JPH09191133A - 熱電発電素子の製造方法 - Google Patents

熱電発電素子の製造方法

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JPH09191133A
JPH09191133A JP8002983A JP298396A JPH09191133A JP H09191133 A JPH09191133 A JP H09191133A JP 8002983 A JP8002983 A JP 8002983A JP 298396 A JP298396 A JP 298396A JP H09191133 A JPH09191133 A JP H09191133A
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thermoelectric
photosensitive resin
forming
substrate
pattern
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JP8002983A
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Yoichi Nagata
洋一 永田
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Citizen Watch Co Ltd
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Citizen Watch Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 狭い領域に微細な熱電対を精度よくかつ容易
に多数集積化し、従来より集積密度と配線しやすさが大
幅に向上した小型の熱電発電素子が製造する。 【解決手段】 銅などの金属基板に第1の感光性樹脂2
0により厚膜のパターンを形成し、第1の感光性樹脂2
0の開口部にメッキ法を用いて第1の熱電体30を形成
し、第1の感光性樹脂20を除去し、さらに第2の感光
性樹脂30により厚膜のパターンを形成し、第2の感光
性樹脂30の開口部にメッキ法を用いて第2の熱電体を
形成し、補強用の絶縁体50を貼り付けた後に金属基板
を溶解除去することで構成した熱電構造体について、複
数の熱電構造体を積層接着して必要寸法に切断し、端の
熱電体同士を配線することで熱電発電素子を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は異種半導体を接合し
た熱電対を複数直列接合してなる熱電発電素子の製造方
法に関し、とくにフォトリソグラフィー技術と熱電材料
のメッキ技術を組み合わせて集積度を向上させた熱電発
電素子の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】熱電対はその両端に温度差を与えること
により起電力を発生する。この起電力を電気エネルギー
として利用するのが熱電発電である。この熱電発電は熱
エネルギーを直接電気エネルギーに変換可能な方法とし
て、廃熱利用を含め熱エネルギーの有効な利用法として
非常に注目されている。
【0003】さらに熱電発電に用いる熱電発電素子は、
構造が簡単なため他の発電機に比らべて微小化に有利な
ことや、あるいは酸化還元電池のように消耗せず電解液
の漏洩の問題もないことから、腕時計のような携帯用電
子機器への応用が注目されている。
【0004】この熱電発電素子の一般的構造を図11の
斜視図に示す。全体として板状の構造を持つ熱電発電素
子の中に、p型とn型の熱電材料を用いた熱電対を数多
く並べ直列に接続している。図11に示した熱電対70
においては、温接点71と冷接点72は板状の熱発電素
子のおもてと裏の部分に位置しており、おもて裏の温度
差によって発電を行う。
【0005】この発電は種類の異なる2つの金属の両端
同士を接合し、その2つの接合部間に温度差を与えると
その接合部間に起電力を生じるという、いわゆるゼーベ
ック効果を利用したものである。このような熱電発電素
子は、以下のような工程により製造する。
【0006】まず熱電材料を微細に粉砕した後に焼き固
めてブロック状の材料を形成するという、いわゆる焼結
法によって、p型とn型のそれぞれの熱電半導体のブロ
ックを形成する。そして焼結法により形成した熱電材料
のブロックを、ダイシングソーなどでそれぞれ切断し、
直方体のチップに分割する。この直方体のチップを、図
11に示すようにp型とn型の熱電半導体を交互にマト
リクス状に配列する。
【0007】その後に隣り合ったチップの両端を、金属
板などの導電性材料により接続することで、多数の熱電
対の直列接続した構造を有する熱電発電素子を形成す
る。この接続にはおもにハンダ溶接を用いる。このよう
にして製造した一般的な熱電発電素子は、全体の寸法は
数10cm角以上であり、また対数は数10対程度とい
うのが標準的である。
【0008】ところで、現在利用されている熱電材料の
うち、性能が最もよいといわれているBiTe系材料を
用いた熱電対の出力電圧は1対あたり400μV/℃ほ
どである。一般的な熱電発電素子は、温度差が大きくと
れる環境で利用するため、前述のように比較的少ない対
数であっても実用上充分な出力を得ることができる。
【0009】しかしながら腕時計に代表される携帯用電
子機器の使用は通常室温近辺であるため、あまり内部の
温度差は期待できない。たとえば時計内部ではせいぜい
温度差は2℃である。この少ない温度差により、時計駆
動必要な1.5V以上の電圧を得るためには、2000
対ものBiTe系熱電対が必要である。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】発電素子を大型化すれ
ば問題はないが、2000対の熱電対をボタン電池ほど
の大きさ、たとえば1cm角の中に集積化するのは非常
に難しい問題である。この発電素子の大きさは時計をは
じめとする小型携帯機器にはとくに重要である。
【0011】ここで課題となっている、熱電発電素子の
小型化を達成するためには、単純には前述のような機械
的な加工法により、熱電材料の焼結体を微小に切断加工
できればよい。
【0012】しかし当然のことながら微小な素子の加工
には限りがある。さらに、熱電材料は非常に脆いものが
多いため、切断工程だけでなく切断後の取扱いも注意が
必要であり、形成歩留まりはおのずと低下してしまう。
つまり機械加工を用いた従来法ではせいぜい幅1mmほ
どの材料を扱うのが常識的な限界と考えられ、1cm角
に素子として作り込んだとしても対数は50対にしかな
らない。
【0013】前述のように従来技術の機械加工法では、
微小な領域に多くの熱電対を集積化して作り込み熱電発
電素子を製造するのは難しく、小形携帯機器での利用に
