JPH09210635A - 偏光解析装置 - Google Patents
偏光解析装置Info
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- JPH09210635A JPH09210635A JP1684096A JP1684096A JPH09210635A JP H09210635 A JPH09210635 A JP H09210635A JP 1684096 A JP1684096 A JP 1684096A JP 1684096 A JP1684096 A JP 1684096A JP H09210635 A JPH09210635 A JP H09210635A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、試料の位置を調整をすること無
く、試料の交換を容易に行うことができる偏光解析装置
を提供する。 【解決手段】 光源１と、偏光ビームスプリッタ２と、
λ／２プリズム４と、偏光ビームスプリッタ２に入射し
た光を検出する光電検出器５とを有する偏光解析装置に
おいて、光源１と偏光ビームスプリッタ２とλ／２プリ
ズム４とを固定して一体化するとともに、偏光ビームス
プリッタ２とλ／２プリズム４との間に亘る空間１９を
有する支持枠体１５と、支持枠体１５を接合状態で固定
するステージ１４と、支持枠体１５とステージ１４との
接合領域において空間１９に臨む状態で形成された試料
支持体１１装着用のスペース２１と、スペース２１の支
持枠体１５側の端面に形成した基準面２０とを備え、基
準面２０に試料３ａ、３ｂを支持する試料支持体１１を
当て付けつつこの試料支持体１１を前記スペース２１に
対し挿脱可能にしたものである。
く、試料の交換を容易に行うことができる偏光解析装置
を提供する。 【解決手段】 光源１と、偏光ビームスプリッタ２と、
λ／２プリズム４と、偏光ビームスプリッタ２に入射し
た光を検出する光電検出器５とを有する偏光解析装置に
おいて、光源１と偏光ビームスプリッタ２とλ／２プリ
ズム４とを固定して一体化するとともに、偏光ビームス
プリッタ２とλ／２プリズム４との間に亘る空間１９を
有する支持枠体１５と、支持枠体１５を接合状態で固定
するステージ１４と、支持枠体１５とステージ１４との
接合領域において空間１９に臨む状態で形成された試料
支持体１１装着用のスペース２１と、スペース２１の支
持枠体１５側の端面に形成した基準面２０とを備え、基
準面２０に試料３ａ、３ｂを支持する試料支持体１１を
当て付けつつこの試料支持体１１を前記スペース２１に
対し挿脱可能にしたものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術の分野】本発明は、例えば免疫支持
体上の抗体及び抗原による膜厚の変化を偏光解析法によ
って測定する偏光解析装置に関する。
体上の抗体及び抗原による膜厚の変化を偏光解析法によ
って測定する偏光解析装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】偏光解析法は、物体の表面で光が反射す
るときの偏光状態の変化を観測して、物体自体の光学定
数、又は、その表面に付着した薄膜の厚みやその光学定
数を知る方法であり、一般に偏光解析装置（エリプソメ
ータ）を利用する測定では、物体の表面、又は、その表
面に付着した薄膜の膜厚変化による光の位相差及び強度
（振幅比）変化を測定することによって行われている。
るときの偏光状態の変化を観測して、物体自体の光学定
数、又は、その表面に付着した薄膜の厚みやその光学定
数を知る方法であり、一般に偏光解析装置（エリプソメ
ータ）を利用する測定では、物体の表面、又は、その表
面に付着した薄膜の膜厚変化による光の位相差及び強度
（振幅比）変化を測定することによって行われている。
【０００３】偏光解析装置を抗原抗体反応等の分析装置
として用いる場合には、屈折率、薄膜の膜厚等を測定す
ることよりも、抗原抗体反応の反応性を感度良く検出で
きれば良い。
として用いる場合には、屈折率、薄膜の膜厚等を測定す
ることよりも、抗原抗体反応の反応性を感度良く検出で
きれば良い。
【０００４】これには反応前の試料支持体を偏光解析装
置において消光させ、次に、偏光子、検光子等の位置を
