JPH09189965A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
- Publication number
- JPH09189965A JPH09189965A JP8019382A JP1938296A JPH09189965A JP H09189965 A JPH09189965 A JP H09189965A JP 8019382 A JP8019382 A JP 8019382A JP 1938296 A JP1938296 A JP 1938296A JP H09189965 A JPH09189965 A JP H09189965A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diaphragm
- projection exposure
- exposure apparatus
- diaphragms
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70508—Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/7025—Size or form of projection system aperture, e.g. aperture stops, diaphragms or pupil obscuration; Control thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 通常照明用の絞りと変形照明用の絞りとの切
換を外部操作によって迅速に行うことによって高スルー
プットの投影露光装置を得ること。 【解決手段】 通常照明用の絞りと変形照明用の絞りを
基板上に配置し、この基板を外部より駆動制御すること
によって絞りの交換を迅速に行うことによって高スルー
プットの投影露光装置を得たこと。
換を外部操作によって迅速に行うことによって高スルー
プットの投影露光装置を得ること。 【解決手段】 通常照明用の絞りと変形照明用の絞りを
基板上に配置し、この基板を外部より駆動制御すること
によって絞りの交換を迅速に行うことによって高スルー
プットの投影露光装置を得たこと。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光源からの光によっ
て照明されている原画の像を結像光学系によって、被露
光体上に形成する投影露光装置、更に詳しくは半導体デ
ィバイスや撮像エレメント等の回路パターンが描かれた
マスク、レチクルの像を半導体ウエハー上に形成する投
影露光装置に関する。
て照明されている原画の像を結像光学系によって、被露
光体上に形成する投影露光装置、更に詳しくは半導体デ
ィバイスや撮像エレメント等の回路パターンが描かれた
マスク、レチクルの像を半導体ウエハー上に形成する投
影露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体素子、ＬＳＩ素子、超ＬＳ
Ｉ素子等のパターンの微細化、高集積化の要求により高
い解像力を有する投影露光装置が望まれている。この種
の装置を得るための手法として、いわゆる変形照明法、
若しくは斜め入射照明法と呼ばれる原画照明法が注目さ
れている。
Ｉ素子等のパターンの微細化、高集積化の要求により高
い解像力を有する投影露光装置が望まれている。この種
の装置を得るための手法として、いわゆる変形照明法、
若しくは斜め入射照明法と呼ばれる原画照明法が注目さ
れている。
【０００３】この変形照明法の原理については日経マイ
クロディバイスの１９９２年４月号の第３０頁〜第３７
頁、又は月刊Semiconductor Worldの１９９２年１０月
号の第３６頁〜第３７頁に説明されているので省略す
る。
クロディバイスの１９９２年４月号の第３０頁〜第３７
頁、又は月刊Semiconductor Worldの１９９２年１０月
号の第３６頁〜第３７頁に説明されているので省略す
る。
【０００４】この変形照明法を行うためにはレチクル等
の原画を照明する光源の光量分布を変形させることによ
って行なわれている。すなわち、従来の照明法が原画面
に対して垂直（正）入射であったのに対して斜入射にす
ることによって行なわれている。
の原画を照明する光源の光量分布を変形させることによ
って行なわれている。すなわち、従来の照明法が原画面
に対して垂直（正）入射であったのに対して斜入射にす
ることによって行なわれている。
【０００５】このため、原画照明光学系の光路中に光源
の光量分布を変形させるための絞りを挿入することによ
