JPH09180197A - 光記録方法 - Google Patents
光記録方法Info
- Publication number
- JPH09180197A JPH09180197A JP7343483A JP34348395A JPH09180197A JP H09180197 A JPH09180197 A JP H09180197A JP 7343483 A JP7343483 A JP 7343483A JP 34348395 A JP34348395 A JP 34348395A JP H09180197 A JPH09180197 A JP H09180197A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- optical recording
- beam intensity
- recording
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 低レベルレーザービーム強度ＰL を低く設定
し過ぎて消去不良となるためにオーバーライトが十分に
行えないことのない、安定したオーバーライトが可能な
光記録方法を提供する。 【解決手段】 オーバーライト可能な光記録媒体に記録
を行うための記録レーザービーム強度を決定する方法に
おいて、 高温プロセスが起こるレーザービーム強度の
下限値を求め、その値を基に高レベルレーザービーム強
度を暫定的に設定し、その値によりテスト記録領域に磁
化反転マークを形成した後、テスト記録領域を再生し、
その後、テスト記録領域にレーザービームを照射して磁
化反転マークの消去を行った後、テスト記録領域を再生
し、消去を行う前と後の再生信号を比較することによ
り、最適な低レベルレーザービーム強度を決定する。
し過ぎて消去不良となるためにオーバーライトが十分に
行えないことのない、安定したオーバーライトが可能な
光記録方法を提供する。 【解決手段】 オーバーライト可能な光記録媒体に記録
を行うための記録レーザービーム強度を決定する方法に
おいて、 高温プロセスが起こるレーザービーム強度の
下限値を求め、その値を基に高レベルレーザービーム強
度を暫定的に設定し、その値によりテスト記録領域に磁
化反転マークを形成した後、テスト記録領域を再生し、
その後、テスト記録領域にレーザービームを照射して磁
化反転マークの消去を行った後、テスト記録領域を再生
し、消去を行う前と後の再生信号を比較することによ
り、最適な低レベルレーザービーム強度を決定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光記録方法に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、高密度、大容量、高いアクセス速
度、並びに高い記録及び再生速度を含めた種々の要求を
満足する光学的記録再生方法、それに使用される記録装
置、再生装置及び記録媒体が普及している。光学的記録
再生方法には、熱による孔開け、相変化、光磁気等の原
理を用いた多数の種類がある。このうち、情報を記録し
た後、消去することができ、再び新たな情報を記録する
ことが繰り返し何度も可能である相変化や光磁気による
方法は、コンピュータの外部メモリーや民生用オーディ
オ機器向けに広く応用されてきている。
度、並びに高い記録及び再生速度を含めた種々の要求を
満足する光学的記録再生方法、それに使用される記録装
置、再生装置及び記録媒体が普及している。光学的記録
再生方法には、熱による孔開け、相変化、光磁気等の原
理を用いた多数の種類がある。このうち、情報を記録し
た後、消去することができ、再び新たな情報を記録する
ことが繰り返し何度も可能である相変化や光磁気による
方法は、コンピュータの外部メモリーや民生用オーディ
オ機器向けに広く応用されてきている。
【０００３】最近まで光記録再生方法では、記録済みの
媒体に消去動作なしに新たな情報を記録するオーバーラ
イトは不可能とされていた。しかし、照射する光ビーム
の強度を記録すべき２値化情報に従い変調するだけで、
オーバーライトが可能な光記録方法、それに使用される
オーバーライト可能な光記録媒体、及びそれに使用され
るオーバーライト可能な記録装置が提案された。
媒体に消去動作なしに新たな情報を記録するオーバーラ
イトは不可能とされていた。しかし、照射する光ビーム
の強度を記録すべき２値化情報に従い変調するだけで、
オーバーライトが可能な光記録方法、それに使用される
オーバーライト可能な光記録媒体、及びそれに使用され
