JPH09153329A - 感光層におけるミクロン単位および／またはサブミクロン単位の範囲に照射するための装置、およびそのような層にパターンを形成する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感光層のミクロン単位の範囲を照射するため
の装置およびそのような層のパターンを製造するための
方法を提供する。 【解決手段】 この方法は、樹脂層（１２０）上に微小
滴の単一層（１２１）を製造するために感光性材料をぬ
らさない液体を含む雰囲気中に樹脂層がさらされ、感光
性材料層が樹脂層の露光範囲（１２２）を選択的に印刷
するために微小滴の単一層（１２１）を通って照射さ
れ、微小滴単一層（１２１）が取り除かれ、および感光
性材料層が露光範囲と一致する上記パターンを形成する
ために現像されることを特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば感光性材料
の層に孔のようなパターンを形成する方法に関する。

【０００２】それは、電界放出で励起される陰極ルミネ
センスによって作動する結像機器の製造のために特に使
用されるマイクロポイント陰極電子発生源（micro-poin
t cathode electron sources）の製造に非常に適当であ
る。

【０００３】本発明は例えば大きなサイズ、例えば１４
インチ（約３５センチメートル）以上の平面マイクロポ
イントスクリーンの製造や、１平方メートル近くもの表
面積をもつ平面マイクロポイントスクリーンでさえ製造
することを可能にするものである。

【０００４】かなり大きなサイズのスクリーンがこの発
明によって開発することができるということは、もちろ
ん当然のことと理解される。

【０００５】

【従来の技術】マイクロポイント陰極電子発生源および
それらの製造方法は、例えば、本明細書の最後に参考文
献として番号（１）、（２）、（３）および（４）で参
照されている文献に記載されている。

【０００６】発明によりすでに解決された技術的問題を
理解することを容易にするために、マイクロポイント陰
極電子発生源製造方法の既知の実施の形態を以下に記載
する。

【０００７】添付の図１から３を説明する。

【０００８】図１に、基板２と、基板上に搭載された絶
縁体４、陰極導体６のシステム、抵抗層７および重ねら
れ交差するグリッド８、中間絶縁体１０、および表面に
蒸着されマイクロポイント製造作動中マスクとして使用
される例えばニッケルのような層１２を含む、すでに展
開された構造を示す。

【０００９】このニッケル層１２、グリッド８および絶
縁体１０は孔１４を有し、その後その底部に、抵抗層７
を通じて陰極導体６に電気的に接続された金属導体から
成るマイクロポイントが設置されるだろう。

【００１０】マイクロポイントの製造は図２を参照して
以下に説明される。

【００１１】第一番目は例えば構成全体にモリブデン層
１６を蒸着することから始まる。

【００１２】この層１６は約１．８ミクロンの厚みを持
つ。

【００１３】構成の表面に対して入射法線の角度で蒸着
される。

【００１４】この蒸着方法は孔１４内に収納され、１．
２〜１．５ミクロンの高さを有するモリブデンのコーン
１８を得ることを可能にするものである。

【００１５】これらのコーンは電子放出マイクロポイン
トを含む。

【００１６】その後ニッケル層１２の選択的溶解は電気
化学方法で実行され、そのような方法で例えばニオブか
ら作られた有孔グリッド８が図３に示されるように分離
され、電子放出マイクロポイント１８が現れる。

【００１７】いくつかの技術的変形と共に、図１、２お
よび３に関してすでに記載された既知の方法は現在に至
るまでマイクロポイント陰極電子発生源のマイクロポイ
ントの製造に適用されていたものの内の一つである。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】マイクロポイント１８
のサイズと位置決定を正確にするためには、もちろんグ
リッド８および絶縁体１０に形成された孔のサイズを完
璧に制御することが必要である。

【００１９】そのための問題点を以下に示す：平均直径
が例えば１．３ミクロンまたはそれ未満の孔がマイクロ
ポイントを受け取るべき表面全体に形成される必要があ
る。

【００２０】これらの孔を製造するために目下使用され
ている方法は直接投射またはこれら全ての表面に再生さ
れる基本的パターンの写真複写を用いる写真製版方法を
含むものである。