って行っている。
の光量分布を変形させるための絞りを挿入することによ
って行っている。
【０００６】これらの変形照明用の絞りは原画に描かれ
たパターンに最適化するための種々の開口分布の絞りが
必要となる。
たパターンに最適化するための種々の開口分布の絞りが
必要となる。
【０００７】図３の（Ｂ）には変形照明用の絞りの代表
的なものとして、４重極の光源光量分布が得られる２種
の絞りを示している。又、図３の（Ａ）には通常の照明
法、すなわち垂直（正）入射用の光源光量分布が得られ
る２種の絞りが示されている。
的なものとして、４重極の光源光量分布が得られる２種
の絞りを示している。又、図３の（Ａ）には通常の照明
法、すなわち垂直（正）入射用の光源光量分布が得られ
る２種の絞りが示されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従来、これらの絞りは
原画を交換する毎に、投影露光装置の操作者がマニュア
ルで交換していた。これ等の作業は大変煩わしく、又レ
チクルの交換時間が平均１８秒かかるのに対して絞りの
交換は平均１０分かかり、このため時間当りの焼付け
量、すなわちスループットを低下させるという問題が有
った。
原画を交換する毎に、投影露光装置の操作者がマニュア
ルで交換していた。これ等の作業は大変煩わしく、又レ
チクルの交換時間が平均１８秒かかるのに対して絞りの
交換は平均１０分かかり、このため時間当りの焼付け
量、すなわちスループットを低下させるという問題が有
った。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を投影
露光装置の外部から駆動制御可能な基板上に複数種類の
絞りを設け、外部からの操作により基板を駆動制御して
所望の絞りを選定することによって解決した。
露光装置の外部から駆動制御可能な基板上に複数種類の
絞りを設け、外部からの操作により基板を駆動制御して
所望の絞りを選定することによって解決した。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態を図１，２を使
用して説明する。
用して説明する。
【００１１】図１は露光装置を示す図である。この露光
装置はクリーンルーム内の空気変動の影響を排除するた
めチャンバー内に設置されている。
装置はクリーンルーム内の空気変動の影響を排除するた
めチャンバー内に設置されている。
【００１２】１は超高圧水銀灯等の光源、２は楕円鏡、
３は折り曲げミラー、４は多数個のバーレンズの集光体
より成るオプテヵルインテグレーター、３は図２で説明
する第１絞り機構、６は機構５を駆動する第１駆動系、
７は第１コンデンサーレンズ、８は４枚の可動遮光板で
所定形状の矩形開口を定めるマスキングブレード、９、
１０はレンズ、１１は折り曲げミラー、１２はレチクル
（原画）、１３はレチクル１２を戴置するレチクルステ
ージ、１４は投影光学系、１５は第２絞り機構、１６は
機構１５を駆動する第２駆動系、１７は被露光体すなわ
ち、レジストが塗布された半導体ウエハー、１８はウエ
ハー１７を戴置する可動ウエハーステージ、１９は装置
本体を支持するマウント、２０は第１（信号）ケーブ
ル、２１はコンピューター、２２は第２（信号）ケーブ
ル、２３は第３（信号）ケーブル、２４はキーボード、
２５はキー（プッシュボタン）、９０は第２コンデンサ
ーレンズ、１０１は照明光学系を示す。尚、キーボード
２４は露光装置の外部、通常はチャンバーの外部に位置
している。
３は折り曲げミラー、４は多数個のバーレンズの集光体
より成るオプテヵルインテグレーター、３は図２で説明
する第１絞り機構、６は機構５を駆動する第１駆動系、
７は第１コンデンサーレンズ、８は４枚の可動遮光板で
所定形状の矩形開口を定めるマスキングブレード、９、
１０はレンズ、１１は折り曲げミラー、１２はレチクル
（原画）、１３はレチクル１２を戴置するレチクルステ
ージ、１４は投影光学系、１５は第２絞り機構、１６は
機構１５を駆動する第２駆動系、１７は被露光体すなわ
ち、レジストが塗布された半導体ウエハー、１８はウエ
ハー１７を戴置する可動ウエハーステージ、１９は装置
本体を支持するマウント、２０は第１（信号）ケーブ
ル、２１はコンピューター、２２は第２（信号）ケーブ
ル、２３は第３（信号）ケーブル、２４はキーボード、
２５はキー（プッシュボタン）、９０は第２コンデンサ
ーレンズ、１０１は照明光学系を示す。尚、キーボード
２４は露光装置の外部、通常はチャンバーの外部に位置
している。
【００１３】図２は第１絞り機構５を詳細にしたもの。
５０１は外周に不図示のギヤ歯が設けた円型基板、５１