るオーバーライト可能な記録装置が提案された。
【０００４】これを光磁気記録を例に説明する。なお、
この方法は複数国に特許出願され、このうち米国では特
許登録された（特開昭62−175948号＝DE3,619,618A1 ＝
USP5,239,524 ）。以下、この発明を「基本発明」と引
用する。この光磁気記録再生方法で使用されるオーバー
ライト可能な光磁気記録媒体は記憶する層として、垂直
磁気異方性(perpendicular magnetic layer orlayers)
を有する多層の磁性層からなる。この磁性層は、例えば
非晶質のTbFe、TbFeCo、GdFe、GdFeCo、DyFe、DyFeCo等
からなる。
この方法は複数国に特許出願され、このうち米国では特
許登録された（特開昭62−175948号＝DE3,619,618A1 ＝
USP5,239,524 ）。以下、この発明を「基本発明」と引
用する。この光磁気記録再生方法で使用されるオーバー
ライト可能な光磁気記録媒体は記憶する層として、垂直
磁気異方性(perpendicular magnetic layer orlayers)
を有する多層の磁性層からなる。この磁性層は、例えば
非晶質のTbFe、TbFeCo、GdFe、GdFeCo、DyFe、DyFeCo等
からなる。
【０００５】基本発明に使用する媒体は、「基本的に垂
直磁化可能な磁性薄膜からなる記録及び再生層として機
能する層（以下、メモリー層またはＭ層という）と、同
じく垂直磁化可能な磁性薄膜からなる記録補助層（以
下、記録層またはＷ層という）とを含み、両層は交換結
合（exchange-coupled) しており、かつ、室温でＭ層の
磁化の向きは変えないでＷ層の磁化のみを所定の向きに
向けておくことができるオーバーライト可能な多層光磁
気記録媒体」である。Ｗ層は、Ｍ層に比べて室温におい
て低い保磁力Ｈc と高いキュリー点Ｔc を持つ。
直磁化可能な磁性薄膜からなる記録及び再生層として機
能する層（以下、メモリー層またはＭ層という）と、同
じく垂直磁化可能な磁性薄膜からなる記録補助層（以
下、記録層またはＷ層という）とを含み、両層は交換結
合（exchange-coupled) しており、かつ、室温でＭ層の
磁化の向きは変えないでＷ層の磁化のみを所定の向きに
向けておくことができるオーバーライト可能な多層光磁
気記録媒体」である。Ｗ層は、Ｍ層に比べて室温におい
て低い保磁力Ｈc と高いキュリー点Ｔc を持つ。
【０００６】そして、情報をＭ層（場合によりＷ層に
も）における基板に垂直な方向（「Ａ向き」とする）の
磁化を有するマークとその反対方向（「逆Ａ向き」とす
る）の磁化を有するマークにより記録する。この媒体
は、Ｗ層が磁界手段（例えば初期補助磁界Hini. ）によ
って、その磁化の向きを一方向に揃えることができる。
しかも、そのとき、Ｍ層の磁化の向きは反転せず、更
に、一旦一方向に揃えられたＷ層の磁化の向きは、Ｍ層
からの交換結合力を受けても反転せず、逆にＭ層の磁化
の向きは、一方向に揃えられたＷ層からの交換結合力を
受けても反転しない。
も）における基板に垂直な方向（「Ａ向き」とする）の
磁化を有するマークとその反対方向（「逆Ａ向き」とす
る）の磁化を有するマークにより記録する。この媒体
は、Ｗ層が磁界手段（例えば初期補助磁界Hini. ）によ
って、その磁化の向きを一方向に揃えることができる。
しかも、そのとき、Ｍ層の磁化の向きは反転せず、更
に、一旦一方向に揃えられたＷ層の磁化の向きは、Ｍ層
からの交換結合力を受けても反転せず、逆にＭ層の磁化
の向きは、一方向に揃えられたＷ層からの交換結合力を
受けても反転しない。
【０００７】基本発明の記録方法では、記録媒体は記録
前までに磁界手段によりＷ層の磁化の向きだけが一方向
に揃えられるようにする。その上で、２値化情報に従い
パルス変調されたレーザービームを媒体に照射する。レ
ーザービームの強度は、高レベルＰH と低レベルＰL の
２値に制御され、これはパルスの高レベルと低レベルに
相当する。この低レベルは、再生時に媒体を照射する再
生レベルＰR よりも高い。既に知られているように、記
録をしない時にも、例えば媒体における所定の記録場所
をアクセスするためにレーザーを「非常な低レベル」で
点灯することが一般的である。この非常な低レベルも、
再生レベルＰR と同一又は近似のレベルである。
前までに磁界手段によりＷ層の磁化の向きだけが一方向
に揃えられるようにする。その上で、２値化情報に従い
パルス変調されたレーザービームを媒体に照射する。レ
ーザービームの強度は、高レベルＰH と低レベルＰL の
