JPH1163913A - 光周波数領域反射光分布計測装置 - Google Patents
光周波数領域反射光分布計測装置Info
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- JPH1163913A JPH1163913A JP9220507A JP22050797A JPH1163913A JP H1163913 A JPH1163913 A JP H1163913A JP 9220507 A JP9220507 A JP 9220507A JP 22050797 A JP22050797 A JP 22050797A JP H1163913 A JPH1163913 A JP H1163913A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】小型で、アライメントの容易な光周波数領域反
射光分布計測装置を提供する。 【解決手段】光源１と、光源１から出射された光を参照
光１１と信号光１０とに分割し、信号光１０を被検物体
６に向けて出射する分割光学素子４と、参照光１１を反
射する反射部５と、被検物体６からの信号光１０の反射
光と反射部５からの反射光を干渉させて検出する光検出
部７と、光源１が出射する光の周波数を時間に対して変
化させる周波数変調手段１２と、光検出部が検出した光
の周波数を求める周波数解析手段１３とを有する。ここ
で、光源１、分割光学素子４、反射部５および光検出部
７を、同一の基板２上に搭載する。
射光分布計測装置を提供する。 【解決手段】光源１と、光源１から出射された光を参照
光１１と信号光１０とに分割し、信号光１０を被検物体
６に向けて出射する分割光学素子４と、参照光１１を反
射する反射部５と、被検物体６からの信号光１０の反射
光と反射部５からの反射光を干渉させて検出する光検出
部７と、光源１が出射する光の周波数を時間に対して変
化させる周波数変調手段１２と、光検出部が検出した光
の周波数を求める周波数解析手段１３とを有する。ここ
で、光源１、分割光学素子４、反射部５および光検出部
７を、同一の基板２上に搭載する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、時間に対して周波
数変化させた光を被検物体と参照ミラーとに照射し、こ
れらからの反射光を干渉させた光の周波数を解析するこ
とにより、物体間の距離測定、物体の変位測定、または
光ファイバ等光導波路の欠陥診断を精密に行なう光周波
数領域反射光分布計測装置に関するものである。
数変化させた光を被検物体と参照ミラーとに照射し、こ
れらからの反射光を干渉させた光の周波数を解析するこ
とにより、物体間の距離測定、物体の変位測定、または
光ファイバ等光導波路の欠陥診断を精密に行なう光周波
数領域反射光分布計測装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】被検物体との距離の測定、被検物体の変
位の測定、被検物体の表面形状の測定、ならびに、光フ
ァイバ等光導波路の欠陥診断方法等に用いられる計測方
法として、周波数変調した光波の干渉を利用する光周波
数領域反射光分布計測法（optical frequency-domain r
eflectometry:ＯＦＤＲ）がある。例えば、Ａｐｐｌｉ
ｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ，ｖｏｌ．３３，ｐｐ．７８２９−
７８３７（１９９４）に記載されている光周波数領域反
射光分布計測装置は、光源の半導体レーザ、半導体レー
ザから出射された光を参照光と信号光とに分離するビー
ムスプリッタ、参照ミラー、参照光と信号光との干渉光
を受光する受光素子等から構成されている。そして、半
導体レーザへの注入電流を時間に対して鋸歯状の波形に
変調することにより、参照光および信号光の波長を鋸歯
状の波形に周期的に変調させながら、参照光を参照ミラ
ーに照射し、信号光を被検物体に照射する。これらの反
射光を再びビームスプリッタで合波し干渉させると、合
波の時点における信号光の鋸歯状の波形は、参照光の鋸
歯状の波形に対して、信号光と参照光の光路長差分だけ
遅延しているため、信号光と参照光とには光路長差に比
例した周波数差が発生している。よって、参照光と信号
光との干渉信号の周波数を解析することによって、被検
物体との距離の測定ができる。また、この距離の被検物
