JPH0923077A - ゴム構造体 - Google Patents

ゴム構造体

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JPH0923077A
JPH0923077A JP16965795A JP16965795A JPH0923077A JP H0923077 A JPH0923077 A JP H0923077A JP 16965795 A JP16965795 A JP 16965795A JP 16965795 A JP16965795 A JP 16965795A JP H0923077 A JPH0923077 A JP H0923077A
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JP
Japan
Prior art keywords
rubber
information processing
layers
external force
layer
Prior art date
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Application number
JP16965795A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuhiko Miyazaki
伸彦 宮崎
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【解決手段】 複数のゴムの層12,13からなり、一
部のゴム層13を通り越しゴム部12aが、表面を露出
し突出した略々球形状を有するように構成する。上記ゴ
ム層12をシリコーンゴム材の比較的硬いゴムとし、ゴ
ム層13をシリコーンゴム材の柔らかいゴムとしてな
る。 【効果】 高い摩擦力が得られ、凹凸のある面に設置さ
れても、また、外力に対しても安定した滑り止めとな
る。また、各ゴム層は相互に固く融着される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、コンピュ
ータ装置,ワークステーション端末機器,ワードプロセ
ッサ装置,電子式金銭登録装置,情報処理端末機器,携
帯情報処理装置などの情報処理装置、精密機器及び電子
機器等を机,床などに安定して設置するための滑り止め
用ゴム足、または、情報処理装置、精密機器及び電子機
器等に実装された電子回路部品を電子回路部品放熱板
に、伝熱、または放熱を行うための高熱伝導性ゴムのゴ
ム構造体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の上記のような分野に用いるゴム構
造体の滑り止め用ゴム足としては、 ・ 軟質ポリ塩化ビニールやウレタン樹脂製のものが使
用され、 ・ 更に安定して設置する場合は、ゴムの足の形状が平
滑な面であって、相対的に硬い、単一の材料からなり、 ・ また、類似技術として、実開平5ー51658号公
報には、硬度の低いゴムと 硬度の高いゴムとの積層構
造であって、このゴム金属板を焼付け加工され 、装
置本体へはネジ止めされるものが記載され、 ・ また、類似技術として、特開平6ー287376号
公報には、原材料からの組 成物のブレンドにより、静
摩擦係数を大きくして滑りにくくされるものが記載され ている。また、高熱伝導性ゴムとしては、電子機器等に
実装された電子回路部品を電子回路部品放熱板に伝熱ま
たは放熱を行うための、ゴム形状は、平滑な面であり、
しかも、単一の、相対的に硬い材料からなるものであ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】情報処理装置、精密機
器、電子機器等を、机,床等に安定して設置するための
滑り止め用ゴム足としては、軟質ポリ塩化ビニルやウレ
タン樹脂製のものが使用されている。しかし、これらの
滑り止め用ゴム足は、静摩擦係数が小さいため、電子機
器等に外力が加わった時には、滑り易く、十分な安定性
が得られない。
【0004】また、電子機器等を、特に凹凸のある机,
床などの設置面に、安定して設置する場合は、ゴム足の
形状が平滑な面で、しかも、相対的に硬い、単一の材料
であるために、静摩擦係数が、より一層小さくなり、電
子機器等に外力が加わった時には、滑り易く、十分な安
定性が得られない。
【0005】また、上記実開平5ー51658号公報に
記載された技術は、硬度の低いゴムと硬度の高いゴムと
の積層構造であって、振動音を低減させる効果が得られ
るが、特に、凹凸のある机,床などの設置面に、安定し
て設置する場合は、ゴム足の形状が平滑な面であるため
に、静摩擦係数が小さくなり、設置される装置に外力が
加わった時には、滑り易く、十分な安定性が得られな