２値に制御され、これはパルスの高レベルと低レベルに
相当する。この低レベルは、再生時に媒体を照射する再
生レベルＰR よりも高い。既に知られているように、記
録をしない時にも、例えば媒体における所定の記録場所
をアクセスするためにレーザーを「非常な低レベル」で
点灯することが一般的である。この非常な低レベルも、
再生レベルＰR と同一又は近似のレベルである。
【０００８】低レベルのレーザービームを媒体に照射し
た場合に媒体が達する温度においては、Ｗ層の磁化の向
きは変わらず、Ｍ層の磁化の向きは、Ｍ層とＷ層との間
に磁壁が存在しない状態の向きになる。これを低温プロ
セスといい、このプロセスが起こる温度領域を低温プロ
セス温度ＴL という。一方、高レベルのレーザービーム
を媒体に照射した場合に媒体が達する更に高い温度にお
いては、Ｗ層の磁化の向きは記録磁界の方向に倣い、Ｍ
層の磁化の向きは、Ｍ層とＷ層との間に磁壁が存在しな
い状態の向きになる。これを高温プロセスといい、この
プロセスが起こる温度領域を高温プロセス温度ＴH とい
う。
た場合に媒体が達する温度においては、Ｗ層の磁化の向
きは変わらず、Ｍ層の磁化の向きは、Ｍ層とＷ層との間
に磁壁が存在しない状態の向きになる。これを低温プロ
セスといい、このプロセスが起こる温度領域を低温プロ
セス温度ＴL という。一方、高レベルのレーザービーム
を媒体に照射した場合に媒体が達する更に高い温度にお
いては、Ｗ層の磁化の向きは記録磁界の方向に倣い、Ｍ
層の磁化の向きは、Ｍ層とＷ層との間に磁壁が存在しな
い状態の向きになる。これを高温プロセスといい、この
プロセスが起こる温度領域を高温プロセス温度ＴH とい
う。
【０００９】レーザービームの照射後は、磁界手段が働
くことにより、高レベルのレーザービーム照射によって
記録磁界の方向に倣ったＷ層の磁化は、再び磁界手段の
向きに倣う。従って、磁界手段の磁化の向きと記録磁界
の向きを逆にしておけば、既に記録されているＭ層に、
新たな記録が繰り返し記録（即ち、オーバーライト）で
きるのである。これが光変調オーバーライト光磁気記録
の原理である。
くことにより、高レベルのレーザービーム照射によって
記録磁界の方向に倣ったＷ層の磁化は、再び磁界手段の
向きに倣う。従って、磁界手段の磁化の向きと記録磁界
の向きを逆にしておけば、既に記録されているＭ層に、
新たな記録が繰り返し記録（即ち、オーバーライト）で
きるのである。これが光変調オーバーライト光磁気記録
の原理である。
【００１０】以上説明した内容を、若干表現を換えれ
ば、高レベルのレーザービーム照射によって記録マーク
を形成し、低レベルのレーザービーム照射によって記録
マークを消去することで、新しい情報を古い情報の上に
オーバーライト（重ね書き）するとも言える。ところ
で、光ディスクに実際に記録を行う場合には、記録マー
クの形状を最適とするために、記録しようとするディス
クの記録感度、最適記録温度、環境温度に応じてレーザ
ービーム強度の微調整が必要となる。現在、市販されて
いる光磁気ディスク記録装置には、実際に情報を記録す
る前にテスト記録を行ってレーザービーム強度の微調整
を行っているものもある。
ば、高レベルのレーザービーム照射によって記録マーク
を形成し、低レベルのレーザービーム照射によって記録
マークを消去することで、新しい情報を古い情報の上に
オーバーライト（重ね書き）するとも言える。ところ
で、光ディスクに実際に記録を行う場合には、記録マー
クの形状を最適とするために、記録しようとするディス
クの記録感度、最適記録温度、環境温度に応じてレーザ
ービーム強度の微調整が必要となる。現在、市販されて
いる光磁気ディスク記録装置には、実際に情報を記録す
る前にテスト記録を行ってレーザービーム強度の微調整
を行っているものもある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようにテスト記録を行ってレーザービーム強度の微調整
を行っても、オーバーライト光記録において誤記録と判
定される場合があった。このような場合、前回の記録マ
ークが低レベルＰL のレーザービーム強度により充分に
消去されていないことがその原因の大半であった。
ようにテスト記録を行ってレーザービーム強度の微調整
を行っても、オーバーライト光記録において誤記録と判
定される場合があった。このような場合、前回の記録マ
ークが低レベルＰL のレーザービーム強度により充分に
消去されていないことがその原因の大半であった。
【００１２】これは、光強度変調オーバーライト記録に
