JPH09218370A - 走査装置 - Google Patents
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- JPH09218370A JPH09218370A JP8024355A JP2435596A JPH09218370A JP H09218370 A JPH09218370 A JP H09218370A JP 8024355 A JP8024355 A JP 8024355A JP 2435596 A JP2435596 A JP 2435596A JP H09218370 A JPH09218370 A JP H09218370A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ｆθレンズの構造を単純化してコスト低減を
図ると共に、組み付け作業を簡単にする。 【解決手段】 ｆθ性を維持するために、主走査の中心
寄りの位置では光ビームを射出させる時間間隔を長く
し、主走査の端部寄りの位置では当該時間間隔を短くす
ることにより、光ビームの結像点が等間隔に位置するよ
うに制御する必要がある。そこで、主走査の中心寄りの
位置では射出の時間間隔を長くするために、例えば８ク
ロックに１回射出する標準の射出パターン（矢印Ｓ１、
Ｓ２、Ｓ４部分）に加え、９クロックに１回射出する射
出パターン（矢印Ｓ３部分）を設ける。
図ると共に、組み付け作業を簡単にする。 【解決手段】 ｆθ性を維持するために、主走査の中心
寄りの位置では光ビームを射出させる時間間隔を長く
し、主走査の端部寄りの位置では当該時間間隔を短くす
ることにより、光ビームの結像点が等間隔に位置するよ
うに制御する必要がある。そこで、主走査の中心寄りの
位置では射出の時間間隔を長くするために、例えば８ク
ロックに１回射出する標準の射出パターン（矢印Ｓ１、
Ｓ２、Ｓ４部分）に加え、９クロックに１回射出する射
出パターン（矢印Ｓ３部分）を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、走査装置に係り、
より詳しくは、光源から射出される光ビームを、所定範
囲で偏向角が変化するように偏向することにより主走査
する主走査手段と、前記主走査手段により偏向された光
ビームを被走査面上に集束させる光学系と、前記光学系
により集束された光ビームの結像点と被走査面との相対
位置を、主走査方向に垂直な方向に移動させる副走査手
段と、を有する走査装置に関する。
より詳しくは、光源から射出される光ビームを、所定範
囲で偏向角が変化するように偏向することにより主走査
する主走査手段と、前記主走査手段により偏向された光
ビームを被走査面上に集束させる光学系と、前記光学系
により集束された光ビームの結像点と被走査面との相対
位置を、主走査方向に垂直な方向に移動させる副走査手
段と、を有する走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ポリゴンミラー等の回転する
偏向器を用いて感光材料を走査露光する画像露光装置が
知られている。この画像露光装置では、記録すべき画像
に対応するように光源（例えば、半導体レーザ）の発光
時間及び発光強度を制御し、光源から射出された光ビー
ムを所定の光学系を通して感光材料面上に結像させて結
像点を形成し、光路中に設けた前記偏向器によって結像
点を感光材料面上で主走査しながら、前記結像点と感光
材料との相対位置を副走査方向に沿って移動させること
により、感光材料に画像を露光している。
偏向器を用いて感光材料を走査露光する画像露光装置が
知られている。この画像露光装置では、記録すべき画像
に対応するように光源（例えば、半導体レーザ）の発光
時間及び発光強度を制御し、光源から射出された光ビー
ムを所定の光学系を通して感光材料面上に結像させて結
像点を形成し、光路中に設けた前記偏向器によって結像
点を感光材料面上で主走査しながら、前記結像点と感光
材料との相対位置を副走査方向に沿って移動させること
により、感光材料に画像を露光している。
【０００３】上記のように光路中に設けた偏向器の等角
速度での回転によって光ビームの結像点を感光材料面上
で主走査する場合には、偏向器で反射された光ビームに
よる結像点が感光材料面上を等速度で主走査するよう
に、偏向器と感光材料との間にｆθレンズを設置してい
る。
速度での回転によって光ビームの結像点を感光材料面上
で主走査する場合には、偏向器で反射された光ビームに
よる結像点が感光材料面上を等速度で主走査するよう
に、偏向器と感光材料との間にｆθレンズを設置してい
る。
【０００４】また、上記画像露光装置と同様の走査機構
によって、画像が記録された記録面を光ビームで走査
し、該記録面を透過した透過光による画像を読み取るこ
とにより、前記記録面に記録された画像を読み取る画像
読取装置も知られている。
によって、画像が記録された記録面を光ビームで走査
し、該記録面を透過した透過光による画像を読み取るこ
とにより、前記記録面に記録された画像を読み取る画像
読取装置も知られている。
【０００５】また、カラー画像を露光するために、上記
の画像露光装置で、三色の光源、一例として、シアン発
色用の光ビーム（発光波長７５０nm）、マゼンタ発色用
の光ビーム（発光波長６８０nm）、イエロー発色用の光
ビーム（発光波長８１０nm）のそれぞれを射出する計３
台の半導体レーザを備え、これら三色の半導体レーザか
らの光ビームで感光材料面を同時に露光する技術が知ら
れている。
の画像露光装置で、三色の光源、一例として、シアン発
色用の光ビーム（発光波長７５０nm）、マゼンタ発色用
の光ビーム（発光波長６８０nm）、イエロー発色用の光
ビーム（発光波長８１０nm）のそれぞれを射出する計３
台の半導体レーザを備え、これら三色の半導体レーザか
らの光ビームで感光材料面を同時に露光する技術が知ら
れている。
【０００６】ところが、上記の異なる波長の光ビームで
は、ｆθレンズを透過する際の屈折率が各光ビーム毎に
異なるため、感光材料面での各光ビームの結像点が主走
査方向にずれてしまい、露光した画像の画質が劣化す
る、という問題点があった。
は、ｆθレンズを透過する際の屈折率が各光ビーム毎に
異なるため、感光材料面での各光ビームの結像点が主走
査方向にずれてしまい、露光した画像の画質が劣化す
る、という問題点があった。
【０００７】そこで、所定の屈折率・分散特性を有する
複数枚のレンズを光ビームの射出方向に配列することに
よりｆθレンズを構成し、このようなｆθレンズによっ
て、前述した光ビームの結像点を感光材料面上で等速度
移動させる機能を維持しつつ上記異なる波長の光ビーム
を感光材料面の主走査方向でずれないように集束させ、
露光した画像の画質劣化を防止していた。
複数枚のレンズを光ビームの射出方向に配列することに
よりｆθレンズを構成し、このようなｆθレンズによっ
て、前述した光ビームの結像点を感光材料面上で等速度
移動させる機能を維持しつつ上記異なる波長の光ビーム
を感光材料面の主走査方向でずれないように集束させ、
露光した画像の画質劣化を防止していた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
性を有するｆθレンズは必然的に高価な複数枚組みのレ
ンズとなり、しかも光ビームの射出方向に複数枚のレン
ズを正確な配置間隔で組み付け精度良く設置する必要が
あった。このため、上記画像露光装置の組み付け作業は
非常に煩雑となり、手間のかかる作業となっていた。
性を有するｆθレンズは必然的に高価な複数枚組みのレ
ンズとなり、しかも光ビームの射出方向に複数枚のレン
ズを正確な配置間隔で組み付け精度良く設置する必要が
あった。このため、上記画像露光装置の組み付け作業は
非常に煩雑となり、手間のかかる作業となっていた。
【０００９】本発明は、上記事実に鑑み成されたもの
で、ｆθレンズの構造を単純化してコストを低減させる
と共に、組み付け作業を簡単にすることのできる走査装
置を提供することを目的とする。
で、ｆθレンズの構造を単純化してコストを低減させる
と共に、組み付け作業を簡単にすることのできる走査装
置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の走査装置
は、光源から射出される光ビームを、所定範囲で偏向角
が変化するように偏向することにより主走査する主走査
手段と、前記主走査手段により偏向された光ビームを被
走査面上に集束させる光学系と、前記光学系により集束
された光ビームの結像点と被走査面との相対位置を、主
走査方向に垂直な方向に移動させる副走査手段と、を有
する走査装置であって、前記光源による光ビームの射出
タイミングを制御して、前記主走査手段によって偏向さ
れた光ビームによる被走査面上の結像点が主走査方向に
等間隔となるようにする光源制御手段を設けたことを特
徴とする。
は、光源から射出される光ビームを、所定範囲で偏向角
が変化するように偏向することにより主走査する主走査
手段と、前記主走査手段により偏向された光ビームを被
走査面上に集束させる光学系と、前記光学系により集束
された光ビームの結像点と被走査面との相対位置を、主
走査方向に垂直な方向に移動させる副走査手段と、を有
する走査装置であって、前記光源による光ビームの射出
タイミングを制御して、前記主走査手段によって偏向さ
れた光ビームによる被走査面上の結像点が主走査方向に
等間隔となるようにする光源制御手段を設けたことを特
徴とする。
【００１１】上記請求項１記載の発明では、主走査手段
によって、光源から射出される光ビームが、所定範囲で
偏向角が変化するように偏向され、光学系によって、前
記偏向された光ビームは、被走査面上に集束される。こ
れにより、前記偏向された光ビームの結像点は被走査面
上を主走査することになる。ここで結像点が主走査する
方向を主走査方向とする。
によって、光源から射出される光ビームが、所定範囲で
偏向角が変化するように偏向され、光学系によって、前
記偏向された光ビームは、被走査面上に集束される。こ
れにより、前記偏向された光ビームの結像点は被走査面
上を主走査することになる。ここで結像点が主走査する
方向を主走査方向とする。
【００１２】さらに、光源制御手段によって、光源によ
る光ビームの射出タイミングを制御して、前記偏向され
た光ビームによる被走査面上の結像点が主走査方向に等
間隔となるようにする。
る光ビームの射出タイミングを制御して、前記偏向され
た光ビームによる被走査面上の結像点が主走査方向に等
間隔となるようにする。
【００１３】一方、副走査手段によって、前記結像され
た光ビームの結像点と被走査面との相対位置は、主走査
方向に垂直な方向（副走査方向）に移動するので、上記
等間隔での主走査と合わせ、上記結像点により被走査面
が等間隔に規則正しく走査されることになる。
た光ビームの結像点と被走査面との相対位置は、主走査
方向に垂直な方向（副走査方向）に移動するので、上記
等間隔での主走査と合わせ、上記結像点により被走査面
が等間隔に規則正しく走査されることになる。
【００１４】従って、従来のように光ビームによる結像
点を被走査面上で等速度移動させるべく、所定の屈折率
・分散特性を有する複数枚のレンズを高い組み付け精度
で光ビームの射出方向に配列することにより、ｆθレン
ズを形成する必要は無くなる。
点を被走査面上で等速度移動させるべく、所定の屈折率
・分散特性を有する複数枚のレンズを高い組み付け精度
で光ビームの射出方向に配列することにより、ｆθレン
ズを形成する必要は無くなる。
【００１５】即ち、請求項１記載の発明によれば、ｆθ
レンズの構造を単純化してコストを低減させると共に、
組み付け作業を簡単にすることができる。
レンズの構造を単純化してコストを低減させると共に、
組み付け作業を簡単にすることができる。
【００１６】なお、本発明の走査装置は、例えば、露光
すべき画像に対応するように光源の発光継続時間及び発
光強度を制御し、光源から射出された光ビームを、被走
査面としての感光材料面上に集束させ、その結像点を感
光材料上で走査することにより、画像を感光材料に露光
する画像露光装置に適用することができる。また、例え
ば、光源から射出された光ビームを、被走査面としての
画像記録面上に集束させ、その結像点を画像記録面上で
走査することにより、該画像記録面を透過した透過光に
よる画像を読み取る画像読取装置に適用することもでき
る。
すべき画像に対応するように光源の発光継続時間及び発
光強度を制御し、光源から射出された光ビームを、被走
査面としての感光材料面上に集束させ、その結像点を感
光材料上で走査することにより、画像を感光材料に露光
する画像露光装置に適用することができる。また、例え
ば、光源から射出された光ビームを、被走査面としての
画像記録面上に集束させ、その結像点を画像記録面上で
走査することにより、該画像記録面を透過した透過光に
よる画像を読み取る画像読取装置に適用することもでき
る。
【００１７】また、副走査手段は、各光ビームの結像点
と被走査面との相対位置を副走査方向に移動させるにあ
たり、前記結像点と被走査面の何れを移動させても良
い。
と被走査面との相対位置を副走査方向に移動させるにあ
たり、前記結像点と被走査面の何れを移動させても良
い。
【００１８】ところで、上記光源制御手段では、偏向さ
れた光ビームによる被走査面上の結像点が主走査方向に
等間隔で並ぶように、光ビームの射出タイミングを制御
するために、以下に述べる請求項２記載の発明や請求項
４記載の発明のように構成することができる。
れた光ビームによる被走査面上の結像点が主走査方向に
等間隔で並ぶように、光ビームの射出タイミングを制御
するために、以下に述べる請求項２記載の発明や請求項
４記載の発明のように構成することができる。
【００１９】請求項２記載の走査装置では、請求項１記
載の走査装置において、前記光源制御手段は、所定周波
数のクロックを発振するクロック発振手段と、前記クロ
ック発振手段で発振されたクロックにおける予め定めら
れた所定のカウント値毎に、光源から光ビームを射出さ
せる射出制御手段と、前記主走査手段による偏向時に予
め定めた段階毎にクロックの周波数を変化させる周波数
制御手段と、を有することを特徴とする。
載の走査装置において、前記光源制御手段は、所定周波
数のクロックを発振するクロック発振手段と、前記クロ
ック発振手段で発振されたクロックにおける予め定めら
れた所定のカウント値毎に、光源から光ビームを射出さ
せる射出制御手段と、前記主走査手段による偏向時に予
め定めた段階毎にクロックの周波数を変化させる周波数
制御手段と、を有することを特徴とする。
【００２０】この請求項２記載の発明では、クロック発
振手段からクロックが発振され、射出制御手段が、予め
定められた所定のカウント値毎に光源から光ビームを射
出させる。
振手段からクロックが発振され、射出制御手段が、予め
定められた所定のカウント値毎に光源から光ビームを射
出させる。
【００２１】ここでのクロックの周波数は偏向時に、周
波数制御手段によって、光ビームによる被走査面上の結
像点の位置が主走査方向に等間隔となるように、予め定
