JPH09231539A - 磁気ヘッドスライダとその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドスライダとその製造方法Info
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- JPH09231539A JPH09231539A JP4260996A JP4260996A JPH09231539A JP H09231539 A JPH09231539 A JP H09231539A JP 4260996 A JP4260996 A JP 4260996A JP 4260996 A JP4260996 A JP 4260996A JP H09231539 A JPH09231539 A JP H09231539A
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- Japan
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- protective film
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- Pending
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ヘッドの空気軸受け面（ＡＢＳ面）に形
成した保護膜（下地膜）を可視化することにより、保護
膜の有無を容易に判別する。 【解決手段】 ヘッドスライダ１のＡＢＳ面２に可視化
した保護膜を備える。この保護膜は二層構造の膜であっ
て、下地膜５としてシリコンを１０〜５０オングストロ
ームの厚さに成膜し、その上に保護層としてアモルファ
ス水素添加カーボンから成るＤＬＣ（ダイヤモンド・ラ
イク・カーボン）膜６を２０〜１００オングストローム
の厚さに成膜する。この下地膜５は白濁しているため、
保護膜全体が可視化され、保護膜の剥離などの欠陥を容
易に発見することができる。これにより、高品質のヘッ
ドスライダを提供することができる。
成した保護膜（下地膜）を可視化することにより、保護
膜の有無を容易に判別する。 【解決手段】 ヘッドスライダ１のＡＢＳ面２に可視化
した保護膜を備える。この保護膜は二層構造の膜であっ
て、下地膜５としてシリコンを１０〜５０オングストロ
ームの厚さに成膜し、その上に保護層としてアモルファ
ス水素添加カーボンから成るＤＬＣ（ダイヤモンド・ラ
イク・カーボン）膜６を２０〜１００オングストローム
の厚さに成膜する。この下地膜５は白濁しているため、
保護膜全体が可視化され、保護膜の剥離などの欠陥を容
易に発見することができる。これにより、高品質のヘッ
ドスライダを提供することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ヘッドスライ
ダとその製造方法に関し、特に、空気軸受け面の保護膜
の製造方法に関する。
ダとその製造方法に関し、特に、空気軸受け面の保護膜
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置は、データの書き込み
・読み出しを行う磁気ヘッドと、データを記録する磁気
ディスク媒体とを含んで構成される。
・読み出しを行う磁気ヘッドと、データを記録する磁気
ディスク媒体とを含んで構成される。
【０００３】図３（ａ）は、磁気ディスク装置に搭載す
る磁気ヘッドの主要部である磁気ヘッドスライダを示す
斜視図であり、図３（ｂ）は、同図（ａ）に示す空気流
出端３の部分拡大図である。
る磁気ヘッドの主要部である磁気ヘッドスライダを示す
斜視図であり、図３（ｂ）は、同図（ａ）に示す空気流
出端３の部分拡大図である。
【０００４】図３を参照すると、磁気ディスク装置にお
いて、磁気ディスク媒体（図示せず）が停止していると
きは、磁気ヘッドスライダ（以下、ヘッドスライダとい
う）１の空気軸受け面（以下、Air-Bearing Surface ：
ＡＢＳ面という）２と磁気ディスク媒体とが接触した状
態にあるが、磁気ディスク媒体が回転すると、回転に伴
って生じる空気流によってヘッドスライダ１が一定の高