【００２１】大きなサイズ例えば１４インチ（約３５セ
ンチメートル）より大きい電子発生源の場合、これらの
方法はたちまち非常に限定されたものになる。

【００２２】直接照射はサブミクロンパターンと一体と
なっている大型サイズのマスク１の製造を必要とする。
これらのパターンは通常シリカまたはガラス基板上の薄
い層に蒸着された金属により形成される。

【００２３】マスクの対角線が１４インチより大きい
時、マイクロ電子工学に用いられていた従来の方法では
このマスクを形成することが困難になる。

【００２４】写真複写に関しては小さいサイズのマスク
が用いられていて、そのサイズは使用されるパターンの
分解能によって決められる。

【００２５】１ミクロンの分解能のために一辺が２０〜
５０ミリメートルのマスクが用いられ、そのマスクは写
真製版になくてはならない照射（insolation）作業を必
要とし、また電子発生源の全表面をカバーするよう何度
も何度も繰り返すことを要する。

【００２６】そのためにこれらの方法は両方とも（一つ
は直接照射を用い、一方は写真複写を用いる）大きいサ
イズの電子発生源の製造に適用することが難しい。

【００２７】本発明は上記の従来の方法より非常に簡単
な方法で電子発生源に対応する孔の形成のためのマスク
の製造を可能にするものである。

【００２８】それはまた感光性材料の層における孔や他
のパターンの形成のための非常に単純な方法に関するも
のである。

【００２９】本発明は小さいまたは大きい表面上に約１
ミクロンまたは１ミクロン以下の直径で孔を形成するこ
とを可能にするものである。

【００３０】本発明は樹脂に形成されるべき孔の位置に
対応する層のこれらのポイントで感光性樹脂層への照射
（insolation）を可能にするものである。

【００３１】一度現像された（すなわち照射範囲の溶解
後の）この樹脂は例えばマイクロポイント電子発生源に
対応する孔のようなパターンを、樹脂層が上にある構成
上に形成するためのマスクとして使用することができ
る。

【００３２】例えば図１から３に関して記述された構成
について、現像後、グリッド８および中間絶縁体１０に
エッチングをするために樹脂の層を使用することができ
る。

【００３３】より正確には、本発明の目的は、樹脂の表
面にマイクロビーズの単一層を形成するための方法であ
り、これらのマイクロビーズはこの感光性樹脂に孔を形
成することを可能にするものである。

【００３４】本発明の他の目的は感光性材料の層にくっ
きりときわ立つミクロン単位のパターンを形成する方法
を提供することである。

【００３５】そして簡単に実行でき、処理されるべき大
きい表面範囲の感光層を有する基板をも使用できる方法
を提供することもまた目的である。

【００３６】

【課題を解決するための手段】これらの目的を達成する
ために、本発明の目的はより正確にはミクロン単位およ
び／またはサブミクロン単位のパターンを基板上にある
感光性材料層に製造するための方法である。その方法に
従って、感光性材料をぬらさず、ある意味では層上にノ
ンウェット液体の微小滴の単一層を製造する液体を含む
雰囲気に層がさらされ、感光性材料の層は微小滴がお互
いに合着するのを防ぐのに十分な低い温度に保たれ、感
光性材料の層は照射光により感光層の露光部を選択的に
印刷するために微小滴の単一層を通って照射され、微小
滴が取り除かれ、そして感光性材料の層は上記のパター
ンを露光の範囲の通りに形成するために現像される。使
用されたノンウェット液体は照射光を透過する液体であ
り、それぞれの微小滴は上記の露光範囲の内の一つに照
射光の焦点を合わせるものである。

【００３７】感光性材料層の表面に形成された微小滴は
また「マイクロ（微小）ビーズ」と呼ばれるものであ
る。液体の感光層に関してのノンウェット特性は、ほぼ
球状のマイクロビーズを得ることを可能にすることであ
る。

