JPH09157443A - 加硫性ゴム組成物およびピンチローラ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 摩擦係数と耐摩耗性とのバランスに優れ、と
くに磁気テープ装置等のピンチローラ用途に適した加硫
性ゴム組成物を提供する。 【解決手段】 不飽和ニトリル単位１５〜４０重量％、
不飽和ジカルボン酸エステル単位２０〜４０重量％を有
するブタジエン−不飽和ジカルボン酸エステル−アクリ
ロニトリル共重合体ゴムを水素化したニトリル基含有高
飽和共重合体ゴム１００重量部に対して、ＦＥＦ−ＬＳ
からなる低ストラクチャーのカーボンブラック２０〜８
重量部、ジオクチルフタレートからなる可塑剤５〜２０
重量部および有機過酸化物系加硫剤０．５〜２０重量部
を配合してなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気テープ装置等
に使用されるピンチローラ用に適した加硫性ゴム組成物
およびピンチローラに関する。

【０００２】

【従来の技術】アクリロニトリル−ブタジエン共重合体
ゴムのブタジエン部分の不飽和結合を水素化したニトリ
ル基含有高飽和共重合体ゴムは、耐油性・耐熱性等に優
れていることが知られている（例えば、特開昭５４−１
３２６４７号公報など）。また、該高飽和共重合体ゴム
とアクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴムとは、適
当な割合で組み合わせた混合組成物として通常使用され
る。だが、これらのゴム組成物は、とくに自動車部品等
のように、耐候性・加工性に優れていることに加えて、
高強度、耐油性等が要求される用途には好適なゴム材料
であるものの、自動車部品等以外の用途においては、そ
の用途に特徴的な要求性能を充足するためには不明確な
点が多く、例えば、磁気テープ装置等のピンチローラの
ように、磁気テープをスムーズにかつ正確に移送する機
能を長期間保持しなければならない用途には、その性能
が不充分であると考えられていた。

【０００３】従来、磁気テープ装置等に使用されるピン
チローラのゴム被覆には、シリコーンゴム、クロロプレ
ンゴム、ウレタンゴムあるいはアクリロニトリル−ブタ
ジエン系ゴムが用いられ、また、磁気テープの走行を安
定化すべく種々の手法が提案されている（たとえば、特
開平２−２７３３５７号公報、特開昭６１−２２４１６
３号公報、特開平１−１８７１６５号公報など）。しか
し、近年ピンチローラの高性能化の要求は高まり、従来
のゴム材料では、かかる要求を充足するには不十分な場
合も生じ、改良手法が望まれていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、本発明者等
が、ニトリル基含有高飽和共重合体ゴムに、低ストラク
チャーのカーボンブラックを配合したゴム組成物を調製
したところ、摩擦係数と耐摩耗性とのバランスが良好で
あることを見いだし、さらに、これをピンチローラ用途
に適用してみると、意外にも、磁気テープの定速走行性
が良好であることを見出し、この知見に基いて本発明を
完成させるに至った。

【０００５】

【課題を解決するための手段】かくして本発明によれ
ば、下記（１）ないし（３）が提供される。 （１）不飽和ニトリル−共役ジエン系共重合体の共役ジ
エン部分を水素化してなるニトリル基含有高飽和共重合
体ゴム１００重量部に対して、低ストラクチャーのカー
ボンブラック１０〜１００重量部、可塑剤３〜３０重量
部及び有機過酸化物系加硫剤０．１〜３０重量部を配合
してなる加硫性ゴム組成物。 （２）ピンチローラ用である（１）記載の加硫性ゴム組
成物。 （３）（１）記載の加硫性ゴム組成物を加硫してなる加
硫物をゴム被覆とするピンチローラ。

【０００６】

【発明の実施の形態】

（ニトリル基含有高飽和共重合体ゴム）本発明で使用す
るニトリル基含有高飽和共重合体ゴムは、不飽和ニトリ
ル−共役ジエン系共重合体ゴムの共役ジエン単位部分を
水素化したものであり、該共重合体ゴム中の結合アクリ
ロニトリル含量１０〜５０重量％、好ましくは１５〜４
０重量％、ヨウ素価８０以下、好ましくは、６０以下を
有し、ムーニー粘度（ＭＬ₁₊₄ 、１００℃）は３０〜３
００未満、好ましくは５０〜２００の範囲、さらに好ま
しくは６０〜１５０の範囲のゴムである。結合アクリロ
ニトリル含量は、要求性能に応じて最適の結合アクリロ
ニトリル含量のものが選択される。