１は通常の照明方法すなわち正入射照明法に使用する絞
り、５１２は銀塩カメラ等に使用されているのとほぼ同
様の構成の絞り羽根、５１２ａはアパチャ部、５１３は
絞り羽根を駆動するパルスモータ、５１４は円板５０１
の回転軸、この回転軸５１４とパルスモータ５１３の配
置位置は一致している。又モータ５１３の駆動ケーブル
は回転軸に沿って配設されている。
５０１は外周に不図示のギヤ歯が設けた円型基板、５１
１は通常の照明方法すなわち正入射照明法に使用する絞
り、５１２は銀塩カメラ等に使用されているのとほぼ同
様の構成の絞り羽根、５１２ａはアパチャ部、５１３は
絞り羽根を駆動するパルスモータ、５１４は円板５０１
の回転軸、この回転軸５１４とパルスモータ５１３の配
置位置は一致している。又モータ５１３の駆動ケーブル
は回転軸に沿って配設されている。
【００１４】５２０は第１の変形照明用絞りで枠５２２
に形成されており、この枠５２２は円板５０１より挿脱
できる。５２０ａ〜５２０ｄは絞り５２０に設けられた
窓で光の通過する部分、５２１ａ、５２１ｂは枠５２２
を円板５０１にしっかり係合する為の部材、５３０は第
２の変形照明用の絞り、５３０ａ〜５３０ｄは５３０に
設けられた窓で光の通過する部分、５４０は第３の変形
照明用の絞りで５４０ａ〜５４０ｄは５４０に設けられ
た窓で光の通過する部分である。
に形成されており、この枠５２２は円板５０１より挿脱
できる。５２０ａ〜５２０ｄは絞り５２０に設けられた
窓で光の通過する部分、５２１ａ、５２１ｂは枠５２２
を円板５０１にしっかり係合する為の部材、５３０は第
２の変形照明用の絞り、５３０ａ〜５３０ｄは５３０に
設けられた窓で光の通過する部分、５４０は第３の変形
照明用の絞りで５４０ａ〜５４０ｄは５４０に設けられ
た窓で光の通過する部分である。
【００１５】さて、図１において、光源１は、楕円鏡２
の第１焦点近傍に設けられ、オプティカルインテグレー
ター４は、その光入射面が楕円鏡２の第２焦点位置とほ
ぼ一致するように設けられている。従って、光源１から
射出した光は楕円鏡２で反射−集光され、更に折り曲げ
ミラー３で反射されて光路を折り曲げられ、オプティカ
ルインテグレーター４を成すバーレンズの集合体は、そ
こに入射した光を各バーレンズ毎に分割し、各バーレン
ズを通過した多数個の光束がオプティカルインテグレー
ター４から射出する。この多数個の光束は、第１絞り機
構５の開口部を通過し、第１コンデンサーレンズ７に入
射する。第１コンデンサーレンズ７は、この多数個の光
束をマスキングブレード８に向け、その光入射面上で互
いに重ね合わせる。
の第１焦点近傍に設けられ、オプティカルインテグレー
ター４は、その光入射面が楕円鏡２の第２焦点位置とほ
ぼ一致するように設けられている。従って、光源１から
射出した光は楕円鏡２で反射−集光され、更に折り曲げ
ミラー３で反射されて光路を折り曲げられ、オプティカ
ルインテグレーター４を成すバーレンズの集合体は、そ
こに入射した光を各バーレンズ毎に分割し、各バーレン
ズを通過した多数個の光束がオプティカルインテグレー
ター４から射出する。この多数個の光束は、第１絞り機
構５の開口部を通過し、第１コンデンサーレンズ７に入
射する。第１コンデンサーレンズ７は、この多数個の光
束をマスキングブレード８に向け、その光入射面上で互
いに重ね合わせる。
【００１６】マスキングブレード８の矩形開口部を通過
した光束は、レンズ９、折り曲げミラー１１、レンズ１
０を介して、レチクル１２を照明する。レンズ９とレン
ズ１０とを備える第２コンデンサーレンズ９０は、マス
キングブレード８の開口部の像をレチクル１２上に形成
し、この像により、レチクル１２上の照明範囲を規制し
ている。
した光束は、レンズ９、折り曲げミラー１１、レンズ１
０を介して、レチクル１２を照明する。レンズ９とレン
ズ１０とを備える第２コンデンサーレンズ９０は、マス
キングブレード８の開口部の像をレチクル１２上に形成
し、この像により、レチクル１２上の照明範囲を規制し
ている。
【００１７】また、オプティカルインテグレーター４と
第１コンデンサーレンズ７の作用により、マスキングブ
レード８の矩形開口部上での照度分布を均一にし、そし
て、レチクル１２上の回路パターン上での照度分布を均
一にしている。
第１コンデンサーレンズ７の作用により、マスキングブ
レード８の矩形開口部上での照度分布を均一にし、そし
て、レチクル１２上の回路パターン上での照度分布を均
一にしている。
【００１８】レチクル１２上の回路パターンのを通過し
た光は、投影光学系１４に入射し、投影光学系１４が、
この光を第２絞り機構１５の開口部を介してウエハー１