めた段階毎に変化させる。
波数制御手段によって、光ビームによる被走査面上の結
像点の位置が主走査方向に等間隔となるように、予め定
めた段階毎に変化させる。
【００２２】ここでカウント値が一定である場合、光ビ
ームの射出タイミングはクロック周波数の変化に応じて
変動することになる。例えば、図１４に示すタイムチャ
ートで、クロック周波数を低くした場合の８クロックの
時間間隔Ｔ23は、通常のクロック周波数における８クロ
ックの時間間隔Ｔ12、Ｔ34よりも長くなる。即ち、クロ
ック周波数を低くすることにより、射出タイミングを遅
くし結像点の間隔を長くすることができ、クロック周波
数を高くすることにより、射出タイミングを早くし結像
点の間隔を短くすることができる。
ームの射出タイミングはクロック周波数の変化に応じて
変動することになる。例えば、図１４に示すタイムチャ
ートで、クロック周波数を低くした場合の８クロックの
時間間隔Ｔ23は、通常のクロック周波数における８クロ
ックの時間間隔Ｔ12、Ｔ34よりも長くなる。即ち、クロ
ック周波数を低くすることにより、射出タイミングを遅
くし結像点の間隔を長くすることができ、クロック周波
数を高くすることにより、射出タイミングを早くし結像
点の間隔を短くすることができる。
【００２３】ところで、周波数を変化させない（補正し
ない）場合、結像点の間隔は、走査の中心に近いほど短
く、走査の端部に近いほど長くなる。そこで、周波数制
御手段は、結像点の位置が主走査方向に等間隔となるよ
うにするべく、走査の端部でクロック周波数を高くする
ことにより結像点の間隔を短くし、走査の中心部でクロ
ック周波数を低くすることにより結像点の間隔を長くす
る。
ない）場合、結像点の間隔は、走査の中心に近いほど短
く、走査の端部に近いほど長くなる。そこで、周波数制
御手段は、結像点の位置が主走査方向に等間隔となるよ
うにするべく、走査の端部でクロック周波数を高くする
ことにより結像点の間隔を短くし、走査の中心部でクロ
ック周波数を低くすることにより結像点の間隔を長くす
る。
【００２４】なお、周波数制御手段により変化させる周
波数の段階は、より細かく多くの段階に設定されている
方が周波数制御の精度は向上する。また、詳細は後の第
２実施形態で説明するが、主走査方向における結像点の
位置に応じて最適なクロック周波数を算出し設定しても
良い。具体的には、主走査中央位置でのクロック周波数
と結像点の位置でのクロック周波数との比率が、補正前
の走査速度の比率に等しくなるように、該結像点の位置
でのクロック周波数を設定しても良い。
波数の段階は、より細かく多くの段階に設定されている
方が周波数制御の精度は向上する。また、詳細は後の第
２実施形態で説明するが、主走査方向における結像点の
位置に応じて最適なクロック周波数を算出し設定しても
良い。具体的には、主走査中央位置でのクロック周波数
と結像点の位置でのクロック周波数との比率が、補正前
の走査速度の比率に等しくなるように、該結像点の位置
でのクロック周波数を設定しても良い。
【００２５】一方、請求項４記載の走査装置では、請求
項１記載の走査装置において、前記光源制御手段は、所
定周波数のクロックを発振するクロック発振手段と、前
記クロック発振手段で発振されたクロックにおける予め
定められた所定のカウント値毎に、光源から光ビームを
射出させる射出制御手段と、前記主走査手段による偏向
時に予め定めた段階毎に前記射出制御手段でのカウント
値を補正するカウント値補正手段と、を有することを特
徴とする。
項１記載の走査装置において、前記光源制御手段は、所
定周波数のクロックを発振するクロック発振手段と、前
記クロック発振手段で発振されたクロックにおける予め
定められた所定のカウント値毎に、光源から光ビームを
射出させる射出制御手段と、前記主走査手段による偏向
時に予め定めた段階毎に前記射出制御手段でのカウント
値を補正するカウント値補正手段と、を有することを特
徴とする。
【００２６】この請求項４記載の発明では、クロック発
振手段からクロックが発振され、射出制御手段が、予め
定められた所定のカウント値毎に光源から光ビームを射
出させる。
振手段からクロックが発振され、射出制御手段が、予め
定められた所定のカウント値毎に光源から光ビームを射
出させる。
【００２７】ここでのカウント値は偏向時に、カウント
値補正手段によって、光ビームによる被走査面上の結像
点の位置が主走査方向に等間隔となるように、予め定め
た段階毎に補正される。
値補正手段によって、光ビームによる被走査面上の結像
点の位置が主走査方向に等間隔となるように、予め定め
た段階毎に補正される。
【００２８】ここでクロックの周波数が一定である場
合、光ビームの射出タイミングはカウント値の変化に応
じて変動することになる。例えば、図６に示すタイムチ
ャートで、通常のカウント値が８であるところを９とし
た場合の時間間隔Ｔ9 は、通常の時間間隔Ｔ8 よりも長
くなる。
合、光ビームの射出タイミングはカウント値の変化に応
じて変動することになる。例えば、図６に示すタイムチ
ャートで、通常のカウント値が８であるところを９とし
た場合の時間間隔Ｔ9 は、通常の時間間隔Ｔ8 よりも長
くなる。
【００２９】即ち、カウント値を大きくすることによ
り、射出タイミングを遅くし結像点の間隔を長くするこ
とができ、カウント値を小さくすることにより、射出タ
イミングを早くし結像点の間隔を短くすることができ
る。
り、射出タイミングを遅くし結像点の間隔を長くするこ
とができ、カウント値を小さくすることにより、射出タ
イミングを早くし結像点の間隔を短くすることができ
る。
【００３０】ところで、補正しない状態での結像点の間
隔は、走査の中心に近いほど短く、走査の端部に近いほ
ど長くなる。例えば、図１１には画像中央Ｚ０から画像
端部Ｚ２０までを２０個の結像点で走査した場合の補正
前の結像点位置と、同数（２０個）の結像点を均等に振
り分けた場合のあるべき位置と、を示す。また、図１２
には、図１１における補正前の結像点位置とあるべき位
置との対応及びそれらのずれ量、並びに隣の結像点との
間隔に関する補正前の値、補正後の値、補正すべき間隔
の補正量を示す。
隔は、走査の中心に近いほど短く、走査の端部に近いほ
ど長くなる。例えば、図１１には画像中央Ｚ０から画像
端部Ｚ２０までを２０個の結像点で走査した場合の補正
前の結像点位置と、同数（２０個）の結像点を均等に振
り分けた場合のあるべき位置と、を示す。また、図１２
には、図１１における補正前の結像点位置とあるべき位
置との対応及びそれらのずれ量、並びに隣の結像点との
間隔に関する補正前の値、補正後の値、補正すべき間隔
の補正量を示す。
【００３１】なお、図１１で画像中央Ｚ０から画像端部
Ｚ２０までの距離は２０．０mmであるとし、図１２にお
ける結像点位置は、画像中央Ｚ０を原点とし画像端部Ｚ
２０へ向かう方向を正とした軸に沿った位置（単位：m
m）で表している。
Ｚ２０までの距離は２０．０mmであるとし、図１２にお
ける結像点位置は、画像中央Ｚ０を原点とし画像端部Ｚ
２０へ向かう方向を正とした軸に沿った位置（単位：m
m）で表している。
【００３２】この図１２の表から明らかなように、結像
点が等間隔に位置するように制御するには、走査の中心
寄りの位置では結像点の間隔を大きくするように補正
し、走査の端部寄りの位置では結像点の間隔を小さくす
るように補正する必要がある。
点が等間隔に位置するように制御するには、走査の中心
寄りの位置では結像点の間隔を大きくするように補正
し、走査の端部寄りの位置では結像点の間隔を小さくす
るように補正する必要がある。
【００３３】このように走査の中心寄りの位置では結像
点の間隔を大きくするように補正し、走査の端部寄りの
位置では結像点の間隔を小さくするように補正するため
に、以下に述べる請求項３記載の発明や請求項５記載の
発明のように構成することができる。
点の間隔を大きくするように補正し、走査の端部寄りの
位置では結像点の間隔を小さくするように補正するため
に、以下に述べる請求項３記載の発明や請求項５記載の
発明のように構成することができる。
【００３４】請求項３記載の発明では、請求項２記載の
発明において、前記周波数制御手段は、周波数を変化さ
せる前と同数の結像点を主走査方向に沿って均等に振り
分けた場合の結像点位置と、周波数を変化させる前の結
像点位置と、の差に基づいてクロックの周波数を変化さ
せることを特徴とする。
発明において、前記周波数制御手段は、周波数を変化さ
せる前と同数の結像点を主走査方向に沿って均等に振り
分けた場合の結像点位置と、周波数を変化させる前の結
像点位置と、の差に基づいてクロックの周波数を変化さ
せることを特徴とする。
【００３５】この請求項３記載の発明では、走査中心か
ら走査端部まで結像点が等間隔に位置するように制御す
るべく、周波数を変化させる前に走査中心から走査端部
まで走査した際の結像点数と略同数の結像点を主走査方
向に沿って均等に振り分け、この振り分けた場合の結像
点位置と、周波数を変化させる前の結像点位置と、の差
に基づいてクロックの周波数を変化させる。即ち、走査
の中心寄りの位置ではクロック周波数を低くすることに
より、射出タイミングを遅くして結像点の間隔を長く
し、走査の端部寄りの位置ではクロック周波数を高くす
ることにより、射出タイミングを早くして結像点の間隔
を短くする。
ら走査端部まで結像点が等間隔に位置するように制御す
るべく、周波数を変化させる前に走査中心から走査端部
まで走査した際の結像点数と略同数の結像点を主走査方
向に沿って均等に振り分け、この振り分けた場合の結像
点位置と、周波数を変化させる前の結像点位置と、の差
に基づいてクロックの周波数を変化させる。即ち、走査
の中心寄りの位置ではクロック周波数を低くすることに
より、射出タイミングを遅くして結像点の間隔を長く
し、走査の端部寄りの位置ではクロック周波数を高くす
ることにより、射出タイミングを早くして結像点の間隔
を短くする。
【００３６】このようにして、走査位置に対応して適切
にクロック周波数を変化させることができる。
にクロック周波数を変化させることができる。
【００３７】なお、請求項３記載の発明では、基準とな
るクロック周波数（基準クロック周波数）を予め定め、
通常は該基準クロック周波数でクロックを発生させ、所
定のタイミングで該基準クロック周波数を増減させるよ
うに制御しても良い。
るクロック周波数（基準クロック周波数）を予め定め、
通常は該基準クロック周波数でクロックを発生させ、所
定のタイミングで該基準クロック周波数を増減させるよ
うに制御しても良い。
【００３８】さらに、基準クロック周波数を増減させる
頻度を変えることにより、結像点間隔の補正度合いを調
整しても良い。例えば、図１２の表において、走査中心
Ｚ０及び走査端部Ｚ２０の近傍では、間隔の補正量が大
きいので、走査中心Ｚ０近傍では、基準クロック周波数
を減少させる頻度を高くし、走査端部Ｚ２０近傍では、
基準クロック周波数を増加させる頻度を高くする。一
方、結像点Ｚ９、Ｚ１０、Ｚ１１近傍では間隔の補正量
が小さいので、基準クロック周波数を増減させる頻度を
低くするか又は増減しないように制御する。
頻度を変えることにより、結像点間隔の補正度合いを調
整しても良い。例えば、図１２の表において、走査中心
Ｚ０及び走査端部Ｚ２０の近傍では、間隔の補正量が大
きいので、走査中心Ｚ０近傍では、基準クロック周波数
を減少させる頻度を高くし、走査端部Ｚ２０近傍では、
基準クロック周波数を増加させる頻度を高くする。一
方、結像点Ｚ９、Ｚ１０、Ｚ１１近傍では間隔の補正量
が小さいので、基準クロック周波数を増減させる頻度を
低くするか又は増減しないように制御する。
【００３９】一方、請求項５記載の発明では、請求項４
記載の発明において、前記カウント値補正手段は、カウ
ント値を補正する前と同数の結像点を主走査方向に沿っ
て均等に振り分けた場合の結像点位置と、カウント値を
補正する前の結像点位置と、の差に基づいてカウント値
を補正することを特徴とする。
記載の発明において、前記カウント値補正手段は、カウ
ント値を補正する前と同数の結像点を主走査方向に沿っ
て均等に振り分けた場合の結像点位置と、カウント値を
補正する前の結像点位置と、の差に基づいてカウント値
を補正することを特徴とする。
【００４０】この請求項５記載の発明では、上記請求項
３記載の発明におけるクロック周波数の増減に関する制
御を、カウント値の補正に関する制御に適用する。即
ち、走査の中心寄りの位置ではカウント値を増やすよう
補正することにより、射出タイミングを遅くして結像点
の間隔を長くし、走査の端部寄りの位置ではカウント値
を減らすよう補正することにより、射出タイミングを早
くして結像点の間隔を短くする。
３記載の発明におけるクロック周波数の増減に関する制
御を、カウント値の補正に関する制御に適用する。即
ち、走査の中心寄りの位置ではカウント値を増やすよう
補正することにより、射出タイミングを遅くして結像点
の間隔を長くし、走査の端部寄りの位置ではカウント値
を減らすよう補正することにより、射出タイミングを早
くして結像点の間隔を短くする。
【００４１】このようにして、走査位置に対応して適切
にカウント値を補正することができる。
にカウント値を補正することができる。
【００４２】なお、請求項５記載の発明では、基準とな
るカウント値（基準カウント値）を予め定め、通常は該
基準カウント値で光ビームを射出させ、所定のタイミン
グで該基準カウント値を上記のように補正し、補正した
カウント値で光ビームを射出させるよう制御しても良
い。
るカウント値（基準カウント値）を予め定め、通常は該
基準カウント値で光ビームを射出させ、所定のタイミン
グで該基準カウント値を上記のように補正し、補正した
カウント値で光ビームを射出させるよう制御しても良
い。
【００４３】さらに、基準カウント値を補正する頻度を
変えることにより、結像点間隔の補正度合いを調整して
も良い。例えば、図１２の表において、走査中心Ｚ０及
び走査端部Ｚ２０の近傍では、間隔の補正量が大きいの
で、走査中心Ｚ０近傍では、基準カウント値を増やすよ
う補正する頻度を高くし、走査端部Ｚ２０近傍では、基
準カウント値を減らすよう補正する頻度を高くする。一
方、結像点Ｚ９、Ｚ１０、Ｚ１１近傍では間隔の補正量
が小さいので、基準カウント値を補正する頻度を低くす
るか又は補正しないように制御する。
変えることにより、結像点間隔の補正度合いを調整して
も良い。例えば、図１２の表において、走査中心Ｚ０及
び走査端部Ｚ２０の近傍では、間隔の補正量が大きいの
で、走査中心Ｚ０近傍では、基準カウント値を増やすよ
う補正する頻度を高くし、走査端部Ｚ２０近傍では、基
準カウント値を減らすよう補正する頻度を高くする。一
方、結像点Ｚ９、Ｚ１０、Ｚ１１近傍では間隔の補正量
が小さいので、基準カウント値を補正する頻度を低くす
るか又は補正しないように制御する。
【００４４】ところで、補正結像点は、基準クロックカ
ウント数を増減させたタイミングで射出した光ビームに
よる結像点であるので、基準クロックカウント数のまま
のタイミングで射出した光ビームによる通常の結像点同