固定したままで反応後の試料支持体を設置して、その光
量の変化を測定し、抗原抗体反応の反応性を検出するこ
とができる。
置において消光させ、次に、偏光子、検光子等の位置を
固定したままで反応後の試料支持体を設置して、その光
量の変化を測定し、抗原抗体反応の反応性を検出するこ
とができる。
【０００５】このような偏光解析法を応用して免疫支持
体上の抗体及び抗原による膜厚の変化を測定する装置と
して、本願出願人は、小型で簡便な光学系を備えた偏光
解析装置を、特開平５−２０３５６５号公報において提
案している。
体上の抗体及び抗原による膜厚の変化を測定する装置と
して、本願出願人は、小型で簡便な光学系を備えた偏光
解析装置を、特開平５−２０３５６５号公報において提
案している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】特開平５−２０３５６
５号公報において提案した偏光解析装置の場合、偏光子
と検光子とを兼ねる光学素子と、λ／２プリズムと、光
検出手段とを備えた簡単な構成で、免疫支持体上の抗体
及び抗原による膜厚の変化を偏光解析法により測定する
ことが可能である。
５号公報において提案した偏光解析装置の場合、偏光子
と検光子とを兼ねる光学素子と、λ／２プリズムと、光
検出手段とを備えた簡単な構成で、免疫支持体上の抗体
及び抗原による膜厚の変化を偏光解析法により測定する
ことが可能である。
【０００７】しかし、この偏光解析装置の場合、試料を
交換する際及び反応後の試料を設置する際に、試料の位
置をその都度調整しなければならないという課題があ
る。
交換する際及び反応後の試料を設置する際に、試料の位
置をその都度調整しなければならないという課題があ
る。
【０００８】そこで、本発明は、試料の位置を調整をす
ること無く、試料の交換を容易に行うことができる小型
で簡略な構成の偏光解析装置を提供することを目的とす
る。
ること無く、試料の交換を容易に行うことができる小型
で簡略な構成の偏光解析装置を提供することを目的とす
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
光源と、該光源からの光を偏光にし、試料支持体により
支持された試料の一部に入射する偏光子と検光子を兼ね
た光学素子と、前記試料の一部で反射された反射光のｐ
偏光及びｓ偏光の位相差をπにし、かつ、前記反射光を
前記試料の一部とは異なった部分に入射するとともに、
この異なった部分で反射した光を前記光学素子に再び入
射するλ／２プリズムと、前記光学素子に再び入射した
光を検出する光検出手段とを有する偏光解析装置におい
て、前記光源と前記光学素子と前記λ／２プリズムとを
固定して一体化するとともに、前記光学素子とλ／２プ
リズムとの間に亘る光の往復光路を有する支持枠体と、
この支持枠体を接合状態で固定する基台と、この支持枠
体と基台との接合領域において前記光の往復光路に臨む
状態で形成された前記試料支持体装着用の装着空間と、
この装着空間の前記支持枠体側の端面に形成した基準面
とを備え、前記基準面に試料を支持する試料支持体を当
て付けつつこの試料支持体を前記装着空間に対し挿脱可
能にしたことを特徴とするものである。
光源と、該光源からの光を偏光にし、試料支持体により
支持された試料の一部に入射する偏光子と検光子を兼ね
た光学素子と、前記試料の一部で反射された反射光のｐ
偏光及びｓ偏光の位相差をπにし、かつ、前記反射光を
前記試料の一部とは異なった部分に入射するとともに、
この異なった部分で反射した光を前記光学素子に再び入
射するλ／２プリズムと、前記光学素子に再び入射した
光を検出する光検出手段とを有する偏光解析装置におい
て、前記光源と前記光学素子と前記λ／２プリズムとを
固定して一体化するとともに、前記光学素子とλ／２プ
リズムとの間に亘る光の往復光路を有する支持枠体と、
この支持枠体を接合状態で固定する基台と、この支持枠
体と基台との接合領域において前記光の往復光路に臨む
状態で形成された前記試料支持体装着用の装着空間と、
この装着空間の前記支持枠体側の端面に形成した基準面
とを備え、前記基準面に試料を支持する試料支持体を当
て付けつつこの試料支持体を前記装着空間に対し挿脱可
能にしたことを特徴とするものである。
【００１０】請求項２記載の発明に係る偏光解析装置
