JPH09187700A - フォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブリ - Google Patents
フォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブリInfo
- Publication number
- JPH09187700A JPH09187700A JP8291713A JP29171396A JPH09187700A JP H09187700 A JPH09187700 A JP H09187700A JP 8291713 A JP8291713 A JP 8291713A JP 29171396 A JP29171396 A JP 29171396A JP H09187700 A JPH09187700 A JP H09187700A
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- JP
- Japan
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- nozzle
- photoresist
- hollow bolt
- nut
- fixing assembly
- Prior art date
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- Withdrawn
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
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- Coating Apparatus (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 外部衝撃からノズルを保護できるフォトレジ
スト塗布装置のノズル固定アセンブリの提供。 【解決手段】 フォトレジスト供給配管３５が貫くよう
に形成された中空ボルト２７と、前記フォトレジスト供
給配管が貫くように形成され、前記中空ボルトの上部所
定部分と締結されるように形成された第１ナット２８
と、前記フォトレジスト供給配管が貫くように形成さ
れ、前記中空ボルトの下部所定部分と締結されるように
形成され、その内側下端部に支持台３０を具備した第２
ナット２９と、前記フォトレジスト供給配管が貫くよう
に形成され、前記第２ナット内で前記支持台と前記中空
ボルトにより固定されるように形成されたノズル保護手
段３１とから構成されることにより、ノズル２５の曲が
りが防止されてウェーハ上のフォトレジスト塗布不良が
減少される。
スト塗布装置のノズル固定アセンブリの提供。 【解決手段】 フォトレジスト供給配管３５が貫くよう
に形成された中空ボルト２７と、前記フォトレジスト供
給配管が貫くように形成され、前記中空ボルトの上部所
定部分と締結されるように形成された第１ナット２８
と、前記フォトレジスト供給配管が貫くように形成さ
れ、前記中空ボルトの下部所定部分と締結されるように
形成され、その内側下端部に支持台３０を具備した第２
ナット２９と、前記フォトレジスト供給配管が貫くよう
に形成され、前記第２ナット内で前記支持台と前記中空
ボルトにより固定されるように形成されたノズル保護手
段３１とから構成されることにより、ノズル２５の曲が
りが防止されてウェーハ上のフォトレジスト塗布不良が
減少される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子の製造に
用いられるフォトレジストの塗布装置のノズル固定アセ
ンブリに係り、特に外部衝撃によるノズルの曲がりを防
止し得るフォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブ
リに関する。
用いられるフォトレジストの塗布装置のノズル固定アセ
ンブリに係り、特に外部衝撃によるノズルの曲がりを防
止し得るフォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブ
リに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体素子の製造技術は写真工
程、拡散工程、薄膜工程及び蝕刻工程とに大別される。
前記写真工程はフォトレジスト塗布工程、露光工程及び
現像工程とに分けられる。前記フォトレジスト塗布工程
にはフォトレジスト塗布装置が用いられる。前記フォト
レジスト塗布装置は回転できる回転子上にウェーハを載
せて、ノズルを通して前記ウェーハ上にフォトレジスト
を塗布した後、ウェーハを回転させてフォトレジストを
均一に塗布する装置である。
程、拡散工程、薄膜工程及び蝕刻工程とに大別される。
前記写真工程はフォトレジスト塗布工程、露光工程及び
現像工程とに分けられる。前記フォトレジスト塗布工程
にはフォトレジスト塗布装置が用いられる。前記フォト
レジスト塗布装置は回転できる回転子上にウェーハを載
せて、ノズルを通して前記ウェーハ上にフォトレジスト