い。
【0006】また、上記特開平6ー287376号公報
に記載された技術は、原材料からの組成物のブレンドに
より、静摩擦係数を大きくし、滑りにくく、十分な安定
性が得られるものとなっているが、特に、凹凸のある
机,床などの設置面に、安定して設置する場合は、実施
例に見られるゴムの硬度が、相対的に高いため、静摩擦
係数が小さくなり、設置される装置に外力が加わった時
には、滑り易く、十分な安定性が得られない。
【0007】更にまた、情報処理装置、精密機器、電子
機器等に実装された電子回路部品を電子回路部品放熱板
に伝熱、または放熱を行うための、高熱伝導性ゴムは、
平滑な面であり、しかも、単一の、硬い材料からなるも
のであり、凹凸のある電子回路部品放熱板への高熱伝導
性ゴムの密着性が好ましくなく、十分な高熱伝導性が得
られない等の課題があった。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明のゴム構造体は上
記のような課題を解決するため、第1の手段として、一
部のゴム層を通り越したゴム部を有する複数のゴムの層
であって、該通り越したゴム部が表面に露出し突出した
形状をしたものである。第2の手段として、上記一部の
ゴム層を通り越したゴム部は、略々球形状の複数個から
なるものである。
【0009】第3の手段として、上記表面に露出し突出
した形状のゴム部を有するゴム層は硬質のゴムより構成
し、他の一部のゴム層は粘着性の柔らかいゴムより構成
するものである。第4の手段として、上記複数のゴム層
のうち、硬質のゴム層はシリコーンゴム材からなり、他
の柔らかいゴム層はシリコーンゲル材からなるものであ
る。
【0010】第5の手段として、上記シリコーンゲル材
からなる柔らかいゴム層は、その層中に複数個の粒子が
混練されているものである。第6の手段として、上記表
面に露出し突出した形状のゴム部とは反対の電子部品放
熱板を装着する面に接着部を設けるものである。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明におけるゴム構造体の実施
の形態を図面と共に説明する。図1は、本ゴム構造体を
適用する例えば情報処理装置の外観斜視図であり、図2
及び図3は、上記情報処理装置を机,床などに設置する
設置面である情報処理装置の底面から見た、各形状の異
なるゴム足を取り付けた状態を示す外観斜視図である。
【0012】図1において、情報処理装置1は、本体部
2に文字,記号等の文書情報等を表示する表示部3、磁
気カード読み取り装置4を備えたものであって、磁気カ
ード6を本体部2に設けられた磁気カード挿入溝5に挿
入し、磁気カード読み取り装置4により、磁気カード6
から情報処理装置1に文字,記号等の文書情報等を読み
取らせ、情報処理装置1内で、情報処理後、表示部3に
表示させるものである。磁気カード6が本体部2に設け
られた磁気カード挿入溝5に挿入され、磁気カード読み
取り装置4を通る時に、情報処理装置1に外力Fが加わ
る。
【0013】尚、情報処理装置1の机,床などの設置す
る設置面2aが、滑り易いもので構成されている場合、
即ち、机,床などの面と情報処理装置1の設置面2aと
の静摩擦係数が、情報処理装置1に加わる外力Fよりも
小さい場合は、情報処理装置1は、滑り、十分な安定性
が得られないという問題が発生する。また、凹凸のある
机,床などに情報処理装置1を設置した場合も、机,床
などの面と情報処理装置1の設置面2aとの静摩擦係数
が、情報処理装置1に加わる外力Fよりも小さくなり、
情報処理装置1は、滑り、十分な安定性が得られないと
いう問題が発生する。
【0014】図2において、成形または型抜きにより、
円形状に加工した本発明のゴム構造体を適用したゴム足
7,7,・・・を、このゴム足7,7,・・・の片面に
設けた下記する接着部により、情報処理装置1の底面に
貼り付けるものである。図3において、成形または型抜
きにより、矩形状に加工した本発明のゴム構造体を適用
したゴム足9,9,をゴム足9の片面に設けた下記する
接着部により、情報処理装置1の底面8に貼り付けるも
のである。
【0015】以下に実施の形態としてのゴム足7若しく
は9の本ゴム構造体を図4,図5で説明する。図4
(a)は、本ゴム構造体11の断面図であり、図4
(b)は、ゴム足7若しくは9として設置された状態、
即ち、ゴムに外力fが加わって変形した状態のゴムのメ
カニズムを示すゴム構造体11の断面図であり、図5は
ゴム構造体11の外観を示す斜視図である。
【0016】図4,図5において、ゴム構造体11は、
複数からなるゴムの層12,13であって、一部のゴム
層13を通り越して、この通り越したゴム部12aが、
表面に露出し突出した略々球形状を有するものである。