７上に向けて、この回路パターンの縮小像をウエハー１
７上に投影する。これによりウエハー１７上のレジスト
（感光層）が、この回路パターンの縮小像に応じ露光さ
れる。ここで、駆動系１６により第２絞り機構１５の開
口部の径を変化させることにより、投影光学系１４（縮
小投影レンズ系）のレチクルステージ１３側の開口数
（ＮＡ2 ）及びウエハーステージ１８側の開口数（ＮＡ
2 '）を変更せしめる。尚、第２絞り機構１５は縮小投影
レンズ系の所定のレンズの間に配置されている。
た光は、投影光学系１４に入射し、投影光学系１４が、
この光を第２絞り機構１５の開口部を介してウエハー１
７上に向けて、この回路パターンの縮小像をウエハー１
７上に投影する。これによりウエハー１７上のレジスト
（感光層）が、この回路パターンの縮小像に応じ露光さ
れる。ここで、駆動系１６により第２絞り機構１５の開
口部の径を変化させることにより、投影光学系１４（縮
小投影レンズ系）のレチクルステージ１３側の開口数
（ＮＡ2 ）及びウエハーステージ１８側の開口数（ＮＡ
2 '）を変更せしめる。尚、第２絞り機構１５は縮小投影
レンズ系の所定のレンズの間に配置されている。
【００１９】ウエハーステージ１８は、そのウエハーチ
ャック上にウエハー１７を吸着保持し、投影光学系１４
の光軸方向及び光軸と直交する平面に沿った方向へウエ
ハー１７を移動させることができる。
ャック上にウエハー１７を吸着保持し、投影光学系１４
の光軸方向及び光軸と直交する平面に沿った方向へウエ
ハー１７を移動させることができる。
【００２０】また、マスキングブレード８を構成する４
枚の遮光板は、不図示の駆動系により動かされ、これに
よってレチクル１２上での照明範囲も変更できるように
している。
枚の遮光板は、不図示の駆動系により動かされ、これに
よってレチクル１２上での照明範囲も変更できるように
している。
【００２１】次に、図１，２を使って、第１絞り機構５
について詳述する。
について詳述する。
【００２２】第１絞り機構５は、オプティカルインテグ
レータ４の光射出面の直後に配置してあり、既に説明し
たように円板５０１の上に正入射照明用の絞り５１１の
３個の変形照明用絞り５２０、５３０、５４０とを有し
ている。
レータ４の光射出面の直後に配置してあり、既に説明し
たように円板５０１の上に正入射照明用の絞り５１１の
３個の変形照明用絞り５２０、５３０、５４０とを有し
ている。
【００２３】絞り５１１、５２０、５３０、５４０は駆
動系６の不図示のパルスモータ、このパルスモータに係
合している不図示のギヤと、このギヤに係合されている
円板５０１の外周に設けたギヤ歯の構成により円板を回
転制御することによって切換える事が出来る。即ち、オ
ペレータは外部のキーボード２４によって所望の絞りを
設定することによって駆動系６を制御して、絞り５１
１、５２０、５３０、５４０のいずれかを照明光路中に
入れる事が出来る。又正入射照明用の絞り５１１が選択
されたときはパルスモータ５１３によりその開口を任意
に変化させる事が出来る。
動系６の不図示のパルスモータ、このパルスモータに係
合している不図示のギヤと、このギヤに係合されている
円板５０１の外周に設けたギヤ歯の構成により円板を回
転制御することによって切換える事が出来る。即ち、オ
ペレータは外部のキーボード２４によって所望の絞りを
設定することによって駆動系６を制御して、絞り５１
１、５２０、５３０、５４０のいずれかを照明光路中に
入れる事が出来る。又正入射照明用の絞り５１１が選択
されたときはパルスモータ５１３によりその開口を任意
に変化させる事が出来る。
【００２４】すなわち、駆動系６はケーブル２０を介し
てコンピュータ２１と接続され、又駆動系１６はケーブ
ル２２を介してコンピュータ２１と接続されている。さ
らにキーボード２４とコンピュータ２１がケーブル２３
で接続されており、オペレータがキーボード２４のキー
２５により、レチクル１２の種類（レチクル番号や線巾
の値）に関する信号をケーブル２３の信号線を介してコ
ンピュータ２１に入力する。この信号に応じてコンピュ
ータ２１が円板５０１のいずれかの絞りを決定し、それ
に合せて第２の絞り機構１５の開口部の径を駆動部１６
によって決める。第１絞り機構５の通常照明用の絞り５
１１を駆動するパルスモータ５１３の駆動用ケーブルは
不図示の円板外に設けたＰＣＢボードと連結している
が、パルスモータ５１３が円板５０１に取付けてある
為、円板５０１が回転すると捩れるという問題がある。
本実施形態ではパルスモータ５１３を円板５０１の略中
心に配置し、円板５０１を支えている軸部材の中心にケ
