JPH09175831A - Tm3+ドープ青色発光結晶化ガラスとその製造法 - Google Patents

Tm3+ドープ青色発光結晶化ガラスとその製造法

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JPH09175831A
JPH09175831A JP25038096A JP25038096A JPH09175831A JP H09175831 A JPH09175831 A JP H09175831A JP 25038096 A JP25038096 A JP 25038096A JP 25038096 A JP25038096 A JP 25038096A JP H09175831 A JPH09175831 A JP H09175831A
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glass
doped
blue light
ions
crystallized glass
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Kenei Kiyuu
建栄 邱
Kazuyuki Hirao
一之 平尾
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Kagaku Gijutsu Shinko Jigyodan
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Kagaku Gijutsu Shinko Jigyodan
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 化学耐久性が良く、機械的強度が高く、発光
効率の高い青色発光する透明なガラスセラミックスであ
るTm3+ドープ青色発光結晶化ガラスとその製造方法を
提供する。 【解決手段】 結晶サイズが100nm以下の、Tm3+
ドープハロゲン化物微結晶、又はTm3+−Yb3+共ドー
プハロゲン化物微結晶を含有するTm3+ドープ青色発光
結晶化ガラスであって、Tm3+イオン、又はTm3+イオ
ンとともにYb3+イオンを含有するオキシハライドガラ
スをガラス転移温度(Tg)以上、ガラスマトリクス結
晶相析出開始温度(Tc)未満の温度において熱処理す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、Tm3+ドープ青
色発光結晶化ガラスとその製造法に関するものである。
さらに詳しくは、この発明は、青色レーザー、赤外レー
ザービーム位置の確認や、モード形状のパターン識別、
空間分布状態等に用いられる光ディテクター、光パワー
メーター用素子、イメージ表示センサー等に有用な、T
3+ドープ青色発光結晶化ガラスとその製造法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術とその課題】従来より、光情報技術の発展
にとって、青色レーザーの実現及び赤外光の可視化変換
表示や検出は重要な技術課題として認識されている。バ
ンドギャップの大きなZnS、ZnSc等のII−VI属半
導体による青色レーザー発振の研究は盛んに行われてい
るが、安定なp型の作製が難しいこと、ドーピングにと
もない正孔の活性化率が低下すること、格子不整合を起
こさないような適当な単結晶基板が少ないことなどの理
由で、キャリア制御された安定なpn接合を形成するの
が困難である。こういったことから、現在、電流注入に
よる室温での安定な青色レーザー発振はまだ実現されて
いない。
【0003】一方フォノンエネルギーが小さいマトリク
スに希土類イオンをドープし、可視または赤外レーザー
の励起で、2段階以上の励起を経て、アップコンバージ
ョンによる青色レーザー発振の試みも行われている。結
晶は大きな寸法の良質なものの作製が困難であることか
ら、ガラスが有望な候補材料としてあげられている。し
かし、フォノンエネルギーが小さいマトリクスは化学耐
久性が悪く、機械的強度が弱く、またはガラス形成能が
小さい。例えばZBLAN系フッ化物ガラスはフォノン
エネルギーは比較的小さい(580cm-1)が、空気中
にさらすと水と反応し、劣化するなど耐久性、強度等実
用の面において問題がある。また結晶に比べて、希土類
イオンは、ガラス中ではマトリクスとなるガラスのラン
ダムな構造により、多くの近隣構造が異なったサイトを
占めることになる。従って、一般的にブロードな吸収ス
ペクトルを示し、レーザーの性能を表す誘導断面積は小
さく、レーザー発振が難しくなる。希土類イオンドープ
ガラスによる赤外光のアップコンバージョン過程を経て
の可視光の発生は、青色レーザーの実現と同様、本質的
