003】このような液晶表示装置に対して、近年で
は、特に表示画面の大型化あるいは高精細化が要求さ
れ、対角14インチを越える大画面のもの、あるいは 100
μm以下の微細な表示画素ピッチを備えたもの等の研究
・開発が進められている。
In recent years, such a liquid crystal display device is particularly required to have a large display screen or a high definition, and a large screen display having a diagonal size of more than 14 inches or 100
Research and development such as those having a fine display pixel pitch of μm or less are under way.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記の大画面あるいは
高精細な表示画面を備えた液晶表示装置においては、当
然のことながら表示画面内に電圧−光透過率特性が正常
画素と異なる表示画素すなわち欠点画素が発生する割合
が増大するという問題がある。
In a liquid crystal display device having a large screen or a high-definition display screen as described above, it goes without saying that a display pixel having a voltage-light transmittance characteristic different from that of a normal pixel in the display screen, that is, There is a problem that the ratio of defective pixels increases.

【0005】欠点画素の発生率は、液晶表示装置の設計
あるいは製造プロセスを工夫することによりある程度は
低減されるものの、完全に解消するには至っていない。
このため、例えば液晶表示装置の設計に冗長性を持たせ
ることが提案されている。修復機能を付与しておくこと
により、欠点画素を救済することも考えられているが、
各種欠点に対応することができず、十分な修復率は得ら
れないという問題がある。
The occurrence rate of defective pixels has been reduced to some extent by devising the design or manufacturing process of the liquid crystal display device, but has not been completely eliminated.
For this reason, it has been proposed, for example, to provide a liquid crystal display device with redundancy. It is also considered to repair defective pixels by adding a repair function,
There is a problem that various defects cannot be dealt with and a sufficient repair rate cannot be obtained.

【0006】特に液晶表示装置の表示品位を著しく損な
う欠点画素モードとしては、輝点欠点が挙げられる。こ
の輝点欠点は種々の原因により引き起こされる。ここで
輝点欠点とは、液晶組成物を挟む一対の電極間の電位差
が液晶層のしきい値電圧以下の電位の際に、光透過率が
最も高くなるように構成された、いわゆるノーマリー・
ホワイト・モードの液晶表示装置においては、一対の電
極間に電位差を持たせても光透過率が低下しない欠点画
素を言う。また液晶組成物を挟む一対の電極間の電位差
が上記同様に液晶層のしきい値電圧以下の際に、光透過
率が最も低くなるよう構成されたいわゆるノーマリー・
ブラック・モードの液晶表示装置においては、一対の電
極間の電位差が液晶層のしきい値電圧以下であるにも関
わらず光透過率が低下しない欠点画素を総称して言う。
In particular, as a defect pixel mode that significantly impairs the display quality of a liquid crystal display device, there is a bright spot defect. This bright spot defect is caused by various causes. Here, the bright spot defect is a so-called normally-occurring structure which has a maximum light transmittance when the potential difference between a pair of electrodes sandwiching the liquid crystal composition is a potential equal to or lower than the threshold voltage of the liquid crystal layer.
In a white mode liquid crystal display device, it is a defective pixel in which the light transmittance does not decrease even if a potential difference is applied between a pair of electrodes. Further, when the potential difference between the pair of electrodes sandwiching the liquid crystal composition is equal to or lower than the threshold voltage of the liquid crystal layer as described above, the so-called normally
In a black mode liquid crystal display device, a defective pixel in which the light transmittance does not decrease even though the potential difference between the pair of electrodes is equal to or less than the threshold voltage of the liquid crystal layer is collectively referred to.

【0007】このような輝点欠点は、表示画面内にたと
え 1カ所でも存在すると、液晶表示装置としての商品価
値を損なう致命的な欠点画素である。従って、それに対
する対策が急務である。
Such a bright spot defect is a fatal defect pixel which impairs the commercial value as a liquid crystal display device even if it exists even in one place in the display screen. Therefore, countermeasures against it are urgent.

【0008】このような輝点欠点に代表される欠点画素
モードに対処する方法として、特開昭60-243635 号に提
案されている方法がある。この方法は、欠点画素に対し
てレーザー光を一括して照射し、これにより配向膜や画
素電極自体を焼損させて、液晶組成物に対する配向性を
消失させる方法である。このような手法は、輝点欠点を
はじめとして各種欠点画素の欠点として観察される異常
な光透過性を目立たなくしようというものである。
As a method for dealing with the defective pixel mode represented by such a bright spot defect, there is a method proposed in JP-A-60-243635. This method is a method of collectively irradiating defective pixels with a laser beam to burn out the alignment film and the pixel electrode itself, thereby eliminating the alignment property with respect to the liquid crystal composition. Such a technique is intended to make the abnormal light transmittance observed as a defect of various defective pixels including a bright spot defect inconspicuous.

【0009】しかしながら、特開昭60-243635 号に開示
されたような手法でレーザ光を照射して、配向膜や画素
電極自体を焼損させる方法では、輝点欠点を滅点化する
効果は実際には期待したほどではなかった。このような
レーザー光を一括照射して配向膜や画素電極自体を焼く
方法では、大面積にわたって配向膜や画素電極自体が均
一に除去されてしまい、この配向膜や画素電極自体が除
去された領域は予想に反して液晶分子にとっては配向が
制御されるほどの効果は少なく、むしろ平坦な表面とな
る。このため、配向膜や画素電極自体が除去された領域
では、液晶層を構成する各液晶分子が一様に再配向し、
その領域の液晶層に入射した直線偏向状態の入射光は楕
円偏向となり、光漏れが生じるものと考えられる。
However, in the method of irradiating the alignment film and the pixel electrode itself with laser light by the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 60-243635, the effect of making the bright spot defect a dark spot is actually obtained. Wasn't as expected. In the method of irradiating the alignment film and the pixel electrode itself by collectively irradiating the laser light as described above, the alignment film and the pixel electrode themselves are uniformly removed over a large area, and the region where the alignment film and the pixel electrode themselves are removed. Unexpectedly, the effect on the liquid crystal molecules is small enough to control the alignment, and the surface becomes rather flat. Therefore, in the region where the alignment film and the pixel electrode itself are removed, the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer are uniformly realigned,
It is considered that the linearly polarized incident light that has entered the liquid crystal layer in that region is elliptically polarized and causes light leakage.

【0010】そこで、出願人は、特願平6-200403号にお
いて、輝点欠点等における光透過率を旨く制御する手法
を提案した。これは、配向膜や画素電極自体を大面積に
わたって均一に除去するというものではなく、液晶分子
の接する配向面を適度の粗さに荒らし、液晶分子の接す
る配向面に残存する配向膜や画素電極等の配向面に沿っ
て概ねランダムな配向状態、垂直配向状態、水平配向状
態、小ドメインを形成した散乱状態、またはこれらの混
相状態に制御することにより光透過率を制御するもので
ある。
Therefore, the applicant proposed in Japanese Patent Application No. 6-200403 a method of controlling the light transmittance in a bright spot defect or the like. This does not mean that the alignment film or the pixel electrode itself is uniformly removed over a large area, but the alignment surface in contact with the liquid crystal molecules is roughened to an appropriate degree of roughness, and the alignment film or the pixel electrode remaining in the alignment surface in contact with the liquid crystal molecules is roughened. The light transmittance is controlled by controlling a substantially random alignment state, a vertical alignment state, a horizontal alignment state, a scattering state in which small domains are formed, or a mixed phase state thereof along the alignment planes such as.

