JPH09150582A - レーザ転写画像形成方法及びレーザ転写画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明はレーザアブレーションにより高速に微
細画像を形成できかつ材料の選択幅の広いレーザ転写画
像形成方法及びレーザ転写画像形成装置を提供する。 【解決手段】レーザ転写画像形成装置１は、コントロー
ラ８によりＸ−Ｙステージ２を介して被転写部材３の転
写位置制御を行うとともに、巻き取りローラ５ｂを駆動
して転写シート４の未使用部分を供給ローラ５ａから供
給させ、レーザ出射部７を駆動制御して、パルス状のレ
ーザ光１３を光学系６を介して転写シート４に照射す
る。転写シート４は、レーザ光１３を透過する支持部材
１０上にアブレーション材料で形成されたアブレーショ
ン層１１と転写部材で形成された転写部材層１２が順次
積層されており、レーザ光１３はアブレーション層１１
に集光照射される。アブレーション部材がレーザ光１３
によりアブレーションすると、転写部材１２が被転写部
材３方向に飛散して、被転写部材３に転写される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ転写画像形
成方法及びレーザ転写画像形成装置に関し、詳細には、
非接触で高速な転写画像形成を行うレーザ転写画像形成
方法及びレーザ転写画像形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザアブレーション（Laser Ablatio
n）は、従来、高分子等の直接加工やレーザ蒸着法等に
用いられており、高分子等の直接加工は、高分子の光吸
収のエネルギーを直接分子の解離に利用するため、熱的
影響の少ない微細形状を得るのに利用され、また、レー
ザ蒸着法は、ターゲットと蒸着膜の組成ずれが少ない製
膜方法として比較的広い領域に均一に膜形成する手段と
して利用されてきた。

【０００３】一方、画像形成方法としては、様々な手法
が利用されてきたが、レーザを利用したプロセスとして
は、熱転写、溶融・昇華型印刷手法を挙げることができ
る。

【０００４】また、従来のレーザアブレーションを用い
た転写法としては、例えば、米国特許５１５６９３８号
に記載されたものがあり、これは、レーザ発振波長域に
感度の高い転写材料を開発して、これらを直接転写する
ことにより、画像を形成している。また、金属膜などを
光吸収層として利用したものとしては、例えば、米国特
許５１７１６５０号に記載されたものがあり、これは、
光エネルギーをその金属膜等の光吸収層で熱に変換し、
熱プロセスとして転写を行っている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の転写技術にあっては、使用する材料が限定さ
れたり、高いエネルギー強度を必要としたり、さらに
は、作業速度が遅い等の問題があった。

【０００６】すなわち、従来のレーザアブレーションに
よる直接加工にあっては、高分子等のように光吸収の高
い材料に限られ、また、金属や無機材料等を加工する場
合には、大きなレーザエネルギー密度を必要とし、適用
範囲が限定されるとともに、装置が大型化したり、コス
トが高くなるという問題があった。

【０００７】また、従来のレーザ蒸着法にあっては、基
板全体に薄膜を付加するための技術であり、部分的に材
料を付加することは、困難であった。

【０００８】さらに、従来の熱転写、溶融・昇華型印刷
プロセスにあっては、レーザのエネルギーを熱に変換し
て利用していたため、材料全体が熱励起するための時間
が必要であり、処理速度が遅いという問題があった。

【０００９】また、従来のレーザアブレーションを用い
た転写法にあっては、転写材料がそのままアブレーショ
ンされるため、特別な材料を合成するか、レーザ発振波
長での光吸収増感剤を混合する必要があり、特別な材料
開発を行う必要がある。そして、これら増感剤は、基本
的には、高分子以外の金属や無機物質などに混合するの
は困難であり、画像形成用以外には、利用できなかっ
た。

【００１０】さらに、金属膜などを光吸収層として利用
した場合には、光エネルギーが熱に変換されて利用され
るため、本質的にアブレーションの高速性及び空間選択
性の利点を生かしきれず、空間的に広がりが大きく、熱
転写プロセスに近い画像形成プロセスとなるという問題
があった。