【００３８】感光性材料をぬらさない液体を含む雰囲気
とは、蒸気の形をとる上記の液体を含む雰囲気または液
体の粒子が浮遊している「ミスト」の形をとる雰囲気の
いずれかを示す。例として、感光性材料が樹脂である場
合、およびノンウェット液体が水である場合、層がさら
されている雰囲気はエアゾール噴霧器によって作られた
水蒸気または微小滴を含有する。

【００３９】ゆえに雰囲気は例えば蒸気発生器または空
気圧または超音波タイプの噴霧器のいずれかによって形
成されても良い。好ましくは粒のそろった微小滴を提供
できる噴霧器が用いられるだろう。

【００４０】感光性材料の層上に作製されたパターンは
露光範囲すなわち照射光の到達する範囲と一致するもの
であるが、それらは同時に感光層の補足的範囲すなわち
照射光に感光していない範囲にも良く一致するだろう。
これは感光性材料をいかに選択するかにかかっている。

【００４１】感光性材料が陽画樹脂である場合、現像に
より照射された感光範囲が取り除かれる。また一方、感
光性材料が陰画樹脂である場合、現像により感光範囲を
残し感光範囲以外の感光性材料が取り除かれる。

【００４２】製造しようとしているパターンのデザイン
は感光性材料上に形成される微小滴すなわちマイクロビ
ーズによって決定される。使用されるノンウェット液体
は照射光の１つの波長または複数の波長に対して透過性
があるので、それぞれのマイクロビーズは露光範囲とよ
ばれる範囲への光に焦点を合わせるレンズを形成する。
これらの範囲は感光性材料の表面に微小滴が接触する範
囲におおよそ一致する。

【００４３】「露光範囲」という表現は、感光層が光も
直接照射光もすなわちマイクロビーズで集光されていな
い光が到達しない範囲と対照して、強烈な照射光にさら
される焦点範囲として理解されている。この強く照射さ
れた露光範囲と他の範囲との対照は、感光層の現像時に
望むパターンの形成を可能にするものである。

【００４４】好ましくは、微小滴が光の焦点を集めてい
る露光範囲を感光性材料に印刷するに足る十分に強い照
射光を、そして露光範囲以外の感光性材料に印刷しない
ために十分弱い照射光を感光層に照射するものである。

【００４５】本発明の重要な仕様は、電子発生源の製造
のためのマスクとして使用される陽画感光性樹脂層に孔
を製造することである。

【００４６】ゆえに本発明はまた以下の事項に従うマイ
クロポイント陰極電子発生源の製造方法に関するもので
あり、 −陰極導体を含む構成は基板上に形成され、電気的絶縁
層は陰極導体上に形成され、そしてグリッドは陰極導体
と角度を成す電気的絶縁層上に形成され、 −孔はグリッドが陰極導体と交差している部分でグリッ
ドと絶縁層を貫通して形成され、 −電子放出材料のマイクロポイントは陰極導体上でこれ
らの孔の中に形成されるということであり、 この方法は、これらの孔が、少なくとも上記の範囲にお
いて、構成の表面で陽画感光性樹脂の層を形成すること
によって、上記に述べた方法に従って樹脂層に開口部を
形成することによって、またグリッドと絶縁層を樹脂層
に形成されたこれらの開口部を通してエッチングするこ
とによって得られることにより特徴づけられる。

【００４７】本発明はまたこの方法によって得られる電
子発生源を使用するフラットディスプレイスクリーンに
関する。

【００４８】本発明は結局、この方法を実行するための
装置に関するものであり、それはすなわち基板上に配置
された感光性材料層のミクロン単位の範囲の照射のため
のものである。この装置は感光性材料をぬらさない液体
を含む雰囲気を発生する発生器、照射光の発生源、およ
び感光性材料層を含む基板のための支持システム、すな
わちこの基板の温度をコントロールすることができ、そ
れを上記の発生器および光源に連続的に向かい合わせる
よう固定できる支持システムを含むものである。