体上の分布を測定することにより、被検物体の表面形状
を測定することができる。
位の測定、被検物体の表面形状の測定、ならびに、光フ
ァイバ等光導波路の欠陥診断方法等に用いられる計測方
法として、周波数変調した光波の干渉を利用する光周波
数領域反射光分布計測法（optical frequency-domain r
eflectometry:ＯＦＤＲ）がある。例えば、Ａｐｐｌｉ
ｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ，ｖｏｌ．３３，ｐｐ．７８２９−
７８３７（１９９４）に記載されている光周波数領域反
射光分布計測装置は、光源の半導体レーザ、半導体レー
ザから出射された光を参照光と信号光とに分離するビー
ムスプリッタ、参照ミラー、参照光と信号光との干渉光
を受光する受光素子等から構成されている。そして、半
導体レーザへの注入電流を時間に対して鋸歯状の波形に
変調することにより、参照光および信号光の波長を鋸歯
状の波形に周期的に変調させながら、参照光を参照ミラ
ーに照射し、信号光を被検物体に照射する。これらの反
射光を再びビームスプリッタで合波し干渉させると、合
波の時点における信号光の鋸歯状の波形は、参照光の鋸
歯状の波形に対して、信号光と参照光の光路長差分だけ
遅延しているため、信号光と参照光とには光路長差に比
例した周波数差が発生している。よって、参照光と信号
光との干渉信号の周波数を解析することによって、被検
物体との距離の測定ができる。また、この距離の被検物
体上の分布を測定することにより、被検物体の表面形状
を測定することができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光周波数領域反射光分布計測装置は、上述のようにビー
ムスプリッタや参照ミラー等の複数のバルク素子を使用
するため、光学系が大きくなるという問題があった。し
かも、これらバルク素子を精密にアライメントする必要
があるため、装置が高価になるという問題点があった。
光周波数領域反射光分布計測装置は、上述のようにビー
ムスプリッタや参照ミラー等の複数のバルク素子を使用
するため、光学系が大きくなるという問題があった。し
かも、これらバルク素子を精密にアライメントする必要
があるため、装置が高価になるという問題点があった。
【０００４】本発明は、小型で、アライメントの容易な
光周波数領域反射光分布計測装置を提供することを目的
とする。
光周波数領域反射光分布計測装置を提供することを目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明によれば下記のような光周波数領域反射光
分布計測装置が提供される。
めに、本発明によれば下記のような光周波数領域反射光
分布計測装置が提供される。
【０００６】すなわち、光源と、前記光源から出射され
た光を参照光と信号光とに分割し、信号光を被検物体に
向けて出射する分割光学素子と、前記参照光を反射する
反射部と、前記被検物体からの信号光の反射光と前記反
射部からの反射光を干渉させて検出する光検出部と、前
記光源が出射する光の周波数を時間に対して変化させる
周波数変調手段と、前記光検出部が検出した光の周波数
を求める周波数解析手段とを有し、前記光源、分割光学
素子、反射部および光検出部は、同一の基板上に搭載さ
れていることを特徴とする光周波数領域反射光分布計測
装置である。
た光を参照光と信号光とに分割し、信号光を被検物体に
向けて出射する分割光学素子と、前記参照光を反射する
反射部と、前記被検物体からの信号光の反射光と前記反
射部からの反射光を干渉させて検出する光検出部と、前
記光源が出射する光の周波数を時間に対して変化させる
周波数変調手段と、前記光検出部が検出した光の周波数
を求める周波数解析手段とを有し、前記光源、分割光学
素子、反射部および光検出部は、同一の基板上に搭載さ
れていることを特徴とする光周波数領域反射光分布計測
装置である。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図面を用いて説明する。
いて図面を用いて説明する。
【０００８】まず、第１の実施の形態の光周波数領域反
射光分布計測装置について、図１を用いて説明する。
射光分布計測装置について、図１を用いて説明する。
【０００９】図１の光周波数領域反射光分布計測装置
は、光検出器７が作り込まれたＳｉ基板２上に、半導体
レーザ１、コリメータレンズ３、ビームスプリッタ４を