【００１１】そこで、請求項１記載の発明は、レーザ発
振波長に吸収の高いアブレーション材料によるアブレー
ション層を支持部材上に少なくとも一層設け、その上層
に転写材料層を設けることにより、画像形成を高速で行
うことができるとともに、アブレーション材料及び転写
材料の選択幅を広げることができ、種々の分野に利用す
ることのできるレーザ転写画像形成方法を提供すること
を目的としている。

【００１２】請求項２記載の発明は、レーザの出射制
御、レーザのアブレーション現象を利用した転写材料の
被転写部材への転写を自動的に、かつ、連続して行うこ
とのできるレーザ転写画像形成装置を提供することを目
的としている。

【００１３】請求項３記載の発明は、レーザとして、エ
キシマレーザを用いることにより、より高速に、かつ、
大面積の転写を一括して行うことのできるレーザ転写画
像形成方法及びレーザ転写画像形成装置を提供すること
を目的としている。

【００１４】請求項４記載の発明は、レーザとして、Ｙ
ＡＧレーザを用いることにより、安価で、量産性が高
く、かつ、メンテナンスが容易であるとともに、アブレ
ーション材料の選択幅を大幅に広げることのできるレー
ザ転写画像形成方法及びレーザ転写画像形成装置を提供
することを目的としている。

【００１５】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明のレ
ーザ転写画像形成方法は、照射されるレーザによるアブ
レーションを用いて転写材料を被転写部材に転写するレ
ーザ転写画像形成方法であって、照射されるレーザを透
過する支持部材上に、照射されるレーザによりアブレー
ションされるアブレーション材料によりアブレーション
層を少なくとも１層形成し、該アブレーション層上に、
前記転写材料により転写材料層を形成し、該転写材料層
と所定間隔空けて前記被転写部材を配置して、前記支持
部材側から前記レーザをアブレーション層に集光して照
射することにより、前記アブレーション材料をアブレー
ションさせて、前記アブレーション層上の前記転写材料
層の前記転写材料を前記被転写部材に転写することによ
り、上記目的を達成している。

【００１６】ここで、支持部材は、レーザを適切に透過
する部材であれば、何等限定されるものではないが、支
持部材上にアブレーション層を容易に形成できるものが
好適である。

【００１７】アブレーション層は、レーザによりアブレ
ーションされるアブレーション材料により形成され、支
持部材上に膜形成法により形成することができるが、膜
形成方法は、何等限定されるものではない。また、アブ
レーション層は、１層だけに限るものではなく、１層以
上形成してもよい。

【００１８】転写材料層は、アブレーション層上に膜形
成法により形成され、膜形成方法は、ウエット法やドラ
イ法（例えば、真空蒸着法あるいはスパッタ法等）によ
り形成することができるが、形成方法は、限定されるも
のではない。

【００１９】上記構成によれば、従来のようにアブレー
ション性を有した転写材料を特別に開発することなく、
アブレーション層に照射するレーザによりアブレーショ
ン材料をアブレーションさせて、アブレーション層上の
転写材料を被転写部材に転写することができ、アブレー
ション現象の光化学性を直接利用して、転写を行うこと
ができる。

【００２０】その結果、高速な転写を行うことができ、
画像形成速度を向上させることができる。また、熱的影
響が少ないため、微細な画像形成を行うことができ、例
えば、パターン形成において、微細なパターン形成を行
うことができる。さらに、アブレーション層と転写材料
層を別の層に形成しているため、転写材料とは無関係に
アブレーション材料を選択することができ、転写材料を
変更してもアブレーション材料を変更する必要がないの
で、従来のような特別な材料開発を行う必要がないとと
もに、転写材料をアブレーション材料と無関係に選択す
ることができ、レーザ転写画像形成方法を種々の分野に
利用することができる。

