JPH09166551A - 表面検査装置 - Google Patents

表面検査装置

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JPH09166551A
JPH09166551A JP8284579A JP28457996A JPH09166551A JP H09166551 A JPH09166551 A JP H09166551A JP 8284579 A JP8284579 A JP 8284579A JP 28457996 A JP28457996 A JP 28457996A JP H09166551 A JPH09166551 A JP H09166551A
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Japan
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light
flaw
linear array
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steel plate
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Application number
JP8284579A
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English (en)
Inventor
Tsutomu Kawamura
努 河村
Yuji Matoba
有治 的場
Akira Kazama
彰 風間
Takahiko Oshige
貴彦 大重
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
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Publication of JPH09166551A publication Critical patent/JPH09166551A/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/8914Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the material examined
    • G01N2021/8918Metal

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  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】高速で移動する鋼板の油のしみや酸化膜のむ
ら,異物の付着をオンライン判別することは困難であっ
た。 【解決手段】3組のリニアアレイセンサ10a〜10c
から入力された鋼板4表面の偏光画像の濃度レベルと基
準濃度レベルとを信号処理部13で比較して、測定した
偏光画像の濃度レベルが基準濃度レベルの範囲外となる
領域を疵候補領域として抽出する。抽出した疵候補領域
内における測定光強度から被検査面の疵を判定するエリ
プソパラメ−タと表面反射強度を算出し、演算処理する
画素の領域を限定して、偏光画像の全画素について演算
する場合と比べて演算処理時間を大幅に短縮する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば薄鋼板等
の表面疵を光学的に検出する表面検査装置に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】例えば鋼板の表面疵を光学的に検出する
装置としては、レ−ザ光の散乱又は回折パタ−ンの変化
を利用して疵を検出する方法が多く用いられている。こ
の方法は鋼板の表面に明らかな凹凸を形成している疵を
検出する場合には有効な方法である。
【0003】一方、鋼板等の疵には、表面の凹凸はな
く、物性値のむら,ミクロな粗さのむら,薄い酸化膜等
の局所的な存在あるいはコ−ティング膜の厚さむらとい
った模様状疵といわれるものがある。このような模様状
疵はレ−ザ光の散乱や回折パタ−ンの変化では検出が困
難である。例えば正常部で100Å程度の酸化膜が付いて
いる鋼板表面に、局所的に400Å程度の酸化膜が厚く付