搭載している。半導体レーザ１は、基板２の主平面に平
行な光軸１０１に沿って光８を出射する。コリメータレ
ンズ３およびビームスプリッタ４は、光軸１０１上に順
に配置されている。ビームスプリッタ４が固定されてい
る位置は、光検出器７の上である。また、ビームスプリ
ッタ４の向きは、ビームスプリット面４ｃが、半導体レ
ーザ１からの光８の一部を被検ミラー６に向けて上向き
に垂直に反射する向きに定められている。被検ミラー６
は、被検物体（不図示）に取り付けられている。また、
ビームスプリッタ４の側面４ｂには、反射膜５が形成さ
れている。側面４ｂは、半導体レーザ１から出射された
光のうちビームスプリット面４ｃを透過した光が入射す
る面である。半導体レーザ１は、錫半田等で基板２に固
定され、コリメータレンズ３、ビームスプリッタ４は、
光学用接着剤等で基板２に固定されている。
は、光検出器７が作り込まれたＳｉ基板２上に、半導体
レーザ１、コリメータレンズ３、ビームスプリッタ４を
搭載している。半導体レーザ１は、基板２の主平面に平
行な光軸１０１に沿って光８を出射する。コリメータレ
ンズ３およびビームスプリッタ４は、光軸１０１上に順
に配置されている。ビームスプリッタ４が固定されてい
る位置は、光検出器７の上である。また、ビームスプリ
ッタ４の向きは、ビームスプリット面４ｃが、半導体レ
ーザ１からの光８の一部を被検ミラー６に向けて上向き
に垂直に反射する向きに定められている。被検ミラー６
は、被検物体（不図示）に取り付けられている。また、
ビームスプリッタ４の側面４ｂには、反射膜５が形成さ
れている。側面４ｂは、半導体レーザ１から出射された
光のうちビームスプリット面４ｃを透過した光が入射す
る面である。半導体レーザ１は、錫半田等で基板２に固
定され、コリメータレンズ３、ビームスプリッタ４は、
光学用接着剤等で基板２に固定されている。
【００１０】また、半導体レーザ１には、注入電流変調
装置１２が接続されている。光検出器７には、周波数解
析装置１３が接続されている。
装置１２が接続されている。光検出器７には、周波数解
析装置１３が接続されている。
【００１１】つぎに、この図１の光周波数領域反射光分
布計測装置の動作を説明する。
布計測装置の動作を説明する。
【００１２】半導体レーザ１からの出射光８は、コリメ
ートレンズ３により平行光９となり、ビームスプリッタ
４に入射する。平行光９の一部の光１０は、ビームスプ
リット面４ｃにより光軸１０１に対して垂直な光軸２０
１の方向に反射され、ビームスプリッタ４の側面４ａか
ら出射されて、この方向に配置されている被検ミラー６
によって反射され、再びビームスプリッタ４に入射し、
ビームスプリット面４ｃを透過して光検出器７に入射す
る。この経路を取る光１０が信号光となる。
ートレンズ３により平行光９となり、ビームスプリッタ
４に入射する。平行光９の一部の光１０は、ビームスプ
リット面４ｃにより光軸１０１に対して垂直な光軸２０
１の方向に反射され、ビームスプリッタ４の側面４ａか
ら出射されて、この方向に配置されている被検ミラー６
によって反射され、再びビームスプリッタ４に入射し、
ビームスプリット面４ｃを透過して光検出器７に入射す
る。この経路を取る光１０が信号光となる。
【００１３】一方、ビームスプリッタ４に入射した平行
光９のうち、ビームスプリット面４ｃを透過した光は、
ビームスプリッタ４の側面４ｂに達し、反射膜５により
反射され、再びビームスプリッタ面４ｃに達し、下向き
に垂直に反射されて光検出器７に入射する。この経路を
とる光１１が参照光となる。
光９のうち、ビームスプリット面４ｃを透過した光は、
ビームスプリッタ４の側面４ｂに達し、反射膜５により
反射され、再びビームスプリッタ面４ｃに達し、下向き
に垂直に反射されて光検出器７に入射する。この経路を
とる光１１が参照光となる。
【００１４】信号光１０と参照光１１は、同じ半導体レ
ーザ１から出射された光であるため、両者は干渉し、光
検出器７は、この干渉光を受光する。光検出器７の出力
する干渉信号１３ａは、周波数解析装置１３に取り込ま
れる。このとき、光検出器７に検出されるまでの参照光
１１の光路長と信号光１０の光路長との間には、ビーム
スプリッタ４の側面４ａと被検ミラー６との距離ｚを往
復する長さ２ｚの光路長差がある。ただし、ビームスプ
リッタ面４ｃと側面４ａとの光路長は、ビームスプリッ
タ面４ｃと側面４ｂとの光路長と等しいものとする。
ーザ１から出射された光であるため、両者は干渉し、光