【0011】このような中、出願人は、更に誠意研究し
た結果、より一層、輝点欠点等の種々の欠点画素モード
に対処して、所望の光透過率に効率よく制御することが
できる液晶表示装置の製造方法を見い出しこの発明に至
った。
Under such circumstances, as a result of further sincerity research, the applicant further copes with various defective pixel modes such as a bright spot defect and can efficiently control the liquid crystal to a desired light transmittance. The present invention was found by finding a method for manufacturing a display device.

【0012】この発明は、輝点欠点等の種々の欠点画素
モードに対し、所望の光透過率に効率よく制御すること
ができる液晶表示装置の製造方法を提供することを目的
としてる。
It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device capable of efficiently controlling a desired light transmittance for various defect pixel modes such as a bright spot defect.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載される発
明は、第1基板上に少なくとも第1電極および第1配向
膜が形成された第1電極基板と、前記第2基板上に少な
くとも前記第1基板に対向する第2電極および第2配向
膜が形成された第2電極基板と、前記第1電極基板と前
記第2電極基板との間に保持され、前記第1配向膜及び
前記第2配向膜に付与される配向性に基づいて所定方向
に配列される液晶分子を含む液晶層とを具備して、前記
第1電極と前記第2電極との間の電位差に応じて光透過
率が変化する表示画素を複数備え、光透過率を異ならし
めるべき一表示画素に対しエネルギー線を照射して光透
過率を調節する光透過率調節工程を含む液晶表示装置の
製造方法において、前記光透過率調節工程が、前記一表
示画素にエネルギー線を断続的に照射し複数本の略平行
な細線状に走査するものであって、前記第1配向膜上に
おける前記エネルギー線の一スポットが走査方向に隣接
する他のスポットと離間する少なくとも20μm以下のス
ポット径であることを特徴とした液晶表示装置の製造方
法にある。
According to a first aspect of the invention, a first electrode substrate having at least a first electrode and a first alignment film formed on a first substrate, and at least a second substrate on the second substrate are provided. A second electrode substrate on which a second electrode and a second alignment film facing the first substrate are formed, and the second electrode substrate is held between the first electrode substrate and the second electrode substrate. A liquid crystal layer containing liquid crystal molecules arranged in a predetermined direction based on the orientation provided to the second alignment film, and transmitting light according to a potential difference between the first electrode and the second electrode. In the method for manufacturing a liquid crystal display device, which comprises a plurality of display pixels of which the rate is changed, and which comprises a light transmittance adjusting step of adjusting the light transmittance by irradiating one display pixel which should have a different light transmittance with an energy ray, The light transmissivity adjustment process causes energy to be applied to the one display pixel. For irradiating a line intermittently and scanning in a plurality of substantially parallel thin lines, wherein one spot of the energy beam on the first alignment film is separated from other spots adjacent in the scanning direction by at least 20 μm. The spot diameter is as follows, which is a method for manufacturing a liquid crystal display device.

【0014】請求項2に記載される発明は、請求項1記
載の液晶表示装置の製造方法において、前記第1配向膜
上における前記エネルギー線のスポットの径をφa、走
査方向における照射ピッチをPとした時に、(P−φ
a)が 2〜30μmの範囲内であることを特徴とした液晶
表示装置の製造方法にある。
According to a second aspect of the present invention, in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the first aspect, the diameter of the spot of the energy rays on the first alignment film is φa, and the irradiation pitch in the scanning direction is P. Then, (P-φ
a) is in the range of 2 to 30 μm, which is a method for manufacturing a liquid crystal display device.

【0015】請求項3に記載される発明は、請求項1記
載の液晶表示装置の製造方法において、前記第1配向膜
上における前記エネルギー線のスポットの径(φa)が
2〜10μmの範囲内であることを特徴とした液晶表示装
置の製造方法にある。
According to a third aspect of the present invention, in the method of manufacturing the liquid crystal display device according to the first aspect, the diameter (φa) of the spot of the energy rays on the first alignment film is
A method for manufacturing a liquid crystal display device is characterized in that the thickness is in the range of 2 to 10 μm.

【0016】請求項4に記載される発明は、請求項1記
載の液晶表示装置の製造方法において、前記エネルギー
線がレーザー光であることを特徴とした液晶表示装置の
製造方法にある。
The invention described in claim 4 is the method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the energy rays are laser beams.

【0017】請求項5に記載される発明は、請求項1記
載の液晶表示装置の製造方法において、複数の前記表示
画素のうちから欠点表示画素を検出する工程を含み、こ
の欠点表示画素に対して前記光透過率調節工程を行うこ
とを特徴とした液晶表示装置の製造方法にある。
According to a fifth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the first aspect, the method includes a step of detecting a defective display pixel from among the plurality of display pixels. In the method for manufacturing a liquid crystal display device, the light transmittance adjusting step is performed.

【0018】請求項6に記載される発明は、第1基板上
に少なくとも第1電極および第1配向膜が形成された第
1電極基板と、前記第2基板上に少なくとも前記第1基
板に対向する第2電極および第2配向膜が形成された第
2電極基板と、前記第1電極基板と前記第2電極基板と
の間に保持され、前記第1配向膜及び前記第2配向膜に
付与される配向性に基づいて所定方向に配列される液晶
分子を含む液晶層とを具備して、前記第1電極と前記第
2電極との間の電位差に応じて光透過率が変化する表示
画素を複数備え、光透過率を異ならしめるべき一表示画
素に対しエネルギー線を照射して光透過率を調節する光
透過率調節工程を含む液晶表示装置の製造方法におい
て、前記光透過率調節工程が、前記一表示画素にエネル
ギー線を断続的に照射し複数本の略平行な細線状に走査
するものであって、前記第1配向膜上における前記エネ
ルギー線の一スポットが隣接する他の細線のスポットと
離間する少なくとも20μm以下のスポット径であること
を特徴とした液晶表示装置の製造方法にある。
According to a sixth aspect of the present invention, a first electrode substrate having at least a first electrode and a first alignment film formed on a first substrate, and at least a first electrode substrate facing the first substrate on the second substrate. And a second electrode substrate on which a second electrode and a second alignment film are formed, and held between the first electrode substrate and the second electrode substrate, and applied to the first alignment film and the second alignment film. A liquid crystal layer including liquid crystal molecules arranged in a predetermined direction based on the aligned orientation, and a light transmittance of which varies according to a potential difference between the first electrode and the second electrode. In the method for manufacturing a liquid crystal display device, which comprises a plurality of, including a light transmittance adjusting step of irradiating an energy ray to one display pixel which should have a different light transmittance, and adjusting the light transmittance, wherein the light transmittance adjusting step is , Intermittently irradiating the one display pixel with energy rays A plurality of substantially parallel fine lines are scanned, and one spot of the energy beam on the first alignment film has a spot diameter of at least 20 μm or less that separates it from the spots of other adjacent fine lines. And a method for manufacturing a liquid crystal display device.

【0019】請求項7に記載される発明は、請求項6記
載の液晶表示装置の製造方法において、前記第1配向膜
上における前記エネルギー線のスポットの径をφa、細
線ピッチをQとすると、(Q−φa)は 2〜30μmの範
囲内であることを特徴とした液晶表示装置の製造方法に
ある。
According to a seventh aspect of the present invention, in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the sixth aspect, when the diameter of the spot of the energy rays on the first alignment film is φa and the fine line pitch is Q, (Q-φa) is in the range of 2 to 30 μm in the method of manufacturing a liquid crystal display device.