いている異常部がある場合、このような異常部の領域は
表面処理工程において塗装不良が生じるため、疵として
検出して除去したい要請がある。しかしながら、異常部
と正常部の酸化膜厚の差は鋼板表面の粗さに埋もれてし
まい、光の散乱や回折を利用した方法では全く検出が不
可能である。
【0004】このように光の散乱や回折を利用した方法
では検出できない疵を検出するために、偏光を用いた疵
検査方法が例えば特開昭52−138183号公報や特開昭58−
204356号公報等に開示されている。特開昭52−138183号
公報に示された検査方法は被検査体の表面から反射した
P偏光とS偏光の比があらかじめ定めた比較レベルより
高いか否可によって欠陥の有無を検知するものである。
また、特開昭58−204356号公報に示された検出方法は被
検査体の表面に特定角度の入射角で光を照射して、表面
欠陥を検出するときのS/N比を向上するようにしたも
のである。また、偏光を用いた膜厚あるいは物性値の測
定方法が例えば特開昭62−293104号公報に開示されてい
る。特開昭62−293104号公報に示された検査方法は、試
料から反射した偏光を方位角の異なる3個の検光子を通
して受光し、異なる3種類の偏光の光強度から各位置の
エリプソパラメ−タすなわち反射光の電気ベクトルのう
ち入射面方向の成分であるP偏光と入射面に垂直方向の
成分であるS偏光との振幅反射率比tanΨと位相差Δを
演算して、被検査面上の酸化膜やコ−ティング厚さある
いは物性値を精度良く測定する方法である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】特開昭52−138183号公
報や特開昭58−204356号公報に示された検査方法は、偏
光を用いて正常部と異常部とを弁別しているが、厳密な
エリプソパラメ−タである振幅反射率比tanΨと位相差
Δを判定することなしに疵を検出するようにしている。
鋼板等の表面の疵部は光学的物性が正常部と異なった部
分であることが多く、このような部分は複素屈折率が正
常部と異なっているといえる。このような場合、エリプ
ソパラメ−タの振幅反射率比tanΨと位相差Δの両方を
考慮しないと、エリプソパラメ−タの変化の一部しか捕
らえることができず、例えば検査結果として異常部が検
出できたとしても、それが油のしみか、酸化膜のむら
か、又は何らかしらの異常な付着物が付着したのである
か等を弁別することができず、異常部の種別と程度を判
定することは困難であった。
【0006】これに対して特開昭62−293104号公報に示
された検査方法は、エリプソパラメ−タの振幅反射率比
tanΨと位相差Δを使用しているから、油のしみや酸化
膜のむら,異物の付着を弁別できる可能性がある。しか
しながら、この方法は基本的に点測定であり、鋼板等の
表面全体の検査に適さない。仮に、特開昭62−293104号
公報に示されている装置を鋼板の幅方向に多数並べた
り、幅方向に高速に移動可能な機構を持った手段によっ
て1台の装置を走査したり、何らかの工夫により全面走
査が可能になったとしても、信号処理部は全測定点につ
いて偏光強度信号からエリプソパラメ−タの振幅反射率
比tanΨと位相差Δを演算子、画像処理装置などを用い
て疵種と疵の等級を判定する必要がある。しかし、幅方
向1ラインで1000点以上の偏光強度信号を処理しなけら
ばならず、特にエリプソパラメ−タ演算はソフトウェア
演算で行った場合、約数10秒の演算時間がかかるため、
例えば毎分数100mの速度で通過する鋼板等のシ−ト状
製品の表面をオンラインで連続的に検査することは不可
能であった。このために専用の偏光パラメ−タ等の演算
処理装置が必要となり、装置が高価になってしまう。
【0007】また、この方法は検査手法としては非常に
敏感であり、他の種類の疵や汚れ,油むら,スケ−ルな
どから相対的に微弱な検出強度した与えない模様状の表
面疵の情報のみを弁別して検出することは困難であっ
た。特に、表面に油膜が塗布されて製造ライン上を移動
する鋼板を検査する場合には、その油膜むらと本来検出
すべき表面疵の両方を含んだ偏光パラメ−タを検出して
しまい、表面疵の情報だけを弁別して検出することはで
きなかった。このため、特に防錆のために表面に油膜が
塗布されていることが多い冷延鋼板等の通常の鋼板の表
面疵の検出に使える可能性がないと考えられており、鋼
