JPH09187700A - フォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブリ - Google Patents

フォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブリ

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JPH09187700A
JPH09187700A JP8291713A JP29171396A JPH09187700A JP H09187700 A JPH09187700 A JP H09187700A JP 8291713 A JP8291713 A JP 8291713A JP 29171396 A JP29171396 A JP 29171396A JP H09187700 A JPH09187700 A JP H09187700A
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JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
photoresist
hollow bolt
nut
fixing assembly
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP8291713A
Other languages
English (en)
Inventor
Sekiki Se
錫 基 施
Shokyo Kan
承 教 韓
Sankan Kin
三 煥 金
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Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner

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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 外部衝撃からノズルを保護できるフォトレジ
スト塗布装置のノズル固定アセンブリの提供。 【解決手段】 フォトレジスト供給配管35が貫くよう
に形成された中空ボルト27と、前記フォトレジスト供
給配管が貫くように形成され、前記中空ボルトの上部所
定部分と締結されるように形成された第1ナット28
と、前記フォトレジスト供給配管が貫くように形成さ
れ、前記中空ボルトの下部所定部分と締結されるように
形成され、その内側下端部に支持台30を具備した第2
ナット29と、前記フォトレジスト供給配管が貫くよう
に形成され、前記第2ナット内で前記支持台と前記中空
ボルトにより固定されるように形成されたノズル保護手
段31とから構成されることにより、ノズル25の曲が
りが防止されてウェーハ上のフォトレジスト塗布不良が
減少される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子の製造に
用いられるフォトレジストの塗布装置のノズル固定アセ
ンブリに係り、特に外部衝撃によるノズルの曲がりを防
止し得るフォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブ
リに関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体素子の製造技術は写真工
程、拡散工程、薄膜工程及び蝕刻工程とに大別される。
前記写真工程はフォトレジスト塗布工程、露光工程及び
現像工程とに分けられる。前記フォトレジスト塗布工程
にはフォトレジスト塗布装置が用いられる。前記フォト
レジスト塗布装置は回転できる回転子上にウェーハを載
せて、ノズルを通して前記ウェーハ上にフォトレジスト
を塗布した後、ウェーハを回転させてフォトレジストを
均一に塗布する装置である。
【0003】図1は従来技術によるフォトレジスト塗布
装置を概略的に示した斜視図である。
【0004】具体的に、従来のフォトレジスト塗布装置
はチャック1を有する回転子3と、フォトレジスト物質
を排出するフォトレジスト供給配管7に連結されたノズ
ル9とを具備する。ここで、ウェーハ5はチャック1上
に位置し、ノズル9と所定距離離隔されている。フォト
レジスト供給配管7とノズル9は動かせる駆動ロット1
3と駆動シリンダ15とに連結されている。
【0005】図2は前記図1のフォトレジスト塗布装置
のノズル固定アセンブリを説明するための断面図であ
る。図2で図1と同一な参照符号は同一部材を示す。
【0006】具体的に、フォトレジスト供給配管7とノ
ズル9は第1ナット17、第2ナット18及び中空ボル
ト19にて固定される。図2に示されたように、ノズル
9はハウジングを具備せずに露出されているため、回転
子の交替のような外部衝撃により損なわれやすい。
【0007】図1及び図2に示された従来のフォトレジ
スト塗布装置の塗布方法は、ノズル駆動シリンダにより
ウェーハエッジから始まり、ウェーハの中心に移動した
ノズルを通してフォトレジストをウェーハ上に載置した
後、ウェーハを回転させる。従って、均一なコーティン
グを得るためにはノズルがウェーハの中心に向かってい
なければならない。
【0008】しかしながら、従来のフォトレジスト塗布
装置は回転子の交替や整備等の外部衝撃によりノズルが
曲がりやすいという短所を有している。曲がったノズル
からフォトレジストがウェーハ上に載置されると、塗布
不良が赤い斑点状に発生する。かつ、前記ノズルが曲が
ることを抑制するために、ノズルをウェーハと離隔させ
て短くすると、ウェーハとノズル間の距離が遠すぎてフ
ォトレジストが不安定に載置される。
【0009】このように塗布不良が発生したり、不安定
にフォトレジストを塗布するようになると、後続工程、
即ち露光、現像及び蝕刻工程において半導体素子に悪影
響を及ぼすようになる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前述した従来
の問題点を解決するために案出されたものであり、外部
衝撃からノズルを保護することによりフォトレジストの
塗布不良を減少させ得るフォトレジスト塗布装置のノズ
ル固定アセンブリを提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明は、フォトレジスト供給配管が貫くように形成
された中空ボルトと、前記フォトレジスト供給配管が貫
くように形成され、前記中空ボルトの上部所定部分と締
結されるように形成された第1ナットと、前記フォトレ
ジスト供給配管が貫くように形成され、前記中空ボルト
の下部所定部分と締結されるように形成され、その内側
下端部に支持台を具備した第2ナットと、前記フォトレ
ジスト供給配管が貫くように形成され、前記第2ナット