を塗布した後、ウェーハを回転させてフォトレジストを
均一に塗布する装置である。
【０００３】図１は従来技術によるフォトレジスト塗布
装置を概略的に示した斜視図である。
装置を概略的に示した斜視図である。
【０００４】具体的に、従来のフォトレジスト塗布装置
はチャック１を有する回転子３と、フォトレジスト物質
を排出するフォトレジスト供給配管７に連結されたノズ
ル９とを具備する。ここで、ウェーハ５はチャック１上
に位置し、ノズル９と所定距離離隔されている。フォト
レジスト供給配管７とノズル９は動かせる駆動ロット１
３と駆動シリンダ１５とに連結されている。
はチャック１を有する回転子３と、フォトレジスト物質
を排出するフォトレジスト供給配管７に連結されたノズ
ル９とを具備する。ここで、ウェーハ５はチャック１上
に位置し、ノズル９と所定距離離隔されている。フォト
レジスト供給配管７とノズル９は動かせる駆動ロット１
３と駆動シリンダ１５とに連結されている。
【０００５】図２は前記図１のフォトレジスト塗布装置
のノズル固定アセンブリを説明するための断面図であ
る。図２で図１と同一な参照符号は同一部材を示す。
のノズル固定アセンブリを説明するための断面図であ
る。図２で図１と同一な参照符号は同一部材を示す。
【０００６】具体的に、フォトレジスト供給配管７とノ
ズル９は第１ナット１７、第２ナット１８及び中空ボル
ト１９にて固定される。図２に示されたように、ノズル
９はハウジングを具備せずに露出されているため、回転
子の交替のような外部衝撃により損なわれやすい。
ズル９は第１ナット１７、第２ナット１８及び中空ボル
ト１９にて固定される。図２に示されたように、ノズル
９はハウジングを具備せずに露出されているため、回転
子の交替のような外部衝撃により損なわれやすい。
【０００７】図１及び図２に示された従来のフォトレジ
スト塗布装置の塗布方法は、ノズル駆動シリンダにより
ウェーハエッジから始まり、ウェーハの中心に移動した
ノズルを通してフォトレジストをウェーハ上に載置した
後、ウェーハを回転させる。従って、均一なコーティン
グを得るためにはノズルがウェーハの中心に向かってい
なければならない。
スト塗布装置の塗布方法は、ノズル駆動シリンダにより
ウェーハエッジから始まり、ウェーハの中心に移動した
ノズルを通してフォトレジストをウェーハ上に載置した
後、ウェーハを回転させる。従って、均一なコーティン
グを得るためにはノズルがウェーハの中心に向かってい
なければならない。
【０００８】しかしながら、従来のフォトレジスト塗布
装置は回転子の交替や整備等の外部衝撃によりノズルが
曲がりやすいという短所を有している。曲がったノズル
からフォトレジストがウェーハ上に載置されると、塗布
不良が赤い斑点状に発生する。かつ、前記ノズルが曲が
ることを抑制するために、ノズルをウェーハと離隔させ
て短くすると、ウェーハとノズル間の距離が遠すぎてフ
ォトレジストが不安定に載置される。
装置は回転子の交替や整備等の外部衝撃によりノズルが
曲がりやすいという短所を有している。曲がったノズル
からフォトレジストがウェーハ上に載置されると、塗布
不良が赤い斑点状に発生する。かつ、前記ノズルが曲が
ることを抑制するために、ノズルをウェーハと離隔させ
て短くすると、ウェーハとノズル間の距離が遠すぎてフ
ォトレジストが不安定に載置される。
【０００９】このように塗布不良が発生したり、不安定
にフォトレジストを塗布するようになると、後続工程、
即ち露光、現像及び蝕刻工程において半導体素子に悪影
響を及ぼすようになる。
にフォトレジストを塗布するようになると、後続工程、
即ち露光、現像及び蝕刻工程において半導体素子に悪影
響を及ぼすようになる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前述した従来
の問題点を解決するために案出されたものであり、外部
衝撃からノズルを保護することによりフォトレジストの
塗布不良を減少させ得るフォトレジスト塗布装置のノズ
ル固定アセンブリを提供することを目的とする。
の問題点を解決するために案出されたものであり、外部
衝撃からノズルを保護することによりフォトレジストの
塗布不良を減少させ得るフォトレジスト塗布装置のノズ
ル固定アセンブリを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明は、フォトレジスト供給配管が貫くように形成
された中空ボルトと、前記フォトレジスト供給配管が貫
くように形成され、前記中空ボルトの上部所定部分と締
結されるように形成された第１ナットと、前記フォトレ
ジスト供給配管が貫くように形成され、前記中空ボルト
の下部所定部分と締結されるように形成され、その内側
下端部に支持台を具備した第２ナットと、前記フォトレ
ジスト供給配管が貫くように形成され、前記第２ナット
内で前記支持台と前記中空ボルトにより固定されるよう
に形成されたノズル保護手段とから形成されることを特
徴とするフォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブ
リを提供する。