検出器７は、この干渉光を受光する。光検出器７の出力
する干渉信号１３ａは、周波数解析装置１３に取り込ま
れる。このとき、光検出器７に検出されるまでの参照光
１１の光路長と信号光１０の光路長との間には、ビーム
スプリッタ４の側面４ａと被検ミラー６との距離ｚを往
復する長さ２ｚの光路長差がある。ただし、ビームスプ
リッタ面４ｃと側面４ａとの光路長は、ビームスプリッ
タ面４ｃと側面４ｂとの光路長と等しいものとする。
【００１５】このような構成において、半導体レーザ１
に注入する電流１２ａを、注入電流変調装置１２によっ
て、図５（ａ）のように、鋸歯状の波形に変調すると、
半導体レーザ１の発振周波数は図５（ｂ）のような鋸歯
状の波形に変調を受ける。前述のように、参照光１１の
光路長と信号光１０の光路長との間には、ビームスプリ
ッタ４の側面４ａと被検ミラー６との距離ｚを往復する
長さ２ｚの光路長差があるため、光検出器７に検出され
る時点において、信号光１０は、参照光１１に対して時
間Δｔだけ遅延し、参照光１１と信号光１０の鋸歯状の
波形がΔｔだけずれる（図５（ｃ））。このとき、Δｔ
は Δｔ＝２ｚ／ｃ ・・・ （１） と表すことができる。ただし、ｃは光速である。この時
間遅延Δｔにより、光検出器７における参照光１１の周
波数と信号光１０の周波数とには、図５（ｃ）のよう
に、差周波数Δν Δν＝νmΔｔ／τ ・・・ （２） が生じている。ただし、ｚは測定したい側面４ａと被検
ミラー６との間の距離、νmは半導体レーザ１の周波数
変調幅、τは半導体レーザ１の周波数変調周期である。
に注入する電流１２ａを、注入電流変調装置１２によっ
て、図５（ａ）のように、鋸歯状の波形に変調すると、
半導体レーザ１の発振周波数は図５（ｂ）のような鋸歯
状の波形に変調を受ける。前述のように、参照光１１の
光路長と信号光１０の光路長との間には、ビームスプリ
ッタ４の側面４ａと被検ミラー６との距離ｚを往復する
長さ２ｚの光路長差があるため、光検出器７に検出され
る時点において、信号光１０は、参照光１１に対して時
間Δｔだけ遅延し、参照光１１と信号光１０の鋸歯状の
波形がΔｔだけずれる（図５（ｃ））。このとき、Δｔ
は Δｔ＝２ｚ／ｃ ・・・ （１） と表すことができる。ただし、ｃは光速である。この時
間遅延Δｔにより、光検出器７における参照光１１の周
波数と信号光１０の周波数とには、図５（ｃ）のよう
に、差周波数Δν Δν＝νmΔｔ／τ ・・・ （２） が生じている。ただし、ｚは測定したい側面４ａと被検
ミラー６との間の距離、νmは半導体レーザ１の周波数
変調幅、τは半導体レーザ１の周波数変調周期である。
【００１６】よって、光検出器７で検出される参照光１
１と信号光１０との干渉信号１３ａのスペクトルは、図
５（ｄ）のようになるため、周波数解析装置１３によっ
て、干渉信号１３ａの中心周波数Δνを測定し、 ｚ＝（１／２）（Δν／νm）ｃτ ・・・ （３） に代入して計算することにより、側面４ａから被検ミラ
ー６までの距離ｚを測定することができる。
１と信号光１０との干渉信号１３ａのスペクトルは、図
５（ｄ）のようになるため、周波数解析装置１３によっ
て、干渉信号１３ａの中心周波数Δνを測定し、 ｚ＝（１／２）（Δν／νm）ｃτ ・・・ （３） に代入して計算することにより、側面４ａから被検ミラ
ー６までの距離ｚを測定することができる。
【００１７】上述してきた図１の光周波数領域反射光分
布計測装置は、光検出器７が作り込まれた基板２上に、
被検ミラー６を除いた光学素子がすべて搭載されている
ため、光学装置の大きさを小型にすることができるとと
もに、光学素子同士のアライメントが容易になるという
効果が得られる。
布計測装置は、光検出器７が作り込まれた基板２上に、
被検ミラー６を除いた光学素子がすべて搭載されている
ため、光学装置の大きさを小型にすることができるとと
もに、光学素子同士のアライメントが容易になるという
効果が得られる。
【００１８】また、距離ｚを測定するために光周波数領
域反射光分布計測装置を用いる場合、上述のように被検
物体に被検ミラー６を取り付け、装置側は固定して測定
を行うのが一般的であるが、図１の装置の場合には、装
置が小型であるため、変位する被検物体側に基板２を搭
載し、被検ミラー６を固定にして測定を行うことも可能
である。
域反射光分布計測装置を用いる場合、上述のように被検
物体に被検ミラー６を取り付け、装置側は固定して測定