に耐久性、強度と効率の面で問題が存在する。
【0004】そこで、この出願の発明は、以上のような
従来技術の欠点を解決するために創案されたものであ
り、耐久性がよく、機械的強度が高く、発光効率の高い
青色発光を可能とする、透明ガラスセラミックスとして
の新しいTm3+ドープ青色発光結晶化ガラスとその製造
法を提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の課題
を解決するものとして、ガラスマトリクス中に、結晶サ
イズが100nm以下の、Tm3+イオンをドープしたフ
ォノンエネルギーがZBLANよりもさらに小さい(<
300cm-1)ハロゲン化物微結晶が含有されているこ
とを特徴とするTm3+ドープ青色発光結晶化ガラス(請
求項1)、及び結晶化ガラス全体に対し0.1〜5ca
t%の量のTm3+イオンが含有されており、少なくとも
一部のTm3+イオンが、ガラスマトリクス中に含有され
るハロゲン化物微結晶にドープされていることを特徴と
するTm3+ドープ青色発光結晶化ガラス(請求項2)を
提供する。
【0006】また、この発明は、ガラスマトリクス中
に、結晶サイズが100nm以下の、Tm3+イオンとと
もにYb3+イオンがドープされたハロゲン化物微結晶が
含有されていることを特徴とするTm3+ドープ青色発光
結晶化ガラス(請求項3)、及び結晶化ガラス全体に対
し0.1〜5cat%の量のTm3+イオン並びに1〜2
0cat%の量のYb3+イオンが含有されており、少な
くとも一部のTm3+イオン並びにYb3+イオンが、ガラ
スマトリクス中に含有されるハロゲン化物微結晶にドー
プされていることを特徴とするTm3+ドープ青色発光結
晶化ガラス(請求項4)を提供する。
【0007】さらにまた、この発明は、Tm3+イオン、
もしくはTm3+イオンとともにYb 3+イオンを含有する
オキシハライドガラスをTg以上、Tc未満の温度にお
いて熱処理して、Tm3+イオン、もしくはTm3+イオン
及びYb3+イオンがドープされたハロゲン化物微結晶含
有の結晶化ガラスとすることを特徴とするTm3+ドープ
青色発光結晶化ガラスの製造法(請求項7及び8)を提
供する。
【0008】
【発明の実施の形態】この発明は、上記の構成からなる
Tm3+ドープ青色発光結晶化ガラス(ガラスセラミック
ス)を提供するものであるが、いずれの場合にも、ガラ
スマトリクスがオキシハライドガラスであって、GeO
2 及びSiO2 の内の少なくとも一種、PbF2 及びP
bCl2 の内の少なくとも一種、並びにPbO、ZnF
2 及びZnCl2 の内の少なくとも一種からなる組成を
有すること、より具体的には、GeO2 及びSiO2
内の少なくとも一種40〜80mol%、PbF2 及び
PbCl2 の内の少なくとも一種5〜40mol%、P
bO、ZnF2 及びZnCl2 の内の少なくとも一種4
0mol%以下の組成を有すること等がその態様とされ
る。
【0009】また、この発明のTm3+ドープ青色発光結
晶化ガラスにおいては、さらにマトリクスガラスの軟化
開始温度(Ts)以上、Tc未満の温度で加熱してファ
イバー等の所定の形状に成形することができる。そし
て、この発明のTm3+ドープ青色発光結晶化ガラスは、
含有されるTm3+ドープハロゲン化物微結晶、またはT
3+−Yb3+共ドープハロゲン化物微結晶の結晶サイズ
が100nm以下とされることで、レーリ散乱が抑さえ
られ、可視域において透明である。前記ドープハロゲン
化物微結晶の結晶サイズが100nmを超えるとレーリ
ー散乱によってTm3+ドープ青色発光結晶化ガラスが半
透明または不透明となり好ましくない。また、Tm3+
またはTm3+−Yb3+といった希土類イオンがフォノン
エネルギーの小さいハロゲン化物微結晶に入るので、優
れた青色発光効率を有している。すなわち、例えば図1
に示すようなメカニズムによるTm3+(650nm励
起)、図2に示すようなTm3+−Yb3+(980nm励
起)の青色発光が行われることになる。
【0010】図1は、Tm3+のエネルギー準位とアップ
コンバージョンによる蛍光メカニズムであり、励起、フ
ォノン緩和を経て、 12 14 、または、 34
位に遷移し、それぞれ所定の波長のレーザー光を放射す
る。このうち、 12 3 6 による360nm、 1
2 34 による450nm、 14 36 による4
80nmがアップコンバージョンによる蛍光であり、 3
4 36 による800nmは通常の蛍光である。
【0011】図2は、Tm3+−Yb3+のエネルギー準位
とアップコンバージョンによる蛍光メカニズムであり、
Yb3+の励起が伴うことでTm3+ 14 準位への励起
が容易に行われるようになる。発光中心としてTm3+
オンを0.1〜5cat%、またはTm3+イオンを0.