士の間隔と、補正結像点と通常の結像点との間隔と、は
異なる。よって、これに起因して、例えば、図１５に示
すように、主走査ライン毎の補正結像点（図において
「●」で示される点）が副走査方向に連続的に位置した
場合には、該補正結像点による列（以下、補正結像点ラ
インと称す）において、被走査面の走査むらが生じてし
まう。本発明の走査装置を、例えば画像露光装置に適用
した場合には、該走査むらは露光むらとなって視認さ
れ、画質の低下につながる虞れがある。なお、図１５〜
１９では「●」で示される点は補正結像点を意味し、
「○」で示される点は、補正しないタイミングで射出さ
れた光ビームの結像点を意味する。
ウント数を増減させたタイミングで射出した光ビームに
よる結像点であるので、基準クロックカウント数のまま
のタイミングで射出した光ビームによる通常の結像点同
士の間隔と、補正結像点と通常の結像点との間隔と、は
異なる。よって、これに起因して、例えば、図１５に示
すように、主走査ライン毎の補正結像点（図において
「●」で示される点）が副走査方向に連続的に位置した
場合には、該補正結像点による列（以下、補正結像点ラ
インと称す）において、被走査面の走査むらが生じてし
まう。本発明の走査装置を、例えば画像露光装置に適用
した場合には、該走査むらは露光むらとなって視認さ
れ、画質の低下につながる虞れがある。なお、図１５〜
１９では「●」で示される点は補正結像点を意味し、
「○」で示される点は、補正しないタイミングで射出さ
れた光ビームの結像点を意味する。
【００４５】そこで、請求項６記載の発明では、請求項
２記載の発明において、前記周波数制御手段は、クロッ
クの周波数を変化させたタイミングで射出した光ビーム
による結像点としての周波数補正結像点が副走査方向に
連続的に位置しないように、クロックの周波数を変化さ
せることを特徴とする。
２記載の発明において、前記周波数制御手段は、クロッ
クの周波数を変化させたタイミングで射出した光ビーム
による結像点としての周波数補正結像点が副走査方向に
連続的に位置しないように、クロックの周波数を変化さ
せることを特徴とする。
【００４６】また、請求項７記載の発明では、請求項６
記載の発明において、前記周波数制御手段は、連続的に
位置する前記周波数補正結像点によるラインが副走査方
向に対して４５度以上の角度で傾くように、クロックの
周波数を変化させることを特徴とする。
記載の発明において、前記周波数制御手段は、連続的に
位置する前記周波数補正結像点によるラインが副走査方
向に対して４５度以上の角度で傾くように、クロックの
周波数を変化させることを特徴とする。
【００４７】一方、カウント値の補正については、請求
項８記載の発明では、請求項４記載の発明において、前
記カウント値補正手段は、カウント値を補正したタイミ
ングで射出した光ビームによる結像点としてのカウント
値補正結像点が副走査方向に連続的に位置しないよう
に、カウント値を補正することを特徴とする。
項８記載の発明では、請求項４記載の発明において、前
記カウント値補正手段は、カウント値を補正したタイミ
ングで射出した光ビームによる結像点としてのカウント
値補正結像点が副走査方向に連続的に位置しないよう
に、カウント値を補正することを特徴とする。
【００４８】また、請求項９記載の発明では、請求項８
記載の発明において、前記カウント値補正手段は、連続
的に位置する前記カウント値補正結像点によるラインが
副走査方向に対して４５度以上の角度で傾くように、カ
ウント値を補正することを特徴とする。
記載の発明において、前記カウント値補正手段は、連続
的に位置する前記カウント値補正結像点によるラインが
副走査方向に対して４５度以上の角度で傾くように、カ
ウント値を補正することを特徴とする。
【００４９】上記請求項６記載の発明では、周波数補正
結像点が副走査方向に連続的に位置することを回避すれ
ば良いので、周波数補正結像点がランダムに位置するよ
うにしても良いし、周波数補正結像点が副走査方向以外
の方向（例えば斜め方向）に連続的に位置するようにし
ても良い。
結像点が副走査方向に連続的に位置することを回避すれ
ば良いので、周波数補正結像点がランダムに位置するよ
うにしても良いし、周波数補正結像点が副走査方向以外
の方向（例えば斜め方向）に連続的に位置するようにし
ても良い。
【００５０】また、請求項８記載の発明でも、カウント
値補正結像点が副走査方向に連続的に位置することを回
避すれば良いので、カウント値補正結像点がランダムに
位置するようにしても良いし、カウント値補正結像点が
副走査方向以外の方向（例えば斜め方向）に連続的に位
置するようにしても良い。
値補正結像点が副走査方向に連続的に位置することを回
避すれば良いので、カウント値補正結像点がランダムに
位置するようにしても良いし、カウント値補正結像点が
副走査方向以外の方向（例えば斜め方向）に連続的に位
置するようにしても良い。
【００５１】なお、結像点は周波数補正結像点（又はカ
ウント値補正結像点）において若干の位置補正が行われ
ているものの、概ね主走査方向及び副走査方向に沿って
２次元的に整然と配置されている。
ウント値補正結像点）において若干の位置補正が行われ
ているものの、概ね主走査方向及び副走査方向に沿って
２次元的に整然と配置されている。
【００５２】また、周波数補正結像点（又はカウント値
補正結像点）が所定の方向（例えば、斜め方向）に揃っ
た場合でも、該周波数補正結像点（又はカウント値補正
結像点）によるラインの間隔が小さいほど視認性は低下
する、という事実が知られている。
補正結像点）が所定の方向（例えば、斜め方向）に揃っ
た場合でも、該周波数補正結像点（又はカウント値補正
結像点）によるラインの間隔が小さいほど視認性は低下
する、という事実が知られている。
【００５３】そこで、上記のような結像点の配置におい
て、請求項７記載の発明のように、周波数補正結像点に
よるラインが副走査方向に対して４５度以上の角度で傾
くようにクロックの周波数を変化させることによって、
視覚的な効果を利用して周波数補正結像点における位置
ずれが視認されることを回避することができる。
て、請求項７記載の発明のように、周波数補正結像点に
よるラインが副走査方向に対して４５度以上の角度で傾
くようにクロックの周波数を変化させることによって、
視覚的な効果を利用して周波数補正結像点における位置
ずれが視認されることを回避することができる。
【００５４】同様に、請求項９記載の発明のように、カ
ウント値補正結像点によるラインが副走査方向に対して
４５度以上の角度で傾くようにカウント値を変化させる
ことによって、視覚的な効果を利用してカウント値補正
結像点における位置ずれが視認されることを回避するこ
とができる。
ウント値補正結像点によるラインが副走査方向に対して
４５度以上の角度で傾くようにカウント値を変化させる
ことによって、視覚的な効果を利用してカウント値補正
結像点における位置ずれが視認されることを回避するこ
とができる。
【００５５】なお、視認性を低下させる効果を高めるた
めには、周波数補正結像点（又はカウント値補正結像
点）によるラインが副走査方向に対してより大きな角度
で傾くようにして周波数補正結像点（又はカウント値補
正結像点）によるラインの間隔をより小さくすることが
有効である。
めには、周波数補正結像点（又はカウント値補正結像
点）によるラインが副走査方向に対してより大きな角度
で傾くようにして周波数補正結像点（又はカウント値補
正結像点）によるラインの間隔をより小さくすることが
有効である。
【００５６】ところで、本発明は単一の光源からの光ビ
ームで被走査面を走査する走査装置のみならず、複数の
光源の各々から射出された異なる波長の光ビームによっ
て被走査面を走査する走査装置にも適用することができ
る。
ームで被走査面を走査する走査装置のみならず、複数の
光源の各々から射出された異なる波長の光ビームによっ
て被走査面を走査する走査装置にも適用することができ
る。
【００５７】上記のような走査装置に適用する発明とし
て、請求項１０記載の走査装置では、請求項１乃至請求
項９の何れか１項に記載の走査装置において、前記光源
は複数設けられており、前記光源制御手段は、各光源か
ら射出された異なる波長の光ビームについて被走査面上
の結像点が主走査方向に等間隔となるようにすると共に
該結像点の間隔が各光ビーム間で一致するように、各光
ビームの射出タイミングを制御することを特徴とする。
て、請求項１０記載の走査装置では、請求項１乃至請求
項９の何れか１項に記載の走査装置において、前記光源
は複数設けられており、前記光源制御手段は、各光源か
ら射出された異なる波長の光ビームについて被走査面上
の結像点が主走査方向に等間隔となるようにすると共に
該結像点の間隔が各光ビーム間で一致するように、各光
ビームの射出タイミングを制御することを特徴とする。
【００５８】また、請求項１１記載の走査装置では、請
求項１０記載の走査装置において、前記光源制御手段
は、一主走査における各光ビームによる最初の結像点の
位置が被走査面上で一致するように、各光ビームの射出
タイミングを制御することを特徴とする。
求項１０記載の走査装置において、前記光源制御手段
は、一主走査における各光ビームによる最初の結像点の
位置が被走査面上で一致するように、各光ビームの射出
タイミングを制御することを特徴とする。
【００５９】上記請求項１０記載の走査装置では、光源
制御手段が、異なる波長の光ビームのそれぞれについ
て、上記請求項１記載の発明のように被走査面上の結像
点が主走査方向に等間隔となるように光ビームの射出タ
イミングを制御する。さらに、光源制御手段は、結像点
の間隔が各光ビーム間で一致するように、各光ビームの
射出タイミングを制御する。
制御手段が、異なる波長の光ビームのそれぞれについ
て、上記請求項１記載の発明のように被走査面上の結像
点が主走査方向に等間隔となるように光ビームの射出タ
イミングを制御する。さらに、光源制御手段は、結像点
の間隔が各光ビーム間で一致するように、各光ビームの
射出タイミングを制御する。
【００６０】これにより、各光ビームについて被走査面
上の結像点が主走査方向に等間隔となり、且つ結像点の
間隔が異なる波長の光ビーム同士でばらつくことなく、
各光ビーム間で一致することになる。即ち、いわゆるｆ
θ性補正と色補正（色消し）とを同時に、各光ビームの
射出タイミングを制御することにより電気的に実現する
ことができる。
上の結像点が主走査方向に等間隔となり、且つ結像点の
間隔が異なる波長の光ビーム同士でばらつくことなく、
各光ビーム間で一致することになる。即ち、いわゆるｆ
θ性補正と色補正（色消し）とを同時に、各光ビームの
射出タイミングを制御することにより電気的に実現する
ことができる。
【００６１】従って、従来のように上記ｆθ性補正と色
補正（色消し）とを行うために、所定の屈折率・分散特
性を有する複数枚のレンズを高い組み付け精度で光ビー
ムの射出方向に配列することにより、ｆθレンズを形成
する必要は無くなる。
補正（色消し）とを行うために、所定の屈折率・分散特
性を有する複数枚のレンズを高い組み付け精度で光ビー
ムの射出方向に配列することにより、ｆθレンズを形成
する必要は無くなる。
【００６２】即ち、請求項１０記載の発明によれば、複
数の光源の各々から射出された異なる波長の光ビームに
よって被走査面を走査する走査装置において、ｆθレン
ズの構造を単純化してコストを低減させると共に、組み
付け作業を簡単にすることができる。
数の光源の各々から射出された異なる波長の光ビームに
よって被走査面を走査する走査装置において、ｆθレン
ズの構造を単純化してコストを低減させると共に、組み
付け作業を簡単にすることができる。
【００６３】さらに、上記請求項１０記載の発明におい
て、請求項１１記載の発明のように、光源制御手段が、
一主走査における各光ビームによる最初の結像点の位置
が被走査面上で一致するように、各光ビームの射出タイ
ミングを制御すると、上記のようにｆθ性補正と色補正
（色消し）とを実現することと合わせ、各光ビームの結
像点の位置を主走査方向で一致させることができる。
て、請求項１１記載の発明のように、光源制御手段が、
一主走査における各光ビームによる最初の結像点の位置
が被走査面上で一致するように、各光ビームの射出タイ
ミングを制御すると、上記のようにｆθ性補正と色補正
（色消し）とを実現することと合わせ、各光ビームの結
像点の位置を主走査方向で一致させることができる。
【００６４】実際に、主走査手段への各光ビームの入射
角度が異なる場合には、各光ビームの結像点が同時に主
走査方向に同じ位置にくることはないが、上記のように
各光ビームによる最初の結像点の位置を被走査面上で一
致させるべく各光ビームの射出タイミングを制御するこ
とにより、各光ビームは、結像するタイミングがずれる
ものの、被走査面における同じ位置に結像することにな
る。
角度が異なる場合には、各光ビームの結像点が同時に主
走査方向に同じ位置にくることはないが、上記のように
各光ビームによる最初の結像点の位置を被走査面上で一
致させるべく各光ビームの射出タイミングを制御するこ
とにより、各光ビームは、結像するタイミングがずれる
ものの、被走査面における同じ位置に結像することにな
る。
【００６５】
〔第１実施形態〕以下、本発明の第１実施形態を図面を
参照して詳細に説明する。
参照して詳細に説明する。
【００６６】図１には、本発明を適用した露光装置３８
が内蔵された画像記録装置１０の概略構成図が示されて
おり、図２には、この画像記録装置１０の外観図が示さ
れている。
が内蔵された画像記録装置１０の概略構成図が示されて
おり、図２には、この画像記録装置１０の外観図が示さ
れている。
【００６７】図２に示すように画像記録装置１０は、全
体として箱型に構成されており、機台１２には、前面扉
１３、側面扉１５が取り付けられている。各扉を開放す
ることにより機台１２内を露出状態とすることができ
る。
体として箱型に構成されており、機台１２には、前面扉
１３、側面扉１５が取り付けられている。各扉を開放す
ることにより機台１２内を露出状態とすることができ
る。
【００６８】図１に示されるように、画像記録装置１０
の機台１２内には感材マガジン１４が配置されており、
感光材料１６がロール状に巻取られて収納されている。
この感光材料１６は、感光（露光）面が内側になるよう
に巻き取られている。なお、感光材料１６は露光に対し
てネガの画像を与えるものでも、ポジの画像を与えるも
のでもよい。
の機台１２内には感材マガジン１４が配置されており、
感光材料１６がロール状に巻取られて収納されている。
この感光材料１６は、感光（露光）面が内側になるよう
に巻き取られている。なお、感光材料１６は露光に対し
てネガの画像を与えるものでも、ポジの画像を与えるも
のでもよい。
【００６９】感材マガジン１４の感光材料取出し口近傍
には、ニップローラ１８およびカッタ２０が配置されて
おり、感材マガジン１４から感光材料１６を所定長さ引
き出した後に切断することができる。
には、ニップローラ１８およびカッタ２０が配置されて
おり、感材マガジン１４から感光材料１６を所定長さ引