を行うのが一般的であるが、図１の装置の場合には、装
置が小型であるため、変位する被検物体側に基板２を搭
載し、被検ミラー６を固定にして測定を行うことも可能
である。
【００１９】また、光周波数領域反射光分布計測装置
は、従来から知られているように、被検物体に被検ミラ
ー６を取り付けずに被検物体の表面に直接信号光１０を
照射する構成とし、信号光１０を被検物体の表面で走査
させながら、距離ｚを測定し、測定結果を信号光１０の
走査位置と対応させることにより、被検物体の表面の凹
凸像を測定することができる。このような測定を行う場
合、本実施の形態の光周波数領域反射光分布計測装置
は、光学素子がすべて基板上に搭載されているため、基
板２を被検物体に対して移動させることにより、信号光
１０を容易に走査させることができる。また、このよう
に移動させた場合にも、基板２上に光学素子が固定され
ているため、光学素子間のアライメントがずれる恐れが
ない。また、装置全体が基板２に搭載された小型な装置
であるため、信号光１０の走査のための基板移動の駆動
系が小型でよいという利点もある。
は、従来から知られているように、被検物体に被検ミラ
ー６を取り付けずに被検物体の表面に直接信号光１０を
照射する構成とし、信号光１０を被検物体の表面で走査
させながら、距離ｚを測定し、測定結果を信号光１０の
走査位置と対応させることにより、被検物体の表面の凹
凸像を測定することができる。このような測定を行う場
合、本実施の形態の光周波数領域反射光分布計測装置
は、光学素子がすべて基板上に搭載されているため、基
板２を被検物体に対して移動させることにより、信号光
１０を容易に走査させることができる。また、このよう
に移動させた場合にも、基板２上に光学素子が固定され
ているため、光学素子間のアライメントがずれる恐れが
ない。また、装置全体が基板２に搭載された小型な装置
であるため、信号光１０の走査のための基板移動の駆動
系が小型でよいという利点もある。
【００２０】このように、本実施の形態の光周波数領域
反射光分布計測装置は、一つの基板上に光学素子を搭載
した構成であるため、距離の測定のみならず、被検物体
の表面の凹凸像の測定に適している。
反射光分布計測装置は、一つの基板上に光学素子を搭載
した構成であるため、距離の測定のみならず、被検物体
の表面の凹凸像の測定に適している。
【００２１】つぎに、第２の実施の形態の光周波数領域
反射光分布計測装置について図２を用いて説明する。図
２において、第１の実施の形態と同一の構成要素に対し
ては同じ番号をつけた。
反射光分布計測装置について図２を用いて説明する。図
２において、第１の実施の形態と同一の構成要素に対し
ては同じ番号をつけた。
【００２２】図２の構成では、半導体レーザ１から出射
された光８を平行光にする光学素子として、図１のコリ
メートレンズ３を用いる代わりに、ビームスプリッタ４
の側面４ｄ上に形成された図３のようなフレネルレンズ
１４を用いている。他の構成及び動作は、第１の実施の
形態と同様であるので説明を省略する。
された光８を平行光にする光学素子として、図１のコリ
メートレンズ３を用いる代わりに、ビームスプリッタ４
の側面４ｄ上に形成された図３のようなフレネルレンズ
１４を用いている。他の構成及び動作は、第１の実施の
形態と同様であるので説明を省略する。
【００２３】図２の光周波数領域反射光分布計測装置
は、ビームスプリッタ４の側面４ｄ上に形成されたフレ
ネルレンズ１４を用いるため、装置を組み立てる際に、
コリメータレンズ３とビームスプリッタ４とをアライメ
ントする必要がない。そのため、図１の構成と比較し
て、装置組立の際のアライメントがさらに容易になると
いう効果が得られる。また、図２の構成では、図１のよ
うにコリメートレンズ３を配置するためのスペースを基
板２上に確保する必要がないため、図１の構成と比較し
て基板２を小さくすることができるという利点もある。
は、ビームスプリッタ４の側面４ｄ上に形成されたフレ
ネルレンズ１４を用いるため、装置を組み立てる際に、
コリメータレンズ３とビームスプリッタ４とをアライメ
ントする必要がない。そのため、図１の構成と比較し
て、装置組立の際のアライメントがさらに容易になると
いう効果が得られる。また、図２の構成では、図１のよ
うにコリメートレンズ３を配置するためのスペースを基
板２上に確保する必要がないため、図１の構成と比較し
て基板２を小さくすることができるという利点もある。
【００２４】つぎに、第３の実施の形態の光周波数領域
