JPH09222525A - Production of optical waveguide - Google Patents

Production of optical waveguide

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JPH09222525A
JPH09222525A JP5387796A JP5387796A JPH09222525A JP H09222525 A JPH09222525 A JP H09222525A JP 5387796 A JP5387796 A JP 5387796A JP 5387796 A JP5387796 A JP 5387796A JP H09222525 A JPH09222525 A JP H09222525A
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JP
Japan
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clad layer
optical waveguide
core
glass
layer
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JP5387796A
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Japanese (ja)
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Tooru Kineri
透 木練
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TDK Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make productivity high, cost low and loss low and to make it possible to arbitrarily control the refractive index difference between core and clad by forming the cores and upper clad layer by a screen printing method or spin coating method. SOLUTION: This optical waveguide has a lower clad layer 3 on a substrate 2 and the cores 4 having a rectangular section on the lower clad layer 3. Both flanks and front surfaces of the cores 4 are coated with the upper clad layer 5. The formation of the cores 4 and the upper clad layer 5 is executed by applying a coating liquid contg. glass power by screen printing or spin coating, then, baking the coating. The screen printing method or spin coating method is used for forming the lower clad layer 3 in the case the optical waveguide having the structure having the lower clad layer 3 on the substrate 2 is manufactured. A method for applying the coating liquid contg. the glass powder by the screen printing or spin coating, then baking the coating is used for the formation of the cores 4 and the clad layer 3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光通信分野におい
て、分波器、合波器、光スイッチング素子等の光受動部
品などに用いられる光導波路の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing an optical waveguide used for optical passive components such as demultiplexers, multiplexers, and optical switching elements in the field of optical communication.

【0002】[0002]

【従来の技術】光通信の実用化に伴ない、光導波路が注
目されている。光導波路は、高屈折率材からなるコアの
周囲を低屈折率材からなるクラッドで被覆したものであ
る。
2. Description of the Related Art With the practical use of optical communication, optical waveguides are receiving attention. The optical waveguide comprises a core made of a high refractive index material and a clad made of a low refractive index material surrounding the core.

【0003】光導波路の作製方法としては、スパッタ
法、化学的気相成長(CVD)法、真空蒸着法、イオン
交換法等が提案されている(例えば、光集積回路;西原
等共著;オーム社;p145 〜p158 (1985))。
As a method of manufacturing an optical waveguide, a sputtering method, a chemical vapor deposition (CVD) method, a vacuum deposition method, an ion exchange method, etc. have been proposed (for example, optical integrated circuit; co-authored by Nishihara et al .; Ohmsha). P145-p158 (1985)).

【0004】これらの作製方法の中で、スパッタ法、C
VD法または真空蒸着法と、微細加工技術とを併用した
方法では、境界が明瞭な矩形断面を有するコアが得られ
る。特に、光ファイバー作製方法の応用技術である火炎
堆積(FHD)法と、ガラス微細加工技術である反応性
イオンエッチング技術とを併用した場合、損失の低い導
波路が得られている(例えば、鈴木等、電子情報通信学
会論文誌 C-I, Vol.J77-C-I, No.5 P184-193 (199
4) )。
Among these manufacturing methods, the sputtering method and C
The method using the VD method or the vacuum deposition method in combination with the fine processing technique can provide a core having a rectangular cross section with a clear boundary. In particular, when the flame deposition (FHD) method, which is an application technology of the optical fiber manufacturing method, and the reactive ion etching technology, which is a glass microfabrication technology, are used together, a waveguide with low loss is obtained (for example, Suzuki et al. , IEICE Transactions CI, Vol.J77-CI, No.5 P184-193 (199
Four) ).

【0005】スパッタ法で作製された導波路としては、
例えばコーニング7059ガラスターゲットを用い、石
英ガラス基板やパイレックスガラス基板、ソーダガラス
基板の上に成膜したものが知られている。しかし、スパ
ッタ法では、基板上の広い範囲にわたって厚さの均一性
が高い薄膜を形成することが困難であるため、大面積の
基板を用いて多数の光導波路を同時に作製することが難
しく、量産性に劣る。また、スパッタ法では緻密な薄膜
を形成することが困難であるため、伝搬損失が、通常、
3〜4dB/cm 程度と大きくなってしまう。また、スパッ
タ法では、原料ガラスに添加元素が多いと、スパッタ条
件によって膜組成が変動しやすくなるため、コアおよび
クラッド共に一般に石英系ガラスを用いる。このため、
コアとクラッドとの間の屈折率差を任意に制御すること
が困難である。
As a waveguide manufactured by the sputtering method,
For example, it is known that a Corning 7059 glass target is used to form a film on a quartz glass substrate, a Pyrex glass substrate, or a soda glass substrate. However, with the sputtering method, it is difficult to form a thin film with high uniformity of thickness over a wide range on the substrate, so it is difficult to fabricate a large number of optical waveguides at the same time using a large-area substrate, and mass production is difficult. Inferior in sex. In addition, since it is difficult to form a dense thin film by the sputtering method, the propagation loss is usually
It will be as large as 3-4 dB / cm. Further, in the sputtering method, if the raw material glass contains many additional elements, the film composition is likely to change depending on the sputtering conditions. Therefore, silica glass is generally used for both the core and the clad. For this reason,
It is difficult to arbitrarily control the refractive index difference between the core and the clad.