は、請求項１の発明に係る偏光解析装置の前記支持枠体
は、前記装着空間に連なる試料支持体挿脱用の差し込み
口を備えた遮光部材からなる壁体内に配置され、前記試
料支持体は前記装着空間への装着時に前記差し込み口を
覆う遮光リブと、この遮光リブの外方を占める取手部と
を具備することを特徴とするものである。
は、請求項１の発明に係る偏光解析装置の前記支持枠体
は、前記装着空間に連なる試料支持体挿脱用の差し込み
口を備えた遮光部材からなる壁体内に配置され、前記試
料支持体は前記装着空間への装着時に前記差し込み口を
覆う遮光リブと、この遮光リブの外方を占める取手部と
を具備することを特徴とするものである。
【００１１】請求項１記載の発明に係る偏光解析装置に
よれば、前記光源と前記光学素子と前記λ／２プリズム
とを固定して一体化するとともに、前記光学素子とλ／
２プリズムとの間に亘る光の往復光路を有する支持枠体
を、基台に接合状態で固定するとともに、この支持枠体
と基台との接合領域に前記光の往復光路に臨む状態の装
着空間を形成し、この装着空間の前記支持枠体側の端面
に基準面を備えて、この基準面に試料を支持する試料支
持体を当て付けつつこの試料支持体を前記装着空間に対
し挿脱可能にしたものであるから、試料支持体を装着空
間内に差し込むだけで、試料支持体上の試料を測定位置
に配置することができ、試料の位置調整を要することな
く、これら試料の交換が可能となる。
よれば、前記光源と前記光学素子と前記λ／２プリズム
とを固定して一体化するとともに、前記光学素子とλ／
２プリズムとの間に亘る光の往復光路を有する支持枠体
を、基台に接合状態で固定するとともに、この支持枠体
と基台との接合領域に前記光の往復光路に臨む状態の装
着空間を形成し、この装着空間の前記支持枠体側の端面
に基準面を備えて、この基準面に試料を支持する試料支
持体を当て付けつつこの試料支持体を前記装着空間に対
し挿脱可能にしたものであるから、試料支持体を装着空
間内に差し込むだけで、試料支持体上の試料を測定位置
に配置することができ、試料の位置調整を要することな
く、これら試料の交換が可能となる。
【００１２】請求項２記載の発明に係る偏光解析装置に
よれば、前記支持枠体は、前記装着空間に連なる試料支
持体挿脱用の差し込み口を備えた遮光部材からなる壁体
内に配置され、前記試料支持体は前記装着空間への装着
時に前記差し込み口を覆う遮光リブと、この遮光リブの
外方を占める取手部とを具備するものであるから、測定
時の遮光を十分に図れるとともに、試料支持体の操作性
を向上できる。
よれば、前記支持枠体は、前記装着空間に連なる試料支
持体挿脱用の差し込み口を備えた遮光部材からなる壁体
内に配置され、前記試料支持体は前記装着空間への装着
時に前記差し込み口を覆う遮光リブと、この遮光リブの
外方を占める取手部とを具備するものであるから、測定
時の遮光を十分に図れるとともに、試料支持体の操作性
を向上できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を詳
細に説明する。
細に説明する。
【００１４】まず、本発明の偏光解析装置の実施の形態
の基本構成について図１を参照して詳細に説明する。図
１に示す偏光解析装置は、光源１と、偏光子、検光子を
兼ねた光学素子である偏光ビームスプリッタ２と、λ／
２プリズム４と、光検出手段としての光電検出器５と、
直方体状の試料支持体１１とを有し、試料支持体１１上
に試料３ａ、３ｂを所定の間隔で配置する構成となって
いる。
の基本構成について図１を参照して詳細に説明する。図
１に示す偏光解析装置は、光源１と、偏光子、検光子を
兼ねた光学素子である偏光ビームスプリッタ２と、λ／
２プリズム４と、光検出手段としての光電検出器５と、
直方体状の試料支持体１１とを有し、試料支持体１１上
に試料３ａ、３ｂを所定の間隔で配置する構成となって
いる。
【００１５】前記光源１には、平行光を出射するレーザ
光源１を用いる。また、偏光ビームスプリッタ２は、試
料支持体１１上の一方の試料３ａに偏光を入射させる位
置に配置している。
光源１を用いる。また、偏光ビームスプリッタ２は、試
料支持体１１上の一方の試料３ａに偏光を入射させる位
置に配置している。
【００１６】図２は、前記λ／２プリズム４の構成及び
このλ／２プリズム４における光の経路を示すものであ