き出した後に切断することができる。
【００７０】カッタ２０の側方には、複数対の搬送ロー
ラ１９、２１、２３、２４、２６、及びガイド板２７が
配置されており、所定長さに切断された感光材料１６を
露光部２２へ搬送することができる。
ラ１９、２１、２３、２４、２６、及びガイド板２７が
配置されており、所定長さに切断された感光材料１６を
露光部２２へ搬送することができる。
【００７１】露光部２２は搬送ローラ２３と搬送ローラ
２４との間に位置しており、これらの搬送ローラ間が露
光部（露光点）とされて感光材料１６が通過するように
なっている。このため、これら搬送ローラ２３及び搬送
ローラ２４によって感光材料１６が副走査方向に沿って
搬送されることになる。
２４との間に位置しており、これらの搬送ローラ間が露
光部（露光点）とされて感光材料１６が通過するように
なっている。このため、これら搬送ローラ２３及び搬送
ローラ２４によって感光材料１６が副走査方向に沿って
搬送されることになる。
【００７２】露光部２２の直上には露光装置３８が設け
られている。図３及び図４に示されるように、露光装置
３８には、シアン発色用の光源としての半導体レーザ２
５８Ｃ（発光波長７５０nm）、マゼンタ発色用の光源と
しての半導体レーザ２５８Ｍ（発光波長６８０nm）、及
びイエロー発色用の光源としての半導体レーザ２５８Ｙ
（発光波長８１０nm）が配置されている。
られている。図３及び図４に示されるように、露光装置
３８には、シアン発色用の光源としての半導体レーザ２
５８Ｃ（発光波長７５０nm）、マゼンタ発色用の光源と
しての半導体レーザ２５８Ｍ（発光波長６８０nm）、及
びイエロー発色用の光源としての半導体レーザ２５８Ｙ
（発光波長８１０nm）が配置されている。
【００７３】図３に示すように、これら半導体レーザ２
５８Ｃ、２５８Ｍ、２５８Ｙの各々には、各半導体レー
ザから射出される光ビームの射出タイミング、射出継続
時間及び光強度を制御する制御装置１００が接続されて
おり、制御装置１００には、露光すべき画像データを記
憶した画像メモリ１０２、及びオペレータが露光すべき
画像データの指定や露光処理の開始・停止等の操作指示
等を行うための図示しないキーボード、ボタン等で構成
された操作部１０３が接続されている。
５８Ｃ、２５８Ｍ、２５８Ｙの各々には、各半導体レー
ザから射出される光ビームの射出タイミング、射出継続
時間及び光強度を制御する制御装置１００が接続されて
おり、制御装置１００には、露光すべき画像データを記
憶した画像メモリ１０２、及びオペレータが露光すべき
画像データの指定や露光処理の開始・停止等の操作指示
等を行うための図示しないキーボード、ボタン等で構成
された操作部１０３が接続されている。
【００７４】制御装置１００は、図示しないマイクロコ
ンピュータを含んでおり、オペレータが操作部１０３に
よって指定した画像データを画像メモリ１０２から読み
出し、該画像データに基づく光ビームを、適切な射出継
続時間、光強度及び後述する射出タイミングで射出する
ように、半導体レーザ２５８Ｃ、２５８Ｍ、２５８Ｙの
各々に供給する電流を制御する。
ンピュータを含んでおり、オペレータが操作部１０３に
よって指定した画像データを画像メモリ１０２から読み
出し、該画像データに基づく光ビームを、適切な射出継
続時間、光強度及び後述する射出タイミングで射出する
ように、半導体レーザ２５８Ｃ、２５８Ｍ、２５８Ｙの
各々に供給する電流を制御する。
【００７５】即ち、制御装置１００は、偏向された光ビ
ームによる感光材料１６面上の結像点が主走査方向に等
間隔となるように、光ビームの射出タイミングを制御す
る。換言すると、制御装置１００は、従来のｆθレンズ
で行っていた、偏向された光ビームによる結像点を感光
材料１６面上で等速度移動させる機能を、結像点が主走
査方向に等間隔となるように光ビームの射出タイミング
を制御することにより、電気的な方法で実現する。
ームによる感光材料１６面上の結像点が主走査方向に等
間隔となるように、光ビームの射出タイミングを制御す
る。換言すると、制御装置１００は、従来のｆθレンズ
で行っていた、偏向された光ビームによる結像点を感光
材料１６面上で等速度移動させる機能を、結像点が主走
査方向に等間隔となるように光ビームの射出タイミング
を制御することにより、電気的な方法で実現する。
【００７６】また、制御装置１００は、各半導体レーザ
からの光ビームによる結像点の間隔が各光ビーム同士で
一致するように、射出タイミングを各半導体レーザ毎に
制御する。よって、屈折率の異なる光ビームを感光材料
１６面上に集束させるべく、所定の屈折率・分散特性を
有する複数枚のレンズを高い組み付け精度で光ビームの
射出方向に配列する必要は無くなる。
からの光ビームによる結像点の間隔が各光ビーム同士で
一致するように、射出タイミングを各半導体レーザ毎に
制御する。よって、屈折率の異なる光ビームを感光材料
１６面上に集束させるべく、所定の屈折率・分散特性を
有する複数枚のレンズを高い組み付け精度で光ビームの
射出方向に配列する必要は無くなる。
【００７７】更に、制御装置１００には、後述する感光
材料搬送系及び受像材料搬送系へも図示しない信号線で
接続されており、感光材料１６及び受像材料１０８（図
１参照）の搬送タイミングと上記各半導体レーザからの
光ビームの射出タイミングとの同期がとれるように制御
する。
材料搬送系及び受像材料搬送系へも図示しない信号線で
接続されており、感光材料１６及び受像材料１０８（図
１参照）の搬送タイミングと上記各半導体レーザからの
光ビームの射出タイミングとの同期がとれるように制御
する。
【００７８】一方、これら半導体レーザ２５８Ｃ、２５
８Ｍ、２５８Ｙの射出側近傍には、各半導体レーザ２５
８Ｃ、２５８Ｍ、２５８Ｙから射出された光ビームを拡
散光線から平行光線に変換するためのコリメータレンズ
２６０がそれぞれ設けられている。コリメータレンズ２
６０で平行光線となった各光ビームは、シリンドリカル
レンズ群２６３及び光量調整フィルタ２６１を介して反
射ミラー２６２に入射し、反射ミラー２６２で反射さ
れ、多面鏡であるポリゴンミラー２６４の反射面２６８
上に集束するようになっている。なお、シリンドリカル
レンズ２６３は、副走査方向において光ビームを整形す
る役割を有する。
８Ｍ、２５８Ｙの射出側近傍には、各半導体レーザ２５
８Ｃ、２５８Ｍ、２５８Ｙから射出された光ビームを拡
散光線から平行光線に変換するためのコリメータレンズ
２６０がそれぞれ設けられている。コリメータレンズ２
６０で平行光線となった各光ビームは、シリンドリカル
レンズ群２６３及び光量調整フィルタ２６１を介して反
射ミラー２６２に入射し、反射ミラー２６２で反射さ
れ、多面鏡であるポリゴンミラー２６４の反射面２６８
上に集束するようになっている。なお、シリンドリカル
レンズ２６３は、副走査方向において光ビームを整形す
る役割を有する。
【００７９】また、ポリゴンミラー２６４は、反射面２
６８を６面有すると共に、図示しないモータからの駆動
力で軸２６６を中心に高速回転しており、各反射面２６
８への光ビームの入射角を連続的に変化させ偏向する役
目を有している。つまり、ポリゴンミラー２６４は、光
ビームをそれぞれ偏向して主走査方向に沿って走査させ
る。なお、本第１実施形態では、ポリゴンミラー２６４
の回転数を一例として毎秒１２５回転に設定している。
６８を６面有すると共に、図示しないモータからの駆動
力で軸２６６を中心に高速回転しており、各反射面２６
８への光ビームの入射角を連続的に変化させ偏向する役
目を有している。つまり、ポリゴンミラー２６４は、光
ビームをそれぞれ偏向して主走査方向に沿って走査させ
る。なお、本第１実施形態では、ポリゴンミラー２６４
の回転数を一例として毎秒１２５回転に設定している。
【００８０】ポリゴンミラー２６４によって偏向された
光ビームの進行方向には、該偏向された光ビームを露光
部２２の感光材料１６上に所定のビームスポットで結像
させる像面位置補正レンズ２７０が設置されている。こ
の像面位置補正レンズ２７０は、偏向された光ビームに
対して像面湾曲を補正する機能のみを有し、偏向された
光ビームによる結像点を感光材料１６面上で等間隔移動
させる機能及び色間の等間隔移動機能は有していない。
前述したように、結像点を感光材料１６面上で等間隔移
動させる機能及び色間の等間隔移動機能は、制御装置１
００による電気的な制御方法により実現される。
光ビームの進行方向には、該偏向された光ビームを露光
部２２の感光材料１６上に所定のビームスポットで結像
させる像面位置補正レンズ２７０が設置されている。こ
の像面位置補正レンズ２７０は、偏向された光ビームに
対して像面湾曲を補正する機能のみを有し、偏向された
光ビームによる結像点を感光材料１６面上で等間隔移動
させる機能及び色間の等間隔移動機能は有していない。
前述したように、結像点を感光材料１６面上で等間隔移
動させる機能及び色間の等間隔移動機能は、制御装置１
００による電気的な制御方法により実現される。
【００８１】このように本第１実施形態では、偏向され
た光ビームによる結像点を感光材料１６面上で等間隔移
動させる機能及び色間の等間隔移動機能を、像面位置補
正レンズ２７０に具備させないため、レンズの構造の単
純化が図られておりコストを低減させることができると
共に、装置の組み付け作業を簡単に行うことができる。
た光ビームによる結像点を感光材料１６面上で等間隔移
動させる機能及び色間の等間隔移動機能を、像面位置補
正レンズ２７０に具備させないため、レンズの構造の単
純化が図られておりコストを低減させることができると
共に、装置の組み付け作業を簡単に行うことができる。
【００８２】上記像面位置補正レンズ２７０を透過した
光ビームの進行方向には、シリンドリカルレンズ２６
９、シリンドリカルミラー２７２が順に設置されてお
り、シリンドリカルミラー２７２で反射した光ビームの
進行方向には、反射ミラー２７４が設置されている。反
射ミラー２７４によって反射した光ビームは略鉛直下向
きに反射され、露光部２２にセットされた感光材料１６
面上に結像する。
光ビームの進行方向には、シリンドリカルレンズ２６
９、シリンドリカルミラー２７２が順に設置されてお
り、シリンドリカルミラー２７２で反射した光ビームの
進行方向には、反射ミラー２７４が設置されている。反
射ミラー２７４によって反射した光ビームは略鉛直下向
きに反射され、露光部２２にセットされた感光材料１６
面上に結像する。
【００８３】反射ミラー２７４の側方にはＳＯＳ（Star
t Of Scan ）ミラー２７７が設置され、ポリゴンミラー
２６４で反射された光ビームが最初に照射されるように
なっている。ＳＯＳミラー２７７では、最初に照射され
た光ビーム（主走査開始点近傍に対応する光ビーム）が
反射し、ＳＯＳセンサ２７６に入射するようになってい
る。そして、ＳＯＳセンサ２７６は、ＳＯＳミラー２７
７から光ビームを入射したとき所定の信号を出力し、該
出力された信号は、制御装置１００に入力される。制御
装置１００は、１主走査における各光ビームによる最初
の結像点位置が感光材料１６上で一致するように、各光
ビームによる主走査開始時期、即ち各半導体レーザ２５
８ｘからの光ビームの射出開始タイミングを制御する。
t Of Scan ）ミラー２７７が設置され、ポリゴンミラー
２６４で反射された光ビームが最初に照射されるように
なっている。ＳＯＳミラー２７７では、最初に照射され
た光ビーム（主走査開始点近傍に対応する光ビーム）が
反射し、ＳＯＳセンサ２７６に入射するようになってい
る。そして、ＳＯＳセンサ２７６は、ＳＯＳミラー２７
７から光ビームを入射したとき所定の信号を出力し、該
出力された信号は、制御装置１００に入力される。制御
装置１００は、１主走査における各光ビームによる最初
の結像点位置が感光材料１６上で一致するように、各光
ビームによる主走査開始時期、即ち各半導体レーザ２５
８ｘからの光ビームの射出開始タイミングを制御する。
【００８４】なお、制御装置１００は、上記のように光
ビームの射出開始タイミングを制御する際に、半導体レ
ーザ２５８ｘ同士の相対的な位置のずれも考慮して制御
している。
ビームの射出開始タイミングを制御する際に、半導体レ
ーザ２５８ｘ同士の相対的な位置のずれも考慮して制御
している。
【００８５】図１に示されるように、露光部２２の側方
にはスイッチバック部４０が設けられており、また、露
光部２２の下方には水塗布部６２が設けられている。露
光部２２にて露光された感光材料１６は、一旦スイッチ
バック部４０へ送り込まれた後に、搬送ローラ２６の逆
回転によって、露光部２２の下方に設けられた搬送経路
を経て水塗布部６２へ送り込まれる構成である。水塗布
部６２には複数のパイプが連結されて水を供給できるよ
うになっている。水塗布部６２の側方には熱現像転写部
１０４が配置されており、水塗布された感光材料１６が
送り込まれるようになっている。
にはスイッチバック部４０が設けられており、また、露
光部２２の下方には水塗布部６２が設けられている。露
光部２２にて露光された感光材料１６は、一旦スイッチ
バック部４０へ送り込まれた後に、搬送ローラ２６の逆
回転によって、露光部２２の下方に設けられた搬送経路
を経て水塗布部６２へ送り込まれる構成である。水塗布
部６２には複数のパイプが連結されて水を供給できるよ
うになっている。水塗布部６２の側方には熱現像転写部
１０４が配置されており、水塗布された感光材料１６が
送り込まれるようになっている。
【００８６】なお、上記の水はいわゆる純水に限らず、
広く慣習的に使われている意味での水を含む。また、こ
の水は、純水とメタノール、ＤＭＦ、アセトン、ジイソ
ブチルケトンなどの低沸点溶媒との混合溶媒でも良く、
画像形成促進剤、カブリ防止剤、現像停止剤、親水性熱
溶剤等を含有させた溶液でもよい。
広く慣習的に使われている意味での水を含む。また、こ
の水は、純水とメタノール、ＤＭＦ、アセトン、ジイソ
ブチルケトンなどの低沸点溶媒との混合溶媒でも良く、
画像形成促進剤、カブリ防止剤、現像停止剤、親水性熱
溶剤等を含有させた溶液でもよい。
【００８７】一方、感材マガジン１４の側方の機台１２
には、受材マガジン１０６が配置されており、受像材料
１０８がロール状に巻取られて収納されている。受像材
料１０８の画像形成面には媒染剤を有する色素固定材料
が塗布されており、この画像形成面が装置の上方へ向い
て巻き取られている。
には、受材マガジン１０６が配置されており、受像材料
１０８がロール状に巻取られて収納されている。受像材
料１０８の画像形成面には媒染剤を有する色素固定材料
が塗布されており、この画像形成面が装置の上方へ向い
て巻き取られている。
【００８８】受材マガジン１０６は、感材マガジン１４
と同様に、胴部とこの胴部の両端部に固定された一対の
側枠部から構成されており、機台１２の前面側（図１紙
面手前側すなわち巻取られた受像材料１０８の幅方向）
へ引出し可能となっている。
と同様に、胴部とこの胴部の両端部に固定された一対の
側枠部から構成されており、機台１２の前面側（図１紙
面手前側すなわち巻取られた受像材料１０８の幅方向）