反射光分布計測装置について図４を用いて説明する。図
４において、第１の実施の形態と同一の構成要素に対し
ては同じ番号をつけた。
反射光分布計測装置について図４を用いて説明する。図
４において、第１の実施の形態と同一の構成要素に対し
ては同じ番号をつけた。
【００２５】図４の装置では、図１の被検ミラー６の代
わりにコーナーミラー１５を用いている。コーナーミラ
ー１５を用いた場合には、被検物体もしくは基板２が搭
載されている物体が傾斜することにより、光軸２０１が
コーナーミラーに対して傾斜した場合であっても、正確
に信号光１０を光検出器７に入射させることができると
いう効果が得られる。これにより、被検物体が光軸２０
１に対して相対的に傾斜した場合であっても、精度良く
測定を行うことができる。なお、コーナーミラー１５は
Ｓｉの異方性エッチングを用いて形成したＶ溝を用いれ
ば、より安価な光学系が実現する。これ以外の構成と測
定原理は第１の実施の形態と同様であるので、説明は省
略する。
わりにコーナーミラー１５を用いている。コーナーミラ
ー１５を用いた場合には、被検物体もしくは基板２が搭
載されている物体が傾斜することにより、光軸２０１が
コーナーミラーに対して傾斜した場合であっても、正確
に信号光１０を光検出器７に入射させることができると
いう効果が得られる。これにより、被検物体が光軸２０
１に対して相対的に傾斜した場合であっても、精度良く
測定を行うことができる。なお、コーナーミラー１５は
Ｓｉの異方性エッチングを用いて形成したＶ溝を用いれ
ば、より安価な光学系が実現する。これ以外の構成と測
定原理は第１の実施の形態と同様であるので、説明は省
略する。
【００２６】なお、上述の第１の実施の形態では、半導
体レーザからの出射光の周波数を図５（ｂ）のように鋸
歯状の波形に変調しているが、周波数の変調はこの波形
に限定されるものでない。距離ｚの往復の光路長による
時間遅延に応じた周波数差が生じる波形であればよく、
例えば、単調に周波数が増加または減少するように出射
光の周波数を変調させることができる。
体レーザからの出射光の周波数を図５（ｂ）のように鋸
歯状の波形に変調しているが、周波数の変調はこの波形
に限定されるものでない。距離ｚの往復の光路長による
時間遅延に応じた周波数差が生じる波形であればよく、
例えば、単調に周波数が増加または減少するように出射
光の周波数を変調させることができる。
【００２７】また、上述の各実施の形態では、基板２に
光検出器７を作り込んでいるが、作り込む方法として
は、例えば、第１導電型の基板２を用い、基板２の表面
から第２の導電型の不純物を拡散させることによりｐｎ
接合を形成する方法等を用いることができる。
光検出器７を作り込んでいるが、作り込む方法として
は、例えば、第１導電型の基板２を用い、基板２の表面
から第２の導電型の不純物を拡散させることによりｐｎ
接合を形成する方法等を用いることができる。
【００２８】また、基板２に光検出器７を作り込む方法
以外に、基板２上に別途独立した製造工程で製造した光
検出器７を固定し、その上にビームスプリッタ４を搭載
する構成にすることも可能である。また、基板２の表面
に形成した凹部の中に光検出器７を配置し、その上にビ
ームスプリッタを配置することにより、基板２中に光検
出器を作り込んだ場合と同様の位置関係にすることも可
能である。これらの構成にする場合には、基板２中に光
検出器７を作り込まないため、基板２として、半導体基
板以外の基板を用いることができる。
以外に、基板２上に別途独立した製造工程で製造した光
検出器７を固定し、その上にビームスプリッタ４を搭載
する構成にすることも可能である。また、基板２の表面
に形成した凹部の中に光検出器７を配置し、その上にビ
ームスプリッタを配置することにより、基板２中に光検
出器を作り込んだ場合と同様の位置関係にすることも可
能である。これらの構成にする場合には、基板２中に光
検出器７を作り込まないため、基板２として、半導体基
板以外の基板を用いることができる。
【００２９】また、上述の各実施の形態では、別途製造
した半導体レーザ１を錫半田等で基板２上に固定してい
るが、基板２として化合物半導体基板を用い、半導体レ
ーザ１を基板２上に直接形成することも可能である。
した半導体レーザ１を錫半田等で基板２上に固定してい
るが、基板２として化合物半導体基板を用い、半導体レ
ーザ１を基板２上に直接形成することも可能である。
【００３０】さらに、上述の各実施の形態では、参照光