【００２１】請求項２記載の発明のレーザ転写画像形成
装置は、照射されるレーザによるアブレーションを用い
て転写材料を被転写部材に転写するレーザ転写画像形成
装置であって、レーザを出射するレーザ出射手段と、照
射されるレーザによるアブレーションを利用して前記転
写材料を前記被転写部材に転写するアブレーション部
と、前記アブレーション部と所定間隔空けて配置された
前記被転写部材と、前記レーザ出射手段から出射された
レーザを前記アブレーション部に集光して照射する光学
手段と、前記被転写部材が載置され該被転写部材を移動
させる移動手段と、前記レーザ出射手段のレーザの出射
制御、前記アブレーション部の供給制御及び前記移動手
段を介して前記被転写部材の位置制御を行う制御手段
と、を備え、前記アブレーション部は、照射されるレー
ザを透過する支持部材と、前記支持部材上に前記照射さ
れるレーザによりアブレーションされるアブレーション
材料により少なくとも１層形成されたアブレーション層
と、前記アブレーション層上に、前記転写材料により形
成された転写材料層と、前記支持部材、前記アブレーシ
ョン層及び前記転写材料層を一体として搬送供給する供
給手段と、で形成され、前記レーザが前記支持部材側か
ら前記アブレーション層に集光して照射されるととも
に、前記制御手段により前記供給手段が制御されて、前
記アブレーション層及び前記転写材料層の未使用部分を
前記レーザの出射位置に供給することにより、上記目的
を達成している。

【００２２】ここで、レーザ出射手段は、アブレーショ
ン層に照射することにより、アブレーション材料にアブ
レーションを起こさせることのできるレーザを出射する
ものであれば、どのようなものであってもよい。

【００２３】移動手段は、上部に載置される被転写部材
の転写位置を適宜位置調整するものであり、移動手段と
しては、例えば、Ｘ−ＹステージあるいはＸ−Ｙ−Ｚス
テージ等が用いることができる。

【００２４】制御手段は、レーザ出射手段のレーザの出
射タイミングや出射するレーザの強度等の制御、アブレ
ーション部の未使用部分をレーザ出射位置に供給するア
ブレーション部の供給制御及び移動手段を駆動して被転
写部材の転写位置をレーザの照射位置へ調整する位置調
整制御等を行う。

【００２５】上記構成によれば、制御手段によりレーザ
の出射制御、アブレーション部の供給制御及び被転写部
材の位置制御を連続して行うことにより、レーザのアブ
レーション現象を利用した転写材料の被転写部材への転
写を自動的に、かつ、連続して行うことができ、微細な
画像形成を高速で行うことができるとともに、アブレー
ション層と転写材料層を別の層に形成しているため、転
写材料とは無関係にアブレーション材料を選択すること
ができ、転写材料を変更してもアブレーション材料を変
更する必要がないので、従来のような特別な材料開発を
行う必要がないとともに、転写材料をアブレーション材
料と無関係に選択することのできるレーザ転写画像形成
装置を種々の分野に利用することができる。

【００２６】上記各場合において、例えば、請求項３に
記載するように、前記レーザは、エキシマレーザであっ
てもよい。

【００２７】上記構成によれば、エキシマレーザの特性
である単位当たりのエネルギーが大きいこと及び紫外域
に発振波長を有していることを利用して、より高速に、
かつ、大面積の転写を一括して行うことができるととも
に、アブレーション層として種々の材料を選択すること
ができる。

【００２８】また、例えば、請求項４に記載するよう
に、前記レーザは、ＹＡＧレーザの高調波であってもよ
い。

【００２９】上記構成によれば、安価で、量産性が高
く、かつ、メンテナンスの容易なレーザ転写画像形成方
法及びレーザ転写画像形成装置を提供することができる
とともに、高ピークパワーのレーザパルスを容易に発生
させることができ、より一層高速な転写を行うことがで
きる。また、高調波を適宜選択することにより、発振波
長を選択することができ、アブレーション材料の選択幅
を大幅に広げることができる。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。

【００３１】尚、以下に述べる実施の形態は、本発明の
好適な実施の形態であるから、技術的に好ましい種々の
限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明に
おいて特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これ
らの態様に限られるものではない。