充分であるような出力を有する発電素子を製造ことはき
わめて困難である。
【0014】そこで本発明の目的は、上記の問題点を解
決し、小さくとも発電器として充分な出力が得られる熱
電発電素子をパターン精度よくかつ容易に製造する方法
を提供することである。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の熱電発電素子の製造方法においては下記に
記載する工程を採用する。
【0016】本発明の熱電発電素子の製造方法は、基板
上に金属材料からなる電極膜を形成する工程と、第1の
パターンを有する第1の感光性樹脂を形成する工程と、
電極膜を用いて第1の感光性樹脂の開口部に第1の熱電
材料からなる第1の熱電体をメッキ法により形成する工
程と、第1の感光性樹脂を除去する工程と、第1の熱電
体上に第1の熱電体の各両端が露出する第2のパターン
を有する第2の感光性樹脂を形成する工程と、電極膜と
第1の熱電体を用いて第2の感光性樹脂の開口部に第2
の熱電材料からなる第2の熱電体をメッキ法により形成
する工程と、第2の感光性樹脂の上面に絶縁材料からな
る絶縁体を形成する工程と、基板と電極膜を溶解し除去
する工程とから熱電構造体を形成し、複数の熱電構造体
を絶縁材料を介して重ねて貼り合わせ、さらに所定の長
さに切断した後、近接する熱電構造体の端を素子端配線
を用いて交互につなぎ合わせることにより直列に接続す
る複数の熱電対を形成する。
【0017】本発明の熱電発電素子の製造方法は、電気
伝導性の基板上に第1のパターンを有する第1の感光性
樹脂を形成する工程と、基板を用いて第1の感光性樹脂
の開口部に第1の熱電材料からなる第1の熱電体をメッ
キ法により形成する工程と、第1の感光性樹脂を除去す
る工程と、第1の熱電体上に第1の熱電体の各両端が露
出する第2のパターンを有する第2の感光性樹脂を形成
する工程と、基板と第1の熱電体を用いて第2の感光性
樹脂の開口部に第2の熱電材料からなる第2の熱電体を
メッキ法により形成する工程と、第2の感光性樹脂の上
面に絶縁材料からなる絶縁体を形成する工程と、基板を
溶解し除去する工程とから熱電構造体を形成し、複数の
熱電構造体を絶縁材料を介して重ねて貼り合わせ、さら
に所定の長さに切断した後、近接する熱電構造体の端を
素子端配線を用いて交互につなぎ合わせることにより直
列に接続する複数の熱電対を形成する。
【0018】本発明の熱電発電素子の製造方法は、基板
上に金属材料からなる電極膜を形成する工程と、第1の
パターンを有する第1の感光性樹脂を形成する工程と、
電極膜を用いて第1の感光性樹脂の開口部に第1の熱電
材料からなる第1の熱電体をメッキ法により形成する工
程と、第1の感光性樹脂を除去する工程と、第1の熱電
体上に第1の熱電体の各両端が露出する第2のパターン
を有する第2の感光性樹脂を形成する工程と、電極膜と
第1の熱電体を用いて第2の感光性樹脂の開口部に第2
の熱電材料からなる第2の熱電体をメッキ法により形成
する工程と、第2の感光性樹脂の上面に絶縁材料からな
る絶縁体を形成する工程と、基板と電極膜を溶解し除去
する工程とから第1の熱電構造体を形成し、基板上に金
属材料からなる電極膜を形成する工程と、第3のパター
ンを有する第3の感光性樹脂を形成する工程と、電極膜
を用いて第3の感光性樹脂の開口部に第3の熱電材料か
らなる第3の熱電体をメッキ法により形成する工程と、
第3の感光性樹脂を除去する工程と、第3の熱電体上に
第3の熱電体の各両端が露出する第4のパターンを有す
る第4の感光性樹脂を形成する工程と、電極膜と第3の
熱電体を用いて第4の感光性樹脂の開口部に第4の熱電
材料からなる第4の熱電体をメッキ法により形成する工
程と、第4の感光性樹脂の上面に絶縁材料からなる絶縁
体を形成する工程と、基板と電極膜を溶解し除去する工
程とから第2の熱電構造体を形成し、複数の第1の熱電
構造体と第2の熱電構造体とを交互に重ねて貼り合わ
せ、さらに所定の長さに切断した後、近接する熱電構造
体の端を素子端配線を用いて交互につなぎ合わせること
により直列に接続する複数の熱電対を形成する。
【0019】本発明の熱電発電素子の製造方法は、電気
伝導性の基板上に第1のパターンを有する第1の感光性
樹脂を形成する工程と、基板を用いて第1の感光性樹脂
の開口部に第1の熱電材料からなる第1の熱電体をメッ
キ法により形成する工程と、第1の感光性樹脂を除去す
る工程と、第1の熱電体上に第1の熱電体の両端が露出
する第2のパターンを有する第2の感光性樹脂を形成す
る工程と、基板と第1の熱電体を用いて第2の感光性樹
脂の開口部に第2の熱電材料からなる第2の熱電体をメ
ッキ法により形成する工程と、第2の感光性樹脂の上面
に絶縁材料からなる絶縁体を形成する工程と、基板を溶
解し除去する工程とから第1の熱電構造体を形成し、電
気伝導性の基板上に第3のパターンを有する第3の感光
性樹脂を形成する工程と、基板を用いて第3の感光性樹
脂の開口部に第3の熱電材料からなる第3の熱電体をメ
ッキ法により形成する工程と、第3の感光性樹脂を除去
する工程と、第3の熱電体上に第3の熱電体の両端が露
出する第4のパターンを有する第4の感光性樹脂を形成
する工程と、基板と第3の熱電体を用いて第4の感光性
樹脂の開口部に第4の熱電材料からなる第4の熱電体を
メッキ法により形成する工程と、第4の感光性樹脂の上
面に絶縁材料からなる絶縁体を形成する工程と、基板を
溶解し除去する工程とから第2の熱電構造体を形成し、
複数の第1の熱電構造体と第2の熱電構造体とを交互に
重ねて貼り合わせ、さらに所定の長さに切断した後、近
接する熱電構造体の端を素子端配線を用いて交互につな
ぎ合わせることにより直列に接続する複数の熱電対を形
成する。
【0020】本発明の熱電発電素子の製造方法において
は、感光性樹脂を用いてパターンを作るため、数10μ
m幅の素子を精度よく形成することが可能である。そし
てメッキ法により熱電体を形成するため、10μmから
100μmほどの厚膜を形成することが可能であり、メ
ッキ浴組成や電圧制御により組成コントロールも容易で
ある。
【0021】さらに製造工程が感光性樹脂を用いるフォ
トリソグラフィー工程や、メッキ工程や、真空蒸着とエ
ッチング工程からなるためバッチ処理により一度に複数
の素子が形成できるなどの理由により、熱電対の集積密
度を従来より飛躍的にあげることができる。このため小
形でありなおかつ低い温度差でも高出力が得られる熱電
発電素子を容易に製造することが可能である。
【0022】そのうえに、本発明の熱電発電素子におい
ては、第1の熱電体と第2の熱電体を1枚の基板上に形
成し、また第1の熱電体のそれぞれの上面の一部分には
接合部を備えており、第2の熱電体がそれぞれこの接合
部上で接合するように重ねてメッキし形成する。このた
め第1の熱電体と第2の熱電体とは形成時から交互に直