内で前記支持台と前記中空ボルトにより固定されるよう
に形成されたノズル保護手段とから形成されることを特
徴とするフォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブ
リを提供する。
【0012】前記支持台は前記ノズル保護手段がはめ込
まれ得る孔を有することが望ましい。
【0013】前記ノズル保護手段の端面はT字状であ
り、その上部は前記中空ボルトと前記支持台により固定
され、その下部は前記孔にはめ込まれることが望まし
い。前記ノズル保護手段はステンレス鋼からなることが
望ましい。
【0014】本発明によるとノズルの周囲をノズル保護
手段を通して保護及び固定することにより、ノズルの曲
がりが防止されて、ウェーハ上のフォトレジスト塗布不
良を減少させることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を添付した
図面に基づき更に詳細に説明する。
【0016】図3は本発明によるフォトレジスト塗布装
置のノズル固定アセンブリを概略的に示した断面図であ
る。
【0017】図3から分かるように、本発明のノズル固
定アセンブリはフォトレジスト供給配管35により貫か
れた中空ボルト27と、フォトレジスト供給配管35に
より貫かれ、中空ボルト27の上部と結合された第1ナ
ット28と、前記フォトレジスト供給配管35により貫
かれ、前記中空ボルトの下部と結合され、下端から内部
へと延長された支持台30を有する第2ナット29と、
前記フォトレジスト供給配管35により貫かれ、第2ナ
ット29内に前記支持台30及び中空ボルトにより固定
されたノズル保護手段31とを具備する。
【0018】前記ノズル保護手段31はT字状であり、
ノズル25を固定及び保護する。特に、前記ノズル25
の上部はノズル保護手段31により保護されて外部衝撃
による曲がりを防止する。前記ノズル保護手段31は外
部衝撃に耐えられるステンレス鋼より構成される。
【0019】図4は前記図3の中空ボルト、第2ナット
及びノズル保護手段の連結関係を説明するための拡大図
である。図4で前記図3と同一な参照符号は同一部材を
示す。
【0020】具体的に、中空ボルト27は第2ナット2
9と締結される。前記T字状のノズル保護手段31の上
部は第2ナット29にはめ込まれ、中空ボルト27と前
記第2ナットの内側下端部に設けられた支持台30によ
り固定される。前記支持台30は前記ノズル保護手段3
1がはめ込まれるように孔を有する。従って、本発明の
ノズル保護手段は第2ナット29に簡単にはめ込まれ得
る。
【0021】
【発明の効果】本発明のフォトレジスト塗布装置のノズ
ル保護手段において、ノズル保護手段からノズルを保護
し、中空ボルト、第2ナット及びノズル保護手段にてノ
ズルを固定することにより、外部から衝撃が与えられて
もノズルが動かない。従って、本発明はウェーハとノズ
ル間の距離を一定に保つことができて、安定的にフォト
レジストを塗布することができる。
【0022】本発明は前記実施例に限られず、多くの変
形が本発明の技術的思想内で当分野において通常の知識
を有する者により可能であることは明白である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来の技術によるフォトレジスト塗布装置を
概略的に示した斜視図である。
【図2】 前記図1のフォトレジスト塗布装置のノズル
固定アセンブリを説明するための断面図である。
【図3】 本発明によるフォトレジスト塗布装置のノズ
ル固定アセンブリを概略的に示した断面図である。
【図4】 前記図3の中空ボルト、第2ナット及びノズ
ル保護手段の連結関係を説明するための拡大図である。
【符号の説明】
25…ノズル、 27…中空ボルト、 28…第1ナット、 29…第2ナット、 30…支持台、 31…ノズル保護手段、 35…フォトレジスト供給配管。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フォトレジスト供給配管が貫くように形
    成された中空ボルトと、 前記フォトレジスト供給配管が貫くように形成され、前
    記中空ボルトの上部所定部分と締結されるように形成さ
    れた第1ナットと、 前記フォトレジスト供給配管が貫くように形成され、前
    記中空ボルトの下部所定部分と締結されるように形成さ
    れ、その内側下端部に支持台を具備した第2ナットと、 前記フォトレジスト供給配管が貫くように形成され、前
    記第2ナット内で前記支持台と前記中空ボルトにより固
    定されるように形成されたノズル保護手段とから構成さ
    れることを特徴とするフォトレジスト塗布装置のノズル
    固定アセンブリ。
  2. 【請求項2】 前記支持台は前記ノズル保護手段がはめ
    込まれ得る孔を有することを特徴とする請求項1に記載
    のフォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブリ。
  3. 【請求項3】 前記ノズル保護手段の端面はT字状であ
    り、その上部は前記中空ボルトと前記支持台により固定
    され、その下部は前記孔にはめ込まれることを特徴とす
    る請求項1に記載のフォトレジスト塗布装置のノズル固
    定アセンブリ。
  4. 【請求項4】 前記ノズル保護手段はステンレス鋼から
    なることを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト
    塗布装置のノズル固定アセンブリ。
JP8291713A 1995-11-21 1996-11-01 フォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブリ Withdrawn JPH09187700A (ja)

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KR1019950042625A KR0165480B1 (ko) 1995-11-21 1995-11-21 포토레지스트 도포장치
KR95P42625 1995-11-21

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JP8291713A Withdrawn JPH09187700A (ja) 1995-11-21 1996-11-01 フォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブリ

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KR970030229A (ko) 1997-06-26
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