上記ゴム層12及びゴム部12aは比較的硬いゴム材か
らなり、また、ゴム層(部)13は粘着性を有し、相対
的に柔らかいゴム材からなり、ゴム層12の片面に接着
剤の層からなる接着部14が設けられている。上記硬い
ゴム層12のゴム部12aは、略々球形状を有している
ので、構造的に弾力性と繰り返しの弾力復元性を備えて
いる。
【0017】上記図4(a)に示すゴム構造体11のよ
うに、外力fが加わらない状態では、突出した略々球形
状の硬いゴム部12aは変形しておらず、このゴム部1
2aの高さはHaである。また、粘着性を有し、相対的
に柔らかいゴム層13の高さはHbである。上記高さH
aとHbの差に相当する寸法(Sa+Sb)分が、硬質
のゴム部12aが柔らかいゴム部13より突出してい
る。
【0018】上記図4(a)に示すゴム構造体11の状
態から図4(b)に示すゴム構造体11のように外力f
が加わると、突出した略々球形状の硬いゴム部12a
は、弾力性があるため、略々球形状態から略々円錐台形
状態のゴム部12a′に変化し、このゴム部12a′の
高さは、上記の高さHaから寸法Sa分が小さくなり、
ゴム構造体11に加わる外力fとこのゴム構造体11の
内部応力とが平衡状態となった高さLとなる。また、同
時に、粘着性を有し、相対的に柔らかいゴム部13の高
さHbの状態から寸法Sb分が大きくなった進出状態の
ゴム部13′に変化し、このゴム部13′の高さはLと
なる。
【0019】上記図4(b)からも明らかなように、ゴ
ム構造体11は、突出した略々球形状を有する硬いゴム
部12aが、略々円錐台形状態の横方向に膨らんだ形の
ゴム部12a′に変化したために、粘着性を有し相対的
に柔らかいゴム部13が、柔らかいため、力の開放方向
である下方向に盛り上がるように進出状態のゴム部1
3′となる。このことにより、凹凸のある面に設置され
ても、設置面に対して、粘着性による密着性を高め、図
1のような、情報処理装置に、外力Fが働く場合に対し
ても、安定した滑り止めが可能であり、また、振動,衝
撃の低減が可能となる。
【0020】一方、上記ゴム構造体11のゴム足7若し
くは9が、外力fから解除された場合は、図4(b)の
状態から図4(a)に示すような元の状態へと、上記メ
カニズムを溯り、容易に復元が可能である。ゴム構造体
11の構成材料として、硬いゴム部12,12aは、シ
リコーンゴム材により構成され、粘着性を有し、相対的
に柔らかいゴム部13は、シリコーンゲル材により構成
されている。上記ゴム部12,13が同系統の材料どう
しであるため、シリコーンゴム材とシリコーンゲル材と
の接着面で、相互に、硬く融着することが可能であり、
ゴムの成形、型抜き加工も容易であり、又、粘着性の経
時変化、及びゴムの移行性が発生しないものとなる。ま
た、ゴムの廃棄の際も容易である。
【0021】また、本ゴム構造体の他の実施例を図6で
説明する。図6(a)は、本ゴム構造体11の断面図で
あり、図6(b)は、上記ゴム足7若しくは9として設
置された状態、即ち、ゴムに外力fが加わって変形した
状態のゴムのメカニズムを示すゴム構造体11の断面図
である。
【0022】図6(a)及び図6(b)において、ゴム
構造体11は、図4(a)及び図4(b)と同一部分は
同一符号で記すが、複数のゴムの層12,13であっ
て、一部のゴム層13を通り越して、この通り越したゴ
ム部12aが、表面に露出し突出した略々球形状を有す
るものである。上記ゴム層12及びゴム部12aは比較
的硬いゴム材からなり、ゴム層(部)13は粘着性を有
し、相対的に柔らかいゴム材からなり、このゴム部13
の中には複数の粒子15が混練されている。上記ゴム層
12の片面に接着剤の層からなる接着部14が設けられ
ている。
【0023】上記複数の粒子15が柔らかいゴム部13
の中にのみ混練されているのは、複数の粒子15を混練
しても、その機材の柔らかさにより、ゴム構造体11に
外力fが加わって、図6(b)のような状態になって
も、十分なゴムの弾力性及び繰り返しの弾力復元性を実
現するものである。もし、上記硬いゴム層12及びゴム
部12aに複数の粒子が混練されれば、突出した略々球
形状の硬いゴム部12aが一層硬くなり、十分な弾力性
及び繰り返しの弾力復元性を発揮しなくなる。ゴム部1
3に複数の粒子15を混練することにより、柔らかいゴ
ム部を補強することができる。
【0024】図7は、上記ゴム構造体11を高熱伝導体
ゴムに実施した放熱装置の一部側断面図である。例え
ば、上記情報処理装置1に実装された電子回路部品16
を電子回路部品放熱板17に効率良く、伝熱または放熱
を行うために、クッション性を持たせて、且つ、凹凸の
ある電子回路部品放熱板17にも、粘着性と、凹凸に対
する馴染みを持たせて密着する高熱伝導性ゴム21を介
在させている。