列に接合するため、基板の完成後に行う配線工程が、1
枚の基板上の熱電対について不要となり、素子の高密度
集積を容易に行うことができる。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明を実施
するための最良の形態における熱電発電素子の製造方法
についての詳しい説明を行う。本発明の第1の実施形態
について図1〜図10を用いて説明する。図1〜図7は
本発明の第1の実施形態による熱電発電素子の製造方法
を示す要部断面図である。図8〜図9は本発明の第1の
実施形態による熱電発電素子の製造方法を示す平面図で
ある。図10は本発明の第1の実施形態による熱電発電
素子の製造方法で製造する熱電発電素子を示す斜視図で
ある。
【0024】まずはじめに図1に示すように、基板10
には銅板を用い、チタン(Ti)を膜厚500nm真空
蒸着法により形成し電極膜11を形成する。この電極膜
11であるチタン膜は、後述するメッキ工程でのメッキ
電極であると同時にメッキ液に基板10である銅板が侵
されないよう保護する役目をする。
【0025】その後、電極膜10上に第1の感光性樹脂
20として膜厚50μmの感光性ドライフィルムレジス
トをロールコーターを用いて形成する。ドライフィルム
はフォトマスクを用いて光を照射し感光させ、未露光部
のみを溶解除去するという、いわゆるフォトリソグラフ
ィーの技術を用いて、図1のようにパターン形状が規則
正しく並ぶようにパターニングして第1のパターン21
を有する第1の感光性樹脂20を形成する。
【0026】第1のパターン21を有する第1の感光性
樹脂20は、電極膜11の表面上に開口部、すなわちフ
ォトリソグラフィー技術によって溶解処理された部分
と、溶解処理されない非開口部とを形成する。ここでは
第1のパターン21は、図8に示すように開口部がL字
形状を有するように形成する。
【0027】この第1のパターン21の開口部寸法はL
字の縦棒については幅寸法を150μmで、長さを1c
mとし、L字の横棒については幅寸法を50μmで、長
さを350μmとする。またL字形状の行方向のピッチ
は400μmとし、第1のパターン21の非開口部の幅
が50μmになるようにして形成する。図1に示す断面
図は第1のパターン21のL字の上端部、すなわち図8
の下部位置での切断断面に対応している。
【0028】さらに図1に示すように、第1の感光性樹
脂20を形成した後、基板10の裏面にはテフロン系の
高分子膜12をスピンコーティング法を用いて全面に形
成する。この基板10の裏面のテフロン系の高分子膜1
2は、後の工程でメッキ膜が裏面に形成されるのを防ぐ
ために設ける。
【0029】続いて図2に示すように、第1の感光性樹
脂20の開口部内にメッキ法により第1の熱電材料から
なる第1の熱電体41を形成する。この第1の熱電材料
としてはn型半導体であるBiTeSe合金を用いる。
【0030】BiTeSe合金材料のメッキ電解液とし
ては、Bi(NO3 )とTeO2 とSeO2 を含む硝酸
溶液を用いている。電極膜11をカソードとし、アノー
ドにはPt電極を用いて両電極間に約1Vの電圧を印加
するとBiTeSe合金が電極膜11上に析出する。こ
のとき前述のように、基板10裏面は高分子膜12によ
り保護している。このため、第1の感光性樹脂20の開
口部内にだけ第1の熱電体41が析出する。
【0031】メッキ法においては、析出量は電解時の消
費電流から計算される電荷量で決まるため、電荷量の測
定によって必要な厚さに制限することは容易である。こ
こでは、第1の熱電体41の膜厚は、あらかじめコーテ
ィングしてある第1の感光性樹脂20と同じ膜厚、つま
り膜厚50μmになるよう設定する。また電解液中のB
i、Te、Seのイオン濃度を変えることで合金の組成
は変化させることができ、これらの条件設定によって必
要な出力電圧あるいは抵抗値を有する材料が選択でき
る。
【0032】その後に、水酸化ナトリウムなどのアルカ
リ性水溶液を用いて、第1の感光性樹脂20であるドラ
イフィルムを溶解除去する。このとき基板10や、高分
子膜12や、第1の熱電体41はアルカリ性溶液に不溶
のためそのまま残る。
【0033】つぎに図3に示すように、上記までの工程
で形成した第1の熱電体41を含む基板10の全面に、
第2の感光性樹脂30として珪皮酸系のフォトレジスト
を、スピンコーターを用いて平坦に塗布する。この第2
の感光性樹脂30の膜厚は第1の感光性樹脂20の膜厚
の約2倍、ここでは100μmの厚さに形成する。
【0034】この第2の感光性樹脂30の膜厚は後述の
第2の熱電材料のメッキの工程で、メッキ形成した熱電
体同士が短絡しないように充分厚く設定している。第2
の感光性樹脂30が一度でこの膜厚にならない場合は、
コーティング工程を複数回繰り返すことで形成する。
【0035】その後、第2の感光性樹脂30は、第1の
感光性樹脂20と同様に、フォトリソグラフィー技術を
用いて、パターン形状が規則正しく並ぶようにパターニ
ングして、第2のパターン31を有する第2の感光性樹
脂30を形成する。第2のパターン31の平面形状は、
図9に示すように、開口部がL字形状を有するように形
成する。
【0036】この第2のパターン31の開口部パターン
形状は、L字の縦棒については幅寸法を150μmで、
長さを1cmとし、L字の横棒については幅を50μm
で、長さを350μmとする。またこのL字形状の行方
向のピッチ寸法は400μmとし、第2のパターン31
の非開口部の幅が50μmになるように形成する。
【0037】とくにこの第2の感光性樹脂30は、図9
に示すように、第1の熱電体41のL字形状の一部が接
合部43として外に露出するような開口部形状に形成す
る。この第1の熱電体41上の接合部43は、つぎの第
2の熱電体42をメッキする工程で、第2の熱電体42
が第1の熱電体41と電気的に接合するようにして形成
する役割をもつ。
【0038】このため一枚の基板に限っては、基板上の
熱電体同士の配線工程は、メッキ工程と同時に行うこと
ができ、熱電発電素子の形成のための配線工程をきわめ
て簡略化できる。この配線工程を簡略化は、熱電発電素
子の高密度集積するうえできわめて重要である。
【0039】つぎに図4に示すように、第2のパターン
31を有する第2の感光性樹脂30の開口部内にメッキ
法により、第2の熱電材料からなる第2の熱電体42を
形成する。第2の熱電材料にはp型半導体であるBiT
eSb合金を用いる。
【0040】BiTeSb合金材料のメッキ電解液とし
ては、Bi(NO3 )とTeO2 とSbCl3 を含む硝
酸溶液を用いる。電極膜11をカソードとし、アノード
にはPt電極を用いて両電極間に約1Vの電圧を印加す
るとBiTeSb合金が電極膜11上に析出する。
【0041】このときも、基板10裏面は高分子膜12
により保護している。このため、第2の熱電体42は第