板の模様状疵を光学的手段で検出すること、さらに表面
疵の種類や等級までを判定することは不可能とされてい
た。
【0008】また、この方法は元々膜厚あるいは物性値
を測定する方法であり、そのためにはエリプソパラメ−
タの振幅反射率比tanΨと位相差Δを測定すれば十分で
あった、しかしながら、これらのパラメ−タは必ずしも
人の目で見た状態と一致するものではなく、人が疵と認
識できてもエリプソパラメ−タは変化しない疵について
は検出することができない。
【0009】また、エリプソパラメ−タの演算を行う
と、疵部でのS/Nが撮像装置で捕らえた偏光画像のう
ちS/Nが最大のものと比べると低下してしまう場合も
あり、疵を見逃す危険性があった。
【0010】この発明はかかる短所を改善するためにな
されたものであり、簡単な構成でシ−ト状製品の表面に
ある模様状疵や凹凸状の疵をオンラインで連続的に検出
して、その種別や程度を正確に弁別することができる表
面検査装置を得ることを目的とするものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明に係る表面検査
装置は、投光部と検出部と信号処理部とを有し、投光部
は被検査面の幅方向全体にわたり偏光光束を入射し、検
出部は被検査面からの反射光を3本のビ−ムに分離する
ビ−ムスプリッタと、分離された3本のビ−ムの光路に
それぞれ設けられ、それぞれ異なる方位角を有する検光
子と、各検光子を透過した光を受光するリニアアレイセ
ンサとを有し、被検査面からの反射光を入射し画像信号
に変換し、信号処理部は疵候補領域抽出部とパラメ−タ
演算部と判定部とを有し、疵候補領域抽出部は3組のリ
ニアアレイセンサから入力された偏光画像の濃度レベル
と基準濃度レベルとを比較して、測定した偏光画像の濃
度レベルが基準濃度レベルの範囲外となる領域を疵候補
領域として抽出し、パラメ−タ演算部は抽出した疵候補
領域内における測定光強度からエリプソパラメ−タと表
面反射強度を算出し、判定部は算出したエリプソパラメ
−タと表面反射強度の特性とあらかじめ定められた表面
疵の特性とを比較し、表面疵の等級と種類を判定するこ
とを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】この発明においては、表面検査装
置を投光部と受光部及び信号処理部で構成する。投光部
は被検査面の幅方向全体にわたり一定入射角で光束を入
射するように光源が配置され、光源と被検査面の入射面
との間に偏光板が設けられている。受光部は3組のリニ
アアレイセンサと、各リニアアレイセンサの受光面の前
面に設けられた検光子とで構成し、3組の検光子はそれ
ぞれ異なる方位角、すなわち透過軸が被検査面の入射面
となす角が、例えば「0」,「π/4」,「−π/4」に
なるように配置され、3組のリニアアレイセンサは各検
光子を通った偏光を入射して偏光の強度分布を示す画像
を信号処理部に出力する。
【0013】信号処理部には疵候補領域抽出部とパラメ
−タ演算部と判定部とが設けられている。疵候補領域抽
出部には、被検査面の正常状態を示す基準濃度レベルが
あらかじめ格納されているか、もしくは測定したデ−タ
のピ−ク値やバラツキ等から自動的に求めるようになっ
ている。そして3組のリニアアレイセンサから入力され
た偏光画像の濃度レベルと基準濃度レベルとを比較し
て、測定した偏光画像の濃度レベルが基準濃度レベルの
範囲外となる領域を疵候補領域として抽出する。この抽
出した疵候補領域内における測定光強度からパラメ−タ
演算部でエリプソパラメ−タtanΨ,cosΔと表面反射強
度を算出することにより、演算処理する画素の領域を限
定して演算処理時間を短縮する。さらにパラメ−タ演算
部で演算する前に疵候補領域を特定することにより、疵
部の信号レベルが低下することを防ぎ、疵の検出精度を
高める。判定部は算出したエリプソパラメ−タと表面反
射強度の特性とあらかじめ定められた表面疵の特性とを
比較して異常の程度を判定する。
【0014】
【実施例】図1はこの発明の一実施例の光学系を示す配
置図である。図に示すように、光学系1は投光部2と反
射光検出部3を有する。投光部2は被検査体例えば鋼板
4の幅方向全体に一定の入射角で偏光を入射するもので
あり、光源5と、光源5の前面に設けられた光ファイバ
束6と、光ファイバ束6の先端部に設けられたレンズ群