【0006】CVD法で作製された光導波路としては、
石英ガラス基板上にSiO2 −GeO2 ガラスを成膜し
たものが知られている。このCVD法では、キャリヤガ
スとして酸素を用い、SiCl4 、GeCl4 等の原料
ガスを真空室に導入し、酸化反応を起こさせ、薄膜を形
成する。このようにして得られた光導波路の伝搬損失
は、0.1 dB /cm 以下であると報告されている。しか
し、この方法は、工程が複雑であり、また、作製装置が
高価であり、また、原料ガスとして危険性の高いものを
用いるため、より簡便で安全な方法が求められている。
As an optical waveguide manufactured by the CVD method,
It is known that a SiO 2 —GeO 2 glass film is formed on a quartz glass substrate. In this CVD method, oxygen is used as a carrier gas, and a raw material gas such as SiCl 4 , GeCl 4 or the like is introduced into a vacuum chamber to cause an oxidation reaction to form a thin film. The propagation loss of the optical waveguide thus obtained is reported to be 0.1 dB / cm or less. However, this method requires complicated steps, a manufacturing apparatus is expensive, and a source gas having a high risk is used. Therefore, a simpler and safer method is required.

【0007】真空蒸着法は、カルコゲナイド非晶質薄膜
光導波路の作製方法として知られている。この方法で
は、真空度が10-3Pa以下の環境下において、MoやT
a、W等のボートで蒸着源を加熱し、基板上に薄膜を付
着させる。しかし、この方法は、上記したスパッタ法と
同様に基板上の広い範囲にわたって厚さの均一性が高い
薄膜を形成することが困難である。
The vacuum vapor deposition method is known as a method for producing a chalcogenide amorphous thin film optical waveguide. According to this method, Mo and T can be used in an environment where the degree of vacuum is 10 -3 Pa or less.
The evaporation source is heated by a boat such as a or W to deposit a thin film on the substrate. However, this method is difficult to form a thin film having a high thickness uniformity over a wide range on the substrate, as in the above-described sputtering method.

【0008】これらの他、イオン交換法を利用して光導
波路を作製することもできる。イオン交換法を用いる場
合、例えば、ガラス基板をある温度以上に昇温した後、
外部から所望のイオンをガラス基板内部に拡散させ、ガ
ラス基板内部のNa+ イオンなどと置き換えることでガ
ラス基板内部に屈折率分布をもたせて光導波路とする。
このイオン交換法で作製された光導波路の断面形状は半
円形や楕円形であり、また、コアとクラッドとの境界が
不明瞭となるので、十分な光閉じ込め効果を得ることが
困難である。
In addition to these, the optical waveguide can be manufactured by utilizing the ion exchange method. When using the ion exchange method, for example, after heating the glass substrate to a certain temperature or higher,
Desired ions are diffused from the outside into the glass substrate and replaced with Na + ions or the like inside the glass substrate to give a refractive index distribution inside the glass substrate to form an optical waveguide.
The cross-sectional shape of the optical waveguide manufactured by this ion exchange method is semicircular or elliptical, and the boundary between the core and the clad becomes unclear, so that it is difficult to obtain a sufficient optical confinement effect.

【0009】以上のように、上記各製造方法では、製造
装置が大型で高価なものであったり、量産性に乏しかっ
たり、伝搬損失が大きくなったりするという問題点があ
る。このため、従来、光導波路を用いた各種光部品はコ
ストが高く、また、低損失の光導波路を簡便に得ること
も困難であった。
As described above, in each of the above manufacturing methods, there are problems that the manufacturing apparatus is large and expensive, the mass productivity is poor, and the propagation loss is large. For this reason, conventionally, various optical components using an optical waveguide are expensive, and it is also difficult to easily obtain a low-loss optical waveguide.

【0010】また、従来の製造方法では、一般に、コア
およびクラッドを石英系材料から構成し、コアとクラッ
ドとの間の屈折率差はGe等の添加元素のドープによっ
て実現するため、屈折率差を任意に制御することには限
界があった。このため、マルチモード用で高性能な光導
波路の製造は困難であった。
Further, in the conventional manufacturing method, the core and the clad are generally made of a silica-based material, and the difference in the refractive index between the core and the clad is realized by doping with an additive element such as Ge. There was a limit to the arbitrary control of. Therefore, it has been difficult to manufacture a high-performance optical waveguide for multimode.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、生産
性に優れ、安価でしかも低損失であり、また、コアとク
ラッドとの間の屈折率差を任意に制御することが可能な
光導波路を製造する方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an optical waveguide which is excellent in productivity, inexpensive, low in loss, and capable of arbitrarily controlling a refractive index difference between a core and a clad. It is to provide a method for manufacturing a waveguide.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(5)のいずれかの構成により達成される。 (1)コアの周面が下部クラッド層と上部クラッド層と
で被覆されている光導波路を製造する方法であって、コ
アおよび上部クラッド層の形成に、ガラス粉末を含む塗
布液をスクリーン印刷またはスピンコーティングにより
塗布した後、焼成する方法を用いる光導波路の製造方
法。 (2)下部クラッド層の形成に、ガラス粉末を含む塗布
液をスクリーン印刷またはスピンコーティングにより塗
布した後、焼成する方法を用いる上記(1)の光導波路
の製造方法。 (3)コア形成工程が、エッチング法で形状加工する工
程を含む上記(1)または(2)の光導波路の製造方
法。 (4)前記ガラス粉末の重量平均粒径をD50とし、前記
ガラス粉末を構成するガラス粒子の粒径の標準偏差をσ
d としたとき、 σd /D50≦5 である上記(1)〜(3)のいずれかの光導波路の製造
方法。 (5)前記ガラス粉末の重量平均粒径D50が0.2〜2
μm である上記(1)〜(4)のいずれかの光導波路の
製造方法。
This object is achieved by any one of the following constitutions (1) to (5). (1) A method of manufacturing an optical waveguide in which a peripheral surface of a core is covered with a lower clad layer and an upper clad layer, wherein a coating solution containing glass powder is screen-printed or formed on the core and the upper clad layer. A method for manufacturing an optical waveguide using a method of applying by spin coating and then baking. (2) The method for producing an optical waveguide according to (1) above, wherein a coating solution containing glass powder is applied by screen printing or spin coating to form the lower clad layer, followed by firing. (3) The method of manufacturing an optical waveguide according to (1) or (2) above, wherein the core forming step includes a step of processing the shape by an etching method. (4) The weight average particle diameter of the glass powder is D 50, and the standard deviation of the particle diameters of the glass particles constituting the glass powder is σ.
When d is set, σ d / D 50 ≦ 5, The method for producing an optical waveguide according to any one of the above (1) to (3). (5) The weight average particle diameter D 50 of the glass powder is 0.2 to 2
The method for producing an optical waveguide according to any one of (1) to (4) above, wherein the optical waveguide has a thickness of μm.