【０００７】ヨウ素価が８０を超えると、耐熱性および
強度が低下する。ヨウ素価の下限は格別限定されない
が、過度に低いと加硫が困難になる場合があるので、概
して、ヨウ素価が少くとも１のものが用いられる。ムー
ニー粘度が３０未満では長期間の高圧下での耐久性が不
充分で、圧縮永久ひずみ、つぶれ（圧縮緩和）が改善さ
れない。また３００を越えると混練時の加工性が悪くな
る。

【０００８】上記のニトリル基含有高飽和共重合体ゴム
を製造するために使用されるモノマーを例示する。不飽
和ニトリルの具体例としては、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、α−クロロアクリロニトリルなどが挙
げられる。

【０００９】共役ジエンの具体例としては、１，３−ブ
タジエン、２，３−ジメチルブタジエン、イソプレン、
１，３−ペンタジエンなどが挙げられる。

【００１０】共役ジエンとして、１，３−ブタジエンお
よびイソプレンを併用したイソプレン−ブタジエン−ア
クリロニトリル共重合体ゴムの場合は、通常、結合共役
ジエン合計量中の結合１，３−ブタジエン量は３０〜７
０重量％、結合イソプレン量は７０〜３０重量％であ
る。

【００１１】さらに、不飽和ニトリル−共役ジエン系共
重合体ゴムには、不飽和ニトリル及び共役ジエンと共重
可能なエチレン性不飽和モノマーその他のモノマーが用
いられる。

【００１２】そのようなモノマーとしては、スチレン、
α−メチルスチレン、ビニルピリジンなどの芳香族ビニ
ル系モノマー；ビニルノルボルネン、ジシクロペンタジ
エン、１，４−ヘキサジエンなどの非共役ジエン系モノ
マー；メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロ
ピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチ
ルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｎ−ペンチ
ルアクリレート、イソノニルアクリレート、ｎ−ヘキシ
ルアクリレート、２−メチル−ペンチルアクリレート、
ｎ−オクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリ
レート、ｎ−ドテシルアクリレート、メチルメタクリレ
ート、エチルメタクリレートなどの炭素数１〜１８程度
のアルキル基を有するアクリレートおよびメタクリレー
ト；メトキシメチルアクリレート、メトキシエチルアク
リレート、エトキシエチルアクリレート、ブトキシエチ
ルアクリレート、エトキシプロピルアクリレートなどの
全炭素数２〜１２程度のアルコキシアルキル基を有する
アクリレート；α−またはβ−シアノエチルアクリレー
ト、α−、β−またはγ−シアノプロピルアクリレー
ト、シアノブチルアクリレート、シアノヘキシルアクリ
レート、シアノオクチルアクリレートなどの炭素数２〜
１２程度のシアノアルキル基を有するアクリレート；２
−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピル
アクリレートなどのヒドロキシアルキル基を有するアク
リレート；マレイン酸モノエチル、マレイン酸ジメチ
ル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジ
−ｎ−ブチル、フマル酸ジ−２−エチルヘキシル、イタ
コン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジ−
ｎ−ブチル、イタコン酸ジ−２−エチルヘキシルなどの
不飽和ジカルボン酸モノおよびジアルキルエステル等が
挙げられる。

【００１３】さらに、その他の不飽和カルボン酸エステ
ル系モノマーとしては、ジメチルアミノメチルアクリレ
ート、ジエチルアミノエチルアクリレート、３−（ジエ
チルアミノ）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、
２，３−ビス（ジフルオロアミノ）プロピルアクリレー
ト等。また、トリフルオロエチルアクリレート、テトラ
フルオロプロピルアクリレート、ペンタフルオロプロピ
ルアクリレート、ヘプタルオロブチルアクリレート、オ
クタフルオロペンチルアクリレート、ノナフルオロペン
チルアクリレート、ウンデカフルオロヘキシルアクリレ
ート、ペンタデカフルオロオクチルアクリレート、ヘプ
タデカフルオロノニルアクリレート、ヘプタデカフルオ
ロデシルアクリレート、ノナデカフルオロデシルアクリ
レート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフ
ルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチ
ルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレ
ート、ペンタデカフルオロオクチルアクリレート、ヘキ
サデカフルオロノニルメタクリレートなどのフルオロア
ルキル基を有するアクリレートおよびメタクリレート；
フルオロベンジルアクリレート、フルオロベンジルメタ
クリレート、ジフルオロベンジルメタクリレートなどの
フッ素置換ベンジルアクリレートおよびメタクリレー
ト；フルオロエチルビニルエーテル、フルオロプロピル
ビニルエーテル、トリフルオロメチルビニルエーテル、
トリフルオロエチルビニルエーテル、パーフルオロプロ
ピルビニルエーテル、パーフルオロヘキシルビニルエー
テルなどのフルオロアルキルビニルエーテル、ｏ−また
はｐ−トリフルオロメチルスチレン、ペンタフルオロ安
息香酸ビニル、ジフルオロエチレン、テトラフルオロエ
チレンなどのフッ素含有ビニル系モノマー；さらに、ポ
リエチレングリコールアクリレート、ポリプロピレング
リコールアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタ
ンアクリレート、ポリエチレングリコールメタアクリレ
ート、ポリプロピレングリコールメタアクリレート、エ
ポキシメタアクリレート、ウレタンメタアクリレートな
どが挙げられる。