7と、レンズ群7の前面に設けられた偏光子8とを有す
る。なお、投光部2は光源5として鋼板4の幅方向に伸
びた棒状の光源を使用して光ファイバ束6とレンズ群7
を省略するようにしても良い。偏光子8は偏光板もしく
は偏光フィルタからなり、図2の配置説明図に示すよう
に、透過軸Pが鋼板4の入射面となす角α1がπ/4に
なるように配置されている。反射光検出部3は鋼板4か
ら反射角θの正反射光を受光するものであり、ビ−ムス
プリッタ9a,9bと、例えばCCDからなるリニアア
レイカメラ10a,10b,10cと、リニアアレイカ
メラ10a,10b,10cの受光面の前面に設けられ
た検光子11a,11b,11cとを有する撮像装置1
2が鋼板4の幅方向に連設されている。検光子11a,
11b,11cは例えば偏光板もしくは偏光フィルタか
らなり、図2に示すように、検光子11の透過軸が鋼板
4の入射面となす角α2は検光子11aがα2=0、検光
子11bがα2=π/4、検光子11cがα2=−π/4に
なるように配置されている。
【0015】反射光検出部3のリニアアレイカメラ10
a,10b,10cは、図3のブロック図に示すよう
に、信号処理部13に接続されている。信号処理部13
は多値フレ−ムメモリ14a,14b,14cと2値化
処理部15,2値メモリ16a,16b,16c,オア
処理部17,2値メモリ18,疵候補領域抽出部19,
パラメ−タ演算部20,tanΨ記憶部21aとcosΔ記憶
部21bとI0記憶部21c及び判定部22を有する。
多値フレ−ムメモリ14a,14b,14cにはそれぞ
れリニアアレイカメラ10a,10b,10cから出力
された反射光の光強度I1,I2,I3を示す画像信号が
各画素毎に展開されて偏光画像を形成する。2値化処理
部15は多値フレ−ムメモリ14a,14b,14cに
格納された偏光画像を2値化して、それぞれ2値メモリ
16a,16b,16cに格納する。オア処理部17は
2値メモリ16a,16b,16cに格納された2値画
像の各画素をオア処理して2値メモリ18に格納する。
疵候補領域抽出部19は2値メモリ18に格納された2
値画像の各画素の濃度から疵候補領域の位置を特定す
る。パラメ−タ演算部20は疵候補領域として特定され
た位置の光強度I1,I2,I3を示す画像信号から各画
素におけるエリプソパラメ−タすなわち振幅反射率比ta
nΨと位相差Δを示すcosΔと、鋼板4の反射光の表面反
射強度I0を演算し、tanΨ記憶部21aとcosΔ記憶部
21bとI0記憶部21cに格納する。判定部22には
あらかじめ求めておいた鋼板4の表面の特性、すなわち
物性値のむら,ミクロな粗さのむら,薄い酸化膜等の局
所的な存在あるいはコ−ティング膜厚の厚さむらといっ
た模様状疵や凹凸状疵に応じたtanΨとcosΔ及び表面反
射強度I0の各種特性が記憶してあり、tanΨ記憶部21
aとcosΔ記憶部21bとI0記憶部21cに記憶された
tanΨとcosΔ及び表面反射強度I0とあらかじめ記憶さ
れた特性とを各画素毎に比較し、鋼板4の表面の模様状
疵や凹凸状疵の有無とその種別と程度を判定して出力す
る。
【0016】上記のように構成された表面検査装置の動
作を説明するに当たり、まず、3個のリニアアレイカメ
ラ10a,10b,10cで検出した光強度から振幅反
射率比tanΨとcosΔと鋼板4の反射光の表面反射強度I
0を演算する原理を説明する。
【0017】図2に示すように偏光子8の透過軸Pと検
光子11の透過軸Aが鋼板4の入射面となす角をα1
α2とすると、任意の入射角θで鋼板4に入射して反射
したp偏光成分とs偏光成分が検光子11を通って合成
されたときの光強度I(α1,α2)は、p成分とs成分の
振幅反射率をrp,rsとすると次式で表せる。
【0018】
【数1】
【0019】ここでα1=π/4にしたとき、α2=0の
検光子11aを通った光強度I1は、I1=I0ρ2とな
り、α2=π/4の検光子11bを通った光強度I2は、
2=I0(1+ρ2+2ρcosΔ)/2、α2=−π/4の
検光子11cを通った光強度I3は、I3=I0(1+ρ2
−2ρcosΔ)/2となる。この光強度I1,I2,I3
らtanΨとcosΔ及び表面反射強度I0は次式で得られ
る。
【0020】
【数2】
【0021】但し、光強度I1,I2,I3はカメラのア
ンプゲインなどの選び方によって定数倍される場合もあ
る。
【0022】次に、上記原理を使用した表面検査装置の