【0013】[0013]

【作用および効果】光導波路は、コアの周面が下部クラ
ッド層と上部クラッド層とで被覆された構成を有する。
本発明では、このような光導波路を製造するに際し、少
なくともコアと上部クラッド層とをスクリーン印刷法ま
たはスピンコーティング法を利用して形成する。
[Operation and Effect] The optical waveguide has a structure in which the peripheral surface of the core is covered with the lower clad layer and the upper clad layer.
In the present invention, at the time of manufacturing such an optical waveguide, at least the core and the upper clad layer are formed by screen printing or spin coating.

【0014】スクリーン印刷法やスピンコーティング法
は、大面積の基板表面に均一な厚さの膜を形成できるた
め生産性を高くでき、また、従来のような複雑な工程が
不要で、高価な装置や危険性の高い原料を用いる必要も
ない。しかも、本発明では、伝搬損失の極めて小さい光
導波路が得られる。このため、本発明によれば、生産性
に優れ、安価で低損失の光導波路が実現する。
The screen printing method and the spin coating method can increase the productivity because a film having a uniform thickness can be formed on the surface of a large-area substrate, and the complicated steps required in the prior art are not required, resulting in an expensive apparatus. There is no need to use high-risk raw materials. Moreover, according to the present invention, an optical waveguide having extremely small propagation loss can be obtained. Therefore, according to the present invention, an optical waveguide having excellent productivity, low cost and low loss can be realized.

【0015】また、本発明の製造方法ではコアやクラッ
ド層の材質が限定されず、材質選択の自由度が高いの
で、コアとクラッド層との間の屈折率差を任意に制御す
ることができる。
Further, in the manufacturing method of the present invention, the material of the core and the clad layer is not limited, and the degree of freedom in selecting the material is high, so that the difference in the refractive index between the core and the clad layer can be arbitrarily controlled. .

【0016】また、コア形成の際にエッチングにより形
状加工することで、コア表面の平坦性が極めて良好とな
るので、さらに低損失の光導波路が得られる。
Further, since the flatness of the surface of the core is extremely improved by shaping the core by etching when forming the core, an optical waveguide having a further lower loss can be obtained.

【0017】また、スクリーン印刷法やスピンコーティ
ング法に用いるガラス粉末の重量平均粒径や粒径の標準
偏差を制御することにより、コアとクラッド層との界面
の平坦性を良好にでき、また、残存気泡の少ない均質な
コアやクラッド層が得られるので、伝搬損失を著しく低
くすることができる。
Further, the flatness of the interface between the core and the clad layer can be improved by controlling the weight average particle diameter and the standard deviation of the particle diameter of the glass powder used in the screen printing method and the spin coating method. Since a uniform core and clad layer with few remaining bubbles can be obtained, the propagation loss can be remarkably reduced.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail.

【0019】本発明の光導波路の構成例の断面図を、図
1および図2にそれぞれ示す。図1に示す光導波路は、
基板2上に下部クラッド層3を有し、下部クラッド層3
上に矩形状断面をもつコア4を有し、コア4の両側面お
よび上面を上部クラッド層5で被覆している。図2に示
す光導波路は、基板としての機能も有する下部クラッド
層3上に矩形状断面をもつコア4を有し、コア4の両側
面および上面を上部クラッド層5で被覆している。
Cross-sectional views of structural examples of the optical waveguide of the present invention are shown in FIGS. 1 and 2, respectively. The optical waveguide shown in FIG.
The lower clad layer 3 is provided on the substrate 2, and the lower clad layer 3
A core 4 having a rectangular cross section is provided above, and both side surfaces and an upper surface of the core 4 are covered with an upper clad layer 5. The optical waveguide shown in FIG. 2 has a core 4 having a rectangular cross section on a lower clad layer 3 which also functions as a substrate, and both side surfaces and an upper surface of the core 4 are covered with an upper clad layer 5.

【0020】本発明では、図2に示す構造の光導波路を
作製する場合、コア4および上部クラッド層5の形成
に、ガラス粉末を含む塗布液をスクリーン印刷またはス
ピンコーティングにより塗布した後、焼成する方法を用
いる。また、図1に示すような基板2上に下部クラッド
層3を有する構造の光導波路を作製する場合には、下部
クラッド層3の形成にも、スクリーン印刷法またはスピ
ンコーティング法を用いる。
In the present invention, when the optical waveguide having the structure shown in FIG. 2 is produced, a coating liquid containing glass powder is applied to the formation of the core 4 and the upper clad layer 5 by screen printing or spin coating, followed by firing. Use the method. Further, when an optical waveguide having a structure in which the lower clad layer 3 is provided on the substrate 2 as shown in FIG. 1, a screen printing method or a spin coating method is also used for forming the lower clad layer 3.

【0021】以下、図1に示す構造の光導波路の製造に
本発明を適用する場合について、図面を用いて説明す
る。
The case where the present invention is applied to the manufacture of the optical waveguide having the structure shown in FIG. 1 will be described below with reference to the drawings.