る。このλ／２プリズム４は、図２に示すように、Ａ点
から入射した光を反射面ａ乃至ｄで４回反射させる形状
となっている。
このλ／２プリズム４における光の経路を示すものであ
る。このλ／２プリズム４は、図２に示すように、Ａ点
から入射した光を反射面ａ乃至ｄで４回反射させる形状
となっている。
【００１７】この場合、Ａ点から入射したｐ偏光は、反
射面ａで反射してｓ偏光になり、次の反射面ｂ、ｃでは
偏光成分はそのまま保持され、その次の反射面ｄでｐ偏
光になってＢ点から出射するようになっている。即ち、
λ／２プリズム４における偏光状態は、反射面ａ−ｂ−
ｃ−ｄの経路でｐ−ｓ−ｓ−ｐとなる。
射面ａで反射してｓ偏光になり、次の反射面ｂ、ｃでは
偏光成分はそのまま保持され、その次の反射面ｄでｐ偏
光になってＢ点から出射するようになっている。即ち、
λ／２プリズム４における偏光状態は、反射面ａ−ｂ−
ｃ−ｄの経路でｐ−ｓ−ｓ−ｐとなる。
【００１８】同様にＡ点から入射したｓ偏光は、反射面
ａ−ｂ−ｃ−ｄの経路でｓ−ｐ−ｐ−ｓとなり、両者の
間の位相差は保存される。
ａ−ｂ−ｃ−ｄの経路でｓ−ｐ−ｐ−ｓとなり、両者の
間の位相差は保存される。
【００１９】また、逆にｐ偏光、ｓ偏光がＢ点から入射
しＡ点から出射する場合においても、位相差は保存され
る。
しＡ点から出射する場合においても、位相差は保存され
る。
【００２０】以上のように、λ／２プリズム４は、Ａ点
で入射した光を、偏光特性を変えること無く、かつ、Ａ
点とは異なる位置であるＢ点から出射するように形成さ
れている。
で入射した光を、偏光特性を変えること無く、かつ、Ａ
点とは異なる位置であるＢ点から出射するように形成さ
れている。
【００２１】試料支持体１１上の試料３ａで反射した偏
光は、λ／２プリズム４の例えばＡ点に入射し、上述し
た経路を経てＢ点から出射して試料３ｂに入射する。そ
して、試料３ｂで反射した光は、再び偏光ビームスプリ
ッタ２に入射する。そして、偏光ビームスプリッタ２か
らの光は光電検出器５により検出される。
光は、λ／２プリズム４の例えばＡ点に入射し、上述し
た経路を経てＢ点から出射して試料３ｂに入射する。そ
して、試料３ｂで反射した光は、再び偏光ビームスプリ
ッタ２に入射する。そして、偏光ビームスプリッタ２か
らの光は光電検出器５により検出される。
【００２２】次に、本発明の具体的な実施の形態１、２
について説明する。
について説明する。
【００２３】（実施の形態１） （構成）図３に実施の形態１を示す。本実施の形態１の
偏光解析装置は、光源１と、偏光ビームスプリッタ２と
をホルダ１２に固定し、λ／２プリズム４をプリズムホ
ルダ１３に固定している。前記ホルダ１２、プリズムホ
ルダ１３は支持枠体１５の両側に形成した斜面１５ａ、
１５ｂに各々固定され、前記ホルダ１２、プリズムホル
ダ１３及び支持枠体１５が一体化されている。また、光
電検出器５は、ホルダ１２に対し偏光ビームスプリッタ
２と対応する配置に固定されている。光電検出器５を前
記支持枠体１５に固定するようにしてもよい。
偏光解析装置は、光源１と、偏光ビームスプリッタ２と
をホルダ１２に固定し、λ／２プリズム４をプリズムホ
ルダ１３に固定している。前記ホルダ１２、プリズムホ
ルダ１３は支持枠体１５の両側に形成した斜面１５ａ、
１５ｂに各々固定され、前記ホルダ１２、プリズムホル
ダ１３及び支持枠体１５が一体化されている。また、光
電検出器５は、ホルダ１２に対し偏光ビームスプリッタ
２と対応する配置に固定されている。光電検出器５を前
記支持枠体１５に固定するようにしてもよい。
【００２４】前記支持枠体１５には、偏光ビームスプリ
ッタ２からの光の入射面から試料支持体１１に対する試
料面、λ／２プリズム４に対する出射面に至る経路に図
３に点線で示す光の往復光路としての空間１９を設けて
いる。
ッタ２からの光の入射面から試料支持体１１に対する試
料面、λ／２プリズム４に対する出射面に至る経路に図
３に点線で示す光の往復光路としての空間１９を設けて
いる。
【００２５】さらに、前記支持枠体１５は、基台である
ステージ１４上に位置調整されて接合状態で固定される
ようになっている。このステージ１４には、支持枠体１
５の下面とこのステージ１４の上面の一部とで形成され
る試料支持体１１挿脱用の装着空間としてのスペース２
１を設けている。