動作を説明する。投光部2から出射されて一定速度で移
動している鋼板4の表面で反射した偏光はビ−ムスプリ
ッタ9a,9bで分離され、検光子11a,11b,1
1cを通ってリニアアレイカメラ10a,10b,10
cに入射する。このリニアアレイカメラ10a,10
b,10cで反射光の光強度を検出するときに、リニア
アレイカメラ10aの前面にはα2=0の検光子11a
が設けられているから、リニアアレイカメラ10aは前
記光強度I1を検出し、リニアアレイカメラ10bの前
面にはα2=π/4の検光子11bが設けられているか
ら、リニアアレイカメラ10bは前記光強度I2を検出
し、リニアアレイカメラ10cの前面にはα2=−π/
4の検光子11cが設けられているから、リニアアレイ
カメラ10cは前記光強度I3を検出する。リニアアレ
イカメラ10a,10b,10cで検出した光強度
1,I2,I3を示す画像信号がそれぞれ多値フレ−ム
メモリ12a,12b,12cに展開され、図4の画像
説明図の(a)に示すように、I1偏光画像24aとI2
偏光画像24bとI3偏光画像24cを形成する。ここ
でリニアアレイカメラ10a,10b,10cは光学的
に位置,角度を調整して同じ視野となっており、同じタ
イミングで検出した光強度I1,I2,I3は鋼板4の同
一位置で反射した光の光強度になっている。なお、リニ
アアレイカメラ10a,10b,10cで同一位置の反
射光を同じタイミングで検出できない場合は、リニアア
レイカメラ10a,10b,10cの出力端に遅延回路
等を設けて、検出位置とタイミングを合わせるようにし
ても良い。
【0023】多値フレ−ムメモリ12a,12b,12
cは、例えば横1024画素×縦200ラインからなり、1024
画素の1ラインデ−タを同一タイミングでサンプリング
し、このサンプリングが200ラインに達するまで順次格
納し、I1偏光画像24aとI2偏光画像24bとI3
光画像24cを形成する。2値化処理部25は鋼板4の
表面粗さや表面の塗油状態に応じてあらかじめ定められ
ている2値化レベルによりI1偏光画像24aとI2偏光
画像24bとI3偏光画像24cを図4(b)に示すよ
うに2値化し、2値化画像25a,25b,25cをそ
れぞれ2値化メモリ18a,18b,18cに格納す
る。この2値化するときの2値化レベルは鋼板4の表面
粗さや表面の塗油状態に応じて定められているが、測定
したデ−タのピ−ク値やバラツキ等から自動的に求めて
ノイズレベルに設定しても良い。また、疵は種類によっ
て正常部のレベルに対して高いレベルになる場合と低い
レベルになる場合があるため、図5に示すように正常レ
ベルに対してプラス,マイナス両方の2値化レベル26
a,26bを設定して2値化し、図4(b)に示すよう
に、例えば疵部27a,27bを白、正常部28を黒と
する。
【0024】この2値化画像25a,25b,25cは
1,I2,I3の3画像があり、図4(b)に示すよう
に、疵27a,27bが3画像に共通して異常値として
検出されるとは限らないため、オア処理部17で、図4
(c)に示すように、I1,I2,I3の2値画像を各画
素毎にオア処理して、オア処理画像29を2値メモリ1
8に格納する。疵候補領域抽出部19は2値メモリ18
に格納されたオア処理画像29の疵部27a,27bを
示す白い部分の位置を求め、図4(d)に示すように、
白い部分に外接する長方形の領域を疵候補領域30a,
30bとして抽出し、疵候補領域30a,30bの2点
例えば右上のP1,P3点と左下のP2,P4点の座標から
疵候補領域30a,30bを特定し、パラメ−タ演算部
20に送る。パラメ−タ演算部20は送られた疵候補領
域30a,30bの各画素に対応する光強度I1,I2
3を多値フレ−ムメモリ12a,12b,12cを読
み出し、各画素毎にエリプソパラメ−タである振幅反射
率比tanΨと位相cosΔと鋼板4の反射光の表面反射強度
0を演算し、演算した結果をtanΨ記憶部21aとcos
Δ記憶部21b及びI0記憶部21cに逐次格納する。
このように疵候補領域30a,30bの各画素について
だけエリプソパラメ−タ等を演算するから画像全体の領
域について演算する場合と比べて演算時間を大幅に短縮
することができる。また、従来のエリプソパラメ−タに
加えて反射光の表面反射強度I0できるようになったの
で、検出可能な疵種と等級も多くなっている。