へ引出し可能となっている。
【００８９】受材マガジン１０６の受像材料取出し口近
傍には、ニップローラ１１０が配置されており、受材マ
ガジン１０６から受像材料１０８を引き出すと共にその
ニップを解除することができる。ニップローラ１１０の
側方にはカッタ１１２が配置されている。
傍には、ニップローラ１１０が配置されており、受材マ
ガジン１０６から受像材料１０８を引き出すと共にその
ニップを解除することができる。ニップローラ１１０の
側方にはカッタ１１２が配置されている。
【００９０】カッタ１１２の側方には、感材マガジン１
４の側方に位置する受像材料搬送部１８０が設けられて
いる。受像材料搬送部１８０には、搬送ローラ１８６、
１９０、１１４、及びガイド板１８２が配置されてお
り、所定長さに切断された受像材料１０８を熱現像転写
部１０４へ搬送できる。
４の側方に位置する受像材料搬送部１８０が設けられて
いる。受像材料搬送部１８０には、搬送ローラ１８６、
１９０、１１４、及びガイド板１８２が配置されてお
り、所定長さに切断された受像材料１０８を熱現像転写
部１０４へ搬送できる。
【００９１】熱現像転写部１０４へ搬送される感光材料
１６は、貼り合わせローラ１２０と加熱ドラム１１６と
の間に送り込まれ、また、受像材料１０８は感光材料１
６の搬送に同期し、感光材料１６が所定長さ先行した状
態で貼り合わせローラ１２０と加熱ドラム１１６との間
に送り込まれて重ね合わせられるようになっている。な
お、上記加熱ドラム１１６の内部には、一対のハロゲン
ランプ１３２Ａ、１３２Ｂが配置され、加熱ドラム１１
６の表面を昇温できるようになっている。
１６は、貼り合わせローラ１２０と加熱ドラム１１６と
の間に送り込まれ、また、受像材料１０８は感光材料１
６の搬送に同期し、感光材料１６が所定長さ先行した状
態で貼り合わせローラ１２０と加熱ドラム１１６との間
に送り込まれて重ね合わせられるようになっている。な
お、上記加熱ドラム１１６の内部には、一対のハロゲン
ランプ１３２Ａ、１３２Ｂが配置され、加熱ドラム１１
６の表面を昇温できるようになっている。
【００９２】図２１に示すように、無端圧接ベルト１１
８は、５本の巻き掛けローラ１３４、１３５、１３６、
１３８、１４０に巻き掛けられており、巻き掛けローラ
１３４と巻き掛けローラ１４０との間の無端状外側が加
熱ドラム１１６の外周に圧接されている。
８は、５本の巻き掛けローラ１３４、１３５、１３６、
１３８、１４０に巻き掛けられており、巻き掛けローラ
１３４と巻き掛けローラ１４０との間の無端状外側が加
熱ドラム１１６の外周に圧接されている。
【００９３】図１及び図２０に示すように、無端圧接ベ
ルト１１８の材料供給方向下流側の加熱ドラム１１６下
部には、屈曲案内ローラ１４２が配置されており、屈曲
案内ローラ１４２の材料供給方向下流側の加熱ドラム１
１６下部には、カム１３０によって加熱ドラム１１６の
外周に近接し感光材料１６を剥離する剥離爪１５４が、
所定の軸を中心に回動可能に設置されている。
ルト１１８の材料供給方向下流側の加熱ドラム１１６下
部には、屈曲案内ローラ１４２が配置されており、屈曲
案内ローラ１４２の材料供給方向下流側の加熱ドラム１
１６下部には、カム１３０によって加熱ドラム１１６の
外周に近接し感光材料１６を剥離する剥離爪１５４が、
所定の軸を中心に回動可能に設置されている。
【００９４】剥離爪１５４によって剥離された感光材料
１６は、屈曲案内ローラ１４２に巻き掛けられ下方へ移
動し、搬送ローラ１５８、１６２、１６０を介して廃棄
感光材料収容箱１７８へ搬送される。
１６は、屈曲案内ローラ１４２に巻き掛けられ下方へ移
動し、搬送ローラ１５８、１６２、１６０を介して廃棄
感光材料収容箱１７８へ搬送される。
【００９５】屈曲案内ローラ１４２の側方の加熱ドラム
１１６近傍には、剥離ローラ１７４及び剥離爪１７６が
配置されている。剥離ローラ１７４および剥離爪１７６
の下方には受材ガイド１７０が配置されると共に、受材
排出ローラ１７２、１７３、１７５が配置されており、
剥離ローラ１７４および剥離爪１７６によって加熱ドラ
ム１１６から剥離された受像材料１０８を案内搬送する
ことができる。
１１６近傍には、剥離ローラ１７４及び剥離爪１７６が
配置されている。剥離ローラ１７４および剥離爪１７６
の下方には受材ガイド１７０が配置されると共に、受材
排出ローラ１７２、１７３、１７５が配置されており、
剥離ローラ１７４および剥離爪１７６によって加熱ドラ
ム１１６から剥離された受像材料１０８を案内搬送する
ことができる。
【００９６】剥離爪１７６によって加熱ドラム１１６の
外周から剥された受像材料１０８は、受材ガイド１７０
及び受材排出ローラ１７２、１７３、１７５によって搬
送されトレイ１７７へ排出される構成となっている。
外周から剥された受像材料１０８は、受材ガイド１７０
及び受材排出ローラ１７２、１７３、１７５によって搬
送されトレイ１７７へ排出される構成となっている。
【００９７】さて、ここで本発明に係る、結像点を感光
材料１６面上で等速度移動させる機能及び色消し機能を
代替する制御装置１００の機能について以下に詳細に説
明する。
材料１６面上で等速度移動させる機能及び色消し機能を
代替する制御装置１００の機能について以下に詳細に説
明する。
【００９８】まず、一の光ビームの射出タイミングの制
御に着目して、結像点を感光材料１６面上で等間隔にす
る機能（以下、ｆθ性維持機能と称す）について説明す
る。
御に着目して、結像点を感光材料１６面上で等間隔にす
る機能（以下、ｆθ性維持機能と称す）について説明す
る。
【００９９】図５（Ａ）に示す表及び図５（Ｂ）に示す
線図には、露光装置３８に設置された像面位置補正レン
ズ２７０を用いた場合に、結像点を感光材料１６面上で
等間隔にするために「本来あるべき点からのずれ量」
（以下、補正距離と称す）と走査位置との関係を示す。
ここで、ずれ量は本来あるべき点から画像端側へずれた
場合を正とする。図５（Ｂ）の線図から明らかなよう
に、画像中央側の領域Ｒ１では本来あるべき点から画像
中央側へずれており且つそのずれ量は次第に大きくなっ
ている。画像中央と画像端との真ん中付近の領域Ｒ２で
は画像中央側へのずれ量が最大となるものの、ずれ量の
変動は殆ど無い。そして、画像端側の領域Ｒ３では依然
として画像中央側へずれているものの、そのずれ量は次
第に小さくなっている。
線図には、露光装置３８に設置された像面位置補正レン
ズ２７０を用いた場合に、結像点を感光材料１６面上で
等間隔にするために「本来あるべき点からのずれ量」
（以下、補正距離と称す）と走査位置との関係を示す。
ここで、ずれ量は本来あるべき点から画像端側へずれた
場合を正とする。図５（Ｂ）の線図から明らかなよう
に、画像中央側の領域Ｒ１では本来あるべき点から画像
中央側へずれており且つそのずれ量は次第に大きくなっ
ている。画像中央と画像端との真ん中付近の領域Ｒ２で
は画像中央側へのずれ量が最大となるものの、ずれ量の
変動は殆ど無い。そして、画像端側の領域Ｒ３では依然
として画像中央側へずれているものの、そのずれ量は次
第に小さくなっている。
【０１００】従って、結像点を感光材料１６面上で等間
隔にする場合、領域Ｒ１では結像点の間隔を大きくする
ように補正し、領域Ｒ２では結像点の間隔を補正せず、
領域Ｒ３では結像点の間隔を小さくするように補正する
必要がある。
隔にする場合、領域Ｒ１では結像点の間隔を大きくする
ように補正し、領域Ｒ２では結像点の間隔を補正せず、
領域Ｒ３では結像点の間隔を小さくするように補正する
必要がある。
【０１０１】一方、制御装置１００には、一定周波数の
クロックを発振するクロック発振器が内蔵されており、
制御装置１００は、クロック発振器で発振されたクロッ
クにおけるクロックカウント数に基づいて、通常８クロ
ックに１回のペースで光ビームを射出させ、時折９クロ
ックに１回のペース又は７クロックに１回のペースで光
ビームを射出させる。
クロックを発振するクロック発振器が内蔵されており、
制御装置１００は、クロック発振器で発振されたクロッ
クにおけるクロックカウント数に基づいて、通常８クロ
ックに１回のペースで光ビームを射出させ、時折９クロ
ックに１回のペース又は７クロックに１回のペースで光
ビームを射出させる。
【０１０２】その一例として、図６のタイムチャートに
は、矢印Ｓ１、Ｓ２、Ｓ４において８クロックに１回の
ペースで光ビームを射出し、矢印Ｓ３において９クロッ
クに１回のペースで光ビームを射出したケースを示す。
この例では、８クロック又は９クロックの最初のクロッ
クの立ち上がり時に光ビームの射出を開始している。但
し、最初のクロックの立ち上がり時に光ビームの射出を
開始することは必須ではなく、所定数のクロックのうち
の予め定められたタイミングで光ビームの射出を開始す
れば良い。例えば、図７に示すように９クロックに１回
のペースで光ビームを射出させた場合の結像点Ｐ３は、
後続の結像点Ｐ４との間隔Ｌ34が通常の間隔（８クロッ
クに１回のペースで光ビームを射出させた場合の結像点
の間隔Ｌ 12やＬ23）よりも若干大きくなる。
は、矢印Ｓ１、Ｓ２、Ｓ４において８クロックに１回の
ペースで光ビームを射出し、矢印Ｓ３において９クロッ
クに１回のペースで光ビームを射出したケースを示す。
この例では、８クロック又は９クロックの最初のクロッ
クの立ち上がり時に光ビームの射出を開始している。但
し、最初のクロックの立ち上がり時に光ビームの射出を
開始することは必須ではなく、所定数のクロックのうち
の予め定められたタイミングで光ビームの射出を開始す
れば良い。例えば、図７に示すように９クロックに１回
のペースで光ビームを射出させた場合の結像点Ｐ３は、
後続の結像点Ｐ４との間隔Ｌ34が通常の間隔（８クロッ
クに１回のペースで光ビームを射出させた場合の結像点
の間隔Ｌ 12やＬ23）よりも若干大きくなる。
【０１０３】また、図８のタイムチャートには、矢印Ｕ
１、Ｕ２、Ｕ４において８クロックに１回のペースで光
ビームを射出し、矢印Ｕ３において７クロックに１回の
ペースで光ビームを射出したケースを示す。この例で
は、８クロック又は７クロックの最初のクロックの立ち
上がり時に光ビームの射出を開始している。例えば、図
９に示すように７クロックに１回のペースで光ビームを
射出させた場合の結像点Ｑ３は、後続の結像点Ｑ４との
間隔ＬＧ34が通常の間隔（８クロックに１回のペースで
光ビームを射出させた場合の結像点の間隔ＬＧ12やＬＧ
23）よりも若干小さくなる。
１、Ｕ２、Ｕ４において８クロックに１回のペースで光
ビームを射出し、矢印Ｕ３において７クロックに１回の
ペースで光ビームを射出したケースを示す。この例で
は、８クロック又は７クロックの最初のクロックの立ち
上がり時に光ビームの射出を開始している。例えば、図
９に示すように７クロックに１回のペースで光ビームを
射出させた場合の結像点Ｑ３は、後続の結像点Ｑ４との
間隔ＬＧ34が通常の間隔（８クロックに１回のペースで
光ビームを射出させた場合の結像点の間隔ＬＧ12やＬＧ
23）よりも若干小さくなる。
【０１０４】本第１実施形態では、上記のような結像点
間隔の補正方法を利用し、前述したように結像点の間隔
が大きくなるように補正すべき図５（Ｂ）の領域Ｒ１で
は通常８クロックに１回のペースで光ビームを射出さ
せ、時折９クロックに１回のペースで光ビームを射出さ
せるように制御すると共に、結像点の間隔が小さくなる
ように補正すべき図５（Ｂ）の領域Ｒ３では通常８クロ
ックに１回のペースで光ビームを射出させ、時折７クロ
ックに１回のペースで光ビームを射出させるように制御
する。
間隔の補正方法を利用し、前述したように結像点の間隔
が大きくなるように補正すべき図５（Ｂ）の領域Ｒ１で
は通常８クロックに１回のペースで光ビームを射出さ
せ、時折９クロックに１回のペースで光ビームを射出さ
せるように制御すると共に、結像点の間隔が小さくなる
ように補正すべき図５（Ｂ）の領域Ｒ３では通常８クロ
ックに１回のペースで光ビームを射出させ、時折７クロ
ックに１回のペースで光ビームを射出させるように制御
する。
【０１０５】また、前述した走査位置と該走査位置に対
応する補正距離との関係では、図５（Ｂ）の線図から明
らかなように、補正距離は走査位置に対応して変動して
いる。即ち、補正距離の変動が大きい領域については、
該補正距離の大きな変動に伴って、補正を頻繁に行うこ
とにより、補正の度合いを高くする必要がある。
応する補正距離との関係では、図５（Ｂ）の線図から明
らかなように、補正距離は走査位置に対応して変動して
いる。即ち、補正距離の変動が大きい領域については、
該補正距離の大きな変動に伴って、補正を頻繁に行うこ
とにより、補正の度合いを高くする必要がある。
【０１０６】そこで、本第１実施形態では、図１０に示
す表のように、図５（Ｂ）における領域Ｒ１を５つに、
領域Ｒ３を４つに、それぞれ分割し、領域Ｒ２も含めて
計１０の分割領域の各々における補正距離の変動度合い
に応じて、補正の頻度を予め定めている。この各分割領
域毎の補正の頻度に関する情報はＲＯＭに予め記憶され
ている。なお、領域の分割の方法は上記に限定されるも
のではない。また、最も精度良く補正するためには、分
割せずに１カウント分ずれたら補正を入れるようにする
ことが望ましい。
す表のように、図５（Ｂ）における領域Ｒ１を５つに、
領域Ｒ３を４つに、それぞれ分割し、領域Ｒ２も含めて
計１０の分割領域の各々における補正距離の変動度合い
に応じて、補正の頻度を予め定めている。この各分割領
域毎の補正の頻度に関する情報はＲＯＭに予め記憶され
ている。なお、領域の分割の方法は上記に限定されるも
のではない。また、最も精度良く補正するためには、分
割せずに１カウント分ずれたら補正を入れるようにする
ことが望ましい。
【０１０７】なお、表中に記載した「９／８を入れる」
とは、通常８クロックに１回のペースで光ビームを射出
させ、記載した頻度で９クロックに１回のペースで光ビ
ームを射出させるように制御することを意味しており、
この「９／８を入れる」補正により光ビームの射出タイ
ミングの間隔を長くすることができ、光ビームの結像点
の間隔が大きくなるように補正することができる。
とは、通常８クロックに１回のペースで光ビームを射出
させ、記載した頻度で９クロックに１回のペースで光ビ
ームを射出させるように制御することを意味しており、
この「９／８を入れる」補正により光ビームの射出タイ
ミングの間隔を長くすることができ、光ビームの結像点
の間隔が大きくなるように補正することができる。
【０１０８】一方、「７／８を入れる」とは、通常８ク
ロックに１回のペースで光ビームを射出させ、記載した
頻度で７クロックに１回のペースで光ビームを射出させ
るように制御することを意味しており、この「７／８を
入れる」補正により光ビームの射出タイミングの間隔を
短くすることができ、光ビームの結像点の間隔が小さく
なるように補正することができる。
ロックに１回のペースで光ビームを射出させ、記載した
頻度で７クロックに１回のペースで光ビームを射出させ
るように制御することを意味しており、この「７／８を
入れる」補正により光ビームの射出タイミングの間隔を