さに浮揚する。そして、ＡＢＳ面２の空気流出端３に設
けられた電磁変換素子部４によりデータの書き込み・読
み出しが行われる。
いて、磁気ディスク媒体（図示せず）が停止していると
きは、磁気ヘッドスライダ（以下、ヘッドスライダとい
う）１の空気軸受け面（以下、Air-Bearing Surface ：
ＡＢＳ面という）２と磁気ディスク媒体とが接触した状
態にあるが、磁気ディスク媒体が回転すると、回転に伴
って生じる空気流によってヘッドスライダ１が一定の高
さに浮揚する。そして、ＡＢＳ面２の空気流出端３に設
けられた電磁変換素子部４によりデータの書き込み・読
み出しが行われる。
【０００５】通常、磁気ディスク装置では、磁気ディス
ク媒体が回転すると磁気ヘッドの主要部であるヘッドス
ライダ１が磁気ディスク媒体面から離れて浮上し、ま
た、磁気ディスク媒体の回転が停止するとヘッドスライ
ダ１が磁気ディスク媒体面と接触する、いわゆるコンタ
クト・スタート・ストップ（以下、Contact-Start-Sto
p：ＣＳＳという）方式が採用されており、近年、この
ＣＳＳに対する耐久性、すなわち、耐ＣＳＳ性の向上を
めざして、ヘッドスライダ１のＡＢＳ面２上に保護膜を
設けるのが一般的になっている。
ク媒体が回転すると磁気ヘッドの主要部であるヘッドス
ライダ１が磁気ディスク媒体面から離れて浮上し、ま
た、磁気ディスク媒体の回転が停止するとヘッドスライ
ダ１が磁気ディスク媒体面と接触する、いわゆるコンタ
クト・スタート・ストップ（以下、Contact-Start-Sto
p：ＣＳＳという）方式が採用されており、近年、この
ＣＳＳに対する耐久性、すなわち、耐ＣＳＳ性の向上を
めざして、ヘッドスライダ１のＡＢＳ面２上に保護膜を
設けるのが一般的になっている。
【０００６】この保護膜には、ＣＳＳに対する摩擦係数
低減に著しい効果があるアモルファス水素添加カーボン
膜（以下、Diamond-Like-Carbon ：ＤＬＣ膜という）が
広く用いられているが、ＤＬＣ膜から成る保護膜は、当
初、磁気抵抗変換素子（ＭＲ）を備えた磁気ヘッド用と
して検討されたものであって、ヘッドスライダの電磁変
換素子部の腐食を防ぐ効果も兼ね備えている。
低減に著しい効果があるアモルファス水素添加カーボン
膜（以下、Diamond-Like-Carbon ：ＤＬＣ膜という）が
広く用いられているが、ＤＬＣ膜から成る保護膜は、当
初、磁気抵抗変換素子（ＭＲ）を備えた磁気ヘッド用と
して検討されたものであって、ヘッドスライダの電磁変
換素子部の腐食を防ぐ効果も兼ね備えている。
【０００７】また、ＤＬＣ膜をヘッドスライダの保護膜
として使用するには、ヘッドスライダの材質であるＡｌ
2 Ｏ3 −ＴｉＣとの密着性を高めるために、下地膜とし
てシリコン系の膜が用いられている。従って、ヘッドス
ライダの保護膜は、下地膜のシリコン層と保護膜のＤＬ
Ｃ層とから成る二層構造の膜である。
として使用するには、ヘッドスライダの材質であるＡｌ
2 Ｏ3 −ＴｉＣとの密着性を高めるために、下地膜とし
てシリコン系の膜が用いられている。従って、ヘッドス
ライダの保護膜は、下地膜のシリコン層と保護膜のＤＬ
Ｃ層とから成る二層構造の膜である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のスライ
ダのＡＢＳ面の保護膜は、その膜厚による空隙損失を少
なくするために、可能な限り薄いことが望ましい。しか
し、従来の保護膜は極薄の膜であるため無色透明にな
り、目視では保護膜の有無を確認するのは非常に困難で
ある。また、このような極薄の保護膜は、磁気ディスク
装置の製造の過程において保護膜の剥離が発生した場
合、同様に剥離を発見するのが非常に困難であるという
欠点がある。
ダのＡＢＳ面の保護膜は、その膜厚による空隙損失を少
なくするために、可能な限り薄いことが望ましい。しか
し、従来の保護膜は極薄の膜であるため無色透明にな
り、目視では保護膜の有無を確認するのは非常に困難で
ある。また、このような極薄の保護膜は、磁気ディスク
装置の製造の過程において保護膜の剥離が発生した場
合、同様に剥離を発見するのが非常に困難であるという
欠点がある。
【０００９】本発明の目的は、ＡＢＳ面に形成された極