ーブルを通してＰＣＢボードと連結し、ケーブルの捩れ
を最小限にしている。又、本発明は以上の投影露光装置
によりレチクル面上のパターンをウエハ上に投影露光し
て半導体ディバイスを製造している。
てコンピュータ２１と接続され、又駆動系１６はケーブ
ル２２を介してコンピュータ２１と接続されている。さ
らにキーボード２４とコンピュータ２１がケーブル２３
で接続されており、オペレータがキーボード２４のキー
２５により、レチクル１２の種類（レチクル番号や線巾
の値）に関する信号をケーブル２３の信号線を介してコ
ンピュータ２１に入力する。この信号に応じてコンピュ
ータ２１が円板５０１のいずれかの絞りを決定し、それ
に合せて第２の絞り機構１５の開口部の径を駆動部１６
によって決める。第１絞り機構５の通常照明用の絞り５
１１を駆動するパルスモータ５１３の駆動用ケーブルは
不図示の円板外に設けたＰＣＢボードと連結している
が、パルスモータ５１３が円板５０１に取付けてある
為、円板５０１が回転すると捩れるという問題がある。
本実施形態ではパルスモータ５１３を円板５０１の略中
心に配置し、円板５０１を支えている軸部材の中心にケ
ーブルを通してＰＣＢボードと連結し、ケーブルの捩れ
を最小限にしている。又、本発明は以上の投影露光装置
によりレチクル面上のパターンをウエハ上に投影露光し
て半導体ディバイスを製造している。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
外部からの操作により、回路パターンの行程に応じてレ
チクルを交換した時、そのレチクルに応じた最適正な照
明方法を短時間に選ぶ事が出来、スループットの向上、
及び性能の向上が計られた投影露光装置の提供を可能と
している。
外部からの操作により、回路パターンの行程に応じてレ
チクルを交換した時、そのレチクルに応じた最適正な照
明方法を短時間に選ぶ事が出来、スループットの向上、
及び性能の向上が計られた投影露光装置の提供を可能と
している。
【図１】本発明の露光装置の実施形態の概略図
【図２】図１の絞り機構の図
【図３】従来の露光装置に使用する絞り図
１ 光源 ４ オプティカルインテグレータ ５ 第１の絞り機構 ６ 第１の絞り機構駆動部 １２ レチクル １４ 投影レンズ １５ 第２の絞り機構 １６ 第２の絞り機構駆動部 １７ ウエハー ２１ コンピュータ ２４ キーボード ５０１ 円板（基板） ５１１ 通常照明用の絞り ５２０、５３０、５４０ 変形照明用の絞り ５１３ モータ ５１４ 軸
Claims (9)
- 【請求項１】 光源からの光によって原画を照明し、照
明されている原板の像を結像光学系によって被露光体上
に形成する投影露光装置に於いて、前記光源と原板との
光路中に原板への照明方法を変更するための複数種類の
絞りが交換的に挿入可能になる様に、外部から駆動制御
可能な基板上に前記複数種類の絞りを設けたことを特徴
とする投影露光装置。 - 【請求項２】 前記複数種類の絞りのうち、少なくとも
一個は垂直入射（正入射）用絞りであり、他は斜入射用
絞りであっることを特徴とする請求項１の投影露光装
置。 - 【請求項３】 前記基板上の少なくとも一個の絞りは基
板に挿脱自在に設けられていることを特徴とする請求項
１若しくは２の投影露光装置。 - 【請求項４】 前記垂直入射（正入射）用絞りの開口径
は可変であることを特徴とする請求項２の投影露光装
置。 - 【請求項５】 前記基板は円板であり、この円板の回転
軸を中心とした同一円周上に前記複数種類の絞りは設置
されていることを特徴とする請求項１、２、３若しくは
４の投影露光装置。 - 【請求項６】 前記基板は回転円板であり、この円板の
回転軸を中心とした同一円周上に前記複数種類の絞りは
設置され、更に前記垂直入射（正入射）用の絞りの開口
径はモータによって制御され、かつ該モータの回転軸は
前記回転円板の回転軸に一致していることを特徴とする
請求項４の投影露光装置。 - 【請求項７】 前記モータのモータ駆動ケーブルは前記
回転円板の回転軸に沿って配設されていることを特徴と
する請求項６の投影露光装置。 - 【請求項８】 前記結像光学系は可変口径虹彩絞りを有
し、この可変口径虹彩絞りの口径は前記複数種類の絞り
のうちから選定された絞りに従って定められることを特
徴とする請求項１の投影露光装置。 - 【請求項９】 請求項１〜８のいずれか１項記載の投影
露光装置を用いて半導体ディバイスを製造していること