短くすることができ、光ビームの結像点の間隔が小さく
なるように補正することができる。
【０１０９】即ち、本第１実施形態では、図１０に示す
補正パターンに従って、領域Ｒ１では結像点の間隔を大
きくするように補正し、領域Ｒ３では結像点の間隔を小
さくするように補正しつつ、さらに補正距離の変動度合
いが大きい分割領域ほど補正の頻度を高くすることによ
って、分割領域毎に適切に光ビームの射出タイミングを
補正し、光ビームの主走査方向の結像点間隔を等しくし
ている。
補正パターンに従って、領域Ｒ１では結像点の間隔を大
きくするように補正し、領域Ｒ３では結像点の間隔を小
さくするように補正しつつ、さらに補正距離の変動度合
いが大きい分割領域ほど補正の頻度を高くすることによ
って、分割領域毎に適切に光ビームの射出タイミングを
補正し、光ビームの主走査方向の結像点間隔を等しくし
ている。
【０１１０】次に、色間の等間隔移動機能について説明
する。各光ビームについて、光ビームの結像点の間隔が
等しくなるように補正しても、この間隔が各光ビーム間
で一致しているとは限らない。そこで、この間隔が各光
ビーム間で一致するように、各半導体レーザ２５８ｘの
射出タイミングを制御する。
する。各光ビームについて、光ビームの結像点の間隔が
等しくなるように補正しても、この間隔が各光ビーム間
で一致しているとは限らない。そこで、この間隔が各光
ビーム間で一致するように、各半導体レーザ２５８ｘの
射出タイミングを制御する。
【０１１１】ところで、この状態では各光ビームの結像
点の間隔は、各光ビーム間で一致しているが、主走査方
向での各光ビームの結像点の位置が一致していない。本
第１実施形態では、走査開始時に各半導体レーザ２５８
ｘの射出タイミングを調整することにより、主走査方向
における各光ビームの結像点の位置ずれを補正してい
る。即ち、各半導体レーザ２５８ｘからの光ビームをＳ
ＯＳセンサ２７６で受光した後、被走査面上で主走査方
向における各光ビームの結像点の位置が一致するよう
に、各半導体レーザ２５８ｘから光ビームを射出すべき
タイミングをとるための各半導体レーザ２５８ｘ毎のス
タート信号をＳＯＳセンサ２７６から出力するタイミン
グを調整している。
点の間隔は、各光ビーム間で一致しているが、主走査方
向での各光ビームの結像点の位置が一致していない。本
第１実施形態では、走査開始時に各半導体レーザ２５８
ｘの射出タイミングを調整することにより、主走査方向
における各光ビームの結像点の位置ずれを補正してい
る。即ち、各半導体レーザ２５８ｘからの光ビームをＳ
ＯＳセンサ２７６で受光した後、被走査面上で主走査方
向における各光ビームの結像点の位置が一致するよう
に、各半導体レーザ２５８ｘから光ビームを射出すべき
タイミングをとるための各半導体レーザ２５８ｘ毎のス
タート信号をＳＯＳセンサ２７６から出力するタイミン
グを調整している。
【０１１２】なお、実際に各光ビームの補正距離の差異
は微小であるので、一の半導体レーザの射出タイミング
に係る分割領域の設定と補正の内容及び頻度の設定とを
行っておき、他の半導体レーザの射出タイミングについ
ては、前記設定した一の半導体レーザにおける補正の内
容及び頻度を補正することにより設定しても良い。
は微小であるので、一の半導体レーザの射出タイミング
に係る分割領域の設定と補正の内容及び頻度の設定とを
行っておき、他の半導体レーザの射出タイミングについ
ては、前記設定した一の半導体レーザにおける補正の内
容及び頻度を補正することにより設定しても良い。
【０１１３】次に、本第１実施形態の作用を説明する。
感材マガジン１４及び受材マガジン１０６がセットされ
た状態で、オペレータが操作部１０３によって露光すべ
き画像データを指定し所定の露光開始指示を行うと、以
下のような露光処理が制御装置１００による制御の下で
実行される。
感材マガジン１４及び受材マガジン１０６がセットされ
た状態で、オペレータが操作部１０３によって露光すべ
き画像データを指定し所定の露光開始指示を行うと、以
下のような露光処理が制御装置１００による制御の下で
実行される。
【０１１４】まず、図１に示すニップローラ１８が作動
され、感光材料１６がニップローラ１８によって引き出
される。感光材料１６が所定長さ引き出されると、カッ
タ２０が作動し、感光材料１６が所定長さに切断され
る。
され、感光材料１６がニップローラ１８によって引き出
される。感光材料１６が所定長さ引き出されると、カッ
タ２０が作動し、感光材料１６が所定長さに切断され
る。
【０１１５】カッタ２０の作動後は、感光材料１６は、
反転されてその感光（露光）面を上方へ向けた状態で露
光部２２へ搬送される。この感光材料１６の搬送と同時
に、図３に示す制御装置１００は前記指定された画像デ
ータを画像メモリ１０２から読み出す。そして、該画像
データに基づくＹ、Ｍ、Ｃの各色を発色するための各光
ビームを、上述したように予め設定された射出タイミン
グ、射出継続時間及び光強度で射出するように、半導体
レーザ２５８Ｃ、２５８Ｍ、２５８Ｙの各々に供給する
電流を制御する。
反転されてその感光（露光）面を上方へ向けた状態で露
光部２２へ搬送される。この感光材料１６の搬送と同時
に、図３に示す制御装置１００は前記指定された画像デ
ータを画像メモリ１０２から読み出す。そして、該画像
データに基づくＹ、Ｍ、Ｃの各色を発色するための各光
ビームを、上述したように予め設定された射出タイミン
グ、射出継続時間及び光強度で射出するように、半導体
レーザ２５８Ｃ、２５８Ｍ、２５８Ｙの各々に供給する
電流を制御する。
【０１１６】ここで、射出タイミングについては、例え
ば、図１０の表に示すような各色毎に設定された補正パ
ターンに基づいて、各色の光ビームの射出タイミングを
走査位置に応じて補正することにより、各色の光ビーム
の結像点間隔を各光ビーム間で一致させると共に、ｆθ
性を維持する。
ば、図１０の表に示すような各色毎に設定された補正パ
ターンに基づいて、各色の光ビームの射出タイミングを
走査位置に応じて補正することにより、各色の光ビーム
の結像点間隔を各光ビーム間で一致させると共に、ｆθ
性を維持する。
【０１１７】半導体レーザ２５８Ｙ、２５８Ｍ、２５８
Ｃから射出された光ビームはそれぞれコリメータレンズ
２６０に入射する。コリメータレンズ２６０により平行
光線とされた光ビームは、シリンドリカルレンズ２６３
によりポリゴンミラー２６４の反射面２６８上で副走査
方向には集束する。
Ｃから射出された光ビームはそれぞれコリメータレンズ
２６０に入射する。コリメータレンズ２６０により平行
光線とされた光ビームは、シリンドリカルレンズ２６３
によりポリゴンミラー２６４の反射面２６８上で副走査
方向には集束する。
【０１１８】一方、ポリゴンミラー２６４は軸２６６を
中心に高速に回転している。このポリゴンミラー２６４
の回転によって光ビームは、図４に矢印Ａで示す主走査
方向に偏向される。このように主走査方向に偏向されな
がら、光ビームは像面位置補正レンズ２７０に入射す
る。なお、図３には光ビームに関する光軸中心Ｃ、及び
主走査方向の偏向（主走査）の開始位置Ｓ、終了位置Ｅ
を示す。
中心に高速に回転している。このポリゴンミラー２６４
の回転によって光ビームは、図４に矢印Ａで示す主走査
方向に偏向される。このように主走査方向に偏向されな
がら、光ビームは像面位置補正レンズ２７０に入射す
る。なお、図３には光ビームに関する光軸中心Ｃ、及び
主走査方向の偏向（主走査）の開始位置Ｓ、終了位置Ｅ
を示す。
【０１１９】像面位置補正レンズ２７０を透過した光ビ
ームは、シリンドリカルレンズ２６９によって副走査方
向に整形された後、シリンドリカルミラー２７２で反射
され、さらに反射ミラー２７４で略鉛直下向きに反射さ
れ、感光材料１６に至る。
ームは、シリンドリカルレンズ２６９によって副走査方
向に整形された後、シリンドリカルミラー２７２で反射
され、さらに反射ミラー２７４で略鉛直下向きに反射さ
れ、感光材料１６に至る。
【０１２０】ところで、制御装置１００は、前述したよ
うな電気的な制御方法により各光ビームによる結像点が
感光材料１６面上で等間隔となるように制御すると共
に、各光ビームの結像点間隔が各光ビーム間で一致する
ように制御する。
うな電気的な制御方法により各光ビームによる結像点が
感光材料１６面上で等間隔となるように制御すると共
に、各光ビームの結像点間隔が各光ビーム間で一致する
ように制御する。
【０１２１】さらに、制御装置１００は、１主走査にお
ける各光ビームによる最初の結像点位置が感光材料１６
上で一致するように、各光ビームによる主走査開始時
期、即ち各半導体レーザ２５８ｘからの光ビームの射出
開始タイミングを制御する。
ける各光ビームによる最初の結像点位置が感光材料１６
上で一致するように、各光ビームによる主走査開始時
期、即ち各半導体レーザ２５８ｘからの光ビームの射出
開始タイミングを制御する。
【０１２２】以上のことから、感光材料１６上での各光
ビームの結像点位置は主走査方向及び副走査方向で一致
することになる。実際に露光装置３８では、ポリゴンミ
ラー２６４への各光ビームの入射角度が異なるため、各
光ビームの結像点が同時に主走査方向に同じ位置にくる
ことはないが、上記のように各光ビームによる最初の結
像点の位置を主走査方向で一致させるべく各光ビームの
射出タイミングを制御することにより、各光ビームは、
結像するタイミングがずれるものの、感光材料１６上の
同じ位置に結像することになる。
ビームの結像点位置は主走査方向及び副走査方向で一致
することになる。実際に露光装置３８では、ポリゴンミ
ラー２６４への各光ビームの入射角度が異なるため、各
光ビームの結像点が同時に主走査方向に同じ位置にくる
ことはないが、上記のように各光ビームによる最初の結
像点の位置を主走査方向で一致させるべく各光ビームの
射出タイミングを制御することにより、各光ビームは、
結像するタイミングがずれるものの、感光材料１６上の
同じ位置に結像することになる。
【０１２３】これにより、イエロー発色用の光ビーム、
マゼンタ発色用の光ビーム、及びシアン発色用の光ビー
ムの各々が集束した点には、露光すべき画像が露光され
ることとなる。
マゼンタ発色用の光ビーム、及びシアン発色用の光ビー
ムの各々が集束した点には、露光すべき画像が露光され
ることとなる。
【０１２４】前述したようにポリゴンミラー２６４の回
転により、上記結像点２７５では主走査方向の主走査が
繰り返され、これと並行して感光材料１６が副走査方向
に搬送される（副走査される）。これにより、感光材料
１６には、各半導体レーザ２５８Ｃ、２５８Ｍ、２５８
Ｙからの光ビームによる画像が露光されることになる。
転により、上記結像点２７５では主走査方向の主走査が
繰り返され、これと並行して感光材料１６が副走査方向
に搬送される（副走査される）。これにより、感光材料
１６には、各半導体レーザ２５８Ｃ、２５８Ｍ、２５８
Ｙからの光ビームによる画像が露光されることになる。
【０１２５】さらに露光直後に、感光材料１６は一旦ス
イッチバック部４０へ送り込まれ、搬送ローラ２６の逆
回転によって水塗布部６２へ送り込まれる。
イッチバック部４０へ送り込まれ、搬送ローラ２６の逆
回転によって水塗布部６２へ送り込まれる。
【０１２６】水塗布部６２では、感光材料１６に水が塗
布され、スクイズローラ６８によって余分な水が除去さ
れながら水塗布部６２を通過する。水塗布部６２におい
て画像形成用溶媒としての水が塗布された感光材料１６
は、スクイズローラ６８によって熱現像転写部１０４へ
送り込まれる。
布され、スクイズローラ６８によって余分な水が除去さ
れながら水塗布部６２を通過する。水塗布部６２におい
て画像形成用溶媒としての水が塗布された感光材料１６
は、スクイズローラ６８によって熱現像転写部１０４へ
送り込まれる。
【０１２７】一方、感光材料１６への露光が開始される
に伴って、ニップローラ１１０が、制御装置１００によ
って駆動制御され、受像材料１０８を受材マガジン１０
６から引き出す。受像材料１０８が所定長さ引き出され
ると、カッタ１１２が作動して受像材料１０８が所定長
さに切断される。
に伴って、ニップローラ１１０が、制御装置１００によ
って駆動制御され、受像材料１０８を受材マガジン１０
６から引き出す。受像材料１０８が所定長さ引き出され
ると、カッタ１１２が作動して受像材料１０８が所定長
さに切断される。
【０１２８】カッタ１１２の作動後は、ガイド板１８２
によって案内されながら搬送ローラ１９０、１８６、１
１４によって搬送され、熱現像転写部１０４の直前で待
機状態となる。
によって案内されながら搬送ローラ１９０、１８６、１
１４によって搬送され、熱現像転写部１０４の直前で待
機状態となる。
【０１２９】熱現像転写部１０４では、感光材料１６が
スクイズローラ６８によって加熱ドラム１１６外周と貼
り合わせローラ１２０との間へ送り込まれたことが検出
されると、受像材料１０８の搬送が再開されて貼り合わ
せローラ１２０へ送り込まれると共に、加熱ドラム１１
６が作動される。
スクイズローラ６８によって加熱ドラム１１６外周と貼
り合わせローラ１２０との間へ送り込まれたことが検出
されると、受像材料１０８の搬送が再開されて貼り合わ
せローラ１２０へ送り込まれると共に、加熱ドラム１１
６が作動される。
【０１３０】この場合、この貼り合わせローラ１２０と
水塗布部６２のスクイズローラ６８との間にはガイド板
１２２が配置されており、スクイズローラ６８から送ら
れる感光材料１６は確実に貼り合わせローラ１２０へ案
内される。
水塗布部６２のスクイズローラ６８との間にはガイド板
１２２が配置されており、スクイズローラ６８から送ら
れる感光材料１６は確実に貼り合わせローラ１２０へ案
内される。
【０１３１】貼り合わせローラ１２０によって重ね合わ
された感光材料１６と受像材料１０８とは、重ね合わせ
た状態のままで加熱ドラム１１６と無端圧接ベルト１１
８との間で挟持され、加熱ドラム１１６のほぼ２／３周
（巻き掛けローラ１３４と巻き掛けローラ１４０の間）
に渡って、図１において反時計回りに搬送される。これ
により感光材料１６と受像材料１０８とが加熱され、可
動性の色素が放出され、この色素が受像材料１０８の色
素固定層に転写されることにより、画像が受像材料１０
８に記録される。
された感光材料１６と受像材料１０８とは、重ね合わせ
た状態のままで加熱ドラム１１６と無端圧接ベルト１１
８との間で挟持され、加熱ドラム１１６のほぼ２／３周
（巻き掛けローラ１３４と巻き掛けローラ１４０の間）
に渡って、図１において反時計回りに搬送される。これ
により感光材料１６と受像材料１０８とが加熱され、可
動性の色素が放出され、この色素が受像材料１０８の色
素固定層に転写されることにより、画像が受像材料１０
８に記録される。
【０１３２】その後、感光材料１６と受像材料１０８と
が挟持搬送され加熱ドラム１１６の下部に達すると、カ
ム１３０によって剥離爪１５４が加熱ドラム１１６に近
接するように移動し、受像材料１０８よりも所定長さ先
行して搬送される感光材料１６の先端部に剥離爪１５４
が係合して感光材料１６の先端部を加熱ドラム１１６の