【0025】判定部22はtanΨ記憶部21aとcosΔ記
憶部21b及びI0記憶部21cに格納されたtanΨとco
sΔと表面反射強度I0とを各画素毎にあらかじめ求めて
おいた鋼板4の表面の特性と比較し、どのパラメ−タが
変化しているかの組合わせにより、疵の種類と等級を判
定して不図示の表示手段や記録手段に出力する。なお、
油むらは偏光画像では濃度レベルが高く疵として抽出さ
れるが、tanΨとcosΔと表面反射強度I0の組合せによ
り表面疵に相当しない場合には疵として判定されないよ
うにしている。
【0026】この判定部22で疵の種類と等級を判定す
るときの動作を詳細に説明する。判定部22は疵候補領
域30a,30bにおける各画素のtanΨ,cosΔ,I0
のピ−ク値又は平均値を求め、疵候補領域30a,30
bにおけるtanΨc,cosΔc,I0cのピ−ク値又は平
均値が正常部の基準レベルよりプラス領域かマイナス領
域かを示す極性を求め、極性パタ−ンなどの疵特微量E
ppを例えば、Epp=9Δp+3Ψp+Ipで演算す
る。ここでΨpはtanΨcの極性、ΔpはcosΔcの極
性、IpはI0cの極性を示し、例えばプラス極性のと
きは「2」、正常部と同じときは「1」、マイナス極性
のときは「0」と数値化して表す。
【0027】また、疵特微量Eppと同様に、疵候補領
域30a,30bにおける各画素I1,I2,I3のピ
−ク値又は平均値を求め、疵候補領域30a,30bに
おける各画素I1,I2,I3のピ−ク値又は平均値が
正常部の基準レベルよりプラス領域かマイナス領域かを
示す極性を求め、極性パタ−ンの疵特微量Ippを例え
ばIpp=9I1p+3I2p+I3pで演算する。こ
こでI1pはI1の極性、I2pはI2の極性、I3p
はI3の極性を示し、例えばプラス極性のときは
「2」、正常部と同じときは「1」、マイナス極性のと
きは「0」と数値化して表す。さらに、判定部22は疵
候補領域抽出部19で算出した疵候補領域の座標から疵
の長さと幅を求める。
【0028】また、判定部22は送られた疵候補領域3
0a,30bの疵特微量Eppを使って疵の種類を判定
する。例えば冷延鋼板における異なる疵種S,T,U,
V,W,Xに対するtanΨc,cosΔc,I0cの極性変
化を調べた結果と疵特微量Eppは図6に示すようにな
り、鍍金鋼板における異なる疵種S,X,Y,Z,Wに
対するtanΨc,cosΔc,I0cの極性変化を調べた結
果と疵特微量Eppは図7に示すようになった。そこで
判定部22はこの各疵種の疵特微量Eppと疵特微量E
ppから疵種を判別する。すなわち、tanΨc,tanΔ
c,I0cの極性の1又は2つの組合せでは、図6,図
7に示すように疵種を判別することはできないが、tan
Ψc,cosΔc,I0cの3つの極性を組み合わせること
により疵種を明確に区分けすることができる。そこで例
えば冷延鋼板の場合には、疵特微量Eppが「0」のと
きは疵種Tと判定し、疵特微量Eppが「1」のときは
疵種Vと判定し、疵特微量Eppが「12」のときは疵種
Wと判定し、疵特微量Eppが「18」のときは疵種Sか
疵種Xと判定し、疵特微量Eppが「24」のときは疵種
Uと判定する。
【0029】ここで、図6における疵種V,W及び図7
における疵種Z,Wは油むらであり、通常は無害な疵で
ある。このように疵特微量Eppを用いることにより、
油のむらが存在する鋼板6を検査する場合においても油
むらと他の疵を弁別することができる。
【0030】上記のように冷延鋼板の疵種Sと疵種Xの
ように疵特微量Eppだけでは区分けできない場合もあ
る。このような場合には、さらに疵候補領域30a,3
0bの疵特微量Ippも使う。冷延鋼板における異なる
疵種S,T,U,V,W,Xに対するI1,I2,I3
の極性変化を調べた結果と疵特微量Ippは図8に示す
ようになり、鍍金鋼板における異なる疵種S,X,Y,
Z,Wに対するI1,I2,I3の極性変化を調べた結
果と疵特微量Ippは図9に示すようになった。冷延鋼
板の疵種Sと疵種Xについては疵特微量Eppが同じで
あるため区分けできなかったが、疵特微量Ippが異な
るので、疵特微量Ippにより明確に区分けすることが
できる。また、疵の等級はtanΨ,cosΔ,I0のピ−ク
値や平均値、疵の長さ、幅も使い判定する。
【0031】また、判定部22から疵の種類と等級を出