おいては、低レベルレーザービーム強度ＰL は、記録の
みではなく消去にも関与する重要なパラメータであるた
め、テスト記録を行って記録レーザービーム強度を求め
ても、ＰL を低く設定し過ぎて消去不良となるためにオ
ーバーライトが十分に行えないことによるものであっ
た。
おいては、低レベルレーザービーム強度ＰL は、記録の
みではなく消去にも関与する重要なパラメータであるた
め、テスト記録を行って記録レーザービーム強度を求め
ても、ＰL を低く設定し過ぎて消去不良となるためにオ
ーバーライトが十分に行えないことによるものであっ
た。
【００１３】本発明は、かかる問題点を解決し、安定し
たオーバーライト記録を行える光記録方法の提供を目的
とする。
たオーバーライト記録を行える光記録方法の提供を目的
とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明者らはかかる問題
点の解決のために、高温プロセスが起こるレーザービー
ム強度の下限値ＰHth を求め、その値を基に高レベルレ
ーザービーム強度を暫定的に設定し、その暫定レーザー
ビーム強度によりテスト記録領域に磁化反転マークを形
成した後、テスト記録領域を再生し、その後、テスト記
録領域にレーザービームを照射して磁化反転マークの消
去を行った後、テスト記録領域を再び再生し、消去を行
う前と後の再生信号を比較することにより、最適な低レ
ベルレーザービーム強度ＰL を決定することができ、そ
れにより消去不良の発生が抑えられることを見出し本発
明をなすに至った。
点の解決のために、高温プロセスが起こるレーザービー
ム強度の下限値ＰHth を求め、その値を基に高レベルレ
ーザービーム強度を暫定的に設定し、その暫定レーザー
ビーム強度によりテスト記録領域に磁化反転マークを形
成した後、テスト記録領域を再生し、その後、テスト記
録領域にレーザービームを照射して磁化反転マークの消
去を行った後、テスト記録領域を再び再生し、消去を行
う前と後の再生信号を比較することにより、最適な低レ
ベルレーザービーム強度ＰL を決定することができ、そ
れにより消去不良の発生が抑えられることを見出し本発
明をなすに至った。
【００１５】
【発明の実施の形態】次に、本発明について図１を用い
て説明する。光変調によるオーバーライト可能な光磁気
ディスクを用意する。この光磁気ディスクは、記録周波
数の異なる複数の記録ゾーンに区切られており、所定の
領域には、各記録ゾーンにおける記録レーザービーム強
度の基準値の情報が記録されている。
て説明する。光変調によるオーバーライト可能な光磁気
ディスクを用意する。この光磁気ディスクは、記録周波
数の異なる複数の記録ゾーンに区切られており、所定の
領域には、各記録ゾーンにおける記録レーザービーム強
度の基準値の情報が記録されている。
【００１６】この光磁気ディスクを記録再生装置にセッ
トして、所定の領域から記録レーザービーム強度に関す
る情報を読み込む。次に、テスト記録領域に対して、そ
のセクター毎に高レベルレーザービーム強度ＰH を変化
させながら記録を行い磁化反転マークを形成する。この
際、形成する磁化反転マークは検出を容易にするため長
めのマークとすることが好ましい。次に、記録を行った
領域を再生し、マークが記録されたレーザービーム強度
の下限値ＰHth を求める。ただし、ＰHth 付近のレーザ
ービーム強度で記録したマークは、その再生信号レベル
が極めて低いためその検出は難しいので、ある程度のレ
ベル以上の再生信号が検出されたマークの記録を行った
レーザービーム強度を下限値ＰHth とするのが現実的で
ある。
トして、所定の領域から記録レーザービーム強度に関す
る情報を読み込む。次に、テスト記録領域に対して、そ
のセクター毎に高レベルレーザービーム強度ＰH を変化
させながら記録を行い磁化反転マークを形成する。この
際、形成する磁化反転マークは検出を容易にするため長
めのマークとすることが好ましい。次に、記録を行った
領域を再生し、マークが記録されたレーザービーム強度
の下限値ＰHth を求める。ただし、ＰHth 付近のレーザ
ービーム強度で記録したマークは、その再生信号レベル
が極めて低いためその検出は難しいので、ある程度のレ
ベル以上の再生信号が検出されたマークの記録を行った
レーザービーム強度を下限値ＰHth とするのが現実的で
ある。
【００１７】そして、求められた下限値ＰHth に係数を
掛けるなどの計算により、暫定的に高レベルレーザービ
ーム強度を設定する。係数を掛ける場合は、100 〜200
％が適当である。次に、テスト記録領域の複数のセクタ