１１を反射する反射膜５をビームスプリッタ４の側面上
に形成しているが、反射膜５の代わりに、ビームスプリ
ッタ４とは独立して基板２上に参照ミラーを配置する構
成にすることも可能である。
１１を反射する反射膜５をビームスプリッタ４の側面上
に形成しているが、反射膜５の代わりに、ビームスプリ
ッタ４とは独立して基板２上に参照ミラーを配置する構
成にすることも可能である。
【００３１】なお、本実施の形態では、被検ミラー６を
被検物体に取り付けて計測を行う場合について説明した
が、被検物体が鏡面状のものであれば、被検ミラー６を
用いず直接被検物体に光を照射する計測方法にすること
もできる。
被検物体に取り付けて計測を行う場合について説明した
が、被検物体が鏡面状のものであれば、被検ミラー６を
用いず直接被検物体に光を照射する計測方法にすること
もできる。
【００３２】
【発明の効果】上述してきたように、本発明によれば、
小型で、アライメントの容易な光周波数領域反射光分布
計測装置を提供することができる。
小型で、アライメントの容易な光周波数領域反射光分布
計測装置を提供することができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態の光周波数領域反射
光分布計測装置の概略構成を示すブロック図である。
光分布計測装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態の光周波数領域反射
光分布計測装置の概略構成を示すブロック図である。
光分布計測装置の概略構成を示すブロック図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態で用いられるフレネ
ルレンズの正面図である。
ルレンズの正面図である。
【図４】本発明の第３の実施の形態の光周波数領域反射
光分布計測装置の概略構成を示すブロック図である。
光分布計測装置の概略構成を示すブロック図である。
【図５】図１の光周波数領域反射光分布計測装置におい
て、（ａ）半導体レーザ１への注入電流１２ａの変調を
示すグラフ、（ｂ）半導体レーザ１の発振周波数の変調
を示すグラフ、（ｃ）光検出器７に入射する時点におけ
る参照光と信号光の波形を示すグラフ、（ｄ）光検出器
７で検出された干渉信号のスペクトルを示すグラフであ
る。
て、（ａ）半導体レーザ１への注入電流１２ａの変調を
示すグラフ、（ｂ）半導体レーザ１の発振周波数の変調
を示すグラフ、（ｃ）光検出器７に入射する時点におけ
る参照光と信号光の波形を示すグラフ、（ｄ）光検出器
７で検出された干渉信号のスペクトルを示すグラフであ
る。
【符号の説明】 １ 半導体レーザ ２ Ｓｉ基板 ３ コリメートレンズ ４ ビームスプリッタ ５ 反射膜 ６ 被検ミラー ７ 光検出器 １０ 信号光 １１ 参照光 １２ 注入電流変調装置 １２ａ 変調信号 １３ 周波数解析装置 １３ａ 干渉信号 １４ フレネルレンズ １５ コーナーミラー
Claims (7)
- 【請求項１】光源と、前記光源から出射された光を参照
光と信号光とに分割し、当該信号光を被検物体に向けて
出射する分割光学素子と、前記参照光を反射する反射部
と、前記被検物体からの前記信号光の反射光と前記反射
部からの前記参照光の反射光を干渉させて検出する光検
出部と、前記光源が出射する光の周波数を時間に対して
変化させる周波数変調部と、前記光検出部が検出した光
の周波数を求める周波数解析部とを有し、 前記光源、分割光学素子、反射部および光検出部は、同
一の基板上に搭載されていることを特徴とする光周波数
領域反射光分布計測装置。 - 【請求項２】請求項１に記載の光周波数領域反射光分布
計測装置において、前記光源から出射された光を平行光
にするためのコリメータ光学系をさらに有し、前記コリ
メータ光学系もまた、前記基板上に搭載されていること
を特徴とする光周波数領域反射光分布計測装置。 - 【請求項３】請求項１に記載の光周波数領域反射光分布
計測装置において、前記光検出部は、前記基板の表面に
搭載され、 前記分割光学素子は、前記光検出部の上に搭載され、 前記光源は、前記分割光学素子に向かって、光軸が前記
基板に平行な光を出射する位置に搭載されていることを
特徴とする光周波数領域反射光分布計測装置。 - 【請求項４】請求項１に記載の光周波数領域反射光分布
計測装置において、前記分割光学素子は、ビームスプリ
ッタであり、前記反射部は、前記ビームスプリッタの側