2の感光性樹脂30の開口部内にのみ析出する。そし
て、第2の熱電体42の膜厚は第1の熱電体41と同じ
膜厚の、膜厚50μmになるよう反応電荷量で制御す
る。
【0042】この第2の熱電体42の形成の際には、電
極膜11と第1の熱電体41上の接合部43をメッキ電
極として利用している。したがって、第2の熱電体42
は接合部43上にも形成されるため、第1の熱電体41
と第2の熱電体42とは接合部43上で電気的に接続す
ることとなる。しかもメッキという手法を利用している
ため、溶接などのように一方の材料の中に他方の材料が
侵入して熱電特性を下げるということがほとんどないた
め、熱電材料としての特性を落とすことなく第1の熱電
体41と第2の熱電体42とを接合して形成することが
可能である。
【0043】また、電解液中のBi、Te、Sbのイオ
ン濃度を変えることで合金の組成を変化させることがで
き、これらの条件設定によって必要な出力電圧あるいは
抵抗値を有するように制御する。
【0044】なお第2の熱電体42は、接合部43にお
いて他の部分に比らべ盛り上げて形成するので、この盛
り上がり量が多すぎる場合、隣接するパターンの間で短
絡してしまう可能性がある。しかしここでは第2の感光
性樹脂30の膜厚は、第1の熱電体41と第2の熱電体
42の膜厚の合計厚さと同じに選んであるため、接合部
43における盛り上がり高さは第2の感光性樹脂30の
膜厚を大きく上回ることはなく、第2の熱電体42が隣
接パターン間で短絡することはない。
【0045】つぎに図5に示すように、第2の熱電体4
2の上面に、均一な厚さを有するアクリル樹脂からなる
絶縁体50を、接合剤45であるエポキシ系接着剤で接
着する。このアクリル樹脂からなる絶縁体50は、第1
の熱電体41と第2の熱電体42とが電気的に接触せず
に、熱電発電素子全体に機械的強度をあたえる役目をす
る。ここでは絶縁体50の厚さは25μmとする。
【0046】またエポキシ系接着剤である接合剤45も
絶縁体50と同様に、第1の熱電体41と第2の熱電体
42とが電気的に接触せずに、熱電発電素子全体に機械
的強度をあたえる役目をする。
【0047】つぎに図示はしないが絶縁体50を接着し
た後、基板10裏面の高分子膜12をトルエンによって
剥離除去する。その後、絶縁体50を接着した基板全体
を温度350℃の窒素雰囲気中において1時間熱処理す
る。この窒素雰囲気中の熱処理は、第1の熱電体41と
第2の熱電体42との合金組成を均一化するためであ
り、熱電発電素子の出力の向上につながる。
【0048】ここでの窒素雰囲気中の熱処理は高温であ
るが、第1の感光性樹脂20と第2の感光性樹脂30の
パターニング処理のときに、それぞれの感光性樹脂を充
分な光量で感光処理しておけば、感光性樹脂に生じる熱
収縮などの変形はわずかであり、実用上問題とならな
い。
【0049】そして全体を硝酸溶液中に浸漬し基板10
の銅をすべて溶解した後、さらにフッ酸溶液を用いて電
極膜11であるチタンを溶解除去し、図6の構造を得
る。このとき第1の熱電体41や、第2の熱電体42や
接合材45や、第1の感光性樹脂20と第2の感光性樹
脂30は硝酸とフッ酸に不溶のためそのまま残る。以上
の処理工程により第1の熱電体41と第2の熱電体42
を含む熱電構造体40を形成することができる。
【0050】つぎに図7に示すように、複数の熱電構造
体40について、2枚の熱電構造体40を、絶縁材料で
あるアクリル樹脂からなる絶縁板55を間に介しなが
ら、基板10の除去面同士を向かい合わせて組をつく
り、エポキシ系接着剤を用いて接着する。ここでは絶縁
板55の厚さは絶縁体50の厚さの2倍である50μm
の板厚とする。さらにその2枚の熱電構造体の組を複数
用いて積層して、エポキシ系の接着剤等を用いて接着し
たのち、この積層した熱電構造体40を必要な寸法に切
断する。
【0051】この熱電構造体40の積層については、第
1の熱電体41と第2の熱電体42のパターンが、上下
の基板で交互に重なるようにして行う。またこの熱電構
造体40の切断の切断位置は、熱電体のL字あるいはL
字パターンの縦棒に沿って非開口部の中央で切断する。
このように異種の熱電体を交互に積層し切断すること
で、メッキした素子の無駄が省けるだけでなく、以下に
述べる素子の端の配線工程で、切断面に現れるメッキ層
断面を配線用の端子として利用することが可能となる。
【0052】ここでとくに以下に述べる素子の端部の配
線工程で、熱電構造体40の切断面におけるメッキ層断
面の粗さが問題になるようであれば、ラッピング法など
によって熱電構造体40の切断面、すなわちメッキ層断
面を研磨してもよい。
【0053】その後図10に示すように、熱電構造体4
0の側面に露出している第1の熱電体41あるいは第2
の熱電体42の同種の熱電材料からなる端部の間に、導
電性接着剤である素子端配線60を形成する。この素子
端配線60は熱電構造体40に含まれる熱電体の端同士
を接続することにより、すべての熱電対70を直列に接
続して熱電発電素子を得ることができる。
【0054】ここで図10に示すような本発明の第1の
実施形態のときは、素子端配線60の配線長は、第2の
感光性樹脂30の厚さの2倍に絶縁板55の厚さの加え
た長さでよい。とくに本発明の第1の実施形態の場合、
素子端配線60の配線長さは250μmである。さら
に、この素子端配線60の配線ピッチは、すべての部分
で300μmでよい。
【0055】この熱電構造体の露出面の配線には、同一
の熱電材料からなる端同士を選んでいるが、これは前述
の積層工程で正しく異種熱電体を近くに交互に配置でき
るように積層すると、端面に露出する熱電材料は同種に
なってしまうためであり、正しく熱電対とするのに問題
にはならない。以上に示す本発明の熱電発電素子の製造
方法における第1の実施形態では、2種類の熱電構造体
だけを利用することにより、集積密度の高い熱電発電素
子を製造することが可能である。
【0056】つぎに本発明の熱電発電素子の製造方法に
おける第2の実施形態について、図12〜図22を用い
て説明する。図12〜図19は本発明の第2の実施形態
による熱電発電素子の製造方法を示す要部断面図であ
る。また図20〜図21は本発明の第2の実施形態によ
る熱電発電素子の製造方法を示す平面図である。そして
図22は本発明の第2の実施形態による熱電発電素子の
製造方法で製造する熱電発電素子を示す斜視図である。
【0057】まずはじめに第1の実施形態の熱電構造体
の製造方法と同様の工程を行うことにより、第2の実施
形態における熱電発電素子の製造方法のうちの第1の熱
電構造体100を製造する。この第1の熱電構造体10
0の断面図を図12に示す。ただし図12に示すよう
に、この本発明の第2の実施形態における第1の熱電構
造体100の製造で用いる絶縁体50の厚さは50μm
であるとする。