【0020】請求項8に記載される発明は、請求項6記
載の液晶表示装置の製造方法において、前記第1配向膜
上における前記エネルギー線のスポットの径(φa)が
2 〜10μmの範囲内であることを特徴とした液晶表示装
置の製造方法にある。
According to an eighth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the sixth aspect, the spot diameter (φa) of the energy ray on the first alignment film is
A method of manufacturing a liquid crystal display device is characterized in that the thickness is in the range of 2 to 10 μm.

【0021】請求項9に記載される発明は、請求項6記
載の液晶表示装置の製造方法において、前記エネルギー
線がレーザー光であることを特徴とした液晶表示装置の
製造方法にある。
The invention described in claim 9 is the method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, wherein the energy beam is a laser beam.

【0022】請求項10に記載される発明は、請求項6
記載の液晶表示装置の製造方法において、複数の前記表
示画素のうちから欠点表示画素を検出する工程を含み、
この欠点表示画素に対して前記光透過率調節工程を行う
ことを特徴とした液晶表示装置の製造方法にある。
The invention described in claim 10 is claim 6
In the method for manufacturing a liquid crystal display device described above, including a step of detecting a defective display pixel from among the plurality of display pixels,
A method of manufacturing a liquid crystal display device is characterized in that the light transmittance adjusting step is performed on the defective display pixel.

【0023】輝点欠点画素に対して単に一括してレーザ
ー光を照射して配向膜や画素電極自体を焼く方法では、
十分な滅点化が達成されない理由については、既に説明
した通りであり、液晶分子の接する配向面を適度の粗さ
に荒らすことで、この領域の液晶分子は一様に再配向さ
れることなく、液晶分子の接する配向面に残存する配向
膜や画素電極等の配向面に沿って概ねランダムな配向状
態、垂直配向状態、水平配向状態、小ドメインを形成し
た散乱状態、またはこれらの混相状態となると考えら
れ、これにより光透過率が旨く制御される。
In the method of burning the alignment film and the pixel electrode itself by simply irradiating the bright spot defect pixels with the laser light all at once,
The reason why sufficient dark dots are not achieved is as described above, and by roughening the alignment surface in contact with the liquid crystal molecules to an appropriate degree of roughness, the liquid crystal molecules in this region are not uniformly re-aligned. , A substantially random alignment state, a vertical alignment state, a horizontal alignment state, a scattering state in which small domains are formed, or a mixed phase state thereof along the alignment surface of the alignment film or the pixel electrode remaining on the alignment surface in contact with the liquid crystal molecules. Therefore, the light transmittance is successfully controlled.

【0024】ところで、このような液晶表示装置を得る
ためには、エネルギー線を複数本の略平行な細線状に走
査することが有効である。エネルギー線を複数本の略平
行な細線状に走査することにより、エネルギー線同士の
緩衝により、比較的容易に上記の構成が得られるからで
あり、またエネルギー線の照射の軌跡が表示状態に反映
されることなく、一表示画素内で均一な光透過率の制御
が達成されるためである。
In order to obtain such a liquid crystal display device, it is effective to scan the energy rays into a plurality of substantially parallel thin lines. This is because the above configuration can be obtained relatively easily by scanning the energy rays in the form of multiple parallel thin lines and by buffering the energy rays, and the trajectory of the energy ray irradiation is reflected in the display state. This is because the uniform control of the light transmittance can be achieved within one display pixel.

【0025】また、この発明において特徴的なことは、
エネルギー線の一スポットが走査方向に隣接する他のス
ポットと離間する、もしくは一スポットが隣接する他の
細線のスポットと離間する少なくとも20μm以下のスポ
ット径に設定されるところにある。
The characteristic feature of the present invention is that
The spot diameter is set to be at least 20 μm or less in which one spot of the energy beam is separated from another spot adjacent to the scanning direction or one spot is separated from the spot of another thin line adjacent to the one spot.

【0026】隣接するスポットを重複させて走査する場
合、重複面積は大きければ大きい方が液晶分子の接する
配向面を旨く荒らすことができ、透過率を大きく変化さ
せることができるが、その処理に十分な時間が必要とな
る。これに対して、スポット径を少なくとも20μm以下
に設定すると共に、隣接するスポットが重複しないよう
に走査することにより、十分にスポットを重複させて走
査した場合と同等に透過率を大きく変化できることが解
った(図6参照)。
When scanning is performed by overlapping adjacent spots, the larger the overlap area, the better the alignment surface in contact with the liquid crystal molecules can be roughened, and the transmittance can be greatly changed. Time is needed. On the other hand, by setting the spot diameter to at least 20 μm or less and performing scanning so that adjacent spots do not overlap with each other, it can be seen that the transmittance can be largely changed in the same manner as when the spots are sufficiently overlapped with each other. (See FIG. 6).

【0027】また、特にエネルギー線のスポットの径
(φa)と照射ピッチ(P)との関係において、(P−
φa)が2〜30μmの範囲内となるように制御する、
あるいは細線ピッチ(Q)との関係において(Q−φ
a)が2〜30μmの範囲内となるように制御すること
により、格別の効果が得られることが解った。
Further, in particular, in the relation between the spot diameter (φa) of the energy ray and the irradiation pitch (P), (P-
φa) is controlled to fall within the range of 2 to 30 μm,
Or in relation to the fine wire pitch (Q) (Q-φ
It was found that a particular effect can be obtained by controlling a) so that it falls within the range of 2 to 30 μm.

【0028】エネルギー線のスポットが重複しないよう
走査しても、エネルギー線のスポットが十分に重複する
よう走査した場合と同等に光透過率の制御が可能な理由
は、恐らく熱的及び液晶分子の急激な流動等の物理的な
ダメージによりエネルギー線の照射部では膜面が直接的
に粗らされ、またその周辺部分では膜面の表面状態が間
接的に改質され、この配向面に沿って概ねランダムな配
向状態、垂直配向状態、水平配向状態、小ドメインを形
成した散乱状態、またはこれらの混相状態となるためと
考えられる。
The reason why the light transmittance can be controlled in the same manner as in the case where the energy ray spots are scanned so that the energy ray spots do not overlap is probably because the thermal and liquid crystal molecules are controlled. The film surface is directly roughened in the area irradiated with energy rays due to physical damage such as sudden flow, and the surface condition of the film surface is indirectly modified in the peripheral area. This is considered to be due to a substantially random alignment state, a vertical alignment state, a horizontal alignment state, a scattering state in which small domains are formed, or a mixed phase state of these.

【0029】また、この発明の如く、エネルギー線の一
スポットが走査方向に隣接する他のスポットと離間す
る、もしくは一スポットが隣接する他の細線のスポット
と離間するように走査することで、処理時間が短縮され
ることは勿論のこと、恐らく液晶分子の配向状態が膜面
の表面粗さのみではなく改質された表面状態に応じて安
定的に所定の配向状態となるため、エネルギー線の強度
に多少のばらつきが生じても光透過率に与える影響が小
さく、このため高い再現性が得られることが確認され
た。
Further, as in the present invention, the processing is performed by scanning so that one spot of the energy beam is separated from another spot adjacent in the scanning direction or one spot is separated from the spot of another thin line adjacent thereto. Not only the time is shortened, but probably the alignment state of the liquid crystal molecules is not only the surface roughness of the film surface but also a stable predetermined alignment state according to the modified surface state. It was confirmed that even if some variations in the intensity occur, the effect on the light transmittance is small, and thus high reproducibility can be obtained.