1〜5cat%及びYb3+を1〜20cat%含有する
オキシハライドガラスをTg以上、Tc未満の温度にお
いて熱処理することにより、Tm3+ドープハロゲン化物
微結晶、またはTm3+−Yb3+共ドープハロゲン化物微
結晶を、酸化物を主成分とするガラスマトリクス中に含
有させるため、化学耐久性が良く、機械的強度が高く、
発光効率の高い青色発光する透明なガラスセラミックス
であるTm3+ドープ青色発光結晶化ガラスが実現され
る。
【0012】以下、実施例を示し、さらに詳しくこの発
明について説明する。もちろん、この発明は、以下の実
施例によって限定されるものではない。
【0013】
【実施例】
実施例1 50GeO2 −40PbO−10PbF2 −1TmF3
(mol%)組成のガラスになるように、高純度の原料
を白金るつぼに収納し、蓋をして1050℃で、20分
間溶融させ、融液をTg付近に加熱された型に流し、成
形した。徐冷後、340℃で10時間熱処理することに
よりTm3+ドープされたβ−PbF2 微結晶を含有する
結晶化ガラスを作製した。
【0014】図3に示差熱分析(DTA)の結果を示
す。図3にはこの結晶化ガラスをはじめとする50Ge
2 −(50−x)PbO−xPbF2 −yTmF3
(mol%)組成のガラスのDTA曲線を示す。図3に
おいて、この結晶化ガラス(x=10、y=1)、すな
わち、TmF3 を1mol%含有したガラスのDTA曲
線においては約370℃でβ−PbF2 結晶の析出によ
る発熱ピークが見られる。TmF3 を含有しない(y=
0)で、x=10の場合のガラスにおいては、β−Pb
2 がマトリクスからのPbGe37 といった別の結
晶相と同じ温度(約540℃)で析出した。TmF3
含有しない(y=0)で、x=20の場合のガラスにお
いては、β−PbF2 が約370℃で析出したが、その
析出温度とマトリクスからのPbGe37 といった別
の結晶相の析出温度(約450℃)との間隔が狭いの
で、TmF3 を入れるとTm3+ドープβ−PbF2 結晶
の析出のコントロールがx=10の場合より難しくな
る。これらのことから、50GeO 2 −40PbO−1
0PbF2 −1TmF3 組成のガラスがTm3+ドープβ
−PbF2 微結晶を得るには好ましいことがわかる。な
お、いずれのガラスにおいても約320℃にガラス転移
を示す吸熱が見られる。
【0015】図4は、50GeO2 −40PbO−10
PbF2 −1TmF3 組成のガラスを340℃で熱処理
したときの熱処理時間との関係を示すX線回折パターン
である。図4に示されるように2時間の熱処理を施して
もアモルファス状態に変化がないが、5時間から10時
間の熱処理を施したものにおいては、白丸で示すように
Tm3+ドープβ−PbF2 微結晶相による回折が見られ
る。
【0016】図5に、50GeO2 −40PbO−10
PbF2 −1TmF3 組成のガラスを340℃で熱処理
したときに析出したTm3+ドープβ−PbF2 微結晶の
平均微結晶サイズの熱処理時間依存性を示す。平均微結
晶サイズはX線回折による半値幅からScherr’s
方程式に基づいて求めたものである。340℃の熱処理
によれば、微結晶の平均微結晶サイズは熱処理時間がほ
ぼ5時間付近で急速に成長し約14nmに達し、ほぼ1
0時間では約16nmに達し、それ以上の時間をかけて
も殆ど成長が見られない。
【0017】図6に熱処理温度によってX線回折パター
ンの変化を示す。やきなまし以外は熱処理時間を10時
間としたものであり、340℃以上の熱処理温度によ
り、白丸で示すようにTm3+ドープβ−PbF2 微結晶
が析出している。400℃ではさらにマトリクスからP
bGe37 といった別の結晶の析出もみられることか
ら、熱処理には適切な温度が必要であることがわかる。
【0018】図7に50GeO2 −40PbO−10P
bF2 −1TmF3 組成の未処理ガラスと該ガラスを熱
処理温度340℃で、10時間熱処理して得られた結晶
化ガラスの吸収スペクトルの一部を示す。熱処理したガ
ラスの吸収ピークがシャープになっている。これらのピ
ークは 36 から 34 または 32 ,3への遷移による