【００１４】これらの不飽和ニトリル及び共役ジエンと
共重可能なエチレン性不飽和モノマーその他のモノマー
の使用量は、格別限定されないが、通常、全モノマー中
に８０重量％以下の範囲で使用され、好ましくは１５〜
６０重量％、さらに好ましくは２０〜４０重量％の範囲
で使用される。

【００１５】ニトリル基含有高飽和共重合体ゴムの具体
例としてはブタジエン−アクリロニトリル共重合体ゴ
ム、イソプレン−ブタジエン−アクリロニトリル共重合
体ゴム、イソプレン−アクリロニトリル共重合体ゴムな
どを水素化したもの；ブタジエン−メチルアクリレート
−アクリロニトリル共重合体ゴム、ブタジエン−アクリ
ル酸−アクリロニトリル共重合体ゴム、ブタジエン−不
飽和ジカルボン酸エステル−アクリロニトリル共重合体
ゴムなどを水素化したものが例示される。また、ブタジ
エン−エチレン−アクリロニトリル共重合体ゴムも含ま
れる。

【００１６】不飽和ニトリル−共役ジエン系共重合体ゴ
ムのなかでも、不飽和ニトリル−共役ジエン−エチレン
性不飽和モノマー三元共重合体ゴムを水素化したもの、
とりわけ、ブタジエン−不飽和ジカルボン酸エステル−
アクリロニトリル共重合体ゴムを水素化したものを使用
したピンチローラは、テープ走行時におけるきしみ音を
低減することができる点で賞用される。

【００１７】不飽和ジカルボン酸エステルとしては、炭
素数４〜６を有する不飽和ジカルボン酸のエステルであ
って、炭素数１〜５の、好ましくは、２〜４のアルキル
基を有する不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステルが好
適である。

【００１８】かかる不飽和ニトリル−共役ジエン系共重
合体ゴムは、通常、ラジカル重合開始剤の存在下、必要
に応じて分子量調製剤を用い不飽和ニトリルと共役ジエ
ンその他のエチレン性不飽和モノマーとを共重合するこ
とによって調製される。

【００１９】使用するラジカル重合開始剤は、特に限定
されるものではないが、通常は有機過酸化物、レドック
ス重合開始剤系、アゾ系化合物、過硫酸塩などが用いら
れる。これら重合開始剤の使用量は通常は単量体合計量
１００重量部当り０．００５〜３重量部である。また、
重合温度は０〜１００℃の範囲が好ましい。

【００２０】分子量調整剤としては、２，２′，４，
６，６′−ペンタメチルヘプタン−４−チオール、２，
４，４−トリメチルペンタン−２−チオール、ドデカン
−１２−チオール、２，２，６，６−テトラメチルヘプ
タン−４−メタンチオール、２，４，６−トリメチルノ
ナン−４−チオールなどのアルキルチオール化合物類；
ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジエチルキサント
ゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスル
フィドなどのキサントゲンジスルフィド類；テトラメチ
ルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスル
フィド、テトラブチルチウラムジスルフィドなどのチウ
ラムジスルフィド類；四塩化炭素、臭化エチレンなどの
ハロゲン化炭化水素類；ペンタフェニルエタンなどの炭
化水素類；およびアクロレイン、メタクロレイン、アリ
ルアルコール、２−エチルヘキシルチオグリコレート、
ターピノーレン、α−テルピネン、γ−テルピネン、ジ
ペンテン、α−メチルスチレンダイマー（２−４−ジフ
ェニル−４−メチル−１−ペンテンが５０重量％以上の
ものが好ましい）、２，５−ジヒドロフラン、３，６−
ジヒドロ−２Ｈ−ピン、フタラン、１，２−ブタジエ
ン、１，４−ヘキサジエンなどを挙げることができる。
分子量調整剤の使用量は、通常、単量体合計量１００重
量部に対し、０．００５〜３重量部である。