ステージ１４上に位置調整されて接合状態で固定される
ようになっている。このステージ１４には、支持枠体１
５の下面とこのステージ１４の上面の一部とで形成され
る試料支持体１１挿脱用の装着空間としてのスペース２
１を設けている。
【００２６】また、このスペース２１を形成する支持枠
体１５の下面に、基準面２０を設け、ステージ１４と一
体の遮光部材からなる壁体１４ａに設けたスペース２１
に連なる差し込み口１６から試料支持体１１が差し込ま
れたとき、基準面２０に試料支持体１１の上面を当て付
けるようになっている。
体１５の下面に、基準面２０を設け、ステージ１４と一
体の遮光部材からなる壁体１４ａに設けたスペース２１
に連なる差し込み口１６から試料支持体１１が差し込ま
れたとき、基準面２０に試料支持体１１の上面を当て付
けるようになっている。
【００２７】（作用）上述した偏光解析装置において、
前記支持枠体１５に対して、光源１、偏光ビームスプリ
ッタ２を固定するホルダ１２と、λ／２プリズム４を固
定するプリズムホルダ１３とが各々位置調整されて一体
化されており、また、この支持枠体１５はステージ１４
に対して位置調整されて配置されている。
前記支持枠体１５に対して、光源１、偏光ビームスプリ
ッタ２を固定するホルダ１２と、λ／２プリズム４を固
定するプリズムホルダ１３とが各々位置調整されて一体
化されており、また、この支持枠体１５はステージ１４
に対して位置調整されて配置されている。
【００２８】前記試料差し込み口１６から、試料３ａ、
３ｂを配置した試料支持体１１をスペース２１内に差し
込むと、この試料支持体１１は、支持枠体１５の下面の
基準面２０に当て付けられながら、その先端がスペース
２１の端部２１ａに突き当たるところまで押し込まれ位
置決めされ、試料３ａ、３ｂは、前記空間１９の一部に
臨む状態となる。
３ｂを配置した試料支持体１１をスペース２１内に差し
込むと、この試料支持体１１は、支持枠体１５の下面の
基準面２０に当て付けられながら、その先端がスペース
２１の端部２１ａに突き当たるところまで押し込まれ位
置決めされ、試料３ａ、３ｂは、前記空間１９の一部に
臨む状態となる。
【００２９】（効果）本実施の形態１によれば、偏光解
析装置の光学系を支持枠体１５に固定し、さらに支持枠
体１５をステージ１４と一体とする簡略な構成であり、
前記試料支持体１１をスペース２１内に差し込むだけ
で、試料支持体１１上の試料３ａ、３ｂを前記空間１９
に臨ませ測定位置に配置することができ、試料３ａ、３
ｂの位置調整を要することなくこれら試料３ａ、３ｂに
対する測定及び試料支持体１１の挿脱による交換が可能
となる。
析装置の光学系を支持枠体１５に固定し、さらに支持枠
体１５をステージ１４と一体とする簡略な構成であり、
前記試料支持体１１をスペース２１内に差し込むだけ
で、試料支持体１１上の試料３ａ、３ｂを前記空間１９
に臨ませ測定位置に配置することができ、試料３ａ、３
ｂの位置調整を要することなくこれら試料３ａ、３ｂに
対する測定及び試料支持体１１の挿脱による交換が可能
となる。
【００３０】（実施の形態２） （構成）図４、図５に、本発明の実施の形態２を示す。
図４は実施の形態２における試料支持体１１の平面図、
図５は試料支持体１１の側面図である。実施の形態２に
おいては、図４、図５に示すように、前記試料支持体１
１の上面におけるステージ１４と一体の遮光部材からな
る壁体１４ａから外方に突出する部位の幅方向に、突状
からなる遮光リブ１７を形成したことが特徴である。こ
の遮光リブ１７は、試料支持体１１をスペース２１に差
し込んだとき、図５に示すように、差し込み口１６に接
する位置に形成されている。
図４は実施の形態２における試料支持体１１の平面図、
図５は試料支持体１１の側面図である。実施の形態２に
おいては、図４、図５に示すように、前記試料支持体１
１の上面におけるステージ１４と一体の遮光部材からな
る壁体１４ａから外方に突出する部位の幅方向に、突状
からなる遮光リブ１７を形成したことが特徴である。こ
の遮光リブ１７は、試料支持体１１をスペース２１に差
し込んだとき、図５に示すように、差し込み口１６に接
する位置に形成されている。
【００３１】また、前記試料支持体１１における前記壁
体１４ａから外方に突出する部位には、遮光リブ１７よ
り外方位置を占める凹形状の取手部１８を形成してい