力するとともに、疵候補領域抽出部19で抽出した疵候
補領域30a,30bの座標を特定して出力することに
より、疵の大きさも検出することができ、疵を正確に判
定することができる。
【0032】このように鋼板4の表面疵を検出する場
合、通常、鋼板4の表面疵は、幅が5mm、長さが200mm
以下の大きさであり、発生頻度は長手方向の数10mに1
回程度である。したがって上記のように多値フレ−ムメ
モリ14a〜14cのサイズを例えば横1024画素×縦20
0ラインに構成すると、1画素分解能を横0.5mm×縦5mm
とすると、多値フレ−ムメモリ14a〜14cのサイズ
は鋼板4の幅500mm、長さ1.0mに相当するため、1画像
中の表面疵の画素数は横10画素×縦40画素程度であり、
エリプソパラメ−タ等を演算する演算時間は画像の全画
素分を演算する場合と比べて1/500以下になる。した
がって特殊な演算装置を使用しなくても演算時間が数10
msecの時間ですみ、例えば毎分数100m移動する鋼板4
の場合であっても、200ラインの画像ができる時間が数1
00msecであることから、移動している鋼板4の疵をオン
ラインで確実に検出することができる。
【0033】なお、上記実施例は光学系1の反射光検出
部3に3組のリニアアレイカメラ10a〜10cを設け
た場合について説明したが、図10に示すように、反射
光検出部3に3板式偏光リニアアレイカメラ31を使用
しても良い。図10に示す光学系1は投光部2と3板式
偏光リニアアレイカメラ3を有する。投光部2は被検査
体例えば鋼板4の表面に一定の入射角で偏光を入射する
ものであり、光源5と光源5の前面に設けられた偏光子
8とを有する。光源5は鋼板4の幅方向に伸びた棒状発
光装置からなり、鋼板4の幅方向全体に一定間隔で光を
照射する。また、場合によっては光源5と偏光子8の間
にシリンドリカルレンズを設けて、光源5からの光を鋼
板4の表面に集光しても良い。偏光子8は例えば1/4
波長板からなり、図11の配置説明図に示すように、透
過軸Pが鋼板4の入射面となす角α1がπ/4になるよ
うに配置されている。3板式偏光リニアアレイカメラ3
1は、図12の構成図に示すように、ビ−ムスプリッタ
32と3個の検光子33a,33b,33cと3個のリ
ニアアレイセンサ34a,34b,34cとを有する。
ビ−ムスプリッタ32は3個のプリズムからなり、入射
面に誘電体多層膜を蒸着した半透過性を有する反射面が
2面設けられ、鋼板4からの反射光を入射する第1の反
射面32aは透過率と反射率が3対1の割合になってお
り、第1の反射面32aを透過した光を入射する第2の
反射面32bは透過率と反射率が1対1の割合になって
おり、鋼板4からの反射光を同じ光量の3本のビ−ムに
分離する。また、ビ−ムスプリッタ32の入射面から分
離した3本のビ−ムの出射面までの光路長は同じにして
ある。検光子33aは第2の反射面32bの透過光の光
路に設けられ、図11に示すように、方位角すなわち透
過軸が鋼板4の入射面となす角α2が0度になるように
配置され、検光子33bは第2の反射面32bの反射光
の光路に設けられ、方位角α2がπ/4度になるように配
置され、検光子33cは第1の反射面32aの反射光の
光路に設けられ、方位角α2が−π/4になるように配置
されている。リニアアレイセンサ34a,34b,34
cは例えばCCDセンサからなり、それぞれ検光子33
a,33b,33cの後段に配置されている。また、ビ
−ムスプリッタ32と検光子33a,33b,33cの
間にはビ−ムスプリッタ32内の多重反射光や不必要な
散乱光をカットするスリット35a,35b,35cが
設けられ、ビ−ムスプリッタ32の前段にはレンズ群3
6が設けられている。また、リニアアレイセンサ34
a,34b,34cは同じ光強度の光が入射したときに
同じ信号を出力するように利得が調整してある。
【0034】このように入射した光を分離した3本のビ
−ムの光路に検光子33a〜33cとリニアアレイセン
サ34a〜34cが一体化して設けられているから、リ
ニアアレイセンサ34a〜34c等を鋼板4の搬送路近
傍に設置して鋼板4からの反射光を検出するときに、リ
ニアアレイセンサ34a〜34c等の位置調整を必要と
しないとともに、鋼板4の同じ位置からの反射光を同じ
タイミングで検出することができる。また、3板式偏光
リニアアレイカメラ31内に3組のリニアアレイセンサ