薄の保護膜を可視化することにより、保護膜の有無を容
易に判別可能にするとともに、磁気ディスク装置の製造
過程において保護膜剥離が発生した場合にも、目視レベ
ルで容易に発見可能にすることにより、高品質のヘッド
スライダを提供することにある。
薄の保護膜を可視化することにより、保護膜の有無を容
易に判別可能にするとともに、磁気ディスク装置の製造
過程において保護膜剥離が発生した場合にも、目視レベ
ルで容易に発見可能にすることにより、高品質のヘッド
スライダを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のスライダは、ヘ
ッドスライダの空気軸受け面に可視化した保護膜を有す
ることを特徴とし、前記保護膜は、下地層としてシリコ
ンを１０〜５０オングストロームの厚さに成膜し、その
上に保護層としてアモルファス水素添加カーボンを２０
〜１００オングストロームの厚さに成膜することを特徴
とする。
ッドスライダの空気軸受け面に可視化した保護膜を有す
ることを特徴とし、前記保護膜は、下地層としてシリコ
ンを１０〜５０オングストロームの厚さに成膜し、その
上に保護層としてアモルファス水素添加カーボンを２０
〜１００オングストロームの厚さに成膜することを特徴
とする。
【００１１】また、前記下地層はスパッタ法により成膜
し、その成膜条件として、 (1) ターゲット：多結晶ノンドープ・シリコン (2) 真空度：５×１０-4Ｐａ以下 (3) アルゴンガス流量：２０〜３０ｓｃｃｍ であることを特徴とする。
し、その成膜条件として、 (1) ターゲット：多結晶ノンドープ・シリコン (2) 真空度：５×１０-4Ｐａ以下 (3) アルゴンガス流量：２０〜３０ｓｃｃｍ であることを特徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。図１は、本発明の磁気ヘッドスライダの
一実施の形態を示す断面図である。また、図３は、磁気
ヘッドスライダの構成図およびその部分拡大図である。
して説明する。図１は、本発明の磁気ヘッドスライダの
一実施の形態を示す断面図である。また、図３は、磁気
ヘッドスライダの構成図およびその部分拡大図である。
【００１３】本実施例では、磁気ヘッドスライダ（以
下、ヘッドスライダという）を作成するために、１つの
真空チャンバー内に２つのターゲットを備えたスパッタ
ダウン型ＲＦスパッタ装置（以下、スパッタ装置とい
う）を使用し、以下に述べる工程によりヘッドスライダ
のＡＢＳ面上に保護膜を形成した。
下、ヘッドスライダという）を作成するために、１つの
真空チャンバー内に２つのターゲットを備えたスパッタ
ダウン型ＲＦスパッタ装置（以下、スパッタ装置とい
う）を使用し、以下に述べる工程によりヘッドスライダ
のＡＢＳ面上に保護膜を形成した。
【００１４】まず、図１および図３を参照すると、清浄
なヘッドスライダ１をスパッタ装置内（図示せず）の取
付け台に置き、チャンバー内の真空度が５×１０-4Ｐａ
に到達したところで、チャンバー内にアルゴンガスを導
入して５分間の逆スパッタを行う。ここで、ターゲット
に多結晶ノンドープシリコンを用いてスパッタを行い、
ヘッドスライダ１のＡＢＳ面２に下地膜（シリコン膜）
５を５０オングストロームの厚さに成膜する。
なヘッドスライダ１をスパッタ装置内（図示せず）の取
付け台に置き、チャンバー内の真空度が５×１０-4Ｐａ
に到達したところで、チャンバー内にアルゴンガスを導
入して５分間の逆スパッタを行う。ここで、ターゲット
に多結晶ノンドープシリコンを用いてスパッタを行い、
ヘッドスライダ１のＡＢＳ面２に下地膜（シリコン膜）
５を５０オングストロームの厚さに成膜する。
【００１５】次に、ターゲットにアモルファスカーボン
を用い、アルゴンガス中に水素ガスを２０％（この％
は、アルゴンガスの流量に対する水素ガスの流量％を示
す）混入ししてスパッタを行い、下地膜５の上にＤＬＣ
膜（アモルファス水素添加カーボン膜）６を５０オング
ストロームの厚さに成膜する。そして、成膜が終了した
時点でスパッタ装置のチャンバー内を大気圧に戻し、ヘ
ッドスライダ１をチャンバー内から取り出す。
を用い、アルゴンガス中に水素ガスを２０％（この％
