JPH09234720A - 軽量セメント瓦の製造法 - Google Patents

軽量セメント瓦の製造法

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JPH09234720A
JPH09234720A JP4232996A JP4232996A JPH09234720A JP H09234720 A JPH09234720 A JP H09234720A JP 4232996 A JP4232996 A JP 4232996A JP 4232996 A JP4232996 A JP 4232996A JP H09234720 A JPH09234720 A JP H09234720A
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JP
Japan
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mortar
mold
roof tile
side frame
layer portion
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Pending
Application number
JP4232996A
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English (en)
Inventor
Toshio Yasunaka
俊雄 安仲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NAKANO SANGYO KIKAI KK
Original Assignee
NAKANO SANGYO KIKAI KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 軽量であるにかかわらず強度の大きいセメン
ト瓦を製造しようとする。 【構成】 補強材14の上に瓦の上層部15aとなるモ
ルタル12aを載せて加圧し、これをセメント瓦製造機
の上型4、側枠5と共に上昇させ、その下方に水切り板
11を介して下型8に載せた下層部用モルタル12bを
置き、上型4、側枠5を下降させて上層部15a、補強
材14と共に下層部を一体に加圧成形する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、セメント瓦の製造法
に関し、特にセメント瓦を軽量に製造する方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】セメント瓦は、プレス機を主体としたセ
メント瓦成形機に上型、下型、側枠を取り付け、先ず、
上型、下型、側枠の間でモルタルを加圧してモルタルの
水分を絞り出し、瓦の形状をなしているが未乾燥の生瓦
を形成し、次にこれを乾燥固化して製造されるもので、
広く利用されている。
【0003】図10は、従来から使用されているセメン
ト瓦成形機の概要を示すもので、次にこれの構成及び動
作を説明する。
【0004】基台1をまたぐ支柱2により油圧シリンダ
3を支持し、そのラム3aの下端に上型4を取付ける。
上型4の周囲には、これと摺動可能な側枠5を密嵌させ
ている。基台1の上にはレール6を設け、これにキャリ
ヤ7を左右動自在に載せている。キャリヤ7の両端には
下型8と受取り機9とが取付けてある。キャリヤ7がレ
ール6に沿って左右動したとき、下型8、受取り機9の
それぞれが上型4の直下において停止するようにレール
6にはストッパが設けられている。下型8が右端で停止
する位置の直上には、モルタル供給機10のノズル10
aが位置しており、下型8に載せた水切り板11の上
に、瓦1個分のモルタル12を吐出する。続いてキャリ
ヤ7が左行し、下型8が上型4の直下で停止すると、上
型4が下降し、下型8との間でモルタル12を加圧して
生瓦を成形する。両型の間の側方には側枠5が位置し
て、モルタルが側方へ押出されるのを阻止する。絞り出
された水分は、金網、濾布で形成された水切り板11と
下型に設けた透水孔8aとを通って排出される。
【0005】次にラム3aが生瓦と共に上昇し、キャリ
ヤが右行して受け板13を載せた受取り機9が上型の直
下に来り、再びラム3aが下降して受取り機9に近づ
き、生瓦を受け板13の上に載せる。右行した下型8に
は次に成形するためのモルタルが載せられ、キャリヤの
左行により上記の生瓦成形が繰返し行なわれる。左行し
た受取り機9に載せられた生瓦は、受け板13と共に乾