【００２１】ラジカル重合の方法は特に限定されず、バ
ルク重合、溶液重合、懸濁重合あるいは乳化重合などを
必要に応じて適宜選択することができる。なかでも、乳
化重合が好適である。乳化重合によって製造する場合
は、通常の乳化重合の手法により重合を行い、所定の転
化率に達した時にヒドロキシルアミン、カルバミン酸ナ
トリウムなどを加えて重合を停止する。次いで、残存単
量体を加熱、水蒸気蒸留などによって除去する。さら
に、得られた重合体ラテックスに無機の凝固剤、高分子
凝集剤または感熱凝固剤などの通常の乳化重合で使用さ
れる凝固剤を加え、共重合体を凝固、回収する。

【００２２】本発明で使用されるニトリル基含有高飽和
共重合体ゴムを製造するに際して、不飽和ニトリル−共
役ジエン系共重合体ゴムの共役ジエン単位部分を水素化
する方法はとくに限定されず、通常の水素化方法を用い
ることにより行なわれる。

【００２３】水素化に際し使用される触媒としては、例
えば、パラジウム／シリカおよびパラジウム錯体（特開
平３−２５２４０５号）などが挙げられる。さらに、特
開昭６２−１２５８５８号、特開昭６２−４２９３７
号、特開平１−４５４０２号、特開平１−４５４０３
号、特開平１−４５４０４号、特開平１−４５４０５号
などに記載されているようなロジウムまたはルテニウム
化合物を使用することもできる。

【００２４】（ニトリル基含有高飽和共重合体ゴムと不
飽和ニトリル−共役ジエン系共重合体ゴムとの混合物）
本発明の加硫性ゴム組成物には、前記、ニトリル基含有
高飽和共重合体ゴムと不飽和ニトリル−共役ジエン系共
重合体ゴムとの混合物を使用することも可能である。該
混合物における各ゴム成分の混合割合は、通常、ニトリ
ル基含有高飽和共重合体ゴム７０〜３０重量％好ましく
は、６０〜４０重量％と、不飽和ニトリル−共役ジエン
系共重合体ゴム３０〜７０重量％、好ましくは４０〜６
０重量％である。ニトリル基含有高飽和共重合体ゴムの
相対的割合が過度に小さいと耐摩耗性が低下するので好
ましくない。

【００２５】（カーボンブラツク）本発明で使用するカ
ーボンブラックは、ゴム用補強剤として一般に使用され
るものの中、低ストラクチャーのものである。ここに、
ストラクチャーとは、一般に、カーボンブラックの個々
の粒子が、三次元的に、連鎖状又はぶどう房状に結合し
て凝集体を形成するときの、粒子の結合形状、凝集体を
構成する粒子の数、空隙容積の大小等を意味するもので
ある。

【００２６】低ストラクチャーとは、ゴム用カーボンブ
ラック試験法（ＪＩＳ Ｋ６２２１−１９８２又はＡＳ
ＴＭ Ｄ２４１４−９０）により、ｎ−ジブチルフタレ
ート（ＤＢＰ）吸油量が９０ｍｌ／１００ｇ以下のもの
である。

【００２７】低ストラクチャーのカーボンブラックの具
体例は略称を用いて例示すると、たとえばチャンネルブ
ラックとしては、ＥＰＣ、ＭＰＣ等；ファーネスブラッ
クとしては、ＩＳＡＦ−ＬＳ、ＨＡＦ−ＬＳ、ＭＡＦ−
ＬＳ、ＦＥＦ−ＬＳ、ＦＦ、ＨＭＦ、ＧＰＦ、ＳＲＦ
等；サーマルブラックとしては、ＭＴ、ＦＴ等が挙げら
れる。これらは単独あるいは２種以上を組合せて用いる
ことができる。なかでも、ＦＥＦ−ＬＳ、ＳＲＦ、ＭＡ
Ｆ−ＬＳが賞用される。