【0058】本発明の第2の実施形態が、第1の実施形
態ととくに異なるのは、第2の熱電構造体110の製造
方法とそれ以降の積層化処理工程である。
【0059】図13に示すように基板10に銅板を用
い、チタン(Ti)を膜厚500nm真空蒸着法により
形成し、電極膜11を形成する。この電極膜11である
チタン膜は、後述するメッキ工程におけるメッキ電極で
あると同時に、メッキ液に基板10である銅板が侵され
ないよう保護する役目をもつ。
【0060】そして電極膜10上には第3の感光性樹脂
80として膜厚50μmの感光性ドライフィルムレジス
トをロールコーターを用いて形成する。ドライフィルム
はフォトマスクを用いて光を照射し感光させ、未露光部
のみを溶解除去するといういわゆるフォトリソグラフィ
ーの技術を用いて、図13のようにパターン形状が規則
正しく並ぶようにパターニングして第3のパターン81
を有する第3の感光性樹脂80を形成する。
【0061】第3のパターン81を有する第3の感光性
樹脂80は、電極膜11の表面上に開口部、すなわちフ
ォトリソグラフィー技術によって溶解処理された部分
と、溶解処理されない非開口部とを形成する。ここでは
第3のパターン81は、図20に示すように開口部がL
字形状を有するように形成する。
【0062】この第3のパターン81の開口部パターン
形状は、L字の縦棒については幅寸法を150μmで、
長さを1cmとし、またL字の横棒については幅を50
μmで、長さを350μmとする。とくに図13で示す
断面形状は、第3のパターン81のL字の上端部、すな
わち図20の上部での断面形状に対応している。またL
字形状の行方向のピッチは400μmとし、第3のパタ
ーン81の非開口部の幅が50μmになるように形成す
る。
【0063】また図13に示すように、第3の感光性樹
脂80を形成した後、基板10の裏面にはテフロン系の
高分子膜12をスピンコーティング法を用いて全面に形
成しておく。この基板10の裏面のテフロン系の高分子
膜12は、後の工程でメッキ膜が裏面に形成されるのを
防ぐためである。
【0064】続いて図14に示すように、第3の感光性
樹脂80の開口部内にメッキ法により第3の熱電材料か
らなる第3の熱電体111を形成する。この第3の熱電
材料としては、n型半導体であるBiTeSe合金を材
料として用いる。すなわち第3の熱電材料は第1の熱電
材料と同じものである。
【0065】BiTeSe合金の材料メッキ電解液とし
ては、Bi(NO3 )とTeO2 とSeO2 を含む硝酸
溶液を用いている。電極膜11をカソードとし、アノー
ドにはPt電極を用いて両電極間に約1Vの電圧を印加
するとBiTeSe合金が電極膜11上に析出する。こ
のとき、基板10裏面は高分子膜12により保護してい
る。このため、第3の感光性樹脂80の開口部内にだけ
第3の熱電体111が析出する。
【0066】メッキ法においては、析出量は電解時の消
費電流から計算される電荷量で決まるため、電荷量の測
定によって必要な厚さに制限することは容易である。こ
こでは、第3の熱電体111の膜厚は、あらかじめコー
ティングしてある第3の感光性樹脂80と同じ膜厚、つ
まり膜厚50μmになるよう設定する。また電解液中の
Bi、Te、Seのイオン濃度を変えることで合金の組
成は変化させることができ、これらの条件設定によって
必要な出力電圧あるいは抵抗値を有する材料が選択でき
る。
【0067】その後、水酸化ナトリウムなどのアルカリ
性水溶液を用いて第3の感光性樹脂80であるドライフ
ィルムを溶解除去する。このとき基板10や、高分子膜
12や、第3の熱電体111はアルカリ性溶液に不溶の
ためそのまま残る。
【0068】つぎに上記までの工程で形成した、第3の
熱電体111を含む基板10上の全面に、第4の感光性
樹脂90として珪皮酸系のフォトレジストを、スピンコ
ーターを用いて平坦に塗布する。この第4の感光性樹脂
90の膜厚は、第3の感光性樹脂80の膜厚の約2倍、
ここでは100μmの厚さに形成する。この膜厚は後述
の第4の熱電材料のメッキの工程で、メッキ形成した熱
電体同士が短絡しないように充分厚く設定している。と
くに第4の感光性樹脂90が一度でこの膜厚にならない
場合は、コーティング工程を複数回繰り返すことで形成
する。
【0069】第4の感光性樹脂90は、図15に示すよ
うに、フォトリソグラフィー技術を用いて、パターン形
状が規則正しく並ぶようにパターニングして、第4のパ
ターン91を有する第4の感光性樹脂90を形成する。
ここでは第4のパターン91の平面形状は、図21に示
すように開口部がL字形状を有するように形成する。
【0070】この第4のパターン91の開口部パターン
形状は、L字の縦棒については幅を150μmで、長さ
を1cmとし、またL字の横棒については幅を50μm
で、長さを350μmとする。またこのL字形状の行方
向のピッチ寸法は400μmとし、第4のパターン91
の非開口部の幅が50μmになるように形成する。
【0071】とくにこの第4の感光性樹脂90は、図2
1に示すように第3の熱電体111のL字形状の一部が
接合部43として外に露出するような開口部形状にして
形成する。この第3の熱電体111上の接合部43は、
つぎの第4の熱電体112をメッキする工程で、第4の
熱電体112が第3の熱電体111と電気的に接合する
ようにして形成する役割をもつ。
【0072】このため一枚の基板に限っては、基板上の
熱電体同士の配線工程は、メッキ工程と同時に行うこと
ができ、熱電発電素子の形成のための配線工程をきわめ
て簡略化できる。この配線工程を簡略化は、熱電発電素
子の高密度集積するうえできわめて重要である。
【0073】つぎに図16に示すように、第4のパター
ン91の第4の感光性樹脂90の開口部にメッキ法によ
り第4の熱電材料からなる第4の熱電体112を形成す
る。第4の熱電材料には、p型半導体であるBiTeS
b合金を材料として用いる。すなわち第4の熱電材料は
第2の熱電材料とおなじものを使用する。
【0074】BiTeSb合金材料のメッキ電解液とし
ては、Bi(NO3 )とTeO2 とSbCl3 を含む硝
酸溶液を用いる。電極膜11をカソードとし、アノード
にはPt電極を用いて両電極間に約1Vの電圧を印加す
るとBiTeSb合金が電極膜11上に析出する。この
ときも、基板10裏面は高分子膜12により保護してい
る。このため、第4の熱電体112は第4の感光性樹脂
90の開口部内にのみ析出する。そして第4の熱電体1
12の膜厚は第3の熱電体111と同じ膜厚の膜厚50
μmになるよう反応電荷量で制御する。
【0075】この第4の熱電体112の形成のときに
は、電極膜11と第3の熱電体111上の接合部43を
メッキ電極として用いる。したがって、第4の熱電体1
12は接合部43上にも形成されるため、第3の熱電体
111と第4の熱電体112とは接合部43上で電気的