【0030】このエネルギー線は、焦点位置をアレイ基
板および対向基板の外の深度に位置するように制御して
照射することが好ましく、これにより配向膜あるいは電
極自体が致命的には焼かれ除去されることなく、それら
の液晶層に接する配向面に上記のような適度な表面粗さ
と表面の改質が効果的に形成される。
It is preferable to irradiate the energy beam by controlling the focal position so as to be located at a depth outside the array substrate and the counter substrate, and thereby the alignment film or the electrode itself is deadly burned and removed. Without the above, the above-mentioned moderate surface roughness and surface modification are effectively formed on the alignment surface in contact with the liquid crystal layer.

【0031】特に、カラーフィルタ等の光透過波長が異
なる複数の領域を備えた光学フィルタを備えた液晶表示
装置の場合は、光学フィルタが配置されない基板側に焦
点を持つようにエネルギー線を照射することが望まし
い。
In particular, in the case of a liquid crystal display device including an optical filter having a plurality of regions having different light transmission wavelengths such as a color filter, the energy rays are irradiated so that the substrate side where the optical filter is not arranged has a focal point. Is desirable.

【0032】エネルギー線としてはレーザー光が好適に
使用され、YAGレーザー、エキシマレーザーが使用可
能であるが、YAGレーザーが望ましい。そして、YA
Gレーザーとしては、数kHz程度、好ましくは 1〜 2
kHz程度の周波数でそのパワーとしては 1〜20mW程
度のパルスレーザが好適に用いられる。パルスレーザー
の周波数として 1〜 2kHzのものは、走査速度の制御
により、互いの重複を避け、しかも短時間での走査を可
能にするためであり、パワーとして大きすぎると配向膜
自体を均質に除去してしまう恐れがあるため、 1〜10m
Wが好適である。
A laser beam is preferably used as the energy beam, and a YAG laser and an excimer laser can be used, but a YAG laser is preferable. And YA
As a G laser, about several kHz, preferably 1 to 2
A pulse laser having a frequency of about 1 kHz and a power of about 1 to 20 mW is preferably used. The pulse laser frequency of 1 to 2 kHz is to prevent mutual overlap by controlling the scanning speed and to enable scanning in a short time. If the power is too large, the alignment film itself will be removed uniformly. 1-10m because it may be
W is preferred.

【0033】エネルギー線の配向膜上におけるスポット
の面積は、適度な表面粗さを確保すると共に、適度なエ
ネルギー線の未照射部分を残すため、一表示画素の面積
の 1/25以下であることが好ましく、特にそのスポット
径は 2〜10μm程度に設定することが望ましい。
The area of the spot of the energy ray on the alignment film is 1/25 or less of the area of one display pixel in order to secure an appropriate surface roughness and to leave an unirradiated portion of the energy ray. It is preferable that the spot diameter is set to about 2 to 10 μm.

【0034】[0034]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る液晶表示装置
の製造方法について、ノーマリーホワイト・モードで、
対角 5インチの表示領域を備えた光透過型の液晶表示装
置を例にとって説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described below in a normally white mode.
An example of a light transmissive liquid crystal display device having a diagonal display area of 5 inches will be described.

【0035】この液晶表示装置101は、図1乃至2に
示すように、アレイ基板201と対向基板301とが、
それぞれ配向膜411、413を介して、ツイスト・ネ
マティック型の液晶組成物421が基板201,301
間で90゜捩れるように対向配置され、図示しないシール
剤によって保持されている。各基板201、301の外
向側の表面には、それぞれ偏光板431、433が、そ
の偏光軸が直交するように配置されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal display device 101 includes an array substrate 201 and a counter substrate 301.
The twisted nematic liquid crystal composition 421 is applied to the substrates 201 and 301 via the alignment films 411 and 413, respectively.
They are opposed to each other so that they can be twisted by 90 ° and are held by a sealant (not shown). Polarizing plates 431 and 433 are arranged on the outer surfaces of the substrates 201 and 301 so that their polarization axes are orthogonal to each other.

【0036】アレイ基板201は、透明なガラス基板2
00上に、 640×3 本の映像信号線203と 480本の走
査線205とが略直交するように配置されている。各映
像信号線203と各走査線205との交点近傍には、そ
れぞれTFT221を介して画素電極251が配置され
ている。尚、この画素電極251は、映像信号線203
と沿う辺が80μm、走査線205と沿う辺が60μmに形
成され、このような画素電極25が 100μmピッチで配
置されている。
The array substrate 201 is a transparent glass substrate 2
00, 640 × 3 video signal lines 203 and 480 scanning lines 205 are arranged substantially orthogonal to each other. Pixel electrodes 251 are arranged near the intersections of the respective video signal lines 203 and the respective scanning lines 205 via the TFTs 221. The pixel electrode 251 is connected to the video signal line 203.
Is formed with a side of 80 μm and the side with the scanning line 205 is formed of 60 μm, and such pixel electrodes 25 are arranged at a pitch of 100 μm.

【0037】このTFT221は、走査線205自体を
ゲート電極とし、この上に酸化シリコンと窒化シリコン
とが積層されて形成された絶縁膜213が配置され、絶
縁膜213上にはa−Si:H膜が半導体膜215とし
て配置されている。また、この半導体膜215上には、
走査線205に自己整合されて窒化シリコンを用いて形
成されたチャネル保護膜217が配置されている。そし
て半導体膜215は、低抵抗半導体膜219として配置
されるn+ 型a−Si:H膜およびソース電極231を
介してそれぞれの画素電極251に電気的に接続されて
いる。また、半導体膜215は、低抵抗半導体膜219
として配置されるn+ 型a−Si:H膜および信号線2
03から延在されたドレイン電極204を介して信号線
203に電気的に接続されている。
In the TFT 221, the scanning line 205 itself is used as a gate electrode, and an insulating film 213 formed by laminating silicon oxide and silicon nitride is arranged on the scanning line 205, and a-Si: H is formed on the insulating film 213. The film is arranged as a semiconductor film 215. Further, on the semiconductor film 215,
A channel protective film 217 self-aligned with the scan line 205 and formed using silicon nitride is arranged. The semiconductor film 215 is electrically connected to each pixel electrode 251 through the n + -type a-Si: H film arranged as the low resistance semiconductor film 219 and the source electrode 231. The semiconductor film 215 is the low resistance semiconductor film 219.
+ Type a-Si: H film and signal line 2 arranged as
03 is electrically connected to the signal line 203 via the drain electrode 204 extended from 03.

【0038】また、走査線205に対し略平行に、しか
も画素電極251と重複する領域を有して配置される補
助容量線261を備え、画素電極251と補助容量線2
61とによって補助容量(Cs)が形成されている。な
お、補助容量線261は、対向電極341と略同電位に
設定されている。
Further, an auxiliary capacitance line 261 arranged substantially parallel to the scanning line 205 and having a region overlapping with the pixel electrode 251 is provided, and the pixel electrode 251 and the auxiliary capacitance line 2 are provided.
An auxiliary capacitance (Cs) is formed by 61. The auxiliary capacitance line 261 is set to have substantially the same potential as the counter electrode 341.