は、アルゴンガスの流量に対する水素ガスの流量％を示
す）混入ししてスパッタを行い、下地膜５の上にＤＬＣ
膜（アモルファス水素添加カーボン膜）６を５０オング
ストロームの厚さに成膜する。そして、成膜が終了した
時点でスパッタ装置のチャンバー内を大気圧に戻し、ヘ
ッドスライダ１をチャンバー内から取り出す。
【００１６】成膜工程を終了したヘッドスライダ１を顕
微鏡で観察すると、ＡＢＳ面２上に白濁したシリコンの
下地膜５が確認できる。すなわち、ヘッドスライダ１の
ＡＢＳ面２に可視化された保護膜が形成されたことが判
る。
微鏡で観察すると、ＡＢＳ面２上に白濁したシリコンの
下地膜５が確認できる。すなわち、ヘッドスライダ１の
ＡＢＳ面２に可視化された保護膜が形成されたことが判
る。
【００１７】なお、上述した成膜の条件としては、下地
膜は、シリコンを厚さ１０〜５０オングストロームの範
囲で成膜すればよく、また、ＤＬＣ膜は、アモルファス
水素添加カーボンを厚さ２０〜１００オングストロー
ム、アルゴンガス流量を２０〜３０ｓｃｃｍの範囲で成
膜すればよい。
膜は、シリコンを厚さ１０〜５０オングストロームの範
囲で成膜すればよく、また、ＤＬＣ膜は、アモルファス
水素添加カーボンを厚さ２０〜１００オングストロー
ム、アルゴンガス流量を２０〜３０ｓｃｃｍの範囲で成
膜すればよい。
【００１８】次に、図２は、磁気ヘッドスライダにおけ
る保護膜の不具合を説明する断面図であって、図２
（ａ）は、磁気ヘッドスライダのＡＢＳ面に付着物（異
物）が残存した状態で保護膜が成膜された一例を示す。
る保護膜の不具合を説明する断面図であって、図２
（ａ）は、磁気ヘッドスライダのＡＢＳ面に付着物（異
物）が残存した状態で保護膜が成膜された一例を示す。
【００１９】図２（ａ）を参照すると、ヘッドスライダ
１のＡＢＳ面２に付着物７が存在した状態で下地膜５が
成膜されると、付着物７は、ＡＢＳ面２との密着力が著
しく劣るため、付着物７の上に成膜された保護膜はやが
てＡＢＳ面２上から剥離し、図２（ｂ）に示すように、
下地膜５およびＤＬＣ膜６の一部が剥離した箇所（図
中、剥離部８）のあるＡＢＳ面となる。
１のＡＢＳ面２に付着物７が存在した状態で下地膜５が
成膜されると、付着物７は、ＡＢＳ面２との密着力が著
しく劣るため、付着物７の上に成膜された保護膜はやが
てＡＢＳ面２上から剥離し、図２（ｂ）に示すように、
下地膜５およびＤＬＣ膜６の一部が剥離した箇所（図
中、剥離部８）のあるＡＢＳ面となる。
【００２０】このような、下地膜５およびＤＬＣ膜６の
剥離があるヘッドスライダ１を磁気ヘッドとして用いる
と、耐ＣＳＳ性に悪影響を与えるばかりでなく、例え
ば、図３（ｂ）に示すような、電磁変換素子４の近傍に
おいて保護膜が剥離した場合には、電磁変換素子４が腐
食する可能性がある。
剥離があるヘッドスライダ１を磁気ヘッドとして用いる
と、耐ＣＳＳ性に悪影響を与えるばかりでなく、例え
ば、図３（ｂ）に示すような、電磁変換素子４の近傍に
おいて保護膜が剥離した場合には、電磁変換素子４が腐
食する可能性がある。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、Ａ
ＢＳ面に保護膜を施した磁気ヘッドは、その保護膜（下
地膜）を白濁化させて可視化することにより、保護膜の
有無を容易に判別できる。
ＢＳ面に保護膜を施した磁気ヘッドは、その保護膜（下
地膜）を白濁化させて可視化することにより、保護膜の
有無を容易に判別できる。
【００２２】また、保護膜に剥離が発生した場合には、
ヘッドスライダの材質であるＡｌ2Ｏ3 −ＴｉＣと保護
膜の色調が異ることから、保護膜の剥離部を容易に発見
することができ、保護膜剥離による耐ＣＳＳ性の劣化、
電磁変換素子部の腐食の発生を未然に防止できるため、
高品質のヘッドスライダを提供できるという効果があ
る。
ヘッドスライダの材質であるＡｌ2Ｏ3 −ＴｉＣと保護
膜の色調が異ることから、保護膜の剥離部を容易に発見
することができ、保護膜剥離による耐ＣＳＳ性の劣化、
電磁変換素子部の腐食の発生を未然に防止できるため、
高品質のヘッドスライダを提供できるという効果があ
る。