【００３２】図１〜図４は、本発明のレーザ転写画像形
成方法及びレーザ転写画像形成装置の一実施の形態を適
用したレーザ転写画像形成装置を示す図である。

【００３３】図１において、レーザ転写画像形成装置１
は、Ｘ−Ｙステージ２、被転写部材３、転写シート４、
ローラ部５、光学系６、レーザ出射部７及びコントロー
ラ８等を備えている。

【００３４】転写シート８は、被転写部材３の上方に配
設されており、図２に示すように、支持層１０、アブレ
ーション層１１及び転写材料層１２からなっている。す
なわち、転写シート８は、支持層１０上に順次アブレー
ション層１１及び転写材料層１２が積層されており、支
持層１０側からレーザ光１３（図１参照）が照射され
る。

【００３５】支持層（支持部材）１０は、照射されるレ
ーザ光１３に対して透明な部材、すなわち、レーザ光１
３を透過するフレキシブルな部材により形成されてお
り、支持層１０上にアブレーション層１１が形成されて
いる。

【００３６】アブレーション層１１は、支持層１０を介
して集光、照射されるレーザ光１３によりアブレーショ
ンされる材料により形成されており、アブレーション層
１１を形成するアブレーション材料としては、転写目的
やアブレーション特性等により種々のものを選択して用
いることができる。

【００３７】転写材料層１２は、アブレーション層１１
のアブレーションにより被転写部材３に転写される材料
であり、転写材料層１２を形成する転写材料としては、
転写目的等により種々のものを選択して用いることがで
きる。

【００３８】上記転写シート４は、フレキシブルなシー
ト状に形成されており、図１に示すように、ローラ部５
により供給・回収される。すなわち、ローラ部５は、転
写シート４が巻かれていて転写シート４を供給する供給
ローラ５ａと、供給ローラ５ａから供給された転写シー
ト４を巻き取る巻き取りローラ５ｂと、を備えており、
巻き取りローラ５ｂは、後述するコントローラ７により
駆動制御される図示しないモータにより回転駆動され
る。

【００３９】この転写シート４には、レーザ出射部７か
ら出射されるレーザ光１３が光学系６を介して集光、照
射され、光学系６は、例えば、反射ミラー１４やレンズ
１５等を備えている。すなわち、レーザ出射部７から出
射されたレーザ光１３は、反射ミラー１４によりレンズ
１５方向に反射され、レンズ１５により転写シート８の
アブレーション層１１に集光、照射される。

【００４０】レーザ出射部７は、レーザとこのレーザを
駆動する駆動回路等を備えており、レーザとしては、種
々のものを用いることができるが、例えば、エキシマレ
ーザやＹＡＧ（Yttrium Aluminum Garnet ）レーザ等を
用いることができる。レーザ出射部７は、コントローラ
８によりその駆動が制御され、レーザをパルス駆動し
て、パルス状のレーザ光１３を出力させる。

【００４１】コントローラ８は、ＣＰＵ（Central Proc
essing Unit ）、ＲＯＭ（Read Only Memory）及びＲＡ
Ｍ（Random Access Memory）等を備え、Ｘ−Ｙステージ
２、巻き取りローラ５ｂ及びレーザ出射部７の動作を制
御する。

【００４２】Ｘ−Ｙステージ２は、その上部に被転写部
材３が載置され、コントローラ７に制御されて、Ｘ軸方
向及びＹ軸方向に移動することにより、被転写部材３の
位置調整を行って、転写位置の制御を行う。また、この
Ｘ−Ｙステージ２は、Ｚ方向に移動調整可能であり、被
転写部材３と転写シート４との距離が調整される。

【００４３】被転写部材３は、転写シート４の転写材料
層１２の転写材料が転写されるものであり、転写目的に
よって種々のものが選択される。この被転写部材３と転
写シート４との距離は、Ｘ−Ｙステージ２をＺ軸方向に
移動させることにより、適宜設定することができるが、
転写目的等に応じて適宜設定される。

【００４４】次に、本実施の形態の作用を説明する。

【００４５】レーザ転写画像形成装置１は、コントロー
ラ８によりＸ−Ｙステージ２を駆動して、Ｘ−Ｙステー
ジ２をＸ軸方向及びＹ軸方向に移動させ、Ｘ−Ｙステー
ジ２上に載置された被転写部材３をレーザ光１３の照射
位置に合わせて、位置調整する。