【００４９】ある特定の見解によれば、支持システムは
基板を冷却することができる基板キャリアと感光性材料
層を感光するために基板を基板キャリアに固定する手段
を含むことができる。

【００５０】本発明の他の特徴や利点は以下に記述する
添付の図面に関しての説明によってより明確になるだろ
う。なおそれは単に例示のために提示したものであり、
限定的なものではない。

【００５１】

【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図を用
いて詳細に述べる。

【００５２】図４は層のある部分に選択的に照射すると
きの感光性材料層の表面に付着させた微小滴の焦点機能
の概略を示したものである。図４に示す実施の形態は陽
画感光性樹脂層に孔を形成することに関するものであ
る。その後樹脂層（１２０）それ自身は下部の層（１０
８、１１０）に図１ですでに述べた通りの構造物を製造
するための孔を形成するのに使用するマスクとなる。図
４において、簡易化するために付けられた参照番号は、
図１の構成物と同等または類似の構成物に使われていた
参照番号に１００を加えたものである。

【００５３】ゆえに図４に示された積層１０１は電気絶
縁層１０４、陰極電気導体１０６のシステム、抵抗層１
０７、電気絶縁中間層１１０、および十字形に重なった
グリッド１０８という順序で上乗せされた基板１０２を
含む。

【００５４】積層１０１の表面において、すなわちグリ
ッド１０８の上に、層１０８および１１０に作製したい
孔と一致する開口部を持つエッチングマスクを形成する
ことが望む。これらの孔は図１の孔１４と一致する。

【００５５】ゆえにこの場合陽画感光性樹脂である感光
性材料の層１２０は、積層１０１上に形成される。開口
部は本発明に従ってこの樹脂層に作製される。

【００５６】樹脂層１２０を水蒸気で満たされた雰囲気
中またはエアゾールミストを混和した雰囲気中にさらす
ことによって、および層１２０を冷却することによっ
て、微小滴１２１がその表面に形成される。層１２０の
冷却には微小滴を凝縮させることとそれらの合着を防ぐ
ことという二つの役割がある。実施の形態として、水の
微小滴が形成されている樹脂層のためには、好ましくは
−５℃〜５℃間の温度まで層１２０を冷却することが賢
明である。

【００５７】微小滴１２１が形成されたとき、感光層１
２０は参照番号１２３で表された平行な照射光に露光さ
れる。

【００５８】図４における実施の形態において、水の微
小滴１２１は照射光の波長に対して透過性がある。微小
滴１２１、すなわちマイクロビーズは焦点を合わせ、ゆ
えに露光範囲と呼ばれる範囲１２２に命中する光線１２
３ａを集結し、それにより感光層１２０は印刷される。

【００５９】照射光の強度または露光時間は、光線１２
３ｂが層１２０に直接命中してもそれを印刷しないよう
に選択される。

【００６０】微小滴１２１を取り除いた後、層１２０は
露光範囲に従ってパターンを形成するために現像され
る。この実施の形態の場合は、現像により範囲１２２の
層材料の除去（分解）、ある意味ではそこに開口部を作
るということを可能にする。最終的に層１２０は既知の
方法に従って層１０８と１１０にキャビティのエッチン
グのためのマスクを形成する。

【００６１】製造されたパターンは必ずしも孔とは限ら
ないが、微小くぼみにはなる。

【００６２】実施の形態として、もし陽画樹脂の層が陰
画樹脂層に交換されるならば、図４の実施の形態という
面においては、マイクロシリンダーは孔の代わりに浮彫
り状に得られるだろう。そして感光性材料は照射時に微
小滴を含有しない全ての部分から取り除かれる。