ーに、暫定的に設定されたレーザービーム強度で記録を
行い磁化反転マークを形成した後、この領域を再生し、
その再生信号を記憶する。次に、記録を行った領域にＰ
L にレーザービームをＤＣ点灯させた状態で１セクター
毎または複数セクター毎にビーム強度を変化させながら
照射して消去動作を行った後、テスト記録領域を再生
し、消去動作を行う前と後で再生信号を比較し、磁化反
転マークが消去されたかどうかを評価する。
掛けるなどの計算により、暫定的に高レベルレーザービ
ーム強度を設定する。係数を掛ける場合は、100 〜200
％が適当である。次に、テスト記録領域の複数のセクタ
ーに、暫定的に設定されたレーザービーム強度で記録を
行い磁化反転マークを形成した後、この領域を再生し、
その再生信号を記憶する。次に、記録を行った領域にＰ
L にレーザービームをＤＣ点灯させた状態で１セクター
毎または複数セクター毎にビーム強度を変化させながら
照射して消去動作を行った後、テスト記録領域を再生
し、消去動作を行う前と後で再生信号を比較し、磁化反
転マークが消去されたかどうかを評価する。
【００１８】評価には種々の方法が考えられる。例え
ば、信号を目視により比較して評価する方法もあるし、
また、予め所定の消去率を設定しておき、消去動作を行
う前と後の再生信号強度の変化から求めた消去率が所定
の値以下になったかどうかで評価する方法もある。この
場合、この所定の値は 0.01 〜0.5 程度が望ましい。こ
のようにして磁化反転マークが消去されるレーザービー
ム強度の下限値ＰLth を求める。そして、ＰLth を基に
低レベルレーザービーム強度ＰL を決定する。低レベル
レーザービーム強度ＰL は、ＰHth とＰLth の両方を用
いて決定してもよい。例えば、ＰL ＝α* ＰHth ＋β*
ＰLth の式に従って決定する等である。
ば、信号を目視により比較して評価する方法もあるし、
また、予め所定の消去率を設定しておき、消去動作を行
う前と後の再生信号強度の変化から求めた消去率が所定
の値以下になったかどうかで評価する方法もある。この
場合、この所定の値は 0.01 〜0.5 程度が望ましい。こ
のようにして磁化反転マークが消去されるレーザービー
ム強度の下限値ＰLth を求める。そして、ＰLth を基に
低レベルレーザービーム強度ＰL を決定する。低レベル
レーザービーム強度ＰL は、ＰHth とＰLth の両方を用
いて決定してもよい。例えば、ＰL ＝α* ＰHth ＋β*
ＰLth の式に従って決定する等である。
【００１９】更に、ＰL を決定した後、別にテスト記録
を行うことによって最適なＰH を求めるのもよい。即
ち、低レベルレーザービーム強度ＰL を決定した値に固
定し、高レベルレーザービーム強度ＰH を１セクター毎
または複数セクター毎に変化させてマークを形成するこ
とにより、最適なＰH を求めるというものである。最適
なＰH かどうかを判断するにはいくつかの方式が考えら
れる。例えば、テスト記録時に特定のパターンを記録し
た後、これを再生し、記録パターンと再生パターンをチ
ャネル毎に比較する。高レベルレーザービーム強度が最
適値からずれるに従って、記録が正確に行われなかった
り、あるいは、オーバーライト記録する前に記録されて
いたマークが消え残ったりすることにより、記録パター
ンとは異なるパターンが再生されるようになり、エラー
が増加する。そこで、エラーが殆ど検出されないレーザ
ービーム強度領域の中心付近を最適高レベルレーザービ
ーム強度とする。
を行うことによって最適なＰH を求めるのもよい。即
ち、低レベルレーザービーム強度ＰL を決定した値に固
定し、高レベルレーザービーム強度ＰH を１セクター毎
または複数セクター毎に変化させてマークを形成するこ
とにより、最適なＰH を求めるというものである。最適
なＰH かどうかを判断するにはいくつかの方式が考えら
れる。例えば、テスト記録時に特定のパターンを記録し
た後、これを再生し、記録パターンと再生パターンをチ
ャネル毎に比較する。高レベルレーザービーム強度が最
適値からずれるに従って、記録が正確に行われなかった
り、あるいは、オーバーライト記録する前に記録されて
いたマークが消え残ったりすることにより、記録パター
ンとは異なるパターンが再生されるようになり、エラー
が増加する。そこで、エラーが殆ど検出されないレーザ
ービーム強度領域の中心付近を最適高レベルレーザービ
ーム強度とする。
【００２０】また、別の方法としては、低レベルレーザ
ービーム強度ＰL を固定し、高レベルレーザービーム強