【００４６】なお、必要に応じて、Ｘ−Ｙステージ２を
Ｚ軸方向に移動して、Ｘ−Ｙステージ２上の被転写部材
３と転写シート４との距離を適宜調整する。

【００４７】被転写部材３の位置調整を行うと、レーザ
光１３の照射位置に転写シート４の未転写部分がくるよ
うに、巻き取りローラ５ｂを駆動して、転写シート４の
巻き取りを行う。

【００４８】次に、コントローラ８は、レーザ出射部７
を駆動して、レーザ光１３を出射させ、レーザ出射部７
から出射されたレーザ光１３は、図３に示すように、反
射ミラー１４で反射された後、レンズ１５により転写シ
ート４のアブレーション層１１に集光、照射される。

【００４９】アブレーション層１１にレーザ光１３が照
射されると、図４に示すような手順により、転写材料層
１２の転写材料が被転写部材３に転写される。

【００５０】すなわち、アブレーション層１１にレーザ
光１３が照射されると（ステップＳ１）、アブレーショ
ン層１１で光吸収が行われ（ステップＳ２）、アブレー
ション現象が生起されて、高速に体積膨張することによ
り、レーザ光１３の照射された部分のアブレーション層
１１のアブレーション材料が解離する（ステップＳ
３）。

【００５１】急激な体積膨張により解離したアブレーシ
ョン層１１は、上層である転写材料層１２に衝突し（ス
テップＳ４）、転写材料層１２の転写材料を被転写部材
３方向に飛散させる（ステップＳ５）。

【００５２】被転写部材３方向に飛散された転写材料層
１２の転写材料１２ａ（図３参照）は、近接して配設さ
れている被転写部材３に付着され（ステップＳ６）、転
写材料の被転写部材３への転写が行われる。

【００５３】上述のようにして転写材料の被転写部材３
への転写を行うと、コントローラ７は、レーザ出射部７
の駆動を停止し、Ｘ−Ｙステージ２及び巻き取りローラ
５ｂを駆動して、次の被転写部材３を転写位置に位置調
整するとともに、転写シート４を未転写部分がレーザ光
１３の照射位置にくるように搬送させる。

【００５４】被転写部材３の位置調整及び転写シート４
の搬送を行うと、上記同様に、レーザ出射部７を駆動し
て、レーザアブレーション現象の光化学性を直接利用し
て、転写材料層１２の転写材料を被転写部材３に転写す
る。

【００５５】上記処理を順次繰り返し行うことにより、
被転写部材３の転写領域に、レーザアブレーション現象
の光化学性を直接利用して転写材料層１２の転写材料を
転写することができる。

【００５６】したがって、従来のように熱プロセスを利
用することなく、レーザアブレーション現象の光化学性
を直接利用して転写を行うことができ、高速に転写する
ことができるとともに、熱的影響を削減して、転写材料
層１２の微細領域の転写材料を被転写部材３に転写する
ことができ、微細な画像形成を正確に行うことができ
る。

【００５７】また、アブレーション層１１と転写材料層
１２を異なる層に形成しているので、アブレーション層
１１とは無関係に転写材料層１２の転写材料を選定する
ことができ、転写材料を種々変化させてもアブレーショ
ン層１１を変更する必要がなく、従来のように、特別な
材料開発を行うことなく、安価に、かつ、適切に転写を
行うことができる。

【００５８】さらに、アブレーション層１１とは無関係
に転写材料層１２の転写材料を選定することができるの
で、転写材料層１２の転写材料の選択性を向上させるこ
とができ、アブレーション層１１上に膜形成することの
できる材料であれば、種々の材料を転写材料として利用
することができる。

【００５９】すなわち、アブレーション層１１のアブレ
ーション材料と転写材料層１２の転写材料を適宜選択す
ることにより、レーザ転写画像形成装置１を種々の分野
の画像形成に適用することができ、また、アブレーショ
ン層１１や転写材料層１２の膜形成を従来の技術を利用
して、簡単、かつ、容易に行うことができる。