【0025】上記高熱伝導性ゴム21は、成形または型
抜きにより加工した、本発明のゴム構造体を片面に設け
た接着部14により、電子回路部品16に貼り付けた状
態にある。上記高熱伝導性ゴム21のゴム部13に、混
練した複数の粒子15として、ファインセラミックス系
やマイカ等の高熱伝導性材料を使うことにより、熱伝導
性を高めることができる。また、電子回路部品放熱板1
7の表面が凹凸のある場合でも、高熱伝導性ゴム21の
ゴム部12a′,13′の密着性がよく、十分な高熱伝
導が得られる。
【0026】
【発明の効果】本発明のゴム構造体は、上記のような構
成であるから、請求項1の効果として高い摩擦力が得ら
れ、凹凸のある面に設置されても、また、外力に対して
も、安定した滑り止めとなる。請求項2の効果として、
構造的に、弾力性と繰り返し弾力の復元性を高めること
ができる。
【0027】請求項3の効果として、凹凸のある面に設
置されても、設置面に対して、粘着性による密着性を高
め、外力に対して、安定した滑り止めとなり、振動、衝
撃の低減が可能となる。請求項4の効果として、各ゴム
層が同系統の材料どうしのため、シリコーンゴム材とシ
リコーンゲル材との接着面で、相互に固く融着すること
ができる。また、加硫反応済のものであるため、粘着性
の経時変化が発生せず、また、ゴムの移行性が発生しな
い。
【0028】請求項5の効果として、柔らかいゴム層を
補強することができる。請求項6の効果として、高熱伝
導性材料の粒子を混練させることにより、高熱伝導性ゴ
ム材を作成され、容易に装置本体に貼り付けられ、凹凸
のある電子回路放熱板の面にも、均一に密着されて、安
定した高熱伝導性ゴム構造とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のゴム構造体を適用した情報処理装置の
外観斜視図である。
【図2】本発明のゴム構造体を適用した情報処理装置の
底面から見た外観斜視図である。
【図3】本発明のゴム構造体を適用した情報処理装置の
底面から見た他の外観斜視図である。
【図4】本ゴム構造体の断面図である。
【図5】本ゴム構造体の外観斜視図である。
【図6】本ゴム構造体の他の実施例の断面図である。
【図7】本ゴム構造体を放熱装置に実施したときの一部
側断面図である。
【符号の説明】
1 情報処理装置 3 表示部 6 磁気カード 7,9 ゴム足 11 ゴム構造体 12,13 ゴム層 12a 略々球形状のゴム部 14 接着部 15 粒子 16 電子回路部品 17 電子回路部品放熱板 21 高熱伝導性ゴム

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一部のゴム層を通り越したゴム部を有す
    る複数のゴムの層であって、該通り越したゴム部が表面
    に露出し突出した形状を有すことを特徴とするゴム構造
    体。
  2. 【請求項2】 上記一部のゴム層を通り越したゴム部
    は、略々球形状の複数個からなることを特徴とする、請
    求項1に記載のゴム構造体。
  3. 【請求項3】 上記表面に露出し突出した形状のゴム部
    を有するゴム層は硬質のゴムより構成し、他の一部のゴ
    ム層は粘着性の柔らかいゴムより構成することを特徴と
    する、請求項1に記載のゴム構造体。
  4. 【請求項4】 上記複数のゴム層のうち、硬質のゴム層
    はシリコ−ンゴム材からなり、他の柔らかいゴム層はシ
    リコ−ンゲル材からなることを特徴とする、請求項1に
    記載のゴム構造体。
  5. 【請求項5】 上記シリコ−ンゲル材からなる柔らかい
    ゴム層は、該ゴム層中に複数個の粒子が混練されている
    ことを特徴とする、請求項4に記載のゴム構造体。
  6. 【請求項6】 上記表面に露出し突出した形状のゴム部
    とは反対の電子部品放熱板を装着する面に接着部を設け
    ることを特徴とする、請求項5に記載のゴム構造体。
JP16965795A 1995-07-05 1995-07-05 ゴム構造体 Pending JPH0923077A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011093548A (ja) * 2009-10-28 2011-05-12 Gifu Plast Ind Co Ltd パレット用帯ゴム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011093548A (ja) * 2009-10-28 2011-05-12 Gifu Plast Ind Co Ltd パレット用帯ゴム

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