に接続することとなる。
【0076】しかもメッキという手法を利用しているた
め、溶接などのように一方の材料の中に他方の材料が侵
入して熱電特性を下げてしまうということがほとんどな
いため、熱電材料としての特性を落とすことなく2種類
の材料を接合し、形成することが可能である。また電解
液中のBi、Te、Sbのイオン濃度を変えることで合
金の組成を変化させることができ、これらの条件設定に
よって必要な出力電圧あるいは抵抗値を有するように制
御する。
【0077】なお第4の熱電体42は、接合部43にお
いて他の部分に比らべ盛り上げて形成するので、この盛
り上がり量が多すぎる場合、隣接するパターンの間で短
絡してしまう可能性がある。しかしここでは第4の感光
性樹脂90の膜厚は、第3の熱電体111と第4の熱電
体112の膜厚の合計厚さと同じに選んであるため、接
合部43における盛り上がり高さは第4の感光性樹脂9
0の膜厚を大きく上回ることはなく、第4の熱電体11
2が隣接パターン間で短絡することはない。
【0078】つぎに図17に示すように、第4の熱電体
112の上面にアクリル樹脂からなる平坦な板状の絶縁
体50を接合剤45であるエポキシ系接着剤で接着す
る。このアクリル樹脂からなる絶縁体50は、第1の熱
電体41と第2の熱電体42とが電気的に接触せずに、
熱電発電素子全体に機械的強度をあたえる役目をする。
ここでは絶縁体50の厚さは50μmとする。
【0079】またエポキシ系接着剤である接合剤45も
絶縁体50と同様に、第3の熱電体111と第4の熱電
体112とが電気的に接触せずに、熱電発電素子全体に
機械的強度をあたえる役目をする。
【0080】つぎに図示はしないが絶縁体50を接着し
た後、基板10裏面の高分子膜12はトルエンによって
剥離除去する。そして、絶縁体50を接着した基板全体
を温度350℃の窒素雰囲気中において1時間熱処理す
る。この窒素雰囲気中の熱処理は第3の熱電体111と
第4の熱電体112の合金組成を均一化するためであ
り、熱電発電素子の出力の向上につながる。
【0081】この窒素雰囲気中の熱処理は高温である
が、第3の感光性樹脂80と第4の感光性樹脂90のパ
ターニング処理のときに、それぞれの感光性樹脂を充分
な光量で感光処理しておけば、感光性樹脂に生じる熱収
縮などの変形はわずかであり、実用上問題とならない。
【0082】そして素子全体を硝酸溶液中に浸漬し基板
10の銅をすべて溶解した後、さらにフッ酸溶液を用い
て電極膜11であるチタンを溶解除去し、図18の構造
を得る。このとき第3の熱電体111や、第4の熱電体
112や、接合材45や、第3の感光性樹脂80と第4
の感光性樹脂90は硝酸とフッ酸に不溶のためそのまま
残る。以上の方法により第3の熱電体111と第3の熱
電体112を含む第2の熱電構造体110を形成する。
【0083】つぎに図19に示すように、複数の第1の
熱電構造体100と第2の熱電構造体110を交互に積
層して、エポキシ系の接着剤を用いて接着する。そのの
ち、この第1の熱電構造体100と第2の熱電構造体1
10の積層板を必要な寸法に切断する。この第1の熱電
構造体100と第2の熱電構造体110の積層板につい
ては、第3の熱電体111と第4の熱電体112のパタ
ーンのそれぞれの縦棒が、上下の基板で交互に重なるよ
うにして行う。
【0084】またこの第1の熱電構造体100と第2の
熱電構造体110の積層板の切断際の切断位置について
は、熱電体のL字あるいはL字パターンの縦棒に沿っ
て、非開口部の中央で切断する。
【0085】このように熱電構造体を交互に積層し切断
することにより、メッキした素子の無駄が省けるだけで
なく、以下に述べる素子の端の配線工程で、切断面に現
れるメッキ層断面を配線用の端子として利用することが
可能となる。ここでとくに、以下に述べる素子の端の配
線工程で、第1の熱電構造体100と第2の熱電構造体
110の積層板の切断面におけるメッキ層断面の粗さが
問題になるようであれば、ラッピング法によって第1の
熱電構造体100と第2の熱電構造体110の積層板の
切断面、すなわちメッキ層断面を研磨してもよい。
【0086】こうした後に図20に示すように、第1の
熱電構造体100あるいは第2の熱電構造体110の側
面に露出している第3の熱電体111あるいは第4の熱
電体112の、同種の熱電材料からなる端同士の間に、
導電性接着剤である素子端配線60を形成する。この素
子端配線60は第1の熱電構造体100と第2の熱電構
造体110に含まれる熱電体の端同士を接続することで
すべての熱電対70を直列に接続し、熱電発電素子を得
ることができる。
【0087】ここで図20に示すような本発明における
第2の実施形態のときは、素子端配線60の配線長は、
第4の感光性樹脂90の厚さの2倍に絶縁体50の厚さ
の加えた長さでよい。とくに本発明の実施形態の場合、
素子端配線60の配線長さは250μmである。また本
発明の実施形態の場合、この素子端配線60の配線ピッ
チは、すべての部分で300μmでよい。
【0088】この熱電構造体の露出面の配線には、同一
の熱電材料からなる端同士を選んでいるが、これは前述
の積層工程で正しく異種熱電体を近くに交互に配置でき
るように積層すると、端面に露出する熱電材料は同種に
なってしまうためであり、正しく熱電対とするのに問題
にはならない。
【0089】本発明の第2の実施形態における熱電発電
素子の製造方法は、本発明の第1の実施形態と同等の集
積密度を有する熱電発電素子が得られるうえに、製造の
際に熱電構造体を同一方向に積層すればよく、製造の効
率をより向上することができる。
【0090】以上に説明した熱電発電素子の製造方法に
おいて、第1の感光性樹脂20と第2の感光性樹脂30
はミクロンオーダーの精度でパターニングが可能であ
る。そしてこれらの感光性樹脂に沿ってメッキ形成する
熱電体も同様に、ミクロンオーダーの精度で形成でき
る。これは、従来の機械加工法やスクリーン印刷で塗布
する厚膜に比らべ非常に高精度である。さらにまたメッ
キ法で形成する熱電体は厚さのコントロール、あるいは
組成のコントロールが容易であり、原材料を溶解するだ
けの前処理は従来に比較して簡単である。
【0091】さらに以上に説明した熱電発電素子の製造
方法においては、フォトリソグラフィー工程と、メッキ
工程と、真空蒸着工程あるいはエッチング工程からな
り、すべてバッチ処理が可能のため、一度に複数の素子
が形成可能であるという利点も有する。
【0092】上記説明の方法で製造する素子は、前述の
ようにそれぞれの熱電体の幅寸法が150μm、スペー
ス寸法が50μmとなる。このとき、絶縁体50まで含
めた厚さは150μmである。基板10の幅寸法を1c
m、重ね合わせた全体の厚さを7.5cmとすると、含
まれる熱電対70の数は2500対となる。この素子に
2℃の温度差を与えると、出力として約2Vの開放電圧
