JPH09150369A - 砥粒遠心投射装置 - Google Patents
砥粒遠心投射装置Info
- Publication number
- JPH09150369A JPH09150369A JP32959095A JP32959095A JPH09150369A JP H09150369 A JPH09150369 A JP H09150369A JP 32959095 A JP32959095 A JP 32959095A JP 32959095 A JP32959095 A JP 32959095A JP H09150369 A JPH09150369 A JP H09150369A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- distributor
- control gauge
- abrasive grain
- impeller
- rotary shaft
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 回転可能に配設した回転体３にインペラ４を
装着し、回転体３における空間１２内に、有底円筒状を
成しかつ長手方向へ全長に亘って延びるとともにブレー
ド６の枚数と同一の数の開口７ａを相互にほぼ等間隔を
おいて形成したディストリビュータ７を回転体３とほぼ
同心させて取り付け、ブレード６の内側基端部とディス
トリビュータ７との間に、別途固定配設されたコントロ
ールゲージ９を配置した砥粒遠心投射装置の投射効率が
悪い。 【解決手段】 コントロールゲージ８の内面とディスト
リビュータ７の外面との隙間を７〜１４ｍｍにする。
装着し、回転体３における空間１２内に、有底円筒状を
成しかつ長手方向へ全長に亘って延びるとともにブレー
ド６の枚数と同一の数の開口７ａを相互にほぼ等間隔を
おいて形成したディストリビュータ７を回転体３とほぼ
同心させて取り付け、ブレード６の内側基端部とディス
トリビュータ７との間に、別途固定配設されたコントロ
ールゲージ９を配置した砥粒遠心投射装置の投射効率が
悪い。 【解決手段】 コントロールゲージ８の内面とディスト
リビュータ７の外面との隙間を７〜１４ｍｍにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、砥粒の遠心投射装置の
改良に関する。
改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、省エネルギ化促進の観点から、そ
のための砥粒遠心投射装置が種々提案されており、その
うちの代表的な砥粒遠心投射装置としては、単位動力当
たりの砥粒投射量すなわち投射効率を高めるために、イ
ンペラの一部を構成するブレードを、表面粗度が小さく
かつ硬度の高い超硬度鋼やセラミックスで作製して、ブ
レードの砥粒に対する摩擦抵抗を小さくし、これによ
り、砥粒がブレード上を移動する時の速度を増大させ
て、この速度の増加分だけ電動機の回転数を削減すると
ともに砥粒の投射量を増加させるようにしたものがあ
る。
のための砥粒遠心投射装置が種々提案されており、その
うちの代表的な砥粒遠心投射装置としては、単位動力当
たりの砥粒投射量すなわち投射効率を高めるために、イ
ンペラの一部を構成するブレードを、表面粗度が小さく
かつ硬度の高い超硬度鋼やセラミックスで作製して、ブ
レードの砥粒に対する摩擦抵抗を小さくし、これによ
り、砥粒がブレード上を移動する時の速度を増大させ
て、この速度の増加分だけ電動機の回転数を削減すると
ともに砥粒の投射量を増加させるようにしたものがあ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このように構
成された砥粒遠心投射装置は、ブレードが新しいうちは
有効であるが、使用によりブレードが摩耗してブレード
の表面に凹みが生じ、その表面粗度が大きくなって砥粒
に対する摩擦抵抗が増大すると、投射効率が低下する問
題があった。しかも、超硬度鋼製やセラミックス製のブ
レードは高価であるとともに靭性に乏しく、さらにコス
トパフォーマンスの点からも、上記構造の砥粒遠心投射
装置はいまだ実用化されていない。本発明は上記の事情
に鑑みてなされたもので、その目的は、ブレードの材料
として超硬度鋼やセラミックスを用いることなく投射効
率を高めることが可能な砥粒遠心投射装置を提供するこ
とにある。
成された砥粒遠心投射装置は、ブレードが新しいうちは
有効であるが、使用によりブレードが摩耗してブレード
の表面に凹みが生じ、その表面粗度が大きくなって砥粒
に対する摩擦抵抗が増大すると、投射効率が低下する問
題があった。しかも、超硬度鋼製やセラミックス製のブ
レードは高価であるとともに靭性に乏しく、さらにコス
トパフォーマンスの点からも、上記構造の砥粒遠心投射
装置はいまだ実用化されていない。本発明は上記の事情