【００２８】また、本発明によって得られる効果を損わ
ない範囲で、ＤＢＰ吸油量が１１８ｍｌ／１００ｇ以上
の、高ストラクチャーのカーボンブラックを併用するこ
とも可能である。高ストラクチャーのカーボンブラック
としては、ＨＰＣ、ＣＣ、ＩＳＡＦ−ＨＳ、ＨＡＦ−Ｈ
Ｓ、ＭＡＦ、ＦＥＦ、ＡＰＦ、ＣＲＦ、ＣＦ、ＳＣＦ、
ＥＣＦ、ＨＭＬ等が挙げられる。

【００２９】低ストラクチャーのカーボンブラックは、
ゴム１００重量部に対して１０〜１００重量部、好まし
くは、２０〜８０重量部の範囲で配合される。カーボン
ブラックが過度に少いと、ピンチローラの耐摩耗性が低
下し、過度に多いとピンチローラの硬度調整のために多
量に配合される可塑剤が表面にブリードするようになる
ので好ましくない。

【００３０】（可塑剤）本発明で使用する可塑剤は、ゴ
ム用可塑剤として通常使用される凝固点０℃以下、好ま
しくは、−３０℃以下のものが賞用される。具体例とし
ては、リン酸トリブチル、リン酸トリ−２−エチルヘキ
シル等のリン酸エステル系；フタル酸ジメチル、フタル
酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、
フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジ−２−エチルヘ
キシル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸オクチルデシ
ル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ブチルベンジル等
のフタル酸エステル系；オレイン酸ブチル等の脂肪族一
塩基酸エステル系；アジピン酸ジブチル、アジピン酸ｎ
−ヘキシル等の脂肪族二塩基酸エステル系；ジエチレン
グリコールジベンゾエート等の二価アルコールエステル
系；アセチルリシノール酸メチル等のオキシ酸エステル
系等が挙げられる。これらは単独あるいは２種以上組合
せて使用することができる。なかでも、フタル酸エステ
ル系可塑剤が、ブリードが少ないという観点から賞用さ
れる。

【００３１】可塑剤は、ゴム１００重量部に対して３〜
３０重量部、好ましくは、５〜２０重量部の範囲で使用
される。可塑剤の量が過度に少量であると、ピンチロー
ラ表面の摩擦係数が大きくなりテープが摩耗する、過度
に多量であると、ピンチローラ表面に可塑剤がブリード
するので好ましくない。

【００３２】（有機過酸化物系加硫剤）本発明で使用す
る有機過酸化物系加硫剤としては、通常のゴムの過酸化
物加硫で使用されるものであればよく、特に限定されな
い。例としては、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブ
チルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド、ベンゾイルパーオキサイド、２，５−ジメチル−
２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、
２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキ
シ）ヘキシン、α，α′−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ
−ｍ−イソプロピル）ベンゼンなどが挙げられる。なか
でも、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイドが好ましい。これ
らの有機過酸化物は、ニトリル基含有高飽和共重合体ゴ
ムとエチレン−α−オレフィン系共重合体ゴムとのゴム
混合物１００重量部に対し０．１〜３０重量部、好まし
くは０．５〜２０重量部の範囲で使用される。

【００３３】さらに、通常、有機過酸化物加硫において
架橋助剤として使用される不飽和化合物が挙げられる。
その例としては、エチレングリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、Ｎ，
Ｎ′−ｍ−フェニレンジマレイミド、トリアリルイソシ
アヌレート等が挙げられる。なかでも加硫物性からトリ
アリルイソシアヌレートが好ましい。これらの添加量
は、共重合体ゴム１００重量部に対し０．１〜１５重量
部の範囲である。

【００３４】また、本発明の加硫性ゴム組成物には、必
要に応じて、ゴム分野において使用される通常の他の配
合剤、例えば、補強剤（シリカ、タルクなど）、充填剤
（炭酸カルシウム、クレーなど）、加工助剤、プロセス
油、酸化防止剤、オゾン劣化防止剤などを配合すること
ができる。

【００３５】なお本発明の加硫性ゴム組成物には、必要
に応じてアクリルゴム、フッ素ゴム、アクリロニトリル
−ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、
天然ゴム、ポリイソプレンゴムなどの他のゴムおよびエ
チレン−酢酸ビニル共重合体樹脂等を組合せて使用する
ことができる。

【００３６】本発明の加硫性ゴム組成物の製造方法は特
に限定されないが、通常は、ロール、バンバリーミキサ
ーなどの混合機により、ニトリル基含有高飽和共重合体
ゴムとその他のゴム、および加硫系その他の配合剤とを
混練・混合することによって該ゴム組成物を製造する。