ものである。このことから熱処理したガラスにはTm3+
の少くとも一部がβ−PbF2 結晶の中にドープされ入
っていることがわかる。
【0019】図8に、50GeO2 −40PbO−10
PbF2 −1TmF3 組成の未処理ガラスと該ガラスを
熱処理温度340℃で、10時間熱処理して得られた結
晶化ガラスに650nmのレーザー光を用い励起させ発
光させた発光強度を示す。発光は、Tm3+ 12 3
4 (450nm)及び 12 36 (360nm)
遷移によるものである。この図から明らかなように、こ
の発明のTm3+ドープフッ化物微結晶含有の結晶化ガラ
スとすることによって、未処理のガラスよりもより発光
効率の高い青色発光が得られた。またガラスマトリクス
がGe−O、Pb−Oからなる構造なので、この結晶化
ガラスは、耐久性に優れ、室温の空気中においてなんの
変化も見あたらない。また機械的強度も高い。 実施例2 Tm3+ドープ青色発光結晶化ガラス前駆体として、50
SiO2 −30PbF 2 −10ZnF2 −9YbF3
1TmF3 (mol%)ガラスを生成させるため、実施
例1と同じ手順で、ガラス溶融、成形を行った。これを
450℃〜550℃で1時間熱処理することにより、透
明なTm3+−Yb3+共ドープPbx Zn 1 -x2 微結晶
を含有するガラスを作製した。650nm及び980n
mのレーザーで照射した場合強い青色の発光が観測され
た。 実施例3 Tm3+ドープ青色発光結晶化ガラス前駆体として、40
SiO2 −10GeO 2 −30PbCl2 −20ZnC
2 −1TmCl3 (mol%)ガラスを生成させるた
め、実施例1と同じ手順で、ガラス溶融、成形を行っ
た。300℃〜450℃で1時間熱処理することによ
り、透明なTm3+ドープPbx Zn1 -xCl 2 微結晶を
含有するガラスを作製した。650nmのレザーで照射
した場合強い青色の発光が観測された。
【0020】
【発明の効果】この発明により、以上詳しく説明したよ
うに、耐久性が良く、機械的強度が高く、発光効率の高
い青色発光の透明なガラスセラミックスであるTm3+
ープ青色発光結晶化ガラスが提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】Tm3+(650nm励起)による青色発光のメ
カニズムを示す模式図である。
【図2】Tm3+−Yb3+(980nm励起)による青色
発光のメカニズムを示す模式図である。
【図3】50GeO2 −(50−x)PbO−xPbF
2 −yTmF3 ガラスのDTA曲線図である。
【図4】実施例1のガラスの熱処理時間を変えた時のガ
ラスセラミックスのX線回折パターンを示した図である
(熱処理温度:340℃)。
【図5】実施例1の析出結晶の平均微結晶サイズと熱処
理時間との関係を示した図である(熱処理温度:340
℃)。
【図6】実施例1の熱処理温度を変えた時のガラスセラ
ミックスのX線回折パターンを示した図である(熱処理
時間:10時間)。
【図7】実施例1の未処理ガラスとTm3+ドープ微結晶
含有ガラスの吸収スペクトルを示した図である。
【図8】実施例1の650nmレーザー励起によるガラ
スとTm3+ドープ微結晶含有ガラスの青色発光強度を示
した図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09K 11/66 CPG 9636−4H C09K 11/66 CPG

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガラスマトリクス中に、結晶サイズが1
    00nm以下の、Tm3+イオンがドープされたハロゲン
    化物微結晶が含有されていることを特徴とするTm3+
    ープ青色発光結晶化ガラス。
  2. 【請求項2】 結晶化ガラス全体に対し0.1〜5ca
    t%の量のTm3+イオンが含有されており、少なくとも
    一部のTm3+イオンが、ガラスマトリクス中に含有され
    るハロゲン化物微結晶にドープされていることを特徴と
    するTm3+ドープ青色発光結晶化ガラス。
  3. 【請求項3】 ガラスマトリクス中に、結晶サイズが1