燥工程へ移される。
【0006】このようにして製造される従来のセメント
瓦は、重量が大きいものであった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】家屋の耐震性を高める
ためには、屋根を軽くすることが必要とされている。瓦
は屋根の重量の多くの部分を占めているので、屋根を軽
くするためには、個々の瓦の重量を軽減することが必要
になる。
【0008】
【課題を解決する為の手段】この発明は、モルタル内に
網、線材、繊維等の補強材を埋込むことにより強度を高
め、補強材の表裏にはモルタルを比較的薄く重ねること
により、従来のセメント瓦と同等の強度を持ちながら、
より薄く軽量にしたセメント瓦を製造する方法を得たも
ので、上型、下型、側枠で囲んでモルタルを加圧成形す
る際に、先ず補強材の上に瓦の上層部を形成するモルタ
ルを置いて成形し、この成形物を上型、側枠と共に上昇
させ、側枠を上記成形物から下方に突出させ、この状態
で下型に載せた下層部を形成するモルタルの上に上記成
形物を下降させ、加圧してこのモルタルを扁平に圧縮
し、上下層の間に補強材を介在させた瓦を成形するもの
である。
【0009】
【作用】補強材と瓦の上層部となるモルタルとを重ねて
圧縮した成形物は、この成形物と上型及び側枠との接触
面積が成形物と下型との接触面積より大きいため、付着
力に差ができる。よって成形後に上型、側枠を上昇させ
ると、成形物は上型、側枠と共に上昇し、下型から離れ
る。そこで側枠を上型から少し下げ、下型に下層部形成
用のモルタルを置き、上型、側枠を下降させてモルタル
を加圧成形すると、補強材を内在させたセメント瓦を成
形することができる。
【0010】
【実施例】図1〜図9は本発明の軽量セメント瓦の製造
方法の実施状況を例示する。簡単のため瓦の上下面は平
坦なものを示している。図1は製造された軽量セメント
瓦15の断面図を示し、14は補強材、15aは上層
部、15bは下層部である。図2〜図9は成型工程を順
次示している。各部を示す符号は、図10と同等部分は
同符号で示している。
【0011】図2は加圧成形の準備段階の状態を示し、
下型8の上に水切り板11、補強材14と瓦の上層部と
なるモルタル12aとを載せている。なお、この実施例
では、下型8、水切り板11を上型4、側枠5より大き
くした例を示している。下型8を、従来同様に側枠5に
密嵌する構造とすると、キャリヤ7の停止位置の誤差を
著しく小さくしなければならなく、そうでないと下型8
と側枠5との嵌合をゆるくしなければならない。こうす
ると、加圧時にモルタルの漏出が多くなる不都合を生じ
る。
【0012】図3は瓦15の上層部15aを成形する状
態を示し、側枠5を上型4から下方に突出させた状態で
上型4を下降させ、上層部15aとなるモルタル12a
を扁平に圧縮する。圧縮に伴なって側枠5は少し上昇
し、絞り出された水は下型8の水抜き孔8aから排出さ
れる。
【0013】次に図4のように上型4、側枠5を上昇さ
せる。瓦の上層部15aは、未乾燥時には上型4、側枠
5との付着力のため、上層部15a及びこの中にくい込
んだ補強材14は上型4、側枠5と共に上昇する。ここ
で水切り板11は取除き、キャリヤ7を右行させて上型
4の下に受け台16を位置させる。受け台16は、従来
の受取り機9の代りにその位置においてキャリヤ7に取
付けられるもので、その平面形は側枠5の内方にゆるく
挿入できる大きさである。
【0014】この受け台16は、瓦の下層部15aを形
成するモルタルを加圧する次工程に先立って側枠5を上
型4の下方へ突出させるために補強材14、上層部15
aを抑えるものである。即ち、側枠5を上型4の下方に
突出させるときに、図5のように補強材等を抑えるもの
である。
【0015】次に図6のように、上型4、側枠5、上層
部15a、補強材14を上昇させると共に、下型8を上
型4の下に位置させる。下型8には、上記右行時に、水
切り板11を介して下層部15bとなるモルタル12b
を載せられている。
【0016】次に図7のように、上型4を下降させて下
型8との間でモルタル12bを圧縮し扁平にして瓦の下
層部15bを形成する。側枠5は水切り板11の上面に
接触しモルタル12bが側方へ押し出されるのを阻止す
る。これにより上層部15aと下層部15bとが補強材
14を挟んで結合された生瓦15cが形成される。
【0017】次に図8のように上型4を側枠5、生瓦1
5cと共に上昇させ、上型の下には下型に代えて受け台
16を位置させる。水切り板11は取り除き、受け台1
6の上に受け板13を置く。