に本発明は、フォトレジスト供給配管が貫くように形成
された中空ボルトと、前記フォトレジスト供給配管が貫
くように形成され、前記中空ボルトの上部所定部分と締
結されるように形成された第１ナットと、前記フォトレ
ジスト供給配管が貫くように形成され、前記中空ボルト
の下部所定部分と締結されるように形成され、その内側
下端部に支持台を具備した第２ナットと、前記フォトレ
ジスト供給配管が貫くように形成され、前記第２ナット
内で前記支持台と前記中空ボルトにより固定されるよう
に形成されたノズル保護手段とから形成されることを特
徴とするフォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブ
リを提供する。
【００１２】前記支持台は前記ノズル保護手段がはめ込
まれ得る孔を有することが望ましい。
まれ得る孔を有することが望ましい。
【００１３】前記ノズル保護手段の端面はＴ字状であ
り、その上部は前記中空ボルトと前記支持台により固定
され、その下部は前記孔にはめ込まれることが望まし
い。前記ノズル保護手段はステンレス鋼からなることが
望ましい。
り、その上部は前記中空ボルトと前記支持台により固定
され、その下部は前記孔にはめ込まれることが望まし
い。前記ノズル保護手段はステンレス鋼からなることが
望ましい。
【００１４】本発明によるとノズルの周囲をノズル保護
手段を通して保護及び固定することにより、ノズルの曲
がりが防止されて、ウェーハ上のフォトレジスト塗布不
良を減少させることができる。
手段を通して保護及び固定することにより、ノズルの曲
がりが防止されて、ウェーハ上のフォトレジスト塗布不
良を減少させることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を添付した
図面に基づき更に詳細に説明する。
図面に基づき更に詳細に説明する。
【００１６】図３は本発明によるフォトレジスト塗布装
置のノズル固定アセンブリを概略的に示した断面図であ
る。
置のノズル固定アセンブリを概略的に示した断面図であ
る。
【００１７】図３から分かるように、本発明のノズル固
定アセンブリはフォトレジスト供給配管３５により貫か
れた中空ボルト２７と、フォトレジスト供給配管３５に
より貫かれ、中空ボルト２７の上部と結合された第１ナ
ット２８と、前記フォトレジスト供給配管３５により貫
かれ、前記中空ボルトの下部と結合され、下端から内部
へと延長された支持台３０を有する第２ナット２９と、
前記フォトレジスト供給配管３５により貫かれ、第２ナ
ット２９内に前記支持台３０及び中空ボルトにより固定
されたノズル保護手段３１とを具備する。
定アセンブリはフォトレジスト供給配管３５により貫か
れた中空ボルト２７と、フォトレジスト供給配管３５に
より貫かれ、中空ボルト２７の上部と結合された第１ナ
ット２８と、前記フォトレジスト供給配管３５により貫
かれ、前記中空ボルトの下部と結合され、下端から内部
へと延長された支持台３０を有する第２ナット２９と、
前記フォトレジスト供給配管３５により貫かれ、第２ナ
ット２９内に前記支持台３０及び中空ボルトにより固定
されたノズル保護手段３１とを具備する。
【００１８】前記ノズル保護手段３１はＴ字状であり、
ノズル２５を固定及び保護する。特に、前記ノズル２５
の上部はノズル保護手段３１により保護されて外部衝撃
による曲がりを防止する。前記ノズル保護手段３１は外
部衝撃に耐えられるステンレス鋼より構成される。
ノズル２５を固定及び保護する。特に、前記ノズル２５
の上部はノズル保護手段３１により保護されて外部衝撃
による曲がりを防止する。前記ノズル保護手段３１は外
部衝撃に耐えられるステンレス鋼より構成される。
【００１９】図４は前記図３の中空ボルト、第２ナット
及びノズル保護手段の連結関係を説明するための拡大図
である。図４で前記図３と同一な参照符号は同一部材を
示す。
及びノズル保護手段の連結関係を説明するための拡大図
である。図４で前記図３と同一な参照符号は同一部材を
示す。
【００２０】具体的に、中空ボルト２７は第２ナット２
９と締結される。前記Ｔ字状のノズル保護手段３１の上
部は第２ナット２９にはめ込まれ、中空ボルト２７と前
記第２ナットの内側下端部に設けられた支持台３０によ
り固定される。前記支持台３０は前記ノズル保護手段３
１がはめ込まれるように孔を有する。従って、本発明の
ノズル保護手段は第２ナット２９に簡単にはめ込まれ得
る。
９と締結される。前記Ｔ字状のノズル保護手段３１の上
部は第２ナット２９にはめ込まれ、中空ボルト２７と前
記第２ナットの内側下端部に設けられた支持台３０によ
り固定される。前記支持台３０は前記ノズル保護手段３
１がはめ込まれるように孔を有する。従って、本発明の
ノズル保護手段は第２ナット２９に簡単にはめ込まれ得
る。
【００２１】
【発明の効果】本発明のフォトレジスト塗布装置のノズ
ル保護手段において、ノズル保護手段からノズルを保護
し、中空ボルト、第２ナット及びノズル保護手段にてノ
ズルを固定することにより、外部から衝撃が与えられて
もノズルが動かない。従って、本発明はウェーハとノズ