に鑑みてなされたもので、その目的は、ブレードの材料
として超硬度鋼やセラミックスを用いることなく投射効
率を高めることが可能な砥粒遠心投射装置を提供するこ
とにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の砥粒遠心投射装置は、回転可能に配設した
回転体に、円形状の回転板とこの回転板に放射状に配置
されかつ内側基端部で直径１２０〜１７０ｍｍのほぼ円
柱状の空間を形成して取り付けられた４〜１２枚のブレ
ードとでなるインペラを、装着し、前記回転体における
前記空間内に、有底円筒状を成しかつ長手方向へ全長に
亘って延びるとともに前記ブレードの枚数と同一の数の
開口を相互にほぼ等間隔をおいて形成したディストリビ
ュータを前記回転体とほぼ同心させて取り付け、前記ブ
レードの内側基端部と前記ディストリビュータとの間
に、別途固定配設されたコントロールゲージを配置した
砥粒遠心投射装置において、前記コントロールゲージの
内面と前記ディストリビュータの外面との隙間を７〜１
４ｍｍに構成したことを特徴とする。
めに本発明の砥粒遠心投射装置は、回転可能に配設した
回転体に、円形状の回転板とこの回転板に放射状に配置
されかつ内側基端部で直径１２０〜１７０ｍｍのほぼ円
柱状の空間を形成して取り付けられた４〜１２枚のブレ
ードとでなるインペラを、装着し、前記回転体における
前記空間内に、有底円筒状を成しかつ長手方向へ全長に
亘って延びるとともに前記ブレードの枚数と同一の数の
開口を相互にほぼ等間隔をおいて形成したディストリビ
ュータを前記回転体とほぼ同心させて取り付け、前記ブ
レードの内側基端部と前記ディストリビュータとの間
に、別途固定配設されたコントロールゲージを配置した
砥粒遠心投射装置において、前記コントロールゲージの
内面と前記ディストリビュータの外面との隙間を７〜１
４ｍｍに構成したことを特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の一実施例について図１〜
図４に基づき詳細に説明する。一部断面側面図である図
２に示すように、左右方向へ延びる回転軸１が軸受ユニ
ット２を介して回転自在に配設してあり、回転軸１の左
側には回転体３が嵌着してある。回転体３の左側面には
インペラ４が取り付けてあり、インペラ４は、左右方向
へ所要の間隔をおき相対向して一体的に構成された一対
の円形状の回転板５と、回転板５に取り付けられた４〜
１２枚のブレード６とで構成してあり、ブレード６は、
図１に示すように、前記回転板５に放射状に配置されか
つ内側基端部で前後方向へ延びる直径１２０〜１７０ｍ
ｍのほぼ円柱状の空間１２を形成するようにして取り付
けられている。
図４に基づき詳細に説明する。一部断面側面図である図
２に示すように、左右方向へ延びる回転軸１が軸受ユニ
ット２を介して回転自在に配設してあり、回転軸１の左
側には回転体３が嵌着してある。回転体３の左側面には
インペラ４が取り付けてあり、インペラ４は、左右方向
へ所要の間隔をおき相対向して一体的に構成された一対
の円形状の回転板５と、回転板５に取り付けられた４〜
１２枚のブレード６とで構成してあり、ブレード６は、
図１に示すように、前記回転板５に放射状に配置されか
つ内側基端部で前後方向へ延びる直径１２０〜１７０ｍ
ｍのほぼ円柱状の空間１２を形成するようにして取り付
けられている。
【０００６】また、前記回転体３における前記空間１２
内位置には、ディストリビュータ７が、前記インペラ４
とほぼ同心して取り付けてあり、ディストリビュータ７
は、有底円筒状を成しかつ長手方向へ全長に亘って延び
るとともに前記ブレード６の枚数と同一の数の開口７ａ
が相互にほぼ等間隔をおいて形成されている。また、前
記回転軸ユニット２の左側位置には前記インペラ４を包
囲するカバー８が別途固定配置してある。前記ブレード
６の内側基端部と前記ディストリビュータ７との間に
は、前記カバー８に取り付けられたコントロールゲージ
９が配置してあり、コントロールゲージ９の内面と前記
ディストリビュータ７の外面との隙間は、図１に示すよ
うに、７〜１４ｍｍに構成してある。
内位置には、ディストリビュータ７が、前記インペラ４
とほぼ同心して取り付けてあり、ディストリビュータ７
は、有底円筒状を成しかつ長手方向へ全長に亘って延び
るとともに前記ブレード６の枚数と同一の数の開口７ａ
が相互にほぼ等間隔をおいて形成されている。また、前
記回転軸ユニット２の左側位置には前記インペラ４を包
囲するカバー８が別途固定配置してある。前記ブレード
６の内側基端部と前記ディストリビュータ７との間に
は、前記カバー８に取り付けられたコントロールゲージ
９が配置してあり、コントロールゲージ９の内面と前記
ディストリビュータ７の外面との隙間は、図１に示すよ
うに、７〜１４ｍｍに構成してある。
【０００７】なお、前記コントロールゲージ９の内面と