【0039】対向基板301は、透明なガラス基板30
0上に、アレイ基板201上に形成されたTFT221
や映像信号線203と画素電極251との間隙や走査線
205と画素電極251との間隙のそれぞれを遮光する
ために、マトリクス状のクロム(Cr)酸化膜とクロム
(Cr)との積層体からなる遮光層311を備えてい
る。
The counter substrate 301 is a transparent glass substrate 30.
0, the TFT 221 formed on the array substrate 201.
In order to shield the gap between the video signal line 203 and the pixel electrode 251, and the gap between the scanning line 205 and the pixel electrode 251, from a laminated body of a matrix of chromium (Cr) oxide film and chromium (Cr). The light shielding layer 311 is formed.

【0040】そして、遮光層311の各格子パターン内
にはカラー表示を実現するための赤(R),緑(G),
青(B)の 3原色で構成される色部321がそれぞれ設
けられ、有機保護膜331を介してITOから成る対向
電極341が配置されているこのようなノーマリー・ホ
ワイトモードの液晶表示装置101の動作について図3
を参照して説明する。
In each lattice pattern of the light shielding layer 311, red (R), green (G), for realizing color display,
In such a normally white mode liquid crystal display device 101, color portions 321 each composed of three primary colors of blue (B) are provided, and a counter electrode 341 made of ITO is arranged through an organic protective film 331. Operation Figure 3
This will be described with reference to FIG.

【0041】図3(a)に示すように、画素電極251
と対向電極341との間の電位差が液晶層のしきい値電
圧以下〜ほぼ 0である場合、入射光は偏光板431の透
過軸に沿って直線偏光とされ、対向する偏光板433の
透過軸に揃うように、液晶層421の液晶分子の配向方
向に沿ってほぼ90゜旋回して表示側の画面に出射され白
い(明るい)表示が観察される。
As shown in FIG. 3A, the pixel electrode 251
When the potential difference between the counter electrode 341 and the counter electrode 341 is less than or equal to the threshold voltage of the liquid crystal layer to almost 0, the incident light is linearly polarized along the transmission axis of the polarizing plate 431, and the transmission axis of the polarizing plate 433 opposite to the incident light. As shown in FIG. 5, a white (bright) display is observed by rotating the liquid crystal layer 421 about 90 ° along the alignment direction of the liquid crystal molecules and emitting the light to the screen on the display side.

【0042】一方、同図(b)に示すように、画素電極
251と対向電極341との間の電位差が液晶層421
を構成する液晶分子を励起するに十分な場合、各液晶分
子は電界に沿って配列する。このため、入射光は偏光板
431の透過軸に沿って直線偏光とされ、液晶層421
を通過する。しかしこの液晶層421を通過する直線偏
光は、偏光板433の光透過軸と略直交する直線偏光光
であるため、黒い(暗い)表示が観察される。
On the other hand, as shown in FIG. 6B, the potential difference between the pixel electrode 251 and the counter electrode 341 is the liquid crystal layer 421.
If it is sufficient to excite the liquid crystal molecules that make up the liquid crystal molecules, the liquid crystal molecules are aligned along the electric field. Therefore, the incident light is linearly polarized along the transmission axis of the polarizing plate 431, and the liquid crystal layer 421
Pass through. However, since the linearly polarized light that passes through the liquid crystal layer 421 is linearly polarized light that is substantially orthogonal to the light transmission axis of the polarizing plate 433, black (dark) display is observed.

【0043】このようなノーマリ・ホワイト・モードの
液晶表示装置101においては、画素電極251と対向
電極341との間に導電性の異物が製造途中で介在し、
画素電極251が対向電極341と実質的に同電位とな
る、あるいは画素電極251と補助容量線261(図2
参照)とが、絶縁膜203の不良により短絡し、画素電
極251が対向電極341の電位に近い補助容量線26
1と同電位となる等の理由から、常に画素電極251と
対向電極341との間の電位差が実質的にほぼ0と同等
な高い光透過率を示す輝点欠点となることがある。
In the normally white mode liquid crystal display device 101 as described above, a conductive foreign substance is present between the pixel electrode 251 and the counter electrode 341 during manufacture,
The pixel electrode 251 has substantially the same potential as the counter electrode 341, or the pixel electrode 251 and the auxiliary capacitance line 261 (see FIG. 2).
Is short-circuited due to a defect in the insulating film 203, and the pixel electrode 251 is close to the potential of the counter electrode 341 in the auxiliary capacitance line 26.
For example, the potential difference between the pixel electrode 251 and the counter electrode 341 may be a bright spot defect exhibiting a high light transmittance substantially equal to substantially 0 because the potential is the same as 1.

【0044】そこで、この実施例では、まず、輝点欠点
画素を次のようにして検出する。即ち、液晶表示装置1
01の映像信号線203に、例えば中心電圧に対して各
フィールド期間毎に+5V,-5Vに極正反転する電圧を印
加し、また、対向電極341および補助容量線261に
5Vの電圧を印加し、各走査線205に順次走査パルス
を供給して、黒(暗い)表示を成す。
Therefore, in this embodiment, first, the bright spot defective pixel is detected as follows. That is, the liquid crystal display device 1
To the video signal line 203 of 01, for example, a voltage that is positively inverted to +5 V and −5 V with respect to the center voltage in each field period is applied, and to the counter electrode 341 and the auxiliary capacitance line 261.
A voltage of 5 V is applied and a scanning pulse is sequentially supplied to each scanning line 205 to display black (dark).

【0045】次に、表示画面の周辺及び中央の任意の 1
00個の表示画素の表示輝度を検出しその平均値を基準黒
レベルとして記憶する。その後、表示画面を順次走査し
て、基準黒レベルから30%以上表示輝度が大きい画素を
検出し、これを輝点欠点画素として、その位置を記憶す
る。
Next, any one of the periphery and center of the display screen
The display brightness of 00 display pixels is detected and the average value thereof is stored as a reference black level. After that, the display screen is sequentially scanned to detect a pixel having a display brightness of 30% or more from the reference black level, and the pixel is stored as the bright spot defect pixel.

【0046】このようにして検出された輝点欠点画素に
対して、エネルギー線としてレーザー光を照射して輝点
欠点画素の光透過率を制御した。以下に、この光透過率
調整工程の一例について説明する。YAGレーザをAO
−Qスイッチによって調整してピーク値の高いパルス状
の出力光とし、さらにこれをコリメータで拡大した後、
ダイクロイックミラーで反射して集光レンズ系で被処理
物上に集光照射し、その被処理物である輝点欠点画素上
を次のようにして走査した。なお、以下の実験例および
比較例においてはいずれも、画素電極251と補助容量
線261とが短絡され、画素電極251と対向電極34
1との電位差がほぼ 0における正常画素の光透過率を 1
00%とすると、画素電極251と対向電極341との間
に液晶層のしきい値電圧以上の電位差が印加されたとき
でも100%近い光透過率が検出される最も過酷な欠点モ
ードである輝点欠点画素である赤(R)表示画素、緑
(G)表示画素および青(B)表示画素のそれぞれにつ
いて次のようにして光透過率の制御を行なった。
The bright spot defective pixel thus detected was irradiated with a laser beam as an energy ray to control the light transmittance of the bright spot defective pixel. Hereinafter, an example of this light transmittance adjusting step will be described. AO YAG laser
After adjusting with the -Q switch to make pulsed output light with a high peak value, and further expanding this with a collimator,
The light was reflected by the dichroic mirror and focused on the object to be processed by the condensing lens system, and the bright spot defect pixel which is the object to be processed was scanned as follows. In each of the following experimental examples and comparative examples, the pixel electrode 251 and the auxiliary capacitance line 261 are short-circuited, and the pixel electrode 251 and the counter electrode 34 are
The light transmittance of a normal pixel when the potential difference from 1 is almost 0 is 1
If it is set to 00%, even if a potential difference of not less than the threshold voltage of the liquid crystal layer is applied between the pixel electrode 251 and the counter electrode 341, a light transmittance close to 100% is detected, which is the most severe defect mode. The light transmittance of each of the red (R) display pixel, the green (G) display pixel, and the blue (B) display pixel, which are point defect pixels, was controlled as follows.