度ＰH を１セクター毎または複数セクター毎に変化させ
て、短いマークの繰り返しと長いマークの繰り返しが交
互になるパターンを記録し、これを再生したとき各々の
繰り返し部分の再生信号の中心のオフセット量が０にな
るような高レベルレーザービーム強度を求め、これを最
適値とするというものである。
ービーム強度ＰL を固定し、高レベルレーザービーム強
度ＰH を１セクター毎または複数セクター毎に変化させ
て、短いマークの繰り返しと長いマークの繰り返しが交
互になるパターンを記録し、これを再生したとき各々の
繰り返し部分の再生信号の中心のオフセット量が０にな
るような高レベルレーザービーム強度を求め、これを最
適値とするというものである。
【００２１】以上のように、種々の方法により、高レベ
ルレーザービーム強度ＰH と低レベルレーザービーム強
度ＰL の組み合わせが決定される。
ルレーザービーム強度ＰH と低レベルレーザービーム強
度ＰL の組み合わせが決定される。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
オーバーライト可能な光ディスクに記録する場合、レー
ザービーム強度を最適に設定できるので、ＰL を低く設
定し過ぎて消去不良となるためにオーバーライトが充分
に行えないという問題がなくなり、安定したオーバーラ
イト記録が実現できる。
オーバーライト可能な光ディスクに記録する場合、レー
ザービーム強度を最適に設定できるので、ＰL を低く設
定し過ぎて消去不良となるためにオーバーライトが充分
に行えないという問題がなくなり、安定したオーバーラ
イト記録が実現できる。
【図１】 本発明の光記録方法を説明するフローチャー
トである。
トである。
Claims (8)
- 【請求項１】 オーバーライト可能な光記録媒体に記録
を行うための記録レーザービーム強度を決定する光記録
方法において、 高温プロセスが起こるレーザービーム強度の下限値Ｐ
Hth を求め、その値を基に高レベルレーザービーム強度
を暫定的に設定し、前記暫定レーザービーム強度を用い
てテスト記録領域に磁化反転マークを形成した後、前記
テスト記録領域を再生し、その後、前記テスト記録領域
にレーザービームを照射して磁化反転マークの消去を行
った後、前記テスト記録領域を再生し、消去を行う前と
後の再生信号を比較することにより、最適な低レベルレ
ーザービーム強度を決定することを特徴とするオーバー
ライト可能な光記録媒体の光記録方法。 - 【請求項２】 消去を行う前と後の再生信号の比較は、
消去率を求めることによることを特徴とする請求項１記
載のオーバーライト可能な光記録媒体の光記録方法。 - 【請求項３】 磁化反転マークを消去する際の消去レー
ザービーム強度を、１セクター毎または複数セクター毎
に変化させることを特徴とする請求項１記載のオーバー
ライト可能な光記録媒体の光記録方法。 - 【請求項４】 0.01〜 0.5の範囲から選んだ値を消去率
の所定値とし、前記所定の消去率を実現する消去レーザ
ービーム強度の下限値をＰLth とし、ＰLthを基に最適
な低レベルレーザービーム強度を決定することを特徴と
する請求項２記載のオーバーライト可能な光記録媒体の
光記録方法。 - 【請求項５】 ＰLth とＰHth を基に低レベルのレーザ
ービーム強度を決定することを特徴とする請求項４記載
のオーバーライト可能な光記録媒体の光記録方法。 - 【請求項６】 磁化反転マークは、データ領域に記録さ
れる最短マークよりは長いマークであることを特徴とす
る請求項１記載のオーバーライト可能な光記録媒体の光
記録方法。 - 【請求項７】 オーバーライト可能な光記録媒体は互い
に交換結合した複数の磁性層を有する光磁気記録媒体を
用いることを特徴とする請求項１記載のオーバーライト
可能な光記録媒体の光記録方法。 - 【請求項８】 請求項１記載の光記録方法によって最適
な低レベルレーザービーム強度を決定した後、前記最適
な低レベルレーザービーム強度と組み合わせて、高レベ
ルのレーザービーム強度を１セクター毎または複数セク
ター毎に変化させることにより記録を行い最適な高レベ
ルレーザービーム強度を決定することを特徴とする光記
録方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7343483A JPH09180197A (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 光記録方法 |