前記ディストリビュータ７の外面との隙間は、従来、経
験上から砥粒の粒径の２〜３倍である３〜５ｍｍに構成
してある。また、前記ブレード６の内側基端部と前記コ
ントロールゲージ９の外面との隙間は、経験上および製
作上から図１に示すように、５ｍｍに構成してある。ま
た、図中１０は、砥粒をディストリビュータ７内に誘導
する誘導管、１１はライナーである。
前記ディストリビュータ７の外面との隙間は、従来、経
験上から砥粒の粒径の２〜３倍である３〜５ｍｍに構成
してある。また、前記ブレード６の内側基端部と前記コ
ントロールゲージ９の外面との隙間は、経験上および製
作上から図１に示すように、５ｍｍに構成してある。ま
た、図中１０は、砥粒をディストリビュータ７内に誘導
する誘導管、１１はライナーである。
【０００８】このように構成した砥粒遠心投射装置を使
用して砥粒の投射を行い、その時の消費電力を測定し
た。すなわち、コントロールゲージ９の内面とディスト
リビュータ７の外面との隙間、および砥粒のディストリ
ビュータ７内への供給量を種々変え、これと同時に砥粒
を投射する時の電動機２の消費電力をそれぞれ測定し、
これらの測定結果をグラフにおいて実線で表示すると、
図４のようになる。この図４からは、コントロールゲー
ジ９の内面とディストリビュータ７の外面との隙間が、
７〜１４ｍｍである場合に、その隙間が大きくなるに従
って投射効率が増大し、隙間が７ｍｍ未満では投射効率
は最も小さくなり、また１４ｍｍを越えると最も大きく
なるとともにその後は増加しないことが判る。
用して砥粒の投射を行い、その時の消費電力を測定し
た。すなわち、コントロールゲージ９の内面とディスト
リビュータ７の外面との隙間、および砥粒のディストリ
ビュータ７内への供給量を種々変え、これと同時に砥粒
を投射する時の電動機２の消費電力をそれぞれ測定し、
これらの測定結果をグラフにおいて実線で表示すると、
図４のようになる。この図４からは、コントロールゲー
ジ９の内面とディストリビュータ７の外面との隙間が、
７〜１４ｍｍである場合に、その隙間が大きくなるに従
って投射効率が増大し、隙間が７ｍｍ未満では投射効率
は最も小さくなり、また１４ｍｍを越えると最も大きく
なるとともにその後は増加しないことが判る。
【０００９】また、前記投射効率の場合と同様の条件
で、この砥粒遠心投射装置が投射可能な砥粒の最大量す
なわち最大投射量を測定し、その結果を表示すると図４
の点線で示すようになる。このグラフから、コントロー
ルゲージ９の内面とディストリビュータ７の外面との隙
間が、１４ｍｍを越えると急激に減少することが判る。
従って、コントロールゲージ９の内面とディストリビュ
ータ７の外面との隙間は、７〜１４ｍｍであることが望
ましい。
で、この砥粒遠心投射装置が投射可能な砥粒の最大量す
なわち最大投射量を測定し、その結果を表示すると図４
の点線で示すようになる。このグラフから、コントロー
ルゲージ９の内面とディストリビュータ７の外面との隙
間が、１４ｍｍを越えると急激に減少することが判る。
従って、コントロールゲージ９の内面とディストリビュ
ータ７の外面との隙間は、７〜１４ｍｍであることが望
ましい。
【００１０】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明
は、コントロールゲージの内面とディストリビュータの
外面との隙間を７〜１４ｍｍに構成したから、消費エネ
ルギが少なく、従って、投射効率が良くなるなどの優れ
た効果を奏する。
は、コントロールゲージの内面とディストリビュータの
外面との隙間を７〜１４ｍｍに構成したから、消費エネ
ルギが少なく、従って、投射効率が良くなるなどの優れ
た効果を奏する。
【図１】本発明の一実施例を示す一部断面正面図であ
る。
る。
【図２】本発明を適用した砥粒遠心投射装置の一部断面
側面図である。
側面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ断面拡大概略図である。
【図４】コントロールゲージの内面とディストリビュー
タの外面との隙間、投射効率および最大投射量との関係
を示すグラフである。
タの外面との隙間、投射効率および最大投射量との関係
を示すグラフである。
７ ディストリビュータ ７ａ 開口 ９ コントロールゲージ
Claims (1)
- 【請求項１】 回転可能に配設した回転体３に、円形状
の回転板５とこの回転板５に放射状に配置されかつ内側
基端部で直径１３５〜１７０ｍｍのほぼ円柱状の空間１
２を形成して取り付けられた４〜１２枚のブレード６と
で成るインペラ４を装着し、前記回転体３における前記
空間１２内に、有底円筒状を成しかつ長手方向へ全長に
亘って延びるとともに前記ブレード６の枚数と同一の数
の開口７ａを相互にほぼ等間隔をおいて形成したディス
トリビュータ７を前記回転体３とほぼ同心させて取り付