る。この他の構成は、実施の形態１の場合と同様であ
る。
体１４ａから外方に突出する部位には、遮光リブ１７よ
り外方位置を占める凹形状の取手部１８を形成してい
る。この他の構成は、実施の形態１の場合と同様であ
る。
【００３２】（作用）本実施の形態２によれば、試料支
持体１１を差し込み口１６からスペース２１に差し込ん
だとき、遮光リブ１７が試料差し込み口１６に接してこ
の試料差し込み口１６を塞ぐ状態となり、この遮光リブ
１７により、差し込み口１６の外方からステージ１４側
に進入して来る外乱光を遮ることができる。
持体１１を差し込み口１６からスペース２１に差し込ん
だとき、遮光リブ１７が試料差し込み口１６に接してこ
の試料差し込み口１６を塞ぐ状態となり、この遮光リブ
１７により、差し込み口１６の外方からステージ１４側
に進入して来る外乱光を遮ることができる。
【００３３】また、取手部１８を設けたことで、試料支
持体１１の差し込み口１６、スペース２１への差し込み
操作や引き出し操作が容易となる。この他の作用は、実
施の形態１の場合と同様である。
持体１１の差し込み口１６、スペース２１への差し込み
操作や引き出し操作が容易となる。この他の作用は、実
施の形態１の場合と同様である。
【００３４】（効果）本実施の形態２によれば、前記遮
光リブ１７により支持枠体１５内に外乱光が進入するこ
とを防止して、外乱光による測定精度の低下を阻止でき
るとともに、取手部１８を設けたことにより試料支持体
１１の操作性が向上し、試料３ａ、３ｂの交換の便宜を
図れる。
光リブ１７により支持枠体１５内に外乱光が進入するこ
とを防止して、外乱光による測定精度の低下を阻止でき
るとともに、取手部１８を設けたことにより試料支持体
１１の操作性が向上し、試料３ａ、３ｂの交換の便宜を
図れる。
【００３５】
【発明の効果】以上説明した請求項１記載の発明によれ
ば、試料支持体を装着空間内に差し込むだけで、試料支
持体上の試料を測定位置に配置することができ、試料の
位置調整を要することなく、これら試料の交換が容易な
簡略な構成からなる偏光解析装置を提供することができ
る。
ば、試料支持体を装着空間内に差し込むだけで、試料支
持体上の試料を測定位置に配置することができ、試料の
位置調整を要することなく、これら試料の交換が容易な
簡略な構成からなる偏光解析装置を提供することができ
る。
【００３６】請求項２記載の発明によれば、請求項１記
載の発明の効果に加え、測定時の外乱光に対する遮光を
十分に図れるとともに、試料支持体の操作性を向上でき
る偏光解析装置を提供することができる。
載の発明の効果に加え、測定時の外乱光に対する遮光を
十分に図れるとともに、試料支持体の操作性を向上でき
る偏光解析装置を提供することができる。
【図１】本発明の実施の形態における偏光解析装置を示
す概念図である。
す概念図である。
【図２】本実施の形態の偏光解析装置におけるλ／２プ
リズムの光の反射経路を示す斜視図である。
リズムの光の反射経路を示す斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態１の偏光解析装置を示す概
略構成図である。
略構成図である。
【図４】本発明の実施の形態２における試料支持体を示
す平面図である。
す平面図である。
【図５】本発明の実施の形態２における試料支持体のス
ペースへの差し込み状態を示す断面図である。
ペースへの差し込み状態を示す断面図である。
１ 光源 ２ 偏光ビームスプリッタ ３ａ 試料 ３ｂ 試料 ４ λ／２プリズム ５ 光電検出器 １１ 試料支持体 １２ ホルダ １３ プリズムホルダ １４ ステージ １５ 支持枠体 １６ 差し込み口 １７ 遮光リブ １９ 空間 １８ 取手部 ２０ 基準面 ２１ スペース
Claims (2)
- 【請求項１】 光源と、該光源からの光を偏光にし、試
料支持体により支持された試料の一部に入射する偏光子
と検光子を兼ねた光学素子と、 前記試料の一部で反射された反射光のｐ偏光及びｓ偏光
の位相差をπにし、かつ、前記反射光を前記試料の一部
とは異なった部分に入射するとともに、この異なった部
分で反射した光を前記光学素子に再び入射するλ／２プ
リズムと、前記光学素子に再び入射した光を検出する光
検出手段と、 を有する偏光解析装置において、 前記光源と前記光学素子と前記λ／２プリズムとを固定