【００３７】また、ニトリル基含有高飽和共重合体ゴム
と不飽和ニトリル−共役ジエン系共重合体ゴムとをブレ
ンドする方法は、ニトリル基含有高飽和共重合体ゴムと
不飽和ニトリル−共役ジエン系共重合体ゴムとを、ロー
ル又はバンバリーミキサーなどを用い高温で混合するド
ライブレンド法とともに、ニトリル基含有高飽和共重合
体ゴムと不飽和ニトリル−共役ジエン系共重合体ゴムム
とをラテックス状態で混合して凝固乾燥した後押出し機
やバンバリーミキサーなどを用いて熱処理するラテック
ス共沈法などが採られる。

【００３８】本発明の加硫性ゴム組成物は、磁気テープ
装置等に使用されるピンチローラのゴム被覆として優れ
た性能を有するものである。かかるゴム組成物を用い
て、ピンチローラのゴム被覆とする方法は特に限定され
ないが、たとえば、以下の方法が採用される。

【００３９】加硫性ゴム組成物を５０〜６０℃でロール
で混練し、これらの配合物を金型に１．３ｇ充填して、
圧縮成型機を用いて１５０〜１８０℃、１５〜３０分の
加硫（成型）条件で圧縮成型して内径５．０ｍｍφ×外
径１０ｍｍφ×幅６ｍｍのゴムリングを作成する。成型
圧力は１３０±２０Ｋｇ／ｃｍ² である。次に、ポリア
セタール製芯棒（外径５．２ｍｍφ×幅６．２ｍｍ）に
これらのゴムリングをゴム弾性力で締結し被覆し、さら
に表面粗さ（Ｒａ）＝０．８±０．３μｍとなるように
研磨仕上げしピンチローラを作製する。

【００４０】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。なお、実施例、比較例及び参考例中の部及
び％は特に断りのないかぎり重量基準である。ゴム組成
物および原料成分の特性は以下のように測定した。 （１）加硫物性評価試験 日本工業規格ＪＩＳ Ｋ６３０１に従い、表１の配合処
方によって調製した未加硫ゴム組成物を１７０℃×３０
分の条件で加硫して得られた厚さ２ｍｍのシートを、３
号形ベンダルを用いて打ち抜いて試験片を作成し、引張
強さ（単位：ｋｇｆ／ｃｍ² ）、１００％引張り応力
（単位：ｋｇｆ／ｃｍ² ）および伸び（単位：％）を測
定した。また、硬さはＪＩＳスプリング式Ａ形硬さ試験
機を用いて測定した。さらに、圧縮永久歪みはＪＩＳ
Ｋ６３０１に従って、１５０℃にて７７時間保持した場
合について測定した。（単位：％）。 （２）摩擦係数（μ） 常態物性測定用のものと同様に作成した加硫シートにつ
いて、表面性試験機（ＨＥＩＤＯＮ−１４Ｓ／Ｄ、新東
科学（株）社製）を用い、ボール圧子荷重１００ｇ、ボ
ール圧子滑動速度５００ｍｍ／分、室温にて測定した。 （３）摩耗量 摩耗量（ｍｇ）は、ＪＩＳ Ｋ６２６４に従って、上記
と同じ加硫物をテーバー摩耗試験機を用い、荷重１ｋ
ｇ、回転数１０００ｒｐｍの条件下に回転軸（砥石）Ｈ
−１８を用いて測定した。また、アクロン摩耗試験機を
用い、荷重１０Ｌｂ、角度２５度、回転数１０００の条
件下に摩耗試験を行った。