ル間の距離を一定に保つことができて、安定的にフォト
レジストを塗布することができる。
ル保護手段において、ノズル保護手段からノズルを保護
し、中空ボルト、第２ナット及びノズル保護手段にてノ
ズルを固定することにより、外部から衝撃が与えられて
もノズルが動かない。従って、本発明はウェーハとノズ
ル間の距離を一定に保つことができて、安定的にフォト
レジストを塗布することができる。
【００２２】本発明は前記実施例に限られず、多くの変
形が本発明の技術的思想内で当分野において通常の知識
を有する者により可能であることは明白である。
形が本発明の技術的思想内で当分野において通常の知識
を有する者により可能であることは明白である。
【図１】 従来の技術によるフォトレジスト塗布装置を
概略的に示した斜視図である。
概略的に示した斜視図である。
【図２】 前記図１のフォトレジスト塗布装置のノズル
固定アセンブリを説明するための断面図である。
固定アセンブリを説明するための断面図である。
【図３】 本発明によるフォトレジスト塗布装置のノズ
ル固定アセンブリを概略的に示した断面図である。
ル固定アセンブリを概略的に示した断面図である。
【図４】 前記図３の中空ボルト、第２ナット及びノズ
ル保護手段の連結関係を説明するための拡大図である。
ル保護手段の連結関係を説明するための拡大図である。
２５…ノズル、 ２７…中空ボルト、 ２８…第１ナット、 ２９…第２ナット、 ３０…支持台、 ３１…ノズル保護手段、 ３５…フォトレジスト供給配管。
Claims (4)
- 【請求項１】 フォトレジスト供給配管が貫くように形
成された中空ボルトと、 前記フォトレジスト供給配管が貫くように形成され、前
記中空ボルトの上部所定部分と締結されるように形成さ
れた第１ナットと、 前記フォトレジスト供給配管が貫くように形成され、前
記中空ボルトの下部所定部分と締結されるように形成さ
れ、その内側下端部に支持台を具備した第２ナットと、 前記フォトレジスト供給配管が貫くように形成され、前
記第２ナット内で前記支持台と前記中空ボルトにより固
定されるように形成されたノズル保護手段とから構成さ
れることを特徴とするフォトレジスト塗布装置のノズル
固定アセンブリ。 - 【請求項２】 前記支持台は前記ノズル保護手段がはめ
込まれ得る孔を有することを特徴とする請求項１に記載
のフォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブリ。 - 【請求項３】 前記ノズル保護手段の端面はＴ字状であ
り、その上部は前記中空ボルトと前記支持台により固定
され、その下部は前記孔にはめ込まれることを特徴とす
る請求項１に記載のフォトレジスト塗布装置のノズル固
定アセンブリ。 - 【請求項４】 前記ノズル保護手段はステンレス鋼から
なることを特徴とする請求項１に記載のフォトレジスト
塗布装置のノズル固定アセンブリ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR95P42625 | 1995-11-21 | ||
| KR1019950042625A KR0165480B1 (ko) | 1995-11-21 | 1995-11-21 | 포토레지스트 도포장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09187700A true JPH09187700A (ja) | 1997-07-22 |
Family
ID=19435021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8291713A Withdrawn JPH09187700A (ja) | 1995-11-21 | 1996-11-01 | フォトレジスト塗布装置のノズル固定アセンブリ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09187700A (ja) |
| KR (1) | KR0165480B1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4004216B2 (ja) * | 2000-09-04 | 2007-11-07 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置 |
-
1995
- 1995-11-21 KR KR1019950042625A patent/KR0165480B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1996
- 1996-11-01 JP JP8291713A patent/JPH09187700A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR970030229A (ko) | 1997-06-26 |
| KR0165480B1 (ko) | 1999-02-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040106 |