    00nm以下の、Tm3+イオンとともにYb3+イオンが
    ドープされたハロゲン化物微結晶が含有されていること
    を特徴とするTm3+ドープ青色発光結晶化ガラス。
  4. 【請求項4】 結晶化ガラス全体に対し0.1〜5ca
    t%の量のTm3+イオン並びに1〜20cat%の量の
    Yb3+イオンが含有されており、少なくとも一部のTm
    3+イオン並びにYb3+イオンが、ガラスマトリクス中に
    含有されるハロゲン化物微結晶にドープされていること
    を特徴とするTm3+ドープ青色発光結晶化ガラス。
  5. 【請求項5】 ガラスマトリクスが、GeO2 及びSi
    2 の内の少なくとも一種、PbF2 及びPbCl2
    内の少なくとも一種、並びにPbO、ZnF 2 及びZn
    Cl2 の内の少なくとも一種からなる組成を有するオキ
    シハライドガラスであることを特徴とする請求項1ない
    し4のいずれかに記載のTm3+ドープ青色発光結晶化ガ
    ラス。
  6. 【請求項6】 GeO2 及びSiO2 の内の少なくとも
    一種40〜80mol%、PbF2 及びPbCl2 の内
    の少なくとも一種5〜40mol%、PbO、ZnF2
    及びZnCl2 の内の少なくとも一種40mol%以下
    の組成を有することを特徴とする請求項5のTm3+ドー
    プ青色発光結晶化ガラス。
  7. 【請求項7】 Tm3+イオンを含有するオキシハライド
    ガラスを該ガラスのガラス転移温度(Tg)以上、ガラ
    スマトリクスからの別の結晶相の析出開始温度(Tc)
    未満の温度において熱処理して、Tm3+ドープハロゲン
    化物微結晶含有の結晶化ガラスとすることを特徴とする
    Tm3+ドープ青色発光結晶化ガラスの製造法。
  8. 【請求項8】 Tm3+イオンとともにYb3+イオンを含
    有するオキシハライドガラスを該ガラスのTg以上、T
    c未満の温度において熱処理して、Tm3+イオン及びY
    3+イオンがドープされたハロゲン化物微結晶含有の結
    晶化ガラスとすることを特徴とするTm3+ドープ青色発
    光結晶化ガラスの製造法。
  9. 【請求項9】 オキシハライドガラス中のTm3+イオン
    の含有量が0.1〜5cat%であることを特徴とする
    請求項7記載のTm3+ドープ青色発光結晶化ガラスの製
    造法。
  10. 【請求項10】 オキシハライドガラス中のTm3+イオ
    ンの含有量が1〜5cat%、並びにYb3+イオンの含
    有量が1〜20cat%であることを特徴とする請求項
    8記載のTm3+ドープ青色発光結晶化ガラスの製造法。
  11. 【請求項11】 ハロゲン化物微結晶のサイズが100
    nm以下であることを特徴とする請求項7ないし10の
    いずれかに記載のTm3+ドープ青色発光結晶化ガラスの
    製造法。
  12. 【請求項12】 オキシハライドガラスが、GeO2
    びSiO2 の内の少なくとも一種40〜80mol%、
    PbF2 及びPbCl2 の内の少なくとも一種5〜40
    mol%、PbO、ZnF2 及びZnCl2 の内の少な
    くとも一種40mol%以下の組成を有することを特徴
    とする請求項7ないし11のいずれかに記載のTm3+
    ープ青色発光結晶化ガラスの製造法。
  13. 【請求項13】 請求項7ないし12のいずれかに記載
    の方法により製造したTm3+ドープ青色発光結晶化ガラ
    スをさらにマトリクスガラスの軟化開始温度(Ts)以
    上Tc未満の温度で加熱して所定の形状に成形すること
    を特徴とするTm3+ドープ青色発光結晶化ガラス成形品
    の製造法。
  14. 【請求項14】 ファイバー形状に成形することを特徴
    とする請求項13に記載のTm3+ドープ青色発光結晶化
    ガラス成形品の製造法。
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