【００６０】例えば、アブレーション層１１として、レ
ーザ波長域に良好な吸収特性を示すレジスト、例えば、
ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）等を用いると、
感光性の高いアブレーション層１１をスピンコートやデ
ィッピング法等の既存の技術により容易に形成すること
ができる。

【００６１】また、アブレーション層１１として、ポリ
イミド、ポリカーボネート等のレーザ発振波長域に吸収
係数の大きい高分子薄膜を用いると、比較的レーザエネ
ルギー密度の低い状態においても、アブレーションを生
起させて転写を行うことができ、安価に転写を行うこと
ができる。

【００６２】さらに、アブレーション層１１の厚さとし
ては、種々の厚さを設定することができるが、例えば、
レーザ光１３の１パルスでのアブレーション除去量より
も薄く形成すると、効率的な転写を行うことができる。

【００６３】また、転写材料層１２として、例えば、イ
ンク、色素材、トナー及び顔料等の発色材料を用いる
と、複写機、プリンタ等のカラー画像形成を安価に、か
つ、高速に行うことができることができるとともに、従
来の熱プロセスによりカラー画像を形成する場合より
も、微細なカラー画像を形成することができる。

【００６４】さらに、転写材料層１２として、アルミ、
ニッケル及びＩＴＯ（Indium-Tin Oxide：インジウム−
スズの酸化物混合膜）等の導電性材料を用いると、配線
のパターンニングを高速に、かつ、簡単に行うことがで
きる。また、非接触の転写プロセスを利用しているた
め、被転写部材３がバンプ等のように３次元的に広がっ
た形状を有している場合にも、適切にパターンニングを
行うことができ、容易に多層構造の配線を形成すること
ができる。

【００６５】また、転写材料層１２として、マーキング
材を用いることができ、マーキング材を転写材料層１２
に適用すると、従来の限られたマーキング材だけでな
く、発色性金属、無機材等をマーキング材料として利用
することができ、より多くの種類の材料をマーキング材
料として利用することができる。

【００６６】さらに、転写材料層１２としては、ＴｉＮ
ＣｒＮを用いると、従来困難であった特定部分のみの
保護膜の形成を容易に行うことができ、また、耐酸性等
の被転写部材３の表面の高機能化を可能とすることがで
きる。

【００６７】また、転写材料層１２として、テフロン、
ポリアセタール等の撥水性の高い材料を用いると、従来
困難であったテフロン等の撥水性を有する膜を部分的に
形成することができる。

【００６８】さらに、転写材料層１２として、ポリイミ
ド等の絶縁膜を用いると、半導体製造プロセスにおける
絶縁膜の形成にレーザ転写画像形成装置１を利用するこ
とができ、樹脂やシリコン（Ｓｉ）基板等にこの絶縁膜
を用いた転写材料層１２を部分的に転写することによ
り、絶縁層の層構造での形成を容易に行うことができ
る。

【００６９】また、転写材料層１２として、クロム薄膜
を用い、被転写部材３としてガラスや石英基板等を用い
ることにより、ガラスや石英基板等にクロム蒸着マスク
を安価に形成することができる。また、マスクずれ等が
あるときに一部修復する際に行うクロム蒸着マスクのリ
ペアリング法としても利用することができる。

【００７０】そして、転写材料層１２と被転写部材３と
の間隔は、転写目的やアブレーション層１１の特性や転
写材料層１２の転写材料等によって適宜設定することが
できるが、被転写部材３に転写材料層１２の転写材料に
よりパターンを形成する場合、転写材料層１２と被転写
部材３との距離をパターンの間隔よりも近い距離に設定
すると、アブレーション層１１のアブレーションにより
転写材料層１２の転写材料が飛散する際、飛散する転写
材料の空間的広がりを抑制することができ、形成するパ
ターンの歪みを抑制して、正確なパターンを形成するこ
とができる。