【図１】本発明の磁気ヘッドスライダの一実施の形態を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図２】磁気ヘッドスライダにおける保護膜の不具合を
説明する断面図である。
説明する断面図である。
【図３】磁気ヘッドスライダの構成図およびその部分拡
大図である。
大図である。
１ ヘッドスライダ ２ ＡＢＳ面（空気軸受け面） ３ 空気流出端 ４ 電磁変換素子 ５ 下地膜（シリコン膜） ６ ＤＬＣ膜（アモルファス水素添加カーボン膜） ７ 付着物 ８ 剥離部
Claims (3)
- 【請求項１】 磁気ヘッドスライダの空気軸受け面に可
視化した保護膜を有することを特徴とする磁気ヘッドス
ライダ。 - 【請求項２】 前記保護膜は、下地層としてシリコンを
１０〜５０オングストローム成膜し、その上に保護層と
してアモルファス水素添加カーボンを２０〜１００オン
グストローム成膜することを特徴とする請求項１記載の
磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項３】 請求項２記載の磁気ヘッドスライダの製
造方法であって、前記下地層はスパッタ法により成膜
し、その成膜条件が、 (1) ターゲット：多結晶ノンドープ・シリコン (2) 真空度：５×１０-4Ｐａ以下 (3) アルゴンガス流量：２０〜３０ｓｃｃｍ であることを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4260996A JPH09231539A (ja) | 1996-02-29 | 1996-02-29 | 磁気ヘッドスライダとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4260996A JPH09231539A (ja) | 1996-02-29 | 1996-02-29 | 磁気ヘッドスライダとその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09231539A true JPH09231539A (ja) | 1997-09-05 |
Family
ID=12640780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4260996A Pending JPH09231539A (ja) | 1996-02-29 | 1996-02-29 | 磁気ヘッドスライダとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09231539A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7308751B2 (en) | 2003-09-30 | 2007-12-18 | Tdk Corporation | Magnetic head and method of manufacturing same, head suspension assembly and magnetic disk apparatus |
-
1996
- 1996-02-29 JP JP4260996A patent/JPH09231539A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7308751B2 (en) | 2003-09-30 | 2007-12-18 | Tdk Corporation | Magnetic head and method of manufacturing same, head suspension assembly and magnetic disk apparatus |
| US7312961B2 (en) | 2003-09-30 | 2007-12-25 | Tdk Corporation | Magnetic head and method of manufacturing same, head suspension assembly and magnetic disk apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19981215 |