【0047】(具体例1)まず、パルスサイクル: 1k
Hz、パワー: 6mWのYAGレーザーを、図4に示す
ようにアレイ基板201側から対向基板301側へ、そ
のスポット径(φ) 3μmの焦点をアレイ基板201手
前で結ぶように入射する。ここで、レーザー光をアレイ
基板201側から照射したのは、対向基板301がカラ
ー表示を実現するための赤(R),緑(G),青(B)
の 3原色で構成される色部321を含み、対向基板30
1側からレーザー照射すると、レーザー光の利用効率が
低下し、また各色毎にばらつきが生じるためである。そ
して、アレイ基板201側の配向膜411上でのスポッ
ト径(φa )は 5μm、対向基板301側の配向膜41
3上でのスポット径(φb )は 8μmであった。
(Specific Example 1) First, pulse cycle: 1 k
As shown in FIG. 4, a YAG laser of Hz and power: 6 mW is incident from the array substrate 201 side to the counter substrate 301 side so that the spot diameter (φ) of 3 μm is focused in front of the array substrate 201. Here, the laser light is emitted from the array substrate 201 side because the counter substrate 301 realizes color display in red (R), green (G), and blue (B).
The counter substrate 30 including the color portion 321 composed of the three primary colors
This is because if the laser is irradiated from the 1st side, the utilization efficiency of the laser light is lowered, and variation is caused for each color. The spot diameter (φa) on the alignment film 411 on the array substrate 201 side is 5 μm, and the alignment film 41 on the counter substrate 301 side.
The spot diameter (φb) on No. 3 was 8 μm.

【0048】そして、図5に示すように走査線205の
長手方向に沿って画素電極251の端部(図中点a)か
ら他端部(図中点b)までを画素電極251の端辺に平
行に走査し、他端部(図中点b)で走査方向を折り返し
て順次図中上方に略平行に走査して照射した。
Then, as shown in FIG. 5, from the end (point a in the figure) of the pixel electrode 251 to the other end (point b in the figure) along the longitudinal direction of the scanning line 205, the end side of the pixel electrode 251. The scanning direction was turned back at the other end (point b in the drawing), and the upper part of the drawing was scanned substantially in parallel and irradiated.

【0049】更に詳しくは、走査を開始する端部(図中
点a)は、遮光層311によって決定づけられる開口端
辺からの距離(L)がそれぞれ7 μm離間した位置とし
た。そして、図中点aを走査開始位置とし、各レーザー
パルスのスポットが互いに重複しないよう設定されたパ
ルスサイクル及び走査速度で走査される。即ち、スポッ
ト径(φa )が 5μmであるのに対し、照射ピッチ(P
1)は15μmであって、(P−φa)が10μmに設定さ
れている。
More specifically, the ends (point a in the figure) at which the scanning is started are positioned at a distance (L) of 7 μm from the edge of the opening determined by the light-shielding layer 311. Then, the point a in the drawing is set as the scanning start position, and scanning is performed at a pulse cycle and a scanning speed set so that the spots of the laser pulses do not overlap each other. That is, while the spot diameter (φa) is 5 μm, the irradiation pitch (P
1) is 15 μm, and (P−φa) is set to 10 μm.

【0050】このようにして第1走査を行った後、走査
の折り返し端部(図中点b)にて走査方向が反転され、
第1走査と略平行な第2走査を行う。折り返し端部(図
中点b)も、遮光層311によって決定づけられる開口
端辺からの距離(L)がそれぞれ7 μmに位置してい
る。また、第1走査と第2走査との細線ピッチ(P2)
は、第1走査によるレーザーパルスのスポットと第2走
査によるレーザーパルスのスポットとが互いに重複しな
い15μmであって、(Q−φa)が10μmに設定されて
いる。
After the first scan is performed in this way, the scanning direction is reversed at the folded end of the scan (point b in the figure),
A second scan that is substantially parallel to the first scan is performed. Also at the folded-back end (point b in the figure), the distance (L) from the edge of the opening determined by the light-shielding layer 311 is located at 7 μm. Also, the fine line pitch (P2) between the first scan and the second scan
Is 15 μm in which the spot of the laser pulse of the first scanning and the spot of the laser pulse of the second scanning do not overlap each other, and (Q−φa) is set to 10 μm.

【0051】このようなパルスレーザによる走査を、図
5に示すように順次行った。これにより、レーザーパル
スのスポットを重複させて走査する場合では少なくとも
30秒程度の時間を要していたにもかかわらず、この実施
例では約 3秒と非常に短くできた。
Scanning by such a pulse laser was sequentially performed as shown in FIG. As a result, at least in the case of scanning with overlapping spots of laser pulses,
Even though it took about 30 seconds, in this example, it was very short, about 3 seconds.

【0052】このようにして処理された配向膜411、
413の表面は、レーザー照射によって形成された凹凸
に加え、レーザー未照射部分における配向膜411,4
13表面が改質れていることが確認された。
The alignment film 411 thus treated,
In addition to the irregularities formed by laser irradiation, the surface of 413 has alignment films 411, 4 in the laser non-irradiated portion.
13 It was confirmed that the surface was modified.

【0053】しかも、本発明者等の検証によれば、この
領域はランダム配向状態と小ドメインを形成した状態と
を含む混相と成っていることが確認された。そして、65
00[lx]の照度を持つバックライトをアレイ基板20
1裏面に配置し、対向電極341と画素電極251との
間の電位差 0Vとなるように対向電極電圧(Vcom )と
映像信号電圧(Vsig )とを選択し、各走査線205に
走査パルス(Vg)を印加して白(明るい)表示を行な
ったところ、正常画素の光透過率を 100%とした場合、
各色の画素とも少なくとも15% を越えない範囲内に十分
な減点化が達成された。
Further, according to the verification by the present inventors, it was confirmed that this region is a mixed phase including a randomly oriented state and a state in which small domains are formed. And 65
A backlight having an illuminance of 00 [lx] is used as the array substrate 20.
The counter electrode voltage (Vcom) and the video signal voltage (Vsig) are selected so that the potential difference between the counter electrode 341 and the pixel electrode 251 is 0V, and the scan pulse (Vg ) Is applied for white (bright) display, and when the light transmittance of normal pixels is 100%,
A sufficient deduction was achieved within the range of at least 15% for each color pixel.