【００４１】（４）テープ走行試験 加硫性ゴム組成物を５０〜６０℃でロールで混練し、こ
れらの配合物を金型に１．３ｇ充填して、圧縮成型機を
用いて１５０〜１８０℃、１５〜３０分の加硫（成型）
条件で圧縮成型して内径５．０ｍｍφ×外径１０ｍｍφ
×幅６ｍｍのゴムリングを作成する。成型圧力は１３０
±２０Ｋｇ／ｃｍ² である。次に、ポリアセタール製芯
棒（外径５．２ｍｍφ×幅６．２ｍｍ）にこれらのゴム
リングをゴム弾性力で締結し被覆し、さらに表面粗さ
（Ｒａ）＝０．８±０．３μｍとなるように研磨仕上げ
しピンチローラを作製する。磁気テープ走行試験は、該
ピンチローラについて、３０分間用のカセットテープを
用いて、２０００時間走行後のピンチローラの表面状態
を観察した。 （粘着性）主として、ピンチローラと金属製キャプスタ
ンとの接触により、ピンチローラ表面が汚れる程度を、
３段階で評価した。 ３：ピンチローラ表面の汚れ無し ２：ピンチローラ表面の汚れ小量 １：ピンチローラ表面の汚れ多量 （摩耗性）主として、ピンチローラとテープとの接触に
より、ピンチローラ表面が摩耗する程度を、３段階で評
価した。 ３：ピンチローラ表面の摩耗無し ２：ピンチローラ表面の摩耗小量 １：ピンチローラ表面の摩耗多量 （雑音性）テープ走行試験中のきしみ音の発生を、３段
階で評価した。 ３：ピンチローラのきしみ音無し ２：ピンチローラのきしみ音小量 １：ピンチローラのきしみ音多量

【００４２】（実施例１〜５、比較例１〜４）表１上段
に示した配合に従い、ニトリル基含有高飽和共重合体ゴ
ム（Ｚｅｔｐｏｌ ２０１０、３１１０、４１１０）、
不飽和ニトリル−共役ジエン系共重合体ゴム（Ｎｉｐｏ
ｌ １０４２、１２０１）を使用し、これに低ストラク
チャーのカーボンブラツク、可塑剤および有機過酸化物
系加硫剤を配合した加硫性ゴム組成物を調製し、これら
について評価試験を行い、その結果を表１下段に示し
た。比較として、アクリロニトリル−ブタジエン共重合
体ゴム（Ｎｉｐｏｌ １０４２）、クロロプレンゴム
（ＣＲ）、高ストラクチャーのカーボンブラツク（ＦＥ
Ｆ−ＨＳ）を配合した加硫性ゴム組成物をそれぞれ調製
し、これらについても、同様にして評価試験を行い、そ
の結果を表１に併せて示した。

【００４３】ニトリル基含有高飽和共重合体ゴムは以下
のとおりである。 結合アクリ ムーニー ロニトリル ニトリル基含有高飽和共重合体ゴム ヨウ素価 粘度 量（％ ） 日本ゼオン（株）製 Ｚｅｔｐｏｌ ２０１０ １１ ８５ ４４ 日本ゼオン（株）製 Ｚｅｔｐｏｌ ３１１０ １５ ９５ ２５ 日本ゼオン（株）製 Ｚｅｔｐｏｌ ４１１０ １５ ９０ １７

【００４４】なお、Ｚｅｔｐｏｌ ４１１０は、アクリ
ロニトリルとブタジエンおよび不飽和ジカルボン酸エス
テルとの三元共重合体を水素化して得られた高飽和共重
合体ゴムである。

【００４５】不飽和ニトリル−共役ジエン系共重合体ゴ
ムは以下のとおりである。 結合アクリ ムーニー ロニトリル 不飽和ニトリル−共役ジエン系共重合体ゴム 粘度 量（％） 日本ゼオン（株）製 Ｎｉｐｏｌ １０４２ ７８ ３３．５ 日本ゼオン（株）製 Ｎｉｐｏｌ １２０１ ７８ ３５

【００４６】なお、Ｎｉｐｏｌ １２０１は、アクリロ
ニトリルとブタジエンおよびイソプレン三元共重合体ゴ
ムである。

【００４７】また、ＣＲ組成物の配合処方（比較例４）
は以下のとおりである。 ＣＲ（ネオプレンＷ） １００部 ＦＥＦカーボンブラック ４０部 ステアリン酸 ０．５部 ＭｇＯ＃１５０ ４部 ノクラックＰＡ ２部 亜鉛華＃１ ５部 アクセル２２−Ｓ ０．５部 プロセスオイル １５部

【００４８】

【表１】

【００４９】なお、表１中の配合剤は以下のとおりであ
る。 ＊１）ジオクチルフタレート ＊２）有機過酸化物系加硫剤／１，３−ビス（ｔ−ブチ
ルパーオキシイソプロピル）ベンゼン ＊３）老化防止剤／置換ジフエニルアミン

【００５０】表１の結果から、本発明のゴム組成物を加
硫して得られる加硫物は、摩擦係数と耐摩耗性とのバラ
ンスに優れていることが分かる。そして、これをピンチ
ローラに適用すると、従来ピンチローラ用途に使用され
ていたＣＲ等の場合と比較して、摩耗性、粘着性、雑音
性がきわめて少ないことが分かる