【００７１】また、レーザ出射部７に用いるレーザとし
ては、上述のように種々のものを用いることができる
が、レーザとしてエキシマレーザを用いると、パルス当
たりのエネルギーが大きいため、より一層高速に、か
つ、大面積の転写を行うことができる。特に、光学系６
として縮小光学系を用いることにより、大面積のアブレ
ーション層１１を一度にアブレーションさせて、大面積
の転写材料層１２の転写材料を一度に転写することがで
き、例えば、大面積のパターン形成を一度で行うことが
できる。また、エキシマレーザは、紫外域に発振波長が
あるため、多くの高分子材料をアブレーション材料とし
て利用することができ、利用性を向上させることができ
る。

【００７２】さらに、レーザ出射部７に用いるレーザと
して、ＹＡＧレーザを用いると、高調波を利用すること
ができ、エキシマレーザに比較して、安価にレーザパル
スを発生させることができるとともに、レーザのメンテ
ナンスが容易であり、量産性の高い手法として利用する
ことができる。また、パルス圧縮技術等を利用した高ピ
ークパワーのパルスを利用することができ、高周波数発
振させることにより、処理速度を向上させることができ
る。さらに、高調波を選択することにより、発振波長を
選択することができ、アブレーション層１１に利用する
アブレーション材料の選択幅を広げることができる。

【００７３】以上、本発明者によってなされた発明を好
適な実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
上記のものに限定されるものではなく、その要旨を逸脱
しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。

【００７４】例えば、上記実施の形態においては、転写
シート８をシート状に形成して、供給ローラ５ａに巻か
れている転写シート８を巻き取りローラ５ｂに巻き取る
ことにより、次々と転写シート８を使用できるようにし
ているが、転写シート８の供給方法は、上記方法に限る
ものではない。また、転写シート８は、例えば、テープ
状であってもよいし、板状であってもよい。

【００７５】また、上記実施の形態においては、転写シ
ート８を支持層１０上にアブレーション層１１及び転写
材料層１２をそれぞれ１層づつ形成しているが、アブレ
ーション層１１と転写材料層１２は、１層に限るもので
はなく、特に、アブレーション層１１は、１層以上設け
てもよい。例えば、アブレーション層をそれぞれ複数の
アブレーション材料で形成された複数のアブレーション
層により形成してもよい。

【００７６】

【発明の効果】請求項１記載の発明のレーザ転写画像形
成方法によれば、アブレーション層に照射するレーザに
よりアブレーション材料をアブレーションさせて、アブ
レーション層上の転写材料を被転写部材に転写すること
ができ、アブレーション現象の光化学性を直接利用し
て、転写を行うことができる。

【００７７】その結果、高速な転写を行うことができ、
画像形成速度を向上させることができる。また、熱的影
響が少ないため、微細な画像形成を行うことができ、例
えば、パターン形成において、微細なパターン形成を行
うことができる。さらに、アブレーション層と転写材料
層を別の層に形成しているため、転写材料とは無関係に
アブレーション材料を選択することができ、転写材料を
変更してもアブレーション材料を変更する必要がないの
で、従来のような特別な材料開発を行う必要がないとと
もに、転写材料をアブレーション材料と無関係に選択す
ることができ、レーザ転写画像形成方法を種々の分野に
利用することができる。

【００７８】請求項２記載の発明のレーザ転写画像形成
装置によれば、レーザのアブレーション現象を利用した
転写材料の被転写部材への転写を自動的に、かつ、連続
して行うことができ、微細な画像形成を高速で行うこと
ができるとともに、アブレーション層と転写材料層を別
の層に形成しているため、転写材料とは無関係にアブレ
ーション材料を選択することができ、転写材料を変更し
てもアブレーション材料を変更する必要がないので、従
来のような特別な材料開発を行う必要がないとともに、
転写材料をアブレーション材料と無関係に選択すること
のできるレーザ転写画像形成装置を種々の分野に利用す
ることができる。

【００７９】請求項３記載の発明のレーザ転写画像形成
方法及びレーザ転写画像形成装置によれば、エキシマレ
ーザの特性を利用して、より高速に、かつ、大面積の転
写を一括して行うことができるとともに、アブレーショ
ン層として種々の材料を選択することができる。