が得られ、腕時計に代表される携帯用電子機器の駆動に
は充分な出力電圧である。この熱電発電素子の長さを2
mmとすると、内部インピーダンスは約13kΩとなり
電子機器用としては充分対応可能なオーダーであること
が分かる。
【0093】以上の実施形態において基板10の材料と
しては銅板を用いているが、熱電材料あるいはドライフ
ィルムあるいはポリイミドを侵さないエッチャントで溶
解できるものであれば使用可能である。たとえば金属材
料であれば、鉄板、ニッケル板、亜鉛板、アルミニウム
板、チタン板、真鍮板なども考えられる。さらには、ガ
ラス板、アルミナやセラミックも基板10として使用可
能である。
【0094】基板10上に蒸着したチタン膜もメッキ液
に溶解しない材料であれば他の金属膜に変えることも可
能である。たとえば、金(Au)膜や、白金(Pt)膜
や、Pd膜や、Ta膜などはチタン膜の代替として有効
である。
【0095】さらに本発明の熱電発電素子における第1
の実施形態と第2の実施形態では、メッキ電極としてチ
タンを蒸着して用いたが、メッキ液に溶解せず、なおか
つ電極の電位が安定するような平坦な導電性材料であれ
ば、基板と電極とを兼用可能である。たとえば平坦なチ
タン板などは基板と電極とを兼ねるのに充分である。
【0096】また素子端配線60の形成方法も、印刷法
や、あるいは別途板状材料の表面に電極をパターン化し
たものをはり付ける方法なども用いることができる。
【0097】また、本発明の実施形態においては第1の
熱電材料をメッキする場合のフレーム材料には感光性の
ドライフィルムを用いているが、その他に感光性ポリイ
ミドなども用いることができる。さらにメッキ膜の厚さ
が10μm程度であれば、ゴム系フォトレジストあるい
は珪皮酸系のフォトレジストなども使用可能である。
【0098】また同様に第2の熱電材料をメッキする場
合のフレーム材料には珪皮酸系フォトレジストを用いて
いるが、凹凸のある面に対しても平坦にコーティング可
能な感光性樹脂材料であれば第2の感光性樹脂30とし
て利用することができる。
【0099】さらに絶縁体50や絶縁板55として、以
上説明したアクリル樹脂の他であっても、電気的に絶縁
で、しかも熱伝導度が低く、熱電対に発生した温度差を
維持しやすい材料であれば使用することが可能である。
たとえばエポキシ樹脂などは絶縁体50あるいは絶縁板
55として用いることができる。
【0100】そのうえにまた、接合材45はエポキシ系
としたが、耐熱性や耐酸性を有し、研磨などの機械加工
に耐えうる充分な接着強度をもつ接着剤であれば何を用
いてもよい。
【0101】さらに以上の実施形態の説明では、熱電材
料としては実施形態ではBiTe系の材料を用いたが、
メッキにより作成可能な材料であればいずれも使用可能
である。
【0102】
【発明の効果】以上の実施形態の説明より明らかなよう
に、本発明の製造方法によれば、フォトリソグラフィー
と熱電材料のメッキ形成という方法を組み合わせるとい
う新しい製造方法で、狭い領域に微細な熱電対を多数形
成することが可能となり、温度差2℃で開放電圧約2V
という携帯用電子機器の動作に充分な出力を得ることが
できる。
【0103】この本発明の製造方法では、フォトリソグ
ラフィー技術を用いているためパターン精度はミクロン
オーダーで制御可能であり、膜厚もメッキ電荷量で良好
に制御可能である。また組成のコントロールも行うこと
ができ、従来以上の集積密度と出力密度をもつ熱電発電
素子を容易に形成することが可能である。
【0104】しかも本発明の熱電発電素子の製造方法に
よれば、熱電構造体内の熱電体はメッキ時に形成しつ
つ、同時に配線をも行うことができ、熱電構造体の端の
配線という簡単な配線工程だけで容易に熱電体の直列配
線をすべて行うことが可能となり、製造効率を大幅に向
上することが可能である。
【0105】この本発明の製造方法で熱電発電素子を微
小化することで、従来実用化できなかった腕時計などの
携帯用電子機器へ温度差発電を利用できるようになる。
さらにこの熱電発電素子の製造方法は温度差発電のみな
らず、小型の熱電冷却あるいは熱電加熱装置の製造方法
として応用ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態の熱電発電素子の製造
方法を示す断面図である。
【図2】本発明の第1の実施形態の熱電発電素子の製造
方法を示す断面図である。
【図3】本発明の第1の実施形態の熱電発電素子の製造
方法を示す断面図である。
【図4】本発明の第1の実施形態の熱電発電素子の製造
方法を示す断面図である。
【図5】本発明の第1の実施形態の熱電発電素子の製造
方法を示す断面図である。
【図6】本発明の第1の実施形態の熱電発電素子の製造
方法を示す断面図である。
【図7】本発明の第1の実施形態の熱電発電素子の製造
方法を示す断面図である。
【図8】本発明の第1の実施形態の熱電発電素子の製造
方法を示す平面図である。
【図9】本発明の第1の実施形態の熱電発電素子の製造
方法を示す平面図である。
【図10】本発明の第1の実施形態の熱電発電素子の製
造方法により形成する熱電発電素子を示す斜視図であ
る。
【図11】一般的な熱電発電素子の立体構造を示す斜視
図である。
【図12】本発明の第2の実施形態の熱電発電素子の製
造方法を示す断面図である。
【図13】本発明の第2の実施形態の熱電発電素子の製
造方法を示す断面図である。
【図14】本発明の第2の実施形態の熱電発電素子の製
造方法を示す断面図である。
【図15】本発明の第2の実施形態の熱電発電素子の製
造方法を示す断面図である。
【図16】本発明の第2の実施形態の熱電発電素子の製
造方法を示す断面図である。
【図17】本発明の第2の実施形態の熱電発電素子の製
造方法を示す断面図である。
【図18】本発明の第2の実施形態の熱電発電素子の製
造方法を示す断面図である。
【図19】本発明の第2の実施形態の熱電発電素子の製
造方法を示す断面図である。
【図20】本発明の第2の実施形態の熱電発電素子の製
造方法の平面図である。
【図21】本発明の第2の実施形態の熱電発電素子の製
造方法の平面図である。
【図22】本発明の第2の実施形態の熱電発電素子の製
造方法により形成する熱電発電素子を示す斜視図であ
る。
【符号の説明】
10 基板 11 電極膜 12 高分子膜 40 熱電構造体 41 第1の熱電体 42 第2の熱電体

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に金属材料からなる電極膜を形成
    する工程と、第1のパターンを有する第1の感光性樹脂
    を形成する工程と、電極膜を用いて第1の感光性樹脂の
    開口部に第1の熱電材料からなる第1の熱電体をメッキ
    法により形成する工程と、第1の感光性樹脂を除去する
    工程と、 第1の熱電体上に第1の熱電体の各両端が露出する第2