【００５１】とくに、低ストラクチャーのカーボンブラ
ツクと可塑剤とを併用した実験例（実施例１）では、高
ストラクチャーのカーボンブラツクを使用した例（比較
例１）と比較して、粘着性および摩耗性が大幅に改良さ
れる。

【００５２】さらに、アクリロニトリルとブタジエンお
よび不飽和ジカルボン酸エステルとの三元共重合体を水
素化して得られた高飽和共重合体ゴムを使用した場合
（実施例３）は、テープ走行におけるきしみ音が無く、
雑音性がもっとも良好である。

【００５３】

【発明の効果】かくして、本発明によれば、磁気テープ
装置等用途に適した加硫性ゴム組成物および該ゴム組成
物を加硫して得られる加硫物を使用したピンチローラが
得られる。本発明のゴム組成物を加硫して得られる加硫
物は、従来ピンチローラ用途に使用されていたＮＢＲ等
の場合と比較して、摩耗性、粘着性がきわめて少なく、
かつ長時間のテープ走行におけるきしみ音が無く、雑音
性が良好である。

【００５４】本発明の具体的な実施態様は以下のとおり
である。 （１）不飽和ニトリル−共役ジエン系共重合体ゴム中の
不飽和ニトリルが、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、α−クロロアクリロニトリル等から選ばれるもの
である。 （２）不飽和ニトリル−共役ジエン系共重合体ゴム中の
共役ジエンが、１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル
ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン等から
選ばれるものである。 （３）不飽和ニトリル−共役ジエン系共重合体ゴムが不
飽和ニトリル−共役ジエン−エチレン性不飽和モノマー
三元共重合体ゴムであり、さらに、不飽和ニトリル−共
役ジエン−不飽和ジカルボン酸エステル三元共重合体ゴ
ムである。 （４）不飽和ニトリル−共役ジエン−不飽和ジカルボン
酸エステル三元共重合体ゴムの不飽和ジカルボン酸エス
テルが、不飽和ニトリル単位１０〜５０重量％、不飽和
ジカルボン酸エステル単位１〜８０重量％を有するもの
である。 （５）低ストラクチャーのカーボンブラツクが、ＦＥＦ
−ＬＳ、ＭＡＦ−ＬＳ、ＳＲＦである。 （６）可塑剤が、フタル酸エステル系である。 （７）加硫性ゴム組成物がピンチローラ用である。 （８）ピンチローラ用加硫性ゴム組成物のニトリル基含
有高飽和共重合体ゴムが、不飽和ニトリル単位１５〜４
０重量％、不飽和ジカルボン酸エステル単位２０〜４０
重量％を有するブタジエン−不飽和ジカルボン酸エステ
ル−アクリロニトリル共重合体ゴムを水素化したニトリ
ル基含有高飽和共重合体ゴムであり、低ストラクチャー
のカーボンブラックがＦＥＦ−ＬＳ、ＳＲＦおよびＭＡ
Ｆ−ＬＳから選ばれるものであり、可塑剤がジオクチル
フタレートである。 （９）不飽和ニトリル単位１５〜４０重量％、不飽和ジ
カルボン酸エステル単位２０〜４０重量％を有するブタ
ジエン−不飽和ジカルボン酸エステル−アクリロニトリ
ル共重合体ゴムを水素化したニトリル基含有高飽和共重
合体ゴム１００重量部に対して、ＦＥＦ−ＬＳ、ＳＲＦ
およびＭＡＦ−ＬＳから選ばれる低ストラクチャーのカ
ーボンブラック２０〜８重量部、ジオクチルフタレート
からなる可塑剤５〜２０重量部を配合してなる加硫性ゴ
ム組成物を有機過酸化物系加硫剤で加硫してなる加硫物
をゴム被覆とするピンチローラ。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 不飽和ニトリル−共役ジエン系共重合体
   の共役ジエン部分を水素化してなるニトリル基含有高飽
   和共重合体ゴム１００重量部に対して、低ストラクチャ
   ーのカーボンブラック１０〜１００重量部、可塑剤３〜
   ３０重量部及び有機過酸化物系加硫剤０．１〜３０重量
   部を配合してなる加硫性ゴム組成物。
2. 【請求項２】 ピンチローラ用である請求項１記載の加
   硫性ゴム組成物。
3. 【請求項３】 請求項１記載の加硫性ゴム組成物を加硫
   してなる加硫物をゴム被覆とするピンチローラ。