| US08/744,860 US5808972A (en) | 1995-12-28 | 1996-11-05 | Stabilized overwriteable optical recording method using laser beam intensity settings |
| EP96308084A EP0782134A1 (en) | 1995-12-28 | 1996-11-07 | Optical recording method for stabilized overwriting using laser beam intensity settings |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7343483A JPH09180197A (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 光記録方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09180197A true JPH09180197A (ja) | 1997-07-11 |
Family
ID=18361876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7343483A Pending JPH09180197A (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 光記録方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09180197A (ja) |
-
1995
- 1995-12-28 JP JP7343483A patent/JPH09180197A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5825724A (en) | Magneto-optical recording method using laser beam intensity setting based on playback signal | |
| JPH09134557A (ja) | 光記録方法 | |
| US5684765A (en) | Optical recording method and control | |
| US5831943A (en) | Stabilized overwriteable optical recording method using laser beam intensity settings | |
| EP0905685A1 (en) | Optical recording method and optical recorder | |
| US5808972A (en) | Stabilized overwriteable optical recording method using laser beam intensity settings | |
| JPH1139687A (ja) | 光記録方法 | |
| JPH09180197A (ja) | 光記録方法 | |
| JPH1139803A (ja) | 光記録媒体、光記録方法および光記録装置 | |
| JPH06195784A (ja) | 光磁気記録媒体及び該媒体を用いた情報記録方法 | |
| JPH09134556A (ja) | 光記録方法 | |
| JPH09180196A (ja) | 光記録方法 | |
| JPH11149641A (ja) | 光記録方法および光記録装置 | |
| JPH0922546A (ja) | 光記録方法 | |
| JPH0963057A (ja) | 光記録方法 | |
| JPH0954998A (ja) | 光記録方法 | |
| JPH10134355A (ja) | 光記録方法 | |
| EP0737969B1 (en) | Optical recording method and apparatus | |
| JPH08287467A (ja) | 光記録方法 | |
| JPH0729238A (ja) | 光記録の再生方法 | |
| JPH09134554A (ja) | 光記録方法 | |
| JPH09134555A (ja) | 光記録方法 | |
| JPH0922547A (ja) | 光記録方法 | |
| JPH08273232A (ja) | 光記録方法 | |
| JPH08287538A (ja) | 光記録方法及び光記録媒体 |