【００６３】図５から７はより正確に、とりわけマイク
ロビーズを形成し照射するという作業を本発明に従って
実行することを意図した装置を示す。

【００６４】図５に示したように、積層１０１および感
光層１２０によって形成されたアセンブリは支持システ
ムによって固定される。この支持システムは基板キャリ
ア上の積層１０１が基板１０２で表される側の面を媒介
にして固定され、金属層１０８で表されるもう一方の面
を蒸着され、グリップ１３２によって支えられている感
光性樹脂層１２０によって覆われている基板キャリア１
３１を含むものである。グリップ１３２はその積層１０
１と層１２０を支持システムから取り外したりそれに差
し込んだりすることができる破線で示される位置１４３
から実線で示された位置まで移動させることができ、そ
のグリップは層１２０で覆われた積層１０１を固定する
ために使用される。

【００６５】例えば良好な熱伝導率を持つエラストマー
から作られたディスク１３０は有利には基板キャリア１
３１と積層１０１の基板１０２の間にこれらの構成間の
熱交換を容易にし、またそれらを均一にするために位置
している。

【００６６】事実上、微小滴を形成するのに適した温度
まで持っていくことができるように基板キャリアは基板
１０１を冷却し結果的に樹脂層１２０を冷却する機能を
持つ。

【００６７】基板が支持システムに組み入れられた後お
よびその冷却の後、アセンブリはミスト発生器の上部に
移動される。図６にそのような発生器の略図を示す。こ
れはピロゾールスプレー式の超音波発生器である。しか
しながら、この発生器を樹脂層１２０の表面に微小滴を
形成することが可能なエアゾール、ミスト、蒸気または
微小滴のあらゆるタイプの発生器に置き換えることがで
きる。

【００６８】図６に示されるミスト発生器は微小滴を形
成するために使用されるノンウェット液体を有する容器
１３４を含む。容器１３４中の液体のレベルは液体注入
口１３６によっておおよそ一定に保たれる。

【００６９】容器１３４の下部に設置された超音波発生
器１３３は粒のそろった微小滴１３５を形成できるよう
液体に超音波を伝えるためにスプレーとして提供され
る。超音波発生器１３３と容器１３４の間の超音波カッ
プリングは交換器１４４を通じて成され、作業状態を安
定させるために水によって冷却される。

【００７０】望まれるサイズの微小滴を得るためには、
そのサイズはある特定の仕様に一致するものであるが、
出力、周波数、発生器内のガス流量、液体の流量および
その温度のような異なった要因を調整することによって
得られる。この方法で例えばサイズが０．５から７ミク
ロンの微小滴を得ることができる。簡素化のために、詳
細および空気やガスの入口のような構成部品は図に示さ
れていない。

【００７１】例として、商業用機器については、１メガ
ヘルツの周波数で作動させる場合、サイズ約３〜４ミク
ロンの微小滴を得ることができる。

【００７２】超音波による噴霧に関しては、参考文献と
して本明細書の最後に記されている資料（５）および
（６）を引用することが可能である。

【００７３】また図６に示したように、感光層１２０を
備えた基板１０１は、層１２０の表面に微小滴層が形成
されるまで容器１３４の上部に効果的に固定される。

【００７４】図６に示された容器と基板の相対的な位置
設定により、層１２０の表面を下に向けさせ、容器１３
４の開口部を上に向けさせる。この配置は必須のもので
はないが、感光層上に望ましくないほど大きい微小滴が
付着することを防ぐ。

【００７５】図７は本発明の照射方法に関するものであ
る。層１２０を備えた基板１０１を平行光源１３７に向
かって移動させる。その後層１２０は液体微小粒子単一
層１２１を通して光源からの光１２３に暴露される。上
述のように、透過しても良い光の波長に対して透過性の
あるノンウエッティング液体を選択することは感光層１
２０のある特定の範囲への選択的印刷を可能にする。

【００７６】マスク１３９は光源１３７と液体微小粒子
単一層１２１の間に置くことができる。この方法で、マ
スク１３９の開口部１４０と一致する層１２０上の特定
範囲だけに選択的に照射することが可能になる。例えば
図４に表したような場合において孔が形成されていない
部分をそのままに残すことが可能になる。