34a〜34cがまとまって収納されて小型化している
から、3板式偏光リニアアレイカメラ31を鋼板4の反
射光の光路に簡単に配置することができるとともに、配
置位置を任意に選択することができ、光学系1の配置の
自由度を向上することができる。
【0035】なお、上記実施例は1次元のリニアアレイ
カメラで幅方向の偏光画像を検出する場合について説明
したが、2次元のカメラを用いて、幅方向とそれに直交
する方向の2次元画像を検出するようにしても良い。
【0036】
【発明の効果】この発明は以上説明したように、3組の
リニアアレイセンサから入力された被検査面の偏光画像
の濃度レベルと基準濃度レベルとを比較して、測定した
偏光画像の濃度レベルが基準濃度レベルの範囲外となる
領域を疵候補領域として抽出し、抽出した疵候補領域内
における測定光強度から被検査面の疵を判定するエリプ
ソパラメ−タと表面反射強度を算出するようにして、演
算処理する画素の領域を限定するから、偏光画像の全画
素について演算する場合と比べて演算処理時間を大幅に
短縮することができる。したがって光束で移動している
鋼板等のシ−ト状材料の表面疵をオンラインで精度良く
検出することができる。
【0037】さらに、装置全体の処理能力が少なくてす
むから、装置全体を簡略化することができ、装置のコス
トダウンを図ることができる。
【0038】また、エリプソパラメ−タ画像に比べて疵
部のS/Nが高い偏光画像で疵位置を検出するから、疵
を確実に捕らえて見逃しを減らすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例の光学系を示す配置図であ
る。
【図2】上記実施例の配置を示す説明図である。
【図3】上記実施例の信号処理部を示すブロック図であ
る。
【図4】上記実施例の動作を示す画像説明図である。
【図5】2値化レベルを示す濃度特性図である。
【図6】冷延鋼板における疵種の極性特性図である。
【図7】鍍金鋼板における疵種の極性特性図である。
【図8】冷延鋼板における疵種の他の極性特性図であ
る。
【図9】鍍金鋼板における疵種の他の極性特性図であ
る。
【図10】第2の実施例の光学系を示す配置図である。
【図11】第2の実施例の光学系の動作を示す配置説明
図である。
【図12】第2の実施例の3板式偏光リニアアレイカメ
ラの構成図である。
【符号の説明】
1 光学系 2 投光部 3 反射光検出部 4 鋼板 8 偏光子 9 ビ−ムスプリッタ 10 リニアアレイカメラ 11 検光子 13 信号処理部 14 多値メモリ 15 2値化処理部 16 2値メモリ 17 オア処理部 18 2値メモリ 19 疵候補領域抽出部 20 パラメ−タ演算部 21a tanΨ記憶部 21b cosΔ記憶部 21c I0記憶部 22 判定部 31 3板式偏光リニアアレイカメラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大重 貴彦 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 投光部と検出部と信号処理部とを有し、 投光部は被検査面の幅方向全体にわたり偏光光束を入射
    し、 検出部は被検査面からの反射光を3本のビ−ムに分離す
    るビ−ムスプリッタと、分離された3本のビ−ムの光路
    にそれぞれ設けられ、それぞれ異なる方位角を有する検
    光子と、各検光子を透過した光を受光するリニアアレイ
    センサとを有し、被検査面からの反射光を入射し画像信
    号に変換し、 信号処理部は疵候補領域抽出部とパラメ−タ演算部と判
    定部とを有し、疵候補領域抽出部は3組のリニアアレイ
    センサから入力された偏光画像の濃度レベルと基準濃度
    レベルとを比較して、測定した偏光画像の濃度レベルが
    基準濃度レベルの範囲外となる領域を疵候補領域として
    抽出し、パラメ−タ演算部は抽出した疵候補領域内にお
    ける測定光強度からエリプソパラメ−タと表面反射強度
    を算出し、判定部は算出したエリプソパラメ−タと表面
    反射強度の特性とあらかじめ定められた表面疵の特性と
    を比較し、表面疵の等級と種類を判定することを特徴と
    する表面検査装置。
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