【0054】しかも、レーザーパルスのスポットを重複
させて走査した場合では85℃の乾燥環境下で 200時間動
作させた際に透過率の上昇が見られたが、上述した実施
例の如く滅点化された表示画素では透過率の変動が 2%
以下に抑えられ、安定した滅点化が達成された。
In addition, when the laser pulse spots were overlapped and scanned, an increase in transmittance was observed when operated for 200 hours in a dry environment at 85 ° C. The variation of the transmittance is 2% for the displayed pixels.
It was suppressed to below, and a stable score was achieved.

【0055】以上のように、この実施例によれば、輝点
欠点に対して少なくとも20μm以下の微細なスポット径
を有するパルスレーザーを照射することにより、隣接す
る走査線あるいは映像信号線を断線させることもなく、
短時間で、しかも歩留り良く滅点化することができた。
As described above, according to this embodiment, the adjacent scanning line or video signal line is broken by irradiating the bright spot defect with the pulse laser having a fine spot diameter of at least 20 μm or less. Without incident,
In a short time, it was possible to make a score with good yield.

【0056】上述した実施例において、開口端近傍にレ
ーザー光を照射しないのは、遮光膜311を構成する金
属材料が飛散する等して表示不良を引き起こすことがあ
るためである。
In the above-mentioned embodiment, the reason why the laser beam is not irradiated near the opening end is that the metal material forming the light-shielding film 311 may be scattered to cause display failure.

【0057】また、上述した実施例では、アレイ基板2
01側から対向基板301側へ、その焦点位置がアレイ
基板201手前に存在するようにパルスレーザーを入射
したが、焦点位置を対向基板301の外側つまり対向基
板301よりも深い位置に設定しても良い。また、逆に
対向基板301側からアレイ基板201側へ、その焦点
が対向基板301手前に存在するようにパルスレーザー
を入射する、あるいは焦点位置をアレイ基板201の外
側つまりアレイ基板201よりも深い位置に設定しても
良い。
Further, in the above-mentioned embodiment, the array substrate 2
Although the pulse laser is incident from the 01 side to the counter substrate 301 side so that the focal position is in front of the array substrate 201, even if the focal position is set outside the counter substrate 301, that is, at a position deeper than the counter substrate 301. good. On the contrary, a pulse laser is incident from the counter substrate 301 side to the array substrate 201 side so that the focus thereof is present in front of the counter substrate 301, or the focus position is outside the array substrate 201, that is, at a position deeper than the array substrate 201. It may be set to.

【0058】上述した実施例においては、レーザー光
は、いずれも直線状に走査したが、必ずしも直線状でな
く、互いに略平行であれば波線状であっても良い。ま
た、各画素の開口端辺に沿う以外にも、対角線に沿って
走査しても良いが、処理時間の短縮を考慮すれば、画素
電極の長辺に沿って走査することが好ましい。
In the above-mentioned embodiments, the laser light was scanned linearly, but it is not always linear and may be wavy as long as they are substantially parallel to each other. In addition to scanning along the opening edge of each pixel, scanning may be performed along a diagonal line, but scanning is preferably performed along the long side of the pixel electrode in consideration of reduction in processing time.

【0059】尚、以上の実施例では、いずれも輝点欠点
画素の滅点化に対処した場合を例にとり説明したが、こ
の他の輝点欠点モードに対しても本発明は効果的であ
る。例えば、静電破壊によるTFTの異常動作や導電性
金属異物の混入、層間絶縁膜の破損による電極およびそ
の配線系統等のショート、あるいは画素電極の欠落、欠
損、配向異常、透明導電性異物の混入等の原因によって
生じる輝点欠点以外の欠点表示画素等に対しても本発明
は有効である。
In each of the above embodiments, the case of dealing with the dark spot of the bright spot defective pixel has been described as an example, but the present invention is also effective for other bright spot defect modes. . For example, abnormal operation of the TFT due to electrostatic breakdown or mixing of conductive metallic foreign matter, short circuit of electrodes and its wiring system due to damage of interlayer insulating film, missing or missing of pixel electrode, abnormal alignment, mixing of transparent conductive foreign matter. The present invention is also effective for defect display pixels other than the bright spot defect caused by the above reasons.

【0060】また、上記の実施例においては、光透過型
の液晶表示装置を例に取り説明したが、反射型の液晶表
示装置であっても本発明は適用可能である。また、本発
明は上記した実施例のようなほぼ90゜捩れのツイステッ
ド・ネマティック液晶と、偏光軸方向が互いに直交する
ように配置される偏光板とを組み合せたノーマリー・ホ
ワイトモードで動作する液晶表示装置の他にも、ほぼ90
゜捩れのツイステッド・ネマティック液晶と、偏光板の
偏光軸方向が互いに平行すように配置されたノーマリー
・ブラックモードで動作する液晶表示装置においても適
用可能である。
Further, in the above embodiments, the light transmission type liquid crystal display device has been described as an example, but the present invention can be applied to a reflection type liquid crystal display device. Further, the present invention is a liquid crystal display operating in a normally white mode in which a twisted nematic liquid crystal having a twist of about 90 ° as in the above-mentioned embodiment and a polarizing plate arranged so that the polarization axis directions thereof are orthogonal to each other are combined. Besides the device, almost 90
It is also applicable to a twisted nematic liquid crystal with a twist and a liquid crystal display device operating in a normally black mode in which the polarization axis directions of polarizing plates are parallel to each other.

【0061】また、本発明は、上記した実施例のような
各表示画素ごとにスイッチング素子としてTFTを備え
たアクティブマトリックス型液晶表示装置の他にも、例
えばMIM素子を備えたアクティブマトリックス型液晶
表示装置、あるいはストライプ状の電極を備えた電極基
板が直交配置される単純マトリクス型液晶表示装置等に
も適用することができる。
In addition to the active matrix type liquid crystal display device having a TFT as a switching element for each display pixel as in the above-described embodiment, the present invention also has, for example, an active matrix type liquid crystal display device having an MIM element. The present invention can also be applied to a device or a simple matrix type liquid crystal display device in which electrode substrates provided with stripe-shaped electrodes are arranged orthogonally.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の製造方法
によれば、輝点欠点等の種々の欠点画素モードに対処し
て、所望の光透過率に短時間で、しかも歩留り良く制御
することができた。
As described above, according to the manufacturing method of the present invention, various defect pixel modes such as a bright spot defect are dealt with, and desired light transmittance is controlled in a short time and with a high yield. I was able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明の一実施例の液晶表示装置のア
レイ基板の一部概略正面図である。
FIG. 1 is a partial schematic front view of an array substrate of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図2は、図1におけるA−A´線に沿って切断
した液晶表示装置の一部概略断面図である。
FIG. 2 is a partial schematic cross-sectional view of the liquid crystal display device taken along the line AA ′ in FIG.

【図3】図3は、本発明の一実施例の液晶表示装置の動
作を説明する図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention.

【図4】図4は、本発明の一実施例の光透過率制御工程
を説明するための一部概略断面図である。
FIG. 4 is a partial schematic cross-sectional view for explaining a light transmittance control step according to an embodiment of the present invention.

【図5】図5は、本発明の一実施例の光透過率制御工程
を説明するための一部概略正面図である。
FIG. 5 is a partial schematic front view for explaining the light transmittance control step of the embodiment of the present invention.