    のパターンを有する第2の感光性樹脂を形成する工程
    と、電極膜と第1の熱電体を用いて第2の感光性樹脂の
    開口部に第2の熱電材料からなる第2の熱電体をメッキ
    法により形成する工程と、第2の感光性樹脂の上面に絶
    縁材料からなる絶縁体を形成する工程と、基板と電極膜
    を溶解し除去する工程とから熱電構造体を形成し、複数
    の熱電構造体を絶縁材料を介して重ねて貼り合わせ、さ
    らに所定の長さに切断した後、近接する熱電構造体の端
    を素子端配線を用いて交互につなぎ合わせることにより
    直列に接続する複数の熱電対を形成することを特徴とす
    る熱電発電素子の製造方法。
  2. 【請求項2】 電気伝導性の基板上に第1のパターンを
    有する第1の感光性樹脂を形成する工程と、基板を用い
    て第1の感光性樹脂の開口部に第1の熱電材料からなる
    第1の熱電体をメッキ法により形成する工程と、第1の
    感光性樹脂を除去する工程と、 第1の熱電体上に第1の熱電体の各両端が露出する第2
    のパターンを有する第2の感光性樹脂を形成する工程
    と、基板と第1の熱電体を用いて第2の感光性樹脂の開
    口部に第2の熱電材料からなる第2の熱電体をメッキ法
    により形成する工程と、第2の感光性樹脂の上面に絶縁
    材料からなる絶縁体を形成する工程と、基板を溶解し除
    去する工程とから熱電構造体を形成し、複数の熱電構造
    体を絶縁材料を介して重ねて貼り合わせ、さらに所定の
    長さに切断した後、近接する熱電構造体の端を素子端配
    線を用いて交互につなぎ合わせることにより直列に接続
    する複数の熱電対を形成することを特徴とする熱電発電
    素子の製造方法。
  3. 【請求項3】 基板上に金属材料からなる電極膜を形成
    する工程と、第1のパターンを有する第1の感光性樹脂
    を形成する工程と、電極膜を用いて第1の感光性樹脂の
    開口部に第1の熱電材料からなる第1の熱電体をメッキ
    法により形成する工程と、第1の感光性樹脂を除去する
    工程と、 第1の熱電体上に第1の熱電体の各両端が露出する第2
    のパターンを有する第2の感光性樹脂を形成する工程
    と、電極膜と第1の熱電体を用いて第2の感光性樹脂の
    開口部に第2の熱電材料からなる第2の熱電体をメッキ
    法により形成する工程と、第2の感光性樹脂の上面に絶
    縁材料からなる絶縁体を形成する工程と、基板と電極膜
    を溶解し除去する工程とから第1の熱電構造体を形成
    し、基板上に金属材料からなる電極膜を形成する工程
    と、第3のパターンを有する第3の感光性樹脂を形成す
    る工程と、電極膜を用いて第3の感光性樹脂の開口部に
    第3の熱電材料からなる第3の熱電体をメッキ法により
    形成する工程と、第3の感光性樹脂を除去する工程と、 第3の熱電体上に第3の熱電体の各両端が露出する第4
    のパターンを有する第4の感光性樹脂を形成する工程
    と、電極膜と第3の熱電体を用いて第4の感光性樹脂の
    開口部に第4の熱電材料からなる第4の熱電体をメッキ
    法により形成する工程と、第4の感光性樹脂の上面に絶
    縁材料からなる絶縁体を形成する工程と、基板と電極膜
    を溶解し除去する工程とから第2の熱電構造体を形成
    し、複数の第1の熱電構造体と第2の熱電構造体とを交
    互に重ねて貼り合わせ、さらに所定の長さに切断した
    後、近接する熱電構造体の端を素子端配線を用いて交互
    につなぎ合わせることにより直列に接続する複数の熱電
    対を形成することを特徴とする熱電発電素子の製造方
    法。
  4. 【請求項4】 電気伝導性の基板上に第1のパターンを
    有する第1の感光性樹脂を形成する工程と、基板を用い
    て第1の感光性樹脂の開口部に第1の熱電材料からなる
    第1の熱電体をメッキ法により形成する工程と、第1の
    感光性樹脂を除去する工程と、 第1の熱電体上に第1の熱電体の両端が露出する第2の
    パターンを有する第2の感光性樹脂を形成する工程と、
    基板と第1の熱電体を用いて第2の感光性樹脂の開口部
    に第2の熱電材料からなる第2の熱電体をメッキ法によ
    り形成する工程と、第2の感光性樹脂の上面に絶縁材料
    からなる絶縁体を形成する工程と、基板を溶解し除去す
    る工程とから第1の熱電構造体を形成し、電気伝導性の
    基板上に第3のパターンを有する第3の感光性樹脂を形
    成する工程と、基板を用いて第3の感光性樹脂の開口部
    に第3の熱電材料からなる第3の熱電体をメッキ法によ
    り形成する工程と、第3の感光性樹脂を除去する工程
    と、 第3の熱電体上に第3の熱電体の両端が露出する第4の
    パターンを有する第4の感光性樹脂を形成する工程と、
    基板と第3の熱電体を用いて第4の感光性樹脂の開口部
    に第4の熱電材料からなる第4の熱電体をメッキ法によ
    り形成する工程と、第4の感光性樹脂の上面に絶縁材料
    からなる絶縁体を形成する工程と、基板を溶解し除去す
    る工程とから第2の熱電構造体を形成し、複数の第1の
    熱電構造体と第2の熱電構造体とを交互に重ねて貼り合
    わせ、さらに所定の長さに切断した後、近接する熱電構
    造体の端を素子端配線を用いて交互につなぎ合わせるこ
    とにより直列に接続する複数の熱電対を形成することを
    特徴とする熱電発電素子の製造方法。
  5. 【請求項5】 第1のパターンと第4のパターンとは同
    一パターンであり、さらに第2のパターンと第3のパタ
    ーンとは同一パターンであることを特徴とする請求項3
    あるいは請求項4に記載の熱電発電素子の製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130005105A (ko) * 2011-07-05 2013-01-15 엘지이노텍 주식회사 나노 열전분말 및 이를 이용한 열전소자
JP2017050400A (ja) * 2015-09-02 2017-03-09 学校法人神奈川大学 フレキシブル熱電変換部材の作製方法
JP2017076720A (ja) * 2015-10-15 2017-04-20 国立研究開発法人産業技術総合研究所 熱電変換モジュールの作製方法
JP2017212245A (ja) * 2016-05-23 2017-11-30 学校法人神奈川大学 フレキシブル熱電変換部材の作製方法

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