【0022】本発明の第一の態様では、まず、図3
(a)に示すように、基板2上に下部クラッド層用ガラ
スペースト層31を形成し、乾燥、または乾燥および焼
成する。次に、図3(b)に示すように、下部クラッド
層用ガラスペースト層31上に、コア用ガラスペースト
層41を所定のコアパターンとなるように形成し、乾
燥、または乾燥および焼成する。次に、図3(c)に示
すように、上部クラッド層用ガラスペースト層51を形
成した後、乾燥して焼成し、光導波路を得る。
In the first embodiment of the present invention, first, referring to FIG.
As shown in (a), the glass paste layer 31 for the lower clad layer is formed on the substrate 2 and dried, or dried and baked. Next, as shown in FIG. 3B, the glass paste layer 41 for core is formed on the glass paste layer 31 for lower clad layer so as to have a predetermined core pattern, and dried or dried and baked. Next, as shown in FIG. 3C, after forming the glass paste layer 51 for the upper cladding layer, it is dried and baked to obtain an optical waveguide.

【0023】図3(b)において、コア用ガラスペース
ト層41の形成にスクリーン印刷法を用いれば、所定の
コアパターンが直接得られる。一方、コア用ガラスペー
スト層41の形成にスピンコーティング法を用いる場
合、下部クラッド層用ガラスペースト層31上に、コア
のネガ形状となる凹部パターンをレジスト等によりあら
かじめ形成しておけば、スピンコーティングの際に前記
凹部に塗布液が侵入し、コア形状のガラスペースト層が
得られる。そして、その後、レジストを除去すればよ
い。
In FIG. 3B, if a screen printing method is used to form the glass paste layer 41 for core, a predetermined core pattern can be directly obtained. On the other hand, when the spin coating method is used to form the glass paste layer 41 for core, if a concave pattern having a negative shape of the core is previously formed on the glass paste layer 31 for lower cladding layer with a resist or the like, spin coating is performed. At this time, the coating solution penetrates into the recesses, and a core-shaped glass paste layer is obtained. Then, after that, the resist may be removed.

【0024】本発明の第二の態様では、まず、図4
(a)に示すように、基板2上に下部クラッド層用ガラ
スペースト層31を形成し、乾燥、または乾燥および焼
成する。次に、図4(b)に示すように、下部クラッド
層用ガラスペースト層31の全面に、コア用ガラスペー
スト層41を形成し、乾燥、または乾燥および焼成す
る。
In the second aspect of the present invention, first, referring to FIG.
As shown in (a), the glass paste layer 31 for the lower clad layer is formed on the substrate 2 and dried, or dried and baked. Next, as shown in FIG. 4B, the glass paste layer 41 for core is formed on the entire surface of the glass paste layer 31 for lower clad layer, and dried or dried and baked.

【0025】次に、図4(c)に示すように、コア用ガ
ラスペースト層41上にマスクパターン42を形成す
る。マスクパターン42は、コア用ガラスペースト層4
1をエッチング等によりコアパターンとする際のマスク
となるものであり、W等の各種金属から構成されること
が好ましい。この場合、まず、コア用ガラスペースト層
41上のコア形成領域以外にレジスト層を形成し、その
上からマスク層をスパッタ法などにより形成する。次い
で、レジスト層を除去することにより、コア形成領域だ
けにマスク層を残してマスクパターン42とする。
Next, as shown in FIG. 4C, a mask pattern 42 is formed on the core glass paste layer 41. The mask pattern 42 is the glass paste layer 4 for the core.
1 serves as a mask when forming a core pattern by etching or the like, and is preferably made of various metals such as W. In this case, first, a resist layer is formed on the glass paste layer 41 for cores other than the core forming region, and a mask layer is formed thereon by a sputtering method or the like. Next, by removing the resist layer, the mask layer is left only in the core formation region to form the mask pattern 42.

【0026】次いで、図4(d)に示すように、コア用
ガラスペースト層41のマスクパターン42で被覆され
た領域以外を選択的に除去し、コアパターンとする。こ
の選択的除去には、ウエットエッチング法またはドライ
エッチング法を用いることが好ましい。ドライエッチン
グ法としては、反応性イオンエッチング法(RIE
法)、プラズマエッチング法、イオンビームエッチング
法などが利用できるが、特に限定されるものではない。
コアパターン形成後、エッチング等によりマスクパター
ン42を除去する。
Next, as shown in FIG. 4D, the core glass paste layer 41 is selectively removed except for the area covered with the mask pattern 42 to form a core pattern. It is preferable to use a wet etching method or a dry etching method for this selective removal. As a dry etching method, a reactive ion etching method (RIE
Method), a plasma etching method, an ion beam etching method, and the like can be used, but the method is not particularly limited.
After forming the core pattern, the mask pattern 42 is removed by etching or the like.

【0027】次に、図4(e)に示すように、上部クラ
ッド層用ガラスペースト層51を形成した後、乾燥して
焼成し、光導波路を得る。
Next, as shown in FIG. 4 (e), after forming the glass paste layer 51 for the upper cladding layer, it is dried and baked to obtain an optical waveguide.

【0028】上記各態様において、全ガラスペースト層
を積層した後に一度だけ焼成を行う構成とすれば、工数
を少なくできるので低コスト化が可能となり、また、エ
ッチングによる形状加工も容易となる。一方、各ペース
ト層を形成するたびに焼成を行えば、コアとクラッド層
との界面の平坦性が極めて良好となり、伝搬損失を著し
く小さくできる。なお、これら両方法の利点をいかすた
めに、例えば、コア用ガラスペースト層のエッチング加
工終了まで焼成を行わず、エッチング加工終了後に一度
焼成し、次いで、上部クラッド層用ガラスペースト層を
積層して焼成する方法を用いることも好ましい。
In each of the above-mentioned embodiments, if all the glass paste layers are laminated and then fired only once, the number of steps can be reduced, so that the cost can be reduced, and the shape processing by etching becomes easy. On the other hand, if firing is performed every time each paste layer is formed, the flatness of the interface between the core and the clad layer becomes extremely good, and the propagation loss can be significantly reduced. In order to utilize the advantages of both of these methods, for example, firing is not performed until the etching processing of the glass paste layer for the core is completed, and it is fired once after the etching processing is finished, and then the glass paste layer for the upper cladding layer is laminated. It is also preferable to use a firing method.