面のうち前記ビームスプリッタで分割された参照光が入
射する面の上に配置された反射膜であることを特徴とす
る光周波数領域反射光分布計測装置。 - 【請求項５】請求項２に記載の光周波数領域反射光分布
計測装置において、前記分割光学素子は、ビームスプリ
ッタであり、前記コリメータ光学系は、前記ビームスプ
リッタの側面のうち前記光源からの光が入射する面の上
に配置されたフレネルレンズであることを特徴とする光
周波数領域反射光分布計測装置。 - 【請求項６】請求項３に記載の光周波数領域反射光分布
計測装置において、前記光検出部は、前記基板に作り込
まれていることを特徴とする光周波数領域反射光分布計
測装置。 - 【請求項７】請求項１に記載の光周波数領域反射光分布
計測装置において、前記被検物体の前記信号光が照射さ
れる部分に配置され、前記信号光を反射するための信号
光反射部をさらに有し、 前記信号光反射部は、コーナーミラーであることを特徴
とする光周波数領域反射光分布計測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9220507A JPH1163913A (ja) | 1997-08-15 | 1997-08-15 | 光周波数領域反射光分布計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9220507A JPH1163913A (ja) | 1997-08-15 | 1997-08-15 | 光周波数領域反射光分布計測装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1163913A true JPH1163913A (ja) | 1999-03-05 |
Family
ID=16752119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9220507A Pending JPH1163913A (ja) | 1997-08-15 | 1997-08-15 | 光周波数領域反射光分布計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1163913A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002023123A1 (fr) * | 2000-09-18 | 2002-03-21 | Olympus Optical Co., Ltd. | Capteur optique |
| KR101142763B1 (ko) | 2009-11-04 | 2012-05-18 | 한양대학교 산학협력단 | 분광 반사 측정기 및 이를 이용한 분광 반사율 측정방법 |
| CN108152825A (zh) * | 2016-12-02 | 2018-06-12 | 欧姆龙汽车电子株式会社 | 物体检测装置 |
-
1997
- 1997-08-15 JP JP9220507A patent/JPH1163913A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002023123A1 (fr) * | 2000-09-18 | 2002-03-21 | Olympus Optical Co., Ltd. | Capteur optique |
| US6710320B2 (en) | 2000-09-18 | 2004-03-23 | Olympus Optical Co., Ltd. | Small sized imaging device which detects position information and image information |
| KR101142763B1 (ko) | 2009-11-04 | 2012-05-18 | 한양대학교 산학협력단 | 분광 반사 측정기 및 이를 이용한 분광 반사율 측정방법 |
| CN108152825A (zh) * | 2016-12-02 | 2018-06-12 | 欧姆龙汽车电子株式会社 | 物体检测装置 |
| JP2018091730A (ja) * | 2016-12-02 | 2018-06-14 | オムロンオートモーティブエレクトロニクス株式会社 | 物体検出装置 |
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