け、前記ブレード６の内側基端部と前記ディストリビュ
ータ７との間に、別途固定配設されたコントロールゲー
ジ９を配置した砥粒遠心投射装置において、前記コント
ロールゲージ９の内面と前記ディストリビュータ７の外
面との隙間を７〜１４ｍｍに構成したことを特徴とする
砥粒遠心投射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32959095A JPH09150369A (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | 砥粒遠心投射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32959095A JPH09150369A (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | 砥粒遠心投射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09150369A true JPH09150369A (ja) | 1997-06-10 |
Family
ID=18223056
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32959095A Pending JPH09150369A (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | 砥粒遠心投射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09150369A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7905766B2 (en) | 2005-09-06 | 2011-03-15 | Sintokogio, Ltd. | Centrifugally projecting machine |
| US20110229335A1 (en) * | 2008-12-12 | 2011-09-22 | Masakatsu Ito | Machine for centrifugally shooting abrasives |
| CN108161768A (zh) * | 2018-01-17 | 2018-06-15 | 济南大学 | 湿法抛丸器 |
| JP2019513572A (ja) * | 2016-02-14 | 2019-05-30 | ウエストマイヤー，ポール | 物体の加速及び精密制御された放出 |
| US12148146B2 (en) | 2020-09-18 | 2024-11-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Systems and methods for mapping coatings to a spatial appearance space |
-
1995
- 1995-11-24 JP JP32959095A patent/JPH09150369A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7905766B2 (en) | 2005-09-06 | 2011-03-15 | Sintokogio, Ltd. | Centrifugally projecting machine |
| US20110229335A1 (en) * | 2008-12-12 | 2011-09-22 | Masakatsu Ito | Machine for centrifugally shooting abrasives |
| US8702476B2 (en) * | 2008-12-12 | 2014-04-22 | Sintokogio, Ltd. | Machine for centrifugally shooting abrasives |
| JP2019513572A (ja) * | 2016-02-14 | 2019-05-30 | ウエストマイヤー，ポール | 物体の加速及び精密制御された放出 |
| CN108161768A (zh) * | 2018-01-17 | 2018-06-15 | 济南大学 | 湿法抛丸器 |
| US12148146B2 (en) | 2020-09-18 | 2024-11-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Systems and methods for mapping coatings to a spatial appearance space |
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