【図6】図6は、縦軸に光透過率制御工程による光透過
率(%)、横軸にパルスレーザーの重複長をとり、光透
過率(%)の重複長依存性を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing the overlap length dependence of the light transmittance (%), where the vertical axis represents the light transmittance (%) in the light transmittance control step and the horizontal axis represents the overlap length of the pulse laser. is there.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101…液晶表示装置 201…アレイ基板 301…対向基板 101 ... Liquid crystal display device 201 ... Array substrate 301 ... Counter substrate

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1基板上に少なくとも第1電極および
第1配向膜が形成された第1電極基板と、 前記第2基板上に少なくとも前記第1基板に対向する第
2電極および第2配向膜が形成された第2電極基板と、 前記第1電極基板と前記第2電極基板との間に保持さ
れ、前記第1配向膜及び前記第2配向膜に付与される配
向性に基づいて所定方向に配列される液晶分子を含む液
晶層とを具備して、前記第1電極と前記第2電極との間
の電位差に応じて光透過率が変化する表示画素を複数備
え、 光透過率を異ならしめるべき一表示画素に対しエネルギ
ー線を照射して光透過率を調節する光透過率調節工程を
含む液晶表示装置の製造方法において、 前記光透過率調節工程が、前記一表示画素にエネルギー
線を断続的に照射し複数本の略平行な細線状に走査する
ものであって、前記第1配向膜上における前記エネルギ
ー線の一スポットが走査方向に隣接する他のスポットと
離間する少なくとも20μm以下のスポット径であること
を特徴とした液晶表示装置の製造方法。
1. A first electrode substrate having at least a first electrode and a first alignment film formed on a first substrate, and a second electrode and a second alignment at least facing the first substrate on the second substrate. A second electrode substrate on which a film is formed, and a second electrode substrate, which is held between the first electrode substrate and the second electrode substrate, and which is predetermined based on the orientation provided to the first alignment film and the second alignment film. A plurality of display pixels each having a liquid crystal layer including liquid crystal molecules aligned in a direction, the light transmittance of which varies according to a potential difference between the first electrode and the second electrode. In a method of manufacturing a liquid crystal display device, which includes a light transmittance adjusting step of irradiating an energy ray to one display pixel to be made different, and adjusting a light transmittance, the light transmittance adjusting step comprises: Irradiate intermittently with a plurality of parallel thin wires Of the liquid crystal display device, wherein one spot of the energy beam on the first alignment film has a spot diameter of at least 20 μm or less spaced from another spot adjacent in the scanning direction. Production method.
【請求項2】 請求項1記載の液晶表示装置の製造方法
において、前記第1配向膜上における前記エネルギー線
のスポットの径をφa、走査方向における照射ピッチを
Pとした時に、(P−φa)が 2〜30μmの範囲内であ
ることを特徴とした液晶表示装置の製造方法。
2. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein when the diameter of the spot of the energy rays on the first alignment film is φa and the irradiation pitch in the scanning direction is P, (P−φa ) Is in the range of 2 to 30 μm.
【請求項3】 請求項1記載の液晶表示装置の製造方法
において、前記第1配向膜上における前記エネルギー線
のスポットの径(φa)が 2〜10μmの範囲内であるこ
とを特徴とした液晶表示装置の製造方法。
3. The liquid crystal display device manufacturing method according to claim 1, wherein a diameter (φa) of a spot of the energy ray on the first alignment film is within a range of 2 to 10 μm. Manufacturing method of display device.
【請求項4】 請求項1記載の液晶表示装置の製造方法
において、前記エネルギー線がレーザー光であることを
特徴とした液晶表示装置の製造方法。
4. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the energy ray is a laser beam.
【請求項5】 請求項1記載の液晶表示装置の製造方法
において、複数の前記表示画素のうちから欠点表示画素
を検出する工程を含み、この欠点表示画素に対して前記
光透過率調節工程を行うことを特徴とした液晶表示装置
の製造方法。
5. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, further comprising the step of detecting a defective display pixel from the plurality of display pixels, and the light transmittance adjusting step for the defective display pixel. A method for manufacturing a liquid crystal display device, which is characterized by carrying out.
【請求項6】 第1基板上に少なくとも第1電極および
第1配向膜が形成された第1電極基板と、 前記第2基板上に少なくとも前記第1基板に対向する第
2電極および第2配向膜が形成された第2電極基板と、 前記第1電極基板と前記第2電極基板との間に保持さ
れ、前記第1配向膜及び前記第2配向膜に付与される配
向性に基づいて所定方向に配列される液晶分子を含む液
晶層とを具備して、前記第1電極と前記第2電極との間
の電位差に応じて光透過率が変化する表示画素を複数備
え、 光透過率を異ならしめるべき一表示画素に対しエネルギ
ー線を照射して光透過率を調節する光透過率調節工程を
含む液晶表示装置の製造方法において、 前記光透過率調節工程が、前記一表示画素にエネルギー
線を断続的に照射し複数本の略平行な細線状に走査する
ものであって、前記第1配向膜上における前記エネルギ
ー線の一スポットが隣接する他の細線のスポットと離間
する少なくとも20μm以下のスポット径であることを特
徴とした液晶表示装置の製造方法。
6. A first electrode substrate having at least a first electrode and a first alignment film formed on a first substrate, and a second electrode and a second alignment at least facing the first substrate on the second substrate. A second electrode substrate on which a film is formed, and a second electrode substrate, which is held between the first electrode substrate and the second electrode substrate, and which is predetermined based on the orientation provided to the first alignment film and the second alignment film. A plurality of display pixels each having a liquid crystal layer including liquid crystal molecules aligned in a direction, the light transmittance of which varies according to a potential difference between the first electrode and the second electrode. In a method of manufacturing a liquid crystal display device, which includes a light transmittance adjusting step of irradiating an energy ray to one display pixel to be made different, and adjusting a light transmittance, the light transmittance adjusting step comprises: Irradiate intermittently with a plurality of parallel thin wires And a spot diameter of at least 20 μm in which one spot of the energy beam on the first alignment film is separated from a spot of another thin line adjacent to the first alignment film. Method.
【請求項7】 請求項6記載の液晶表示装置の製造方法
において、前記第1配向膜上における前記エネルギー線
のスポットの径をφa、細線ピッチをQとすると、(Q
−φa)は 2〜30μmの範囲内であることを特徴とした
液晶表示装置の製造方法。
7. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, wherein a diameter of a spot of the energy beam on the first alignment film is φa, and a fine line pitch is Q.
-Φa) is in the range of 2 to 30 μm.
【請求項8】 請求項6記載の液晶表示装置の製造方法
において、前記第1配向膜上における前記エネルギー線
のスポットの径(φa)が2 〜10μmの範囲内であるこ
とを特徴とした液晶表示装置の製造方法。
8. The liquid crystal display device manufacturing method according to claim 6, wherein the diameter (φa) of the spot of the energy rays on the first alignment film is in the range of 2 to 10 μm. Manufacturing method of display device.
【請求項9】 請求項6記載の液晶表示装置の製造方法
において、前記エネルギー線がレーザー光であることを
特徴とした液晶表示装置の製造方法。
9. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, wherein the energy rays are laser beams.
【請求項10】 請求項6記載の液晶表示装置の製造方
法において、複数の前記表示画素のうちから欠点表示画
素を検出する工程を含み、この欠点表示画素に対して前
記光透過率調節工程を行うことを特徴とした液晶表示装
置の製造方法。
10. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, including a step of detecting a defective display pixel from a plurality of the display pixels, and performing the light transmittance adjusting step for the defective display pixel. A method for manufacturing a liquid crystal display device, which is characterized by carrying out.
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