【００７７】図５から７に示された段階は、方法上のど
んな寄生作用をも回避するために湿度、温度およびダス
ト水準を管理された雰囲気中で実施される。

【００７８】基板の支持システムによるミスト発生器の
前への移動、およびそれに続く光源の前への移動は、そ
れらを通過していく連続的な移動によってまたはこれら
の装置の前に停止することによって実施することができ
る。

【００７９】さらに照射後、層１２０によって覆われて
いる基板１０１のアセンブリは、図には示されていない
が、微小滴が溶剤によってまたは蒸発によって取り除か
れる、取り出し場所に移動させられる。そして感光層１
２０は例えば印刷範囲を分解するため、その後孔または
浮彫りのようなパターンを形成するために現像される。

【００８０】最後に、本発明によって、単純なやり方
で、ミクロン単位の孔およびくぼみを製造すること、お
よび広い表面にも製造することが可能になる。

【００８１】微細孔の製造はマイクロポイントスクリー
ン、上述したような電子発生源の製造のため、および網
状構造孔または有微細孔膜のようなデバイスの製造のた
めに使用することができる。

【００８２】微細浮彫りの製造は例えば遮光システムま
たはマイクロシリンダーマトリックスの製造に用いるこ
とができる。

【００８３】本明細書中に記述された文献 （１）FR-A-2 593 953 (EP-A-0 234 989も参照のこと） （２）US-A-4 857 161 （３）FR-A-2 663 462 （４）FR-A-2687 839 (EP-A-0 558 393 も参照のこと） （５）“Pulverisation par ultrasons appliquee a sp
ectrometrie d'absorption atomique ” J.SPITZ G.UNY
共著 Applied Optics、vol.7、No.7 1968年7 月 （６）「低温での化学的蒸着」J.C.VIGULE K.SPITZ共著 Electrochemical Society 誌 vol.122 、No.4 1975年4
月