【0029】上記各態様において、各ガラスペースト層
の乾燥は、層中に含まれる溶剤が揮散するまで行えばよ
い。また、焼成は、各ガラスペースト層が緻密化するま
で行えばよい。焼成条件はガラス粉末の組成や平均粒径
等に応じて適宜決定すればよいが、通常、焼成温度は5
00〜1400℃程度、焼成時間は1〜5時間程度とす
る。
In each of the above embodiments, the glass paste layers may be dried until the solvent contained in the layers evaporates. The firing may be performed until each glass paste layer is densified. The firing conditions may be appropriately determined according to the composition of the glass powder, the average particle size, etc., but normally the firing temperature is 5
The baking time is about 0 to 1400 ° C. and the baking time is about 1 to 5 hours.

【0030】上部クラッド層形成後、基板と各層とから
なる積層体を所定の寸法に切断し、端面を研磨して光導
波路素子とする。
After the formation of the upper clad layer, the laminated body consisting of the substrate and each layer is cut into a predetermined size, and the end face is polished to obtain an optical waveguide device.

【0031】各ガラスペーストに使用するガラス粉末の
重量平均粒径D50と、ガラス粉末を構成するガラス粒子
の粒径の標準偏差σd との関係は、好ましくは σd /D50≦5 であり、より好ましくは σd /D50≦2 である。σd /D50が大きすぎる場合、すなわち粒度分
布が広い場合、焼成後のコアやクラッド層中の残留気泡
が多くなり、伝搬損失が大きくなってしまう。ガラス粒
子は粒径が小さいほど融解までの時間が短いので、粒度
分布が広い場合、小さい粒子が先に融解して大きい粒子
に付着し、その際に気泡を閉じ込めるために残留気泡が
多くなると考えられる。
The relationship between the weight average particle diameter D 50 of the glass powder used in each glass paste and the standard deviation σ d of the particle diameter of the glass particles constituting the glass powder is preferably σ d / D 50 ≦ 5. Yes, and more preferably σ d / D 50 ≦ 2. When σ d / D 50 is too large, that is, when the particle size distribution is wide, the residual bubbles in the core and the clad layer after firing increase and the propagation loss increases. The smaller the particle size of a glass particle, the shorter the melting time.Therefore, if the particle size distribution is wide, it is thought that the small particle melts first and adheres to the large particle, and at that time there are many residual bubbles to trap the bubbles. To be

【0032】ガラス粉末のD50は、好ましくは0.2〜
2μm 、より好ましくは0.5〜1.5μm である。D
50が大きすぎると、コアとクラッド層との界面の平坦性
が悪くなり、伝搬損失が大きくなってしまう。一方、D
50が小さすぎると、焼成後のコアやクラッド層中の残留
気泡が多くなり、伝搬損失が大きくなってしまう。D50
が小さすぎる場合に残留気泡が多くなるのは、粒径が小
さいと粒度がわずかに違っても融解速度に差が生じ、こ
れによって上記したような気泡の閉じ込めが生じるため
と考えられる。
The D 50 of the glass powder is preferably 0.2 to
It is 2 μm, more preferably 0.5 to 1.5 μm. D
When 50 is too large, the flatness of the interface between the core and the clad layer deteriorates, and the propagation loss increases. On the other hand, D
When 50 is too small, the residual bubbles in the core and the clad layer after firing increase, and the propagation loss increases. D 50
It is considered that the reason why the number of residual bubbles increases when is too small is that if the particle size is small, even if the particle size is slightly different, there is a difference in the melting rate, which causes trapping of the bubbles as described above.

【0033】なお、D50とは、粒径の小さい粒子から重
量を積算していき、積算値が全粒子の重量の50%とな
ったときの粒径である。D50およびσd の算出に用いる
粒径は、光散乱を利用した粒度分布計(マイクロトラッ
ク等)により測定することが好ましい。
The D 50 is the particle size when the weight is added up from particles having a small particle size and the integrated value becomes 50% of the weight of all particles. The particle size used for calculating D 50 and σ d is preferably measured by a particle size distribution meter (Microtrac or the like) using light scattering.

【0034】ガラス粉末の組成は特に限定されず、酸化
物ガラス、フッ化物ガラス、カルコゲナイドガラス等の
いずれであってもよく、要求される屈折率や透明性等の
各種特性に応じ、適宜選択すればよい。具体的には、例
えば、酸化物ガラスとしてはソーダ石灰ガラス、ホウケ
イ酸ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウ酸
塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、アルミン酸塩系ガラ
ス、チタン酸塩系ガラス等が挙げられ、フッ化物ガラス
としてはZrF4 系ガラス、AlF3 系ガラス等が挙げ
られる。
The composition of the glass powder is not particularly limited, and may be any of oxide glass, fluoride glass, chalcogenide glass, etc., and may be appropriately selected according to various characteristics such as required refractive index and transparency. Good. Specifically, for example, as the oxide glass, soda lime glass, borosilicate glass, lead glass, aluminosilicate glass, borate glass, phosphate glass, aluminate glass, titanate glass. Examples of the fluoride glass include ZrF 4 type glass and AlF 3 type glass.

【0035】本発明では、ガラス粉末の組成選択の自由
度が高いので、コアとクラッド層との間の屈折率差を任
意に制御することが可能である。コアおよびクラッド層
の両者とも屈折率は例えば1.4〜2.0程度の範囲か
ら任意に選択でき、25%程度の屈折率差を得ることも
容易である。なお、本発明では、ガラスペースト層を焼
成することによりコアやクラッド層とするので、コアと
クラッド層との間の屈折率差が大きい場合でも両者にほ
とんど応力が生じない。このため、スパッタ法などを用
いた場合と異なり基板に反りが生じることがない。
In the present invention, since the degree of freedom in selecting the composition of the glass powder is high, it is possible to arbitrarily control the refractive index difference between the core and the clad layer. The refractive index of both the core and the clad layer can be arbitrarily selected from the range of, for example, about 1.4 to 2.0, and it is easy to obtain a refractive index difference of about 25%. In the present invention, since the glass paste layer is fired to form the core and the clad layer, even if there is a large difference in refractive index between the core and the clad layer, almost no stress is generated in the core and the clad layer. Therefore, unlike the case where the sputtering method or the like is used, the substrate does not warp.