して一体化するとともに、前記光学素子とλ／２プリズ
ムとの間に亘る光の往復光路を有する支持枠体と、 この支持枠体を接合状態で固定する基台と、 この支持枠体と基台との接合領域において前記光の往復
光路に臨む状態で形成された前記試料支持体装着用の装
着空間と、 この装着空間の前記支持枠体側の端面に形成した基準面
とを備え、 前記基準面に試料を支持する試料支持体を当て付けつつ
この試料支持体を前記装着空間に対し挿脱可能にしたこ
とを特徴とする偏光解析装置。 - 【請求項２】 前記支持枠体は、前記装着空間に連なる
試料支持体挿脱用の差し込み口を備えた遮光部材からな
る壁体内に配置され、前記試料支持体は前記装着空間へ
の装着時に前記差し込み口を覆う遮光リブと、この遮光
リブの外方を占める取手部とを具備することを特徴とす
る請求項１記載の偏光解析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1684096A JPH09210635A (ja) | 1996-02-01 | 1996-02-01 | 偏光解析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1684096A JPH09210635A (ja) | 1996-02-01 | 1996-02-01 | 偏光解析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09210635A true JPH09210635A (ja) | 1997-08-12 |
Family
ID=11927413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1684096A Withdrawn JPH09210635A (ja) | 1996-02-01 | 1996-02-01 | 偏光解析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09210635A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0982580A1 (en) * | 1998-08-20 | 2000-03-01 | Olympus Optical Co., Ltd. | Ellipsometer |
| EP1103784A2 (en) * | 1999-11-26 | 2001-05-30 | Olympus Optical Co., Ltd. | Elliposometer, sample positioning mechanism, and polarization angular adjusting mechanism, used in the elliposometer |
-
1996
- 1996-02-01 JP JP1684096A patent/JPH09210635A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0982580A1 (en) * | 1998-08-20 | 2000-03-01 | Olympus Optical Co., Ltd. | Ellipsometer |
| EP1103784A2 (en) * | 1999-11-26 | 2001-05-30 | Olympus Optical Co., Ltd. | Elliposometer, sample positioning mechanism, and polarization angular adjusting mechanism, used in the elliposometer |
| EP1103784A3 (en) * | 1999-11-26 | 2002-06-19 | Olympus Optical Co., Ltd. | Elliposometer, sample positioning mechanism, and polarization angular adjusting mechanism, used in the elliposometer |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030401 |