外周から剥離させる。さらに、剥離爪１５４の復帰移動
によってピンチローラ１５７（図２０参照）が感光材料
１６を押圧し、これにより感光材料１６は屈曲案内ロー
ラ１４２に巻き掛けられ下方へ移動し、さらに搬送ロー
ラ１５８、１６２、１６０によって廃棄感光材料収容箱
１７８へと搬送される。
が挟持搬送され加熱ドラム１１６の下部に達すると、カ
ム１３０によって剥離爪１５４が加熱ドラム１１６に近
接するように移動し、受像材料１０８よりも所定長さ先
行して搬送される感光材料１６の先端部に剥離爪１５４
が係合して感光材料１６の先端部を加熱ドラム１１６の
外周から剥離させる。さらに、剥離爪１５４の復帰移動
によってピンチローラ１５７（図２０参照）が感光材料
１６を押圧し、これにより感光材料１６は屈曲案内ロー
ラ１４２に巻き掛けられ下方へ移動し、さらに搬送ロー
ラ１５８、１６２、１６０によって廃棄感光材料収容箱
１７８へと搬送される。
【０１３３】一方、感光材料１６と分離し加熱ドラム１
１６に密着されたままの状態で移動する受像材料１０８
は、剥離ローラ１７４へ送られ剥離爪１７６によって加
熱ドラム１１６の外周から剥離される。
１６に密着されたままの状態で移動する受像材料１０８
は、剥離ローラ１７４へ送られ剥離爪１７６によって加
熱ドラム１１６の外周から剥離される。
【０１３４】受像材料１０８は、剥離ローラ１７４に巻
き掛けられながら下方へ移動し、さらに受材ガイド１７
０に案内されながら受材排出ローラ１７２、１７３、１
７５によって搬送されてトレイ１７７へ排出される。
き掛けられながら下方へ移動し、さらに受材ガイド１７
０に案内されながら受材排出ローラ１７２、１７３、１
７５によって搬送されてトレイ１７７へ排出される。
【０１３５】以上のようにして、記録すべき画像は一旦
感光材料１６に露光された後、受像材料１０８に熱転写
される。そして、画像が記録された受像材料１０８はト
レイ１７７へ排出され、入手することが可能となる。
感光材料１６に露光された後、受像材料１０８に熱転写
される。そして、画像が記録された受像材料１０８はト
レイ１７７へ排出され、入手することが可能となる。
【０１３６】以上説明した第１実施形態では、像面位置
補正レンズ２７０には、偏向された光ビームによる結像
点を感光材料１６面上で等間隔移動させる機能及び色間
の等間隔移動機能を具備させず、これらの機能は、制御
装置１００による電気的な制御方法により実現するの
で、レンズの構造を単純化してコストを低減させると共
に、装置の組み付け作業を簡単に行うことができる、と
いう効果が得られる。
補正レンズ２７０には、偏向された光ビームによる結像
点を感光材料１６面上で等間隔移動させる機能及び色間
の等間隔移動機能を具備させず、これらの機能は、制御
装置１００による電気的な制御方法により実現するの
で、レンズの構造を単純化してコストを低減させると共
に、装置の組み付け作業を簡単に行うことができる、と
いう効果が得られる。
【０１３７】〔第２実施形態〕次に、第２実施形態とし
て、クロックカウント数は一定としつつ、走査位置に応
じてクロック周波数を変化させることにより、ｆθ性を
維持する実施形態を説明する。
て、クロックカウント数は一定としつつ、走査位置に応
じてクロック周波数を変化させることにより、ｆθ性を
維持する実施形態を説明する。
【０１３８】第２実施形態における画像記録装置１０の
構成は第１実施形態における画像記録装置１０の構成と
略同様であるので、説明を省略する。
構成は第１実施形態における画像記録装置１０の構成と
略同様であるので、説明を省略する。
【０１３９】図１３には、ポリゴンミラー２６４で偏向
された光ビームの軌跡及び感光材料１６上の結像点の位
置を示している。走査中心Ｃから矢印Ｊ方向に主走査す
る場合、補正しない場合に所定時間間隔の結像点は点
Ｃ、点Ｂ０、点Ａ０というように、走査中心から遠ざか
るにつれてそれらの間隔は大きくなる。よって、走査中
心から遠ざかるにつれて光ビームの射出時間間隔を短く
する必要がある。
された光ビームの軌跡及び感光材料１６上の結像点の位
置を示している。走査中心Ｃから矢印Ｊ方向に主走査す
る場合、補正しない場合に所定時間間隔の結像点は点
Ｃ、点Ｂ０、点Ａ０というように、走査中心から遠ざか
るにつれてそれらの間隔は大きくなる。よって、走査中
心から遠ざかるにつれて光ビームの射出時間間隔を短く
する必要がある。
【０１４０】そこで、第２実施形態では、走査中心から
遠ざかるにつれて光ビームの射出時間間隔を短くするた
めに、一定のクロック間隔（例えば、８クロック間隔）
で光ビームが射出されるように制御しつつ、走査中心か
ら遠ざかるにつれてクロックの周波数を高くする。具体
的には、画像中央Ｃと補正対象の位置とでのクロック周
波数の比率が補正前の走査速度の比率に等しくなるよう
に、補正対象の位置でのクロック周波数を設定する。
遠ざかるにつれて光ビームの射出時間間隔を短くするた
めに、一定のクロック間隔（例えば、８クロック間隔）
で光ビームが射出されるように制御しつつ、走査中心か
ら遠ざかるにつれてクロックの周波数を高くする。具体
的には、画像中央Ｃと補正対象の位置とでのクロック周
波数の比率が補正前の走査速度の比率に等しくなるよう
に、補正対象の位置でのクロック周波数を設定する。
【０１４１】例えば、図１３において、点Ｃにおけるク
ロック周波数をω0 とし、補正しない場合に点Ｂ０で結
像されるタイミングにおけるクロック周波数をω1 、点
Ａ０で結像されるタイミングにおけるクロック周波数を
ω2 とする。同様に、点Ｃにおける走査速度をＶ0 と
し、補正しない場合に点Ｂ０で結像されるタイミングに
おける走査速度をＶ1 、点Ａ０で結像されるタイミング
における走査速度をＶ2とする。
ロック周波数をω0 とし、補正しない場合に点Ｂ０で結
像されるタイミングにおけるクロック周波数をω1 、点
Ａ０で結像されるタイミングにおけるクロック周波数を
ω2 とする。同様に、点Ｃにおける走査速度をＶ0 と
し、補正しない場合に点Ｂ０で結像されるタイミングに
おける走査速度をＶ1 、点Ａ０で結像されるタイミング
における走査速度をＶ2とする。
【０１４２】このときｆθ性を維持するために、以下の
（４）式から導出された（５）式に基づいて、ω1 を求
める。 （ω1 ／ω0 ）＝（Ｖ1 ／Ｖ0 ） −−−（４） ω1 ＝ω0 ×（Ｖ1 ／Ｖ0 ） −−−（５） また、ω2 についても、以下の（６）式から導出された
（７）式に基づいて求める。 （ω2 ／ω0 ）＝（Ｖ2 ／Ｖ0 ） −−−（６） ω2 ＝ω0 ×（Ｖ2 ／Ｖ0 ） −−−（７） これらにより、補正しない場合に点Ｂ０で結像されるタ
イミングにおけるクロック周波数ω1 、点Ａ０で結像さ
れるタイミングにおけるクロック周波数ω2 を求めるこ
とができる。
（４）式から導出された（５）式に基づいて、ω1 を求
める。 （ω1 ／ω0 ）＝（Ｖ1 ／Ｖ0 ） −−−（４） ω1 ＝ω0 ×（Ｖ1 ／Ｖ0 ） −−−（５） また、ω2 についても、以下の（６）式から導出された
（７）式に基づいて求める。 （ω2 ／ω0 ）＝（Ｖ2 ／Ｖ0 ） −−−（６） ω2 ＝ω0 ×（Ｖ2 ／Ｖ0 ） −−−（７） これらにより、補正しない場合に点Ｂ０で結像されるタ
イミングにおけるクロック周波数ω1 、点Ａ０で結像さ
れるタイミングにおけるクロック周波数ω2 を求めるこ
とができる。
【０１４３】上記の要領で、任意の走査位置でのクロッ
ク周波数を、該走査位置での補正しない場合の走査速度
に応じて変化させることにより、結像点を感光材料１６
面上で等間隔移動させる機能を首尾よく実現することが
できる。
ク周波数を、該走査位置での補正しない場合の走査速度
に応じて変化させることにより、結像点を感光材料１６
面上で等間隔移動させる機能を首尾よく実現することが
できる。
【０１４４】実際には、全ての画素について、クロック
周波数を設定してクロック周波数を変化させることは困
難であるので、第１実施形態における補正パターンと同
様に走査範囲を所定数の領域に分割し、各分割領域に対
して最適なクロック周波数を設定しておく。そして、こ
の設定に基づいて、クロック周波数を変化させる。
周波数を設定してクロック周波数を変化させることは困
難であるので、第１実施形態における補正パターンと同
様に走査範囲を所定数の領域に分割し、各分割領域に対
して最適なクロック周波数を設定しておく。そして、こ
の設定に基づいて、クロック周波数を変化させる。
【０１４５】なお、上記クロック周波数としては、複数
段階に予め定められた周波数値から走査位置に応じて選
択しても良く、全体として複数段階の周波数値を組み合
わせることで、結像点を等間隔移動させるよう補正して
も良い。
段階に予め定められた周波数値から走査位置に応じて選
択しても良く、全体として複数段階の周波数値を組み合
わせることで、結像点を等間隔移動させるよう補正して
も良い。
【０１４６】もちろん、精度良く補正するには、走査範
囲をより多くの領域に分割し、それらの多くの分割領域
の各々に対してクロック周波数を設定しておくことが望
ましい。また、１画素毎に周波数を設定しておき走査し
ながら周波数を変えていくことが最も精度良く補正する
方法である。
囲をより多くの領域に分割し、それらの多くの分割領域
の各々に対してクロック周波数を設定しておくことが望
ましい。また、１画素毎に周波数を設定しておき走査し
ながら周波数を変えていくことが最も精度良く補正する
方法である。
【０１４７】〔第３実施形態〕以下に説明する第３実施
形態は、主走査ライン毎の補正結像点が副走査方向に揃
うことを防止し、露光むらが視認されてしまうことを回
避する実施形態について説明する。
形態は、主走査ライン毎の補正結像点が副走査方向に揃
うことを防止し、露光むらが視認されてしまうことを回
避する実施形態について説明する。
【０１４８】第３実施形態における画像記録装置１０の
構成は第１実施形態における画像記録装置１０の構成と
同様であるので、説明を省略する。
構成は第１実施形態における画像記録装置１０の構成と
同様であるので、説明を省略する。
【０１４９】課題を解決するための手段において説明し
たように、図１５に示すように、主走査ライン毎の補正
結像点が副走査方向に揃った場合には、該補正結像点が
揃った副走査方向に沿ったラインにおいて、感光材料１
６の露光むらが生じてしまい、視認される虞れがある。
たように、図１５に示すように、主走査ライン毎の補正
結像点が副走査方向に揃った場合には、該補正結像点が
揃った副走査方向に沿ったラインにおいて、感光材料１
６の露光むらが生じてしまい、視認される虞れがある。
【０１５０】ところで、方向の揃った補正結像点による
ライン（以下、補正結像点ラインと称す）の間隔が小さ
いほど視認性は低下するという実験結果が知られている
（図２２に示す線図を用いて後で説明する）。
ライン（以下、補正結像点ラインと称す）の間隔が小さ
いほど視認性は低下するという実験結果が知られている
（図２２に示す線図を用いて後で説明する）。
【０１５１】そこで、本第３実施形態では、一主走査ラ
インにおける走査位置に応じた光ビーム射出タイミング
の補正パターン（図１０参照）を予め設定しておき、こ
の主走査ライン毎の補正パターンを維持しつつ、上記の
ように感光材料１６の露光むらが視認されることを回避
するために、例えば、図１６に示すように、補正結像点
の位置を主走査方向に所定距離ずつずらす。
インにおける走査位置に応じた光ビーム射出タイミング
の補正パターン（図１０参照）を予め設定しておき、こ
の主走査ライン毎の補正パターンを維持しつつ、上記の
ように感光材料１６の露光むらが視認されることを回避
するために、例えば、図１６に示すように、補正結像点
の位置を主走査方向に所定距離ずつずらす。
【０１５２】これにより、補正結像点によるラインは斜
めに形成されることとなり、図１６における補正結像点
ライン間隔Ｌ２は、図１５における補正結像点ライン間
隔Ｌ１よりも小さくなる。
めに形成されることとなり、図１６における補正結像点
ライン間隔Ｌ２は、図１５における補正結像点ライン間
隔Ｌ１よりも小さくなる。
【０１５３】このように、補正結像点の位置を主走査方
向に所定距離ずつずらすことにより、補正結像点ライン
の間隔を小さくして視認性を低下させ、感光材料１６面
上の露光むらが視認されることを防止することができ
る。
向に所定距離ずつずらすことにより、補正結像点ライン
の間隔を小さくして視認性を低下させ、感光材料１６面
上の露光むらが視認されることを防止することができ
る。
【０１５４】補正結像点の位置を主走査方向にずらす距
離としては、図１６に示す例のように１画素分でも良い
し、図１７（Ａ）に示す例のように２画素分でも良い。
もちろん、３画素分以上であっても良い。
離としては、図１６に示す例のように１画素分でも良い
し、図１７（Ａ）に示す例のように２画素分でも良い。
もちろん、３画素分以上であっても良い。
【０１５５】また、図１０に示すように走査位置によっ
て補正パターン（補正の内容、頻度）を変える場合に
は、その補正パターンに合わせて、後述する補正結像点
ラインの傾け角を変更しても良い。なお、補正結像点ラ
インの傾け角とは、主走査線と補正結像点ラインとのな
す角のうち、角度が小さいものを意味する。
て補正パターン（補正の内容、頻度）を変える場合に
は、その補正パターンに合わせて、後述する補正結像点
ラインの傾け角を変更しても良い。なお、補正結像点ラ
インの傾け角とは、主走査線と補正結像点ラインとのな
す角のうち、角度が小さいものを意味する。
【０１５６】図１０に、補正パターンに合わせて補正結
像点ラインの傾け角を変更する例を示す。この図１０か
ら明らかなように、「６画素に１回、９／８を入れる」
パターン又は「６画素に１回、７／８を入れる」パター
ンの場合には、図１０に示す他の補正パターンよりも補
正の程度が小さいので、補正結像点ラインの傾け角を
「１４．０度」にする必要があり、他の補正パターンの
場合は「２６．６度」に補正結像点ラインを傾ければ良
い。
像点ラインの傾け角を変更する例を示す。この図１０か
ら明らかなように、「６画素に１回、９／８を入れる」
パターン又は「６画素に１回、７／８を入れる」パター
ンの場合には、図１０に示す他の補正パターンよりも補
正の程度が小さいので、補正結像点ラインの傾け角を
「１４．０度」にする必要があり、他の補正パターンの
場合は「２６．６度」に補正結像点ラインを傾ければ良
い。
【０１５７】なお、補正結像点ラインは、図１６のよう
に一定の方向（ここでは右下がりの方向）に沿ったライ
ンでも良いし、図１８のように、互いに異なる方向に沿
った複数のラインにより構成されたライン（図１８にお
いて右下がりの方向に沿ったラインＫ１、Ｋ３と左下が
りの方向に沿ったラインＫ２とで構成されたライン）で
あっても良い。
に一定の方向（ここでは右下がりの方向）に沿ったライ
ンでも良いし、図１８のように、互いに異なる方向に沿
った複数のラインにより構成されたライン（図１８にお
いて右下がりの方向に沿ったラインＫ１、Ｋ３と左下が
りの方向に沿ったラインＫ２とで構成されたライン）で