【0036】コアおよびクラッド層の透明性は、使用す
る光の波長に対して確保されていればよい。具体的に
は、厚さ10μm のときの光透過率が98%以上である
ことが好ましい。なお、光導波路において使用する光の
波長は、通常、0.4〜1.6μm 程度の範囲から選択
される。
The transparency of the core and clad layers may be ensured for the wavelength of light used. Specifically, it is preferable that the light transmittance is 98% or more when the thickness is 10 μm. The wavelength of light used in the optical waveguide is usually selected from the range of 0.4 to 1.6 μm.

【0037】各ガラスペーストは、スクリーン印刷法ま
たはスピンコーティング法に適した物性となるように調
製する。スクリーン印刷法では、ガラスペーストの25
℃における粘度は好ましくは2000〜10000cP、
より好ましくは3000〜6000cPである。また、ス
ピンコーティング法では、ガラスペーストの25℃にお
ける粘度は好ましくは500〜4000cP、より好まし
くは800〜2500cPである。ガラスペーストの粘度
が低すぎると塗膜に厚さむらが生じやすくなり、また、
塗膜を厚くすることが困難となる。一方、粘度が高すぎ
ると、塗膜表面に荒れやうねりが生じやすくなる。
Each glass paste is prepared so as to have physical properties suitable for a screen printing method or a spin coating method. In the screen printing method, 25 of glass paste
The viscosity at ℃ is preferably 2000 to 10000 cP,
More preferably, it is 3000 to 6000 cP. Further, in the spin coating method, the viscosity of the glass paste at 25 ° C. is preferably 500 to 4000 cP, more preferably 800 to 2500 cP. If the viscosity of the glass paste is too low, the coating film tends to have uneven thickness, and
It becomes difficult to thicken the coating film. On the other hand, if the viscosity is too high, the surface of the coating film tends to be roughened or wavy.

【0038】各ガラスペーストは、ガラス粉末とビヒク
ルとを含み、必要に応じて各種の安定剤等が添加され
る。ビヒクルは、バインダを溶剤に溶解したものであ
る。ペースト中におけるガラス粉末、バインダ、溶剤の
各含有量は特に限定されず、所望の粘度となるように適
宜決定すればよいが、通常、ガラス粉末100重量部に
対しバインダは2〜15重量部、溶剤は50〜90重量
部であることが好ましい。
Each glass paste contains glass powder and a vehicle, and various stabilizers and the like are added if necessary. The vehicle is a binder dissolved in a solvent. The content of each of the glass powder, the binder and the solvent in the paste is not particularly limited and may be appropriately determined so as to obtain a desired viscosity, but normally, the binder is 2 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the glass powder, The solvent is preferably 50 to 90 parts by weight.

【0039】ガラスペーストに用いるバインダや溶剤は
特に限定されず、例えば、バインダとしてはポリビニル
アルコール、ポリビニルブチラール、ニトロセルロー
ス、ポリエチレン、ポリメタクリル酸エステル、エチル
セルロース等から少なくとも1種を適宜選択すればよ
く、溶剤としてはイソプロピルアルコール、トルエン、
トリクロルエチレン、エチルアルコール、ブタノール、
メチルエチルケトン、テルピネオール、メチルイソブチ
ルケトン、テトラクロールエチレン等から少なくとも1
種を適宜選択すればよい。
The binder and solvent used in the glass paste are not particularly limited, and for example, the binder may be selected from at least one selected from polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, nitrocellulose, polyethylene, polymethacrylic acid ester, ethyl cellulose, etc. Solvents include isopropyl alcohol, toluene,
Trichlorethylene, ethyl alcohol, butanol,
At least 1 from methyl ethyl ketone, terpineol, methyl isobutyl ketone, tetrachlorethylene, etc.
The seed may be selected appropriately.

【0040】光導波路の形状および寸法は特に限定され
ないが、通常、コアの断面形状はほぼ矩形状とし、コア
断面の高さは5〜100μm 程度、コア断面の幅は5〜
100μm 程度、上部クラッド層および下部クラッド層
の厚さは30μm 程度以上である。
Although the shape and dimensions of the optical waveguide are not particularly limited, the cross-sectional shape of the core is generally substantially rectangular, the height of the core cross section is about 5 to 100 μm, and the width of the core cross section is about 5 to 100 μm.
The thickness of the upper clad layer and the lower clad layer is about 100 μm and about 30 μm or more.

【0041】なお、図1に示すように基板上に下部クラ
ッド層を設ける場合、基板材質は特に限定されず、ガラ
ス、半導体、単結晶等の各種のものから適宜選択すれば
よい。一方、図2に示すように、下部クラッド層3が基
板としての機能も有する場合、下部クラッド層3は、各
種ガラス、例えば上記したガラス粉末と同様な組成のガ
ラスなどから適宜選択すればよい。
When the lower clad layer is provided on the substrate as shown in FIG. 1, the substrate material is not particularly limited, and may be appropriately selected from various materials such as glass, semiconductor, single crystal and the like. On the other hand, as shown in FIG. 2, when the lower clad layer 3 also has a function as a substrate, the lower clad layer 3 may be appropriately selected from various glasses such as glass having the same composition as the above-mentioned glass powder.

【0042】[0042]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention.

【0043】<実施例1(第一の態様、スクリーン印刷
法)>図1に示す構成の光導波路を、図3に示す手順に
基づき以下のようにして作製した。
Example 1 (First Mode, Screen Printing Method) An optical waveguide having the structure shown in FIG. 1 was manufactured as follows based on the procedure shown in FIG.