【0018】次に図9のように、側枠5を上昇させて生
瓦15cから離し、生瓦15cを受け板13の上に落
す。この生瓦15cは受け板13と共に乾燥工程へ移さ
れる。受け台16は、従来の受取り機9と代替してその
位置に設けられる。
【0019】以上の各工程は、従来から使用されてきた
セメント瓦成形機を少し変えることにより行なうことが
できる。
【0020】補強材としては、耐アルカリ性ガラス繊
維、炭素繊維、鋼材(線または板)、樹脂(ポリプロピ
レン、アクリル、ポリエステル等の繊維または板)が利
用でき、これらを次の状態で使用する。
【0021】 樹脂、金属等の線、繊維を5〜50mm
目に編組した網を瓦の形状に合せて平板状で、又は成形
して使用する。 金属や樹脂の多孔板を同様に切断し、平板状で、又
は瓦の形状の合せて成形して使用する。 金属や樹脂の線を瓦の大きさに合せて切断し、縦横
に並べて使用する。 上記のように並べた線の重なり部を溶接する。
【0022】以上のようにして製造されたセメント瓦
は、上層部、下層部をその間に補強材14を介在させて
結合するので強度が大きくなるから、その分、セメント
量を少なくして軽く造ることができる。即ち、従来と同
じ強度を持つセメント瓦を軽量に造ることができる。
【0023】
【発明の効果】
(1) 上層部と下層部とを、補強材を挟んで所定厚さのモ
ルタルで形成することができるから、セメント瓦の強度
を高めることができる。従って従来のセメント瓦と同じ
強度ならば、瓦を薄く軽量に造ることができる。 (2) 補強材挿入位置のバラツキが少なくできる。 (3) 瓦の外面が曲面であっても、これに合せて補強材を
成形して、上下層の中央に確実に挿入して成形できる。 (4) 上層部と下層部とを異なったモルタルで形成でき
る。従って、上層部(表面)を着色、下層部(裏面)を
無着色のモルタルで形成することができる。 (5) 網状または多孔板の補強材を内蔵し、これにモルタ
ルが強固に結合されているから、このセメント瓦に物が
衝突して割れても分散することがない。 (6) 瓦を大判に造っても、踏み割れを生ぜず、作業者の
落下事故が防げる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す成形した軽量セメント瓦
の断面図。
【図2】本発明の実施例において、上層部を加圧する前
の上型、下型、側枠等の状態を示す一部切断正面図。
【図3】同じく上層部を加圧した状態を示す断面図。
【図4】次に上型を上昇させ、その直下に受け台を位置
させた状態を示す断面図。
【図5】次に側枠を下降させた状態を示す断面図。
【図6】上型の下に下型を置き下層部用モルタルを載せ
た状態を示す断面図。
【図7】下層部を加圧する状態を示す断面図。
【図8】上型を上昇させ、その下に受け板を置いた状態
を示す断面図。
【図9】生瓦を受け板に移した状態を示す断面図。
【図10】従来のセメント瓦製造機を示す略正面図。
【符号の説明】
1 基台 2 支柱 3 油圧シリンダ 3a ラム 4 上型 5 側枠 6 レール 7 キャリヤ 8 下型 8a 透水孔 9 受取り機 10 モルタル供給機 10a ノズル 11 水切り板 12、12a、12b モルタル 13 受け板 14 補強材 15 瓦 15a 上層部 15b 下層部 15c 生瓦 16 受け台

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上型、下型、側枠で囲んでモルタルを加
    圧成形する際に、先ず補強材の上に瓦の上層部を形成す
    るモルタルを置いて成形し、この成形物を上型、側枠と
    共に上昇させ、側枠を上記成形物から下方に突出させ、
    この状態で下型に載せた下層部を形成するモルタルの上
    に上記成形物を下降させ、加圧してこのモルタルを扁平
    に圧縮し、上下層の間に補強材を介在させた瓦を成形す
    る軽量セメント瓦の製造法。
JP4232996A 1996-02-29 1996-02-29 軽量セメント瓦の製造法 Pending JPH09234720A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020086120A (ko) * 2001-05-11 2002-11-18 동도바잘트산업(주) 바잘트 타일
CN112406127A (zh) * 2020-11-04 2021-02-26 佛山市环驰机械有限公司 一种人造石压制生产线

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