あっても良い。
【０１５８】前述したように補正結像点ラインの間隔が
小さいほど視認性は低下する。よって、図１６に示す例
のように１画素分ずつずらした場合よりも、図１７
（Ａ）に示す例のように２画素分ずつずらした場合の方
が、補正結像点ラインの間隔が小さくなる（即ち、間隔
Ｌ２＞間隔Ｌ３となる）ので、図１７（Ａ）に示す例の
ように２画素分ずつずらした場合の方が露光むらの視認
性を低下させる効果は高い。
小さいほど視認性は低下する。よって、図１６に示す例
のように１画素分ずつずらした場合よりも、図１７
（Ａ）に示す例のように２画素分ずつずらした場合の方
が、補正結像点ラインの間隔が小さくなる（即ち、間隔
Ｌ２＞間隔Ｌ３となる）ので、図１７（Ａ）に示す例の
ように２画素分ずつずらした場合の方が露光むらの視認
性を低下させる効果は高い。
【０１５９】また、図１７（Ａ）に示すように２画素分
ずつずらした場合でも、クロック周波数をより高く設定
して光ビームの射出頻度を全体的に高くすることによ
り、図１７（Ｂ）に示すように主走査方向に沿った結像
点の間隔が全体的に狭くなる。このとき、補正結像点ラ
インの間隔Ｌ４は、図１７（Ａ）における間隔Ｌ３より
も小さくなる。
ずつずらした場合でも、クロック周波数をより高く設定
して光ビームの射出頻度を全体的に高くすることによ
り、図１７（Ｂ）に示すように主走査方向に沿った結像
点の間隔が全体的に狭くなる。このとき、補正結像点ラ
インの間隔Ｌ４は、図１７（Ａ）における間隔Ｌ３より
も小さくなる。
【０１６０】また、図１９に示すように、補正結像点が
主走査ライン毎にランダムに位置するように制御するこ
とにより、感光材料１６の露光むらが視認されることを
防止することができる。但し、補正結像点が主走査ライ
ン毎にランダムに位置するように配置するとはいえ、ｆ
θ性を維持するために走査範囲の各領域毎の補正パター
ンを維持する必要がある。
主走査ライン毎にランダムに位置するように制御するこ
とにより、感光材料１６の露光むらが視認されることを
防止することができる。但し、補正結像点が主走査ライ
ン毎にランダムに位置するように配置するとはいえ、ｆ
θ性を維持するために走査範囲の各領域毎の補正パター
ンを維持する必要がある。
【０１６１】ところで、図２２には、むらの空間周波数
とむらの見える、見えないの境界の濃度差との関係を示
している。この図２２では、曲線Ｙよりも上側の領域で
はむらが視認されることを表している。
とむらの見える、見えないの境界の濃度差との関係を示
している。この図２２では、曲線Ｙよりも上側の領域で
はむらが視認されることを表している。
【０１６２】一例として「４画素に１回、９／８を入れ
る」補正を実行した場合、周期は２５４μｍ（＝１画素
６３．５μｍ×４）であるので、むらの空間周波数はα
１＝４lp/mm （＝１／０．２５４）となる。このとき図
２２の曲線Ｙより、濃度差ｄ１＝０．０２以上で視認さ
れることがわかる。
る」補正を実行した場合、周期は２５４μｍ（＝１画素
６３．５μｍ×４）であるので、むらの空間周波数はα
１＝４lp/mm （＝１／０．２５４）となる。このとき図
２２の曲線Ｙより、濃度差ｄ１＝０．０２以上で視認さ
れることがわかる。
【０１６３】ここで、傾け角２６．６度で補正結像点ラ
インを傾けると、むらの空間周波数はα２（＝８．８lp
/mm ）となり、濃度差ｄ２＝０．１５以上で視認される
こととなる。
インを傾けると、むらの空間周波数はα２（＝８．８lp
/mm ）となり、濃度差ｄ２＝０．１５以上で視認される
こととなる。
【０１６４】即ち、補正結像点ラインを傾けることによ
り、むらの見える、見えないの境界の濃度差ｄの値を高
くすることができ、むらを見えにくくすることができ
る。このことからも、補正結像点ラインを傾けることが
むらを見えにくくするために有効な方法であることがわ
かる。
り、むらの見える、見えないの境界の濃度差ｄの値を高
くすることができ、むらを見えにくくすることができ
る。このことからも、補正結像点ラインを傾けることが
むらを見えにくくするために有効な方法であることがわ
かる。
【０１６５】
【発明の効果】請求項１、２、４の何れか１項に記載の
発明によれば、光ビームの結像点が被走査面上で等間隔
となるように制御することができるので、ｆθレンズの
構造を単純化してコストを低減させると共に、組み付け
作業を簡単にすることができる、という効果が得られ
る。
発明によれば、光ビームの結像点が被走査面上で等間隔
となるように制御することができるので、ｆθレンズの
構造を単純化してコストを低減させると共に、組み付け
作業を簡単にすることができる、という効果が得られ
る。
【０１６６】また、請求項３記載の発明によれば、走査
位置に対応して適切にクロック周波数を変化させること
ができる、という効果が得られる。
位置に対応して適切にクロック周波数を変化させること
ができる、という効果が得られる。
【０１６７】また、請求項５記載の発明によれば、走査
位置に対応して適切にカウント値を補正することができ
る、という効果が得られる。
位置に対応して適切にカウント値を補正することができ
る、という効果が得られる。
【０１６８】また、請求項６又は７に記載の発明によれ
ば、視覚的な効果を利用して周波数補正結像点における
位置ずれが視認されることを回避することができる、と
いう効果が得られる。
ば、視覚的な効果を利用して周波数補正結像点における
位置ずれが視認されることを回避することができる、と
いう効果が得られる。
【０１６９】また、請求項８又は９に記載の発明によれ
ば、視覚的な効果を利用してカウント値補正結像点にお
ける位置ずれが視認されることを回避することができ
る、という効果が得られる。
ば、視覚的な効果を利用してカウント値補正結像点にお
ける位置ずれが視認されることを回避することができ
る、という効果が得られる。
【０１７０】また、請求項１０記載の発明によれば、い
わゆるｆθ性補正と色補正（色消し）とを同時に、各光
ビームの射出タイミングを制御することにより電気的に
実現することができるので、複数の光源の各々から射出
された異なる波長の光ビームによって被走査面を走査す
る走査装置において、ｆθレンズの構造を単純化してコ
ストを低減させると共に、組み付け作業を簡単にするこ
とができる、という効果が得られる。
わゆるｆθ性補正と色補正（色消し）とを同時に、各光
ビームの射出タイミングを制御することにより電気的に
実現することができるので、複数の光源の各々から射出
された異なる波長の光ビームによって被走査面を走査す
る走査装置において、ｆθレンズの構造を単純化してコ
ストを低減させると共に、組み付け作業を簡単にするこ
とができる、という効果が得られる。
【０１７１】また、請求項１１記載の発明によれば、被
走査面上における各光ビームの結像点の位置を主走査方
向で一致させることができる、という効果が得られる。
走査面上における各光ビームの結像点の位置を主走査方
向で一致させることができる、という効果が得られる。
【図１】本発明に係る露光装置を内蔵した画像記録装置
の概略全体構成図である。
の概略全体構成図である。
【図２】画像記録装置の外観を示す斜視図である。
【図３】露光装置の概略斜視図である。
【図４】露光装置を鉛直上側から見た概略図である。
【図５】（Ａ）は走査位置と本来あるべき位置からのず
れ量との対応を示す表であり、（Ｂ）は（Ａ）で示され
た情報をグラフ化した線図である。
れ量との対応を示す表であり、（Ｂ）は（Ａ）で示され
た情報をグラフ化した線図である。
【図６】「９／８を入れる」補正パターンにおけるクロ
ックと光ビームの射出タイミングとの対応を示すタイム
チャートである。
ックと光ビームの射出タイミングとの対応を示すタイム
チャートである。
【図７】「９／８を入れる」補正による結像点間隔の相
違を説明するための図である。
違を説明するための図である。
【図８】「７／８を入れる」補正パターンにおけるクロ
ックと光ビームの射出タイミングとの対応を示すタイム
チャートである。
ックと光ビームの射出タイミングとの対応を示すタイム
チャートである。
【図９】「７／８を入れる」補正による結像点間隔の相
違を説明するための図である。
違を説明するための図である。
【図１０】走査位置と走査位置における補正パターンと
の対応を示す表である。
の対応を示す表である。
【図１１】主走査方向に所定数の結像点を均等に振り分
ける場合に、補正前の結像点位置とあるべき結像点位置
との配置の一例を示す図である。
ける場合に、補正前の結像点位置とあるべき結像点位置
との配置の一例を示す図である。
【図１２】図１１の配置例における各結像点位置のずれ
量及び隣の結像点との間隔の補正量を示す表である。
量及び隣の結像点との間隔の補正量を示す表である。
【図１３】ｆθ性維持のための補正前と補正後での結像
点の位置を示す図である。
点の位置を示す図である。
【図１４】周波数を変化させる補正パターンにおけるク
ロックと光ビームの射出タイミングとの対応を示すタイ
ムチャートである。
ロックと光ビームの射出タイミングとの対応を示すタイ
ムチャートである。
【図１５】補正結像点の位置が副走査方向に揃った場合
の補正結像点の位置を示す図である。
の補正結像点の位置を示す図である。
【図１６】隣接する主走査ラインにおいて補正結像点が
主走査方向に１画素分ずれるようにした場合の補正結像
点の位置を示す図である。
主走査方向に１画素分ずれるようにした場合の補正結像
点の位置を示す図である。
【図１７】（Ａ）は隣接する主走査ラインにおいて補正
結像点が主走査方向に２画素分ずれるようにした場合の
補正結像点の位置を示す図であり、（Ｂ）は（Ａ）にお
いてクロック周波数をより高く設定した場合の補正結像
点の位置を示す図である。
結像点が主走査方向に２画素分ずれるようにした場合の
補正結像点の位置を示す図であり、（Ｂ）は（Ａ）にお
いてクロック周波数をより高く設定した場合の補正結像
点の位置を示す図である。
【図１８】補正結像点ラインが互いに異なる方向に沿っ
た複数のラインで構成されている場合の補正結像点の位
置を示す図である。
た複数のラインで構成されている場合の補正結像点の位
置を示す図である。
【図１９】補正結像点がランダムに位置するようにした
場合の補正結像点の位置を示す図である。
場合の補正結像点の位置を示す図である。
【図２０】加熱ドラムの下端部付近の拡大構成図であ
る。
る。
【図２１】加熱ドラム及び周辺のローラ等を示す斜視図
である。
である。
【図２２】視認性に関するデータとしての空間周波数−
濃度差特性を示す線図である。
濃度差特性を示す線図である。
１０ 画像記録装置 １６ 感光材料 ３８ 露光装置 １００ 制御装置 ２５８Ｙ 半導体レーザ（光源） ２５８Ｍ 半導体レーザ（光源） ２５８Ｃ 半導体レーザ（光源） ２６３ シリンドリカルレンズ ２６４ ポリゴンミラー ２６９ シリンドリカルレンズ ２７０ 像面位置補正レンズ ２７２ シリンドリカルミラー
Claims (11)
- 【請求項１】 光源から射出される光ビームを、所定範
囲で偏向角が変化するように偏向することにより主走査
する主走査手段と、 前記主走査手段により偏向された光ビームを被走査面上
に集束させる光学系と、 前記光学系により集束された光ビームの結像点と被走査
面との相対位置を、主走査方向に垂直な方向に移動させ
る副走査手段と、 を有する走査装置であって、 前記光源による光ビームの射出タイミングを制御して、
前記主走査手段によって偏向された光ビームによる被走
査面上の結像点が主走査方向に等間隔となるようにする
光源制御手段を設けた、 ことを特徴とする走査装置。 - 【請求項２】 前記光源制御手段は、 所定周波数のクロックを発振するクロック発振手段と、 前記クロック発振手段で発振されたクロックにおける予
め定められた所定のカウント値毎に、光源から光ビーム
を射出させる射出制御手段と、 前記主走査手段による偏向時に予め定めた段階毎にクロ
ックの周波数を変化させる周波数制御手段と、 を有することを特徴とする請求項１記載の走査装置。 - 【請求項３】 前記周波数制御手段は、周波数を変化さ
せる前と同数の結像点を主走査方向に沿って均等に振り
分けた場合の結像点位置と、周波数を変化させる前の結
像点位置と、の差に基づいてクロックの周波数を変化さ
せることを特徴とする請求項２記載の走査装置。 - 【請求項４】 前記光源制御手段は、 所定周波数のクロックを発振するクロック発振手段と、 前記クロック発振手段で発振されたクロックにおける予
め定められた所定のカウント値毎に、光源から光ビーム
を射出させる射出制御手段と、 前記主走査手段による偏向時に予め定めた段階毎に前記
射出制御手段でのカウント値を補正するカウント値補正
手段と、 を有することを特徴とする請求項１記載の走査装置。 - 【請求項５】 前記カウント値補正手段は、カウント値
を補正する前と同数の結像点を主走査方向に沿って均等
に振り分けた場合の結像点位置と、カウント値を補正す
る前の結像点位置と、の差に基づいてカウント値を補正
することを特徴とする請求項４記載の走査装置。 - 【請求項６】 前記周波数制御手段は、クロックの周波
数を変化させたタイミングで射出した光ビームによる結
像点としての周波数補正結像点が副走査方向に連続的に
位置しないように、クロックの周波数を変化させること
を特徴とする請求項２記載の走査装置。 - 【請求項７】 前記周波数制御手段は、連続的に位置す
る前記周波数補正結像点によるラインが副走査方向に対
して４５度以上の角度で傾くように、クロックの周波数
を変化させることを特徴とする請求項６記載の走査装
置。 - 【請求項８】 前記カウント値補正手段は、カウント値
を補正したタイミングで射出した光ビームによる結像点
としてのカウント値補正結像点が副走査方向に連続的に
位置しないように、カウント値を補正することを特徴と
する請求項４記載の走査装置。 - 【請求項９】 前記カウント値補正手段は、連続的に位
置する前記カウント値補正結像点によるラインが副走査
方向に対して４５度以上の角度で傾くように、カウント
値を補正することを特徴とする請求項８記載の走査装
置。 - 【請求項１０】 前記光源は複数設けられており、 前記光源制御手段は、各光源から射出された異なる波長
の光ビームについて被走査面上の結像点が主走査方向に
等間隔となるようにすると共に該結像点の間隔が各光ビ
ーム間で一致するように、各光ビームの射出タイミング
を制御する、 ことを特徴とする請求項１乃至請求項９の何れか１項に
記載の走査装置。 - 【請求項１１】 前記光源制御手段は、一主走査におけ
る各光ビームによる最初の結像点の位置が主走査方向で
一致するように、各光ビームの射出タイミングを制御す
る、 ことを特徴とする請求項１０記載の走査装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02435596A JP3714714B2 (ja) | 1996-02-09 | 1996-02-09 | 走査装置 |
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