【0044】ガラス粉末(クラッド層用) ホウケイ酸ガラス、 屈折率1.463、 熱膨張係数32.0×10-7deg-1 、 D50=1.0μm 、 σd /D50=0.5 Glass powder (for clad layer) Borosilicate glass, refractive index 1.463, thermal expansion coefficient 32.0 × 10 -7 deg -1 , D 50 = 1.0 μm, σ d / D 50 = 0.5

【0045】ガラス粉末(コア用) アルミノケイ酸ガラス、 屈折率1.474、 熱膨張係数32.5×10-7deg-1 、 D50=1.0μm 、 σd /D50=0.5 Glass powder (for core) aluminosilicate glass, refractive index 1.474, thermal expansion coefficient 32.5 × 10 -7 deg -1 , D 50 = 1.0 μm, σ d / D 50 = 0.5

【0046】上記各ガラス粉末をそれぞれビヒクルと混
合して、クラッド層用ガラスペースト(粘度5000c
P)およびコア用ガラスペースト(粘度5000cP)を
調製した。ビヒクルは、溶剤(α- テルピネオール)に
バインダ(メタクリル酸系樹脂)を溶かし、さらに安定
剤(ブチルカルビトールアセテートおよびブチルフタリ
ルブチルグリコレート)を添加して調製した。混合量
は、 ガラス粉末:100重量部、 バインダ : 10重量部、 溶剤 : 70重量部 とした。
Each of the above glass powders was mixed with a vehicle to prepare a glass paste for a clad layer (viscosity 5000c).
P) and glass paste for core (viscosity 5000 cP) were prepared. The vehicle was prepared by dissolving a binder (methacrylic acid resin) in a solvent (α-terpineol) and further adding a stabilizer (butyl carbitol acetate and butyl phthalyl butyl glycolate). The mixing amount was 100 parts by weight of glass powder, 10 parts by weight of binder, and 70 parts by weight of solvent.

【0047】基板(ホウケイ酸ガラス製)上に、上記ク
ラッド層用ガラスペーストをスクリーン印刷法により塗
布して、厚さ50μm の下部クラッド層用ガラスペース
ト層を形成し、乾燥させて有機溶媒を揮散させた。次
に、上記コア用ガラスペーストをスクリーン印刷法によ
り塗布して、厚さ15μm 、幅15μm のコア用ガラス
ペースト層を形成し、乾燥させて有機溶媒を揮散させ
た。次いで、電気炉を用いで大気雰囲気中において12
00℃で1時間焼成し、下部クラッド層とコアとの積層
体を得た。
The glass paste for a clad layer is applied onto a substrate (made of borosilicate glass) by a screen printing method to form a glass paste layer for a lower clad layer having a thickness of 50 μm and dried to volatilize an organic solvent. Let Next, the glass paste for cores was applied by a screen printing method to form a glass paste layer for cores having a thickness of 15 μm and a width of 15 μm, which was dried to volatilize the organic solvent. Then, in an air atmosphere using an electric furnace, 12
Firing was performed at 00 ° C. for 1 hour to obtain a laminated body of the lower clad layer and the core.

【0048】次に、下部クラッド層およびコア上に、上
記クラッド層用ガラスペーストをスクリーン印刷法によ
り塗布して、厚さ50μm の上部クラッド層用ガラスペ
ースト層を形成し、乾燥させて有機溶媒を揮散させた。
次に、電気炉を用いで大気雰囲気中において1200℃
で1時間焼成し、光導波路を得た。この光導波路では、
コアおよびクラッド層に残留気泡は認められなかった。
また、この光導波路に光ファイバからレーザー光を入射
し、出射光強度および反射光強度を測定して挿入損失を
求めた。この結果、挿入損失は0.1dB/cm 以下であっ
た。
Next, the above glass paste for a clad layer is applied onto the lower clad layer and the core by a screen printing method to form a glass paste layer for an upper clad layer having a thickness of 50 μm and dried to remove an organic solvent. Volatilized.
Next, using an electric furnace, in an air atmosphere at 1200 ° C.
And baked for 1 hour to obtain an optical waveguide. In this optical waveguide,
No residual air bubbles were found in the core and clad layers.
Also, laser light was made incident on this optical waveguide from an optical fiber, and the intensity of emitted light and the intensity of reflected light were measured to determine the insertion loss. As a result, the insertion loss was 0.1 dB / cm or less.

【0049】<実施例2(第一の態様、スピンコーティ
ング法)>スクリーン印刷法に替えてスピンコーティン
グ法を用いた以外は、実施例1とほぼ同様にして光導波
路を作製した。ただし、クラッド層用ガラスペーストの
粘度は1500cPとし、コア用ガラスペーストの粘度は
2000cPとした。また、コア用ガラスペースト層を直
線状パターンとするために、そのネガ形状のレジストを
形成した後、コア用ガラスペーストをスピンコーティン
グした。この光導波路も残留気泡は認められず、また、
挿入損失は0.1dB/cm 以下であった。
<Example 2 (first embodiment, spin coating method)> An optical waveguide was produced in substantially the same manner as in Example 1 except that the spin coating method was used instead of the screen printing method. However, the viscosity of the glass paste for the clad layer was 1500 cP, and the viscosity of the glass paste for the core was 2000 cP. Further, in order to form the core glass paste layer into a linear pattern, after forming the negative resist, the core glass paste was spin-coated. No residual bubbles are observed in this optical waveguide either, and
The insertion loss was 0.1 dB / cm or less.

【0050】<実施例3(第二の態様、スクリーン印刷
法)>図1に示す構成の光導波路を、図4に示す手順に
基づき以下のようにして作製した。
Example 3 (Second Mode, Screen Printing Method) An optical waveguide having the structure shown in FIG. 1 was manufactured as follows based on the procedure shown in FIG.