【００８０】請求項４記載の発明のレーザ転写画像形成
方法及びレーザ転写画像形成装置によれば、ＹＡＧレー
ザの特性を利用して、安価で、量産性が高く、かつ、メ
ンテナンスの容易なレーザ転写画像形成方法及びレーザ
転写画像形成装置を提供することができるとともに、高
ピークパワーのレーザパルスを容易に発生させることが
でき、より一層高速な転写を行うことができる。また、
高調波を適宜選択することにより、発振波長を選択する
ことができ、アブレーション材料の選択幅を大幅に広げ
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のレーザ転写画像形成方法及びレーザ転
写画像形成装置の一実施の形態を適用したレーザ転写画
像形成装置の概略構成図。

【図２】図１の転写シートの側面拡大図。

【図３】図１のレーザ転写画像形成装置による転写部材
の被転写部材への転写の作用説明図。

【図４】図１のレーザ転写画像形成装置によるアブレー
ション作用による画像形成動作を示す流れ図。

【符号の説明】

１ レーザ転写画像形成装置 ２ Ｘ−Ｙステージ ３ 被転写部材 ４ 転写シート ５ ローラ部 ５ａ 供給ローラ ５ｂ 巻き取りローラ ６ 光学系 ７ レーザ出射部 ８ コントローラ １０ 支持層 １１ アブレーション層 １２ 転写材料層 １３ レーザ光 １４ 反射ミラー １５ レンズ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】照射されるレーザによるアブレーションを
   用いて転写材料を被転写部材に転写するレーザ転写画像
   形成方法であって、 照射されるレーザを透過する支持部材上に、照射される
   レーザによりアブレーションされるアブレーション材料
   によりアブレーション層を少なくとも１層形成し、該ア
   ブレーション層上に、前記転写材料により転写材料層を
   形成し、該転写材料層と所定間隔空けて前記被転写部材
   を配置して、前記支持部材側から前記レーザをアブレー
   ション層に集光して照射することにより、前記アブレー
   ション材料をアブレーションさせて、前記アブレーショ
   ン層上の前記転写材料層の前記転写材料を前記被転写部
   材に転写することを特徴とするレーザ転写画像形成方
   法。
2. 【請求項２】照射されるレーザによるアブレーションを
   用いて転写材料を被転写部材に転写するレーザ転写画像
   形成装置であって、 レーザを出射するレーザ出射手段と、 照射されるレーザによるアブレーションを利用して転写
   材料を前記被転写部材に転写するアブレーション部と、 前記アブレーション部と所定間隔空けて配設された前記
   被転写部材と、 前記レーザ出射手段から出射されたレーザを前記アブレ
   ーション部に集光して照射する光学手段と、 前記被転写部材が載置され該被転写部材を移動させる移
   動手段と、 前記レーザ出射手段のレーザの出射制御、前記アブレー
   ション部の供給制御及び前記移動手段を介して前記被転
   写部材の位置制御を行う制御手段と、 を備え、 前記アブレーション部は、 照射されるレーザを透過する支持部材と、 前記支持部材上に前記照射されるレーザによりアブレー
   ションされるアブレーション材料により少なくとも１層
   形成されたアブレーション層と、 前記アブレーション層上に、前記転写材料により形成さ
   れた転写材料層と、 前記支持部材、前記アブレーション層及び前記転写材料
   層を一体として搬送供給する供給手段と、 で形成され、前記レーザが前記支持部材側から前記アブ
   レーション層に集光して照射されるとともに、前記制御
   手段により前記供給手段が制御されて、前記アブレーシ
   ョン層及び前記転写材料層の未使用部分を前記レーザの
   出射位置に供給することを特徴とするレーザ転写画像形
   成装置。
3. 【請求項３】前記レーザは、 エキシマレーザであることを特徴とする請求項１または
   請求項２記載のレーザ転写画像形成方法あるいはレーザ
   転写画像形成装置。
4. 【請求項４】前記レーザは、 ＹＡＧレーザの高調波であることを特徴とする請求項１
   または請求項２記載のレーザ転写画像形成方法あるいは
   レーザ転写画像形成装置。