【図面の簡単な説明】

【図１】マイクロポイント陰極電子発生源を製造する既
知の方法を示した第１の部分断面概略図である。

【図２】マイクロポイント陰極電子発生源を製造する既
知の方法を示した第２の部分断面概略図である。

【図３】マイクロポイント陰極電子発生源を製造する既
知の方法を示した第３の部分断面概略図である。

【図４】電子発生源基板の断面略図であり、本発明によ
る樹脂表面層の露光範囲の照射を示すものである。

【図５】本発明による感光性材料層の処理のための基板
支持システムの略図を示したものである。

【図６】本発明による超音波噴霧器を略図で示し、およ
び感光性材料層上の微小滴の単一層形成を示すものであ
る。

【図７】光源による微小滴の単一層を通した感光性材料
層の照射の段階を略図で示したものである。

【符号の説明】

１２０ 樹脂層 １３３ 超音波発生器 １３４ 容器 １３６ 液体注入口 １４４ 交換器

Claims (19)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に位置する感光性材料層にミクロ
   ン単位および／またはサブミクロン単位のパターンを製
   造する方法であって、 前記感光性材料をぬらさず、ある意味では前記層上にノ
   ンウェット液体の微小滴の単一層を製造する液体を含む
   雰囲気に前記層がさらされ、前記感光性材料層が前記微
   小滴のお互いの合着を防止するのに十分な低温に保た
   れ、 前記感光性材料層が照射光によって前記感光層の露光範
   囲を選択的に印刷するために前記微小滴の単一層を通し
   て照射され、 前記微小滴が取り除かれ、 前記感光性材料層が前記露光範囲に応じて前記パターン
   を形成するために現像され、 前記ノンウェット液体は前記照射光を透過するものが使
   用され、それぞれの微小滴は前記の露光範囲に光の焦点
   を合わせることを特徴とする方法。
2. 【請求項２】 前記感光性材料は、前記感光性材料の露
   光範囲を印刷するのに十分な強さを有し、前記微小滴に
   よって焦点が合わされている照射光であり、かつ前記露
   光範囲以外の範囲の感光性材料を印刷しないほど十分に
   弱い照射光によって照射されることを特徴とする請求項
   １に記載の方法。
3. 【請求項３】 前記感光性材料層が陽画樹脂であること
   を特徴とする請求項１に記載の方法。
4. 【請求項４】 現像中に前記感光性材料が前記露光範囲
   から取り除かれることを特徴とする請求項３に記載の方
   法。
5. 【請求項５】 前記感光性材料層が陰画樹脂であること
   を特徴とする請求項１に記載の方法。
6. 【請求項６】 現像中に前記露光範囲はそのまま材料を
   残し露光範囲以外から前記感光性材料が取り除かれるこ
   とを特徴とする請求項５に記載の方法。
7. 【請求項７】 前記ノンウェット液体が水であることを
   特徴とする請求項１に記載の方法。
8. 【請求項８】 前記ノンウェット液体を含有する雰囲気
   が等級付けられた前記微小滴を形成可能な噴霧器によっ
   て形成されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
9. 【請求項９】 超音波噴霧器が使用されることを特徴と
   する請求項８に記載の方法。
10. 【請求項１０】 空気圧噴霧器が使用されることを特徴
    とする請求項８に記載の方法。
11. 【請求項１１】 前記ノンウェット液体を含有する雰囲
    気が液体から水蒸気発生器によって形成されることを特
    徴とする請求項１に記載の方法。
12. 【請求項１２】 前記感光性材料層が照射光源と前記微
    小滴の単一層の間に置かれたマスクを通して照射され、
    前記マスクが照射することが望まれる前記感光性材料層
    の範囲と対応する開口部を持つことを特徴とする請求項
    １に記載の方法。
13. 【請求項１３】 ミクロンサイズのパターンが前記感光
    性材料層を通過して開口していることを特徴とする請求
    項１に記載の方法。
14. 【請求項１４】 マイクロポイント陰極電子発生源の製
    造方法であって、 陰極導体が基板上に形成され、電気絶縁層が該陰極導体
    上に形成され、グリッドが前記陰極導体とある角度を成
    す電気絶縁層上に形成されることを含む構成であり、 孔が前記グリッドが前記陰極導体とに交わっている範囲
    で前記グリッドと前記絶縁層を通って形成され、 電子放出材料のマイクロポイントは前記陰極導体上のこ
    れらの孔の中に形成され、 これらの孔が陽画感光性樹脂層を前記構成の表面の少な
    くとも前記範囲に形成されており、請求項１に記載の方
    法に従って樹脂層に開口部が形成されており、かつ樹脂
    層に形成された開口部を通じて前記グリッドや前記絶縁
    層がエッチングされることを特徴とする方法。
15. 【請求項１５】 感光性材料をぬらさない液体を含有す
    る雰囲気発生器、照射光源および前記感光性材料層を含
    む積層のための支持システムであり、この基板の温度を
    制御し、該基板を前記の発生器に対向しかつ前記光源に
    対向して保持する支持システムを含むことを特徴とす
    る、積層上に配置された感光性材料層のミクロン単位の
    範囲を照射するための装置。
16. 【請求項１６】 前記ノンウェット液体を含有する前記
    雰囲気発生器が、空気圧微小滴噴霧器、超音波微小滴噴
    霧器または前記液体の蒸気発生器から選択される機器で
    あることを特徴とする請求項１５に記載の装置。
17. 【請求項１７】 前記光源が平行光源であることを特徴
    とする請求項１５に記載の装置。
18. 【請求項１８】 前記支持システムが前記積層を冷却で
    きる基板キャリアと、感光性材料層を露光するために基
    板キャリア上に基板を取り付ける手段を含むことを特徴
    とする請求項１５に記載の装置。
19. 【請求項１９】 前記支持システムが前記基板と基板キ
    ャリア間の熱交換を容易にし均一にするために、前記積
    層と前記基板キャリアの間に熱伝導性エラストマーのプ
    レートを含むことを特徴とする請求項１５に記載の装
    置。