【0051】まず、実施例1と同様にして、下部クラッ
ド層用ガラスペースト層とコア用ガラスペースト層とを
積層した後、焼成した。ただし、コア用ガラスペースト
層は、下部クラッド用ガラスペースト層の全面に印刷し
た。
First, in the same manner as in Example 1, a glass paste layer for lower clad layer and a glass paste layer for core were laminated and then fired. However, the glass paste layer for core was printed on the entire surface of the glass paste layer for lower clad.

【0052】次に、フォトリソグラフィーを用いて直線
状孔部を有するレジスト層を形成し、その上にマスク層
を蒸着法で成膜した。レジスト層を除去してマスクパタ
ーンだけ残した後、CF4 +O2 を用いる反応性イオン
エッチング法によりコア用ガラスペースト層をエッチン
グし、線幅10μm で高さ10μm の矩形状断面をもつ
コアパターンとした。
Next, a resist layer having a linear hole portion was formed by photolithography, and a mask layer was formed thereon by a vapor deposition method. After removing the resist layer and leaving only the mask pattern, the core glass paste layer is etched by a reactive ion etching method using CF 4 + O 2 to form a core pattern having a rectangular cross section with a line width of 10 μm and a height of 10 μm. did.

【0053】次に、クラッド層用ガラスペーストを用
い、スクリーン印刷法で厚さ30μmの均一な膜を形成
し、上部クラッド層用ガラスペースト層とした。次い
で、乾燥して有機溶媒を揮散させた後、電気炉で焼成
し、光導波路を得た。
Next, using the glass paste for the clad layer, a uniform film having a thickness of 30 μm was formed by a screen printing method to form a glass paste layer for the upper clad layer. Then, after drying to volatilize the organic solvent, the organic solvent was fired to obtain an optical waveguide.

【0054】この光導波路も残留気泡は認められず、ま
た、挿入損失は0.05 dB /cm 以下と極めて小さかっ
た。
No residual bubbles were observed in this optical waveguide, and the insertion loss was 0.05 dB / cm or less, which was extremely small.

【0055】<実施例4(第二の態様、スピンコーティ
ング法)>スクリーン印刷法の代わりにスピンコーティ
ング法を用い、実施例2のクラッド層用およびコア用ガ
ラスペーストを用いた以外は実施例3と同様にして、光
導波路を作製した。この光導波路も残留気泡は認められ
ず、また、挿入損失は0.05dB/cm 以下と極めて小さ
かった。
Example 4 (Second Embodiment, Spin Coating Method) Example 3 was repeated except that the screen printing method was replaced by the spin coating method, and the glass paste for the cladding layer and the core of Example 2 was used. An optical waveguide was prepared in the same manner as in. No residual bubbles were observed in this optical waveguide, and the insertion loss was 0.05 dB / cm or less, which was extremely small.

【0056】以上の実施例の結果から、本発明の効果が
明らかである。
The effects of the present invention are clear from the results of the above examples.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明により製造される光導波路の構成例を示
す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical waveguide manufactured by the present invention.

【図2】本発明により製造される光導波路の構成例を示
す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical waveguide manufactured by the present invention.

【図3】(a)〜(c)は、本発明の製造方法の第一の
態様の説明図である。
3 (a) to 3 (c) are explanatory views of a first embodiment of the production method of the present invention.

【図4】(a)〜(e)は、本発明の製造方法の第二の
態様の説明図である。
4 (a) to (e) are explanatory views of a second embodiment of the production method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 基板 3 下部クラッド層 31 下部クラッド層用ガラスペースト層 4 コア 41 コア用ガラスペースト層 42 マスクパターン 5 上部クラッド層 51 上部クラッド層用ガラスペースト層 2 substrate 3 lower clad layer 31 glass paste layer for lower clad layer 4 core 41 glass paste layer for core 42 mask pattern 5 upper clad layer 51 glass paste layer for upper clad layer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 コアの周面が下部クラッド層と上部クラ
ッド層とで被覆されている光導波路を製造する方法であ
って、 コアおよび上部クラッド層の形成に、ガラス粉末を含む
塗布液をスクリーン印刷またはスピンコーティングによ
り塗布した後、焼成する方法を用いる光導波路の製造方
法。
1. A method for producing an optical waveguide in which a peripheral surface of a core is covered with a lower clad layer and an upper clad layer, wherein a coating solution containing glass powder is screened for forming the core and the upper clad layer. A method for manufacturing an optical waveguide using a method of baking after applying by printing or spin coating.
【請求項2】 下部クラッド層の形成に、ガラス粉末を
含む塗布液をスクリーン印刷またはスピンコーティング
により塗布した後、焼成する方法を用いる請求項1の光
導波路の製造方法。
2. The method for producing an optical waveguide according to claim 1, wherein a method of applying a coating liquid containing glass powder by screen printing or spin coating and then firing is used for forming the lower clad layer.
【請求項3】 コア形成工程が、エッチング法で形状加
工する工程を含む請求項1または2の光導波路の製造方
法。
3. The method of manufacturing an optical waveguide according to claim 1, wherein the core forming step includes a step of processing the shape by an etching method.
【請求項4】 前記ガラス粉末の重量平均粒径をD50
し、前記ガラス粉末を構成するガラス粒子の粒径の標準
偏差をσd としたとき、 σd /D50≦5 である請求項1〜3のいずれかの光導波路の製造方法。
Wherein the weight average particle size of the glass powder and D 50, when the standard deviation sigma d of the particle diameter of the glass particles constituting the glass powder, σ d / D 50 ≦ 5 a claim is 1. A method for manufacturing an optical waveguide according to any one of 1 to 3.
【請求項5】 前記ガラス粉末の重量平均粒径D50
0.2〜2μm である請求項1〜4のいずれかの光導波
路の製造方法。
5. The method for producing an optical waveguide according to claim 1, wherein the weight average particle diameter D 50 of the glass powder is 0.2 to 2 μm.
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