を特徴とする半導体ディバイスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8019382A JPH09189965A (ja) | 1996-01-10 | 1996-01-10 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8019382A JPH09189965A (ja) | 1996-01-10 | 1996-01-10 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09189965A true JPH09189965A (ja) | 1997-07-22 |
Family
ID=11997764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8019382A Pending JPH09189965A (ja) | 1996-01-10 | 1996-01-10 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09189965A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005345498A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-15 | Seiko Epson Corp | 照明装置、表示装置、並びにプロジェクタ |
-
1996
- 1996-01-10 JP JP8019382A patent/JPH09189965A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005345498A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-15 | Seiko Epson Corp | 照明装置、表示装置、並びにプロジェクタ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3232473B2 (ja) | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
| KR20040025487A (ko) | 마이크로 미러 어레이를 구비한 노광 장치 및 이를 이용한노광 방법 | |
| JP2817615B2 (ja) | 縮小投影露光装置 | |
| JPH0429212B2 (ja) | ||
| JP2705609B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
| JPH09189965A (ja) | 投影露光装置 | |
| JP3008744B2 (ja) | 投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法 | |
| JP3507459B2 (ja) | 照明装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JP2858543B2 (ja) | 露光方法 | |
| KR200199245Y1 (ko) | 반도체 노광 장치의 자동화된 애퍼쳐 | |
| KR200151379Y1 (ko) | 반도체 스테퍼장비의 조명계 | |
| JPH0945607A (ja) | 照明装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
| KR100560993B1 (ko) | 다중 정렬 방식을 이용한 노광장치 | |
| JP3376043B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JPH0587010B2 (ja) | ||
| JPH07161601A (ja) | 照明光学装置 | |
| JPH0982633A (ja) | 投影露光装置 | |
| JPH0547625A (ja) | 投影露光装置 | |
| KR100777588B1 (ko) | 반도체 제조용 노광 장비의 조명 장치 | |
| JP2001358052A (ja) | 半導体製造装置および半導体デバイス製造方法 | |
| KR100697268B1 (ko) | 반도체 제조 공정에 사용되는 노광 장치 | |
| JPH0620922A (ja) | 縮小投影露光装置 | |
| KR200240693Y1 (ko) | 반도체제조설비 노광장치의 구경 변경장치 | |
| JPS6329930A (ja) | 縮小投影露光装置 | |
| KR100727700B1 (ko) | 반도체 제조용 노광장비의 조명 시스템 |