JPH09146121A - 液晶表示装置 - Google Patents
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- JPH09146121A JPH09146121A JP16595696A JP16595696A JPH09146121A JP H09146121 A JPH09146121 A JP H09146121A JP 16595696 A JP16595696 A JP 16595696A JP 16595696 A JP16595696 A JP 16595696A JP H09146121 A JPH09146121 A JP H09146121A
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136259—Repairing; Defects
- G02F1/136263—Line defects
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- G02F1/136259—Repairing; Defects
- G02F1/136272—Auxiliary lines
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- Liquid Crystal (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Abstract
線修復が可能な液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 本発明の液晶表示装置は、透明絶縁性基
板1上に平行かつ等間隔に配設された複数のゲート信号
線2と、前記ゲート信号線に直交し、平行かつ等間隔に
配設された複数のソース信号線3と、前記両信号線の交
点部に設けられた薄膜トランジスタ4と、前記両信号線
の一方の端部に設けられた端子5と、前記ゲート信号線
および前記端子周辺部とを覆うように形成された絶縁膜
と、表示領域の周辺部に配設された複数の補助配線9と
からなり、前記ソース信号線は複数本づつの群に区分け
され、該群ごとに、該群に属するソース信号線が特定の
補助配線と交差するように、表示領域の外側のソース信
号線の外延長さと補助配線の周回長さとが決定され、ソ
ース信号線と補助配線とが形成される。
Description
けテレビ、携帯用OA機器に搭載される液晶ディスプレ
イとしての液晶表示装置に関するものである。
基板のあいだに液晶材料が挟持され、この液晶材料に選
択的に電圧を印加するように構成されている。たとえば
前記基板の少なくとも一方に、マトリクス状に配列した
透明性導電膜からなる画素電極を設け、これらの画素電
極ごとに選択的に電圧を印加するためのトランジスタな
どのスイッチング素子を設けて透過率を各画素ごとに制
御している。
線欠陥による歩留まりの低下が問題となっており、この
線欠陥救済技術の確立が重要となっている。
号公報に記載の従来の液晶表示装置を示す平面図、図6
は図5中B−B線断面における、Q点およびその周辺部
を示す断面図である。図5および図6において1は透明
絶縁性基板、2はゲート信号線、23はソース信号線、
4は薄膜トランジスタ、5は端子、6は交差部、7は絶
縁膜、8は表示領域、10は断線欠陥、29は補助配線
である。補助配線29は表示領域8周辺部を周回するよ
うに配設され、ソース信号線23と絶縁膜7を介した直
交部として交差部6を形成している。
生したソース信号線23の両端部に形成されている交差
部6にレーザを照射することによって絶縁膜7を破壊し
ソース信号線23と補助配線29を電気的に接続するこ
とにより断線を修復する。
線2やソース信号線23の断線やゲート信号線23とソ
ース信号線23の短絡が発生しやすい。断線または短絡
は、ゲート信号線2やソース信号線23の金属膜の内部
応力や、パターン形成時の欠陥導入、ソース信号線23
によって高くなっている表面とその他の部分とのレベル
差を有する部分における段のような、図6に示す段差部
での金属膜の段差被覆性などの不良に起因する。そのま
まではいずれのばあいも線欠陥となり、線欠陥を有する
表示パネルは製品として使用に耐えない。前記欠陥のう
ち、短絡欠陥についてはたとえばソース信号線23を短
絡個所の前後でレーザで切断することにより短絡は修復
できる。しかし、切断した信号線は断線欠陥となる。結
局、以上から断線欠陥が問題となることが理解できる。
これを修復する手段としてレーザービームを用いる前記
方法が提案されている。
部に形成されているので、付加価値の高い外部回路を実
装する前に線欠陥が修復されているか否かを確認できる
点でコスト上有利である。
すような液晶表示装置では、補助配線29はすべてのソ
ース配線23と交差部6を形成している。この交差部6
では寄生容量(大きさは0.2pF程度)が発生するの
で、断線を修復したソース信号線23は断線のないソー
ス信号線にくらべて容量が増大する。
ー化が進んでいる結果、信号線の数が増加している。た
とえばSVGA(super video graphic array)級では
ゲート信号線2の本数は600本、ソース信号線23の
本数は2400本である。画面中央部付近で断線が発生
したばあい、修復した信号線の容量の合計は700pF
にもなり、ソース信号線23単独の容量100pF程度
の7倍にもなる。端子5を通して信号を入力する外部回
路の出力抵抗を含めた抵抗は修復した信号線も修復して
いない信号線も10kΩ程度である。したがって、結局
修復したばあいの信号時定数は7倍(7μs)となる。
その結果、信号遅延が著しくなって実際の表示では線欠
陥として見える(すなわち線欠陥は修復できない)。
した信号線の寄生容量を抑制するために、たとえば図7
のように特開平3−85525号公報に記載の構成が提
案されている。図7は、従来例を示す平面図である。図
7において、符号1から8、23、および29は図5に
示した符号と同じ部分を示す。符号51はダミー端子を
示す。図8は、従来の液晶ディスプレイにおける断線欠
陥を修復する方法を示す説明図である。図8において符
号1から10、23、29および51は図7に示した符
号と同じ部分を示す。符号21はドライバIC用回路基
板を示し、符号22は制御回路用回路基板を示し、52
は配線を示し、91は配線を示す。前述の従来例におい
ては、ソース信号線23を一群の本数のグループにわ
け、補助配線29はこの一群のソース信号線23とのみ
交差部6を形成するようにし、一群のソース信号線23
の両端に設けられたダミー端子51に接続される構成と
なっている。そして、図8に示すようにパネルに実装さ
れるドライバIC基板21と制御回路基板22にそれぞ
れ設けられたダミー配線52および配線91を通じて電
気的導通をとるようにしている。
差するソース信号線23の本数すなわち寄生容量が減少
する。したがって、信号遅延は問題のないレベルとな
る。しかし、ドライバIC基板21と制御回路基板を実
装するまでは修復の確認ができない。したがって接続部
の導通が不充分なばあいは、高価なこれらの基板も一緒
に廃棄することになり、コスト上極めて不利である。
されたもので、信号遅延を抑制し、しかもコスト上有利
な断線修復が可能な液晶表示装置を実現することを目的
とする。
は、透明絶縁性基板上に平行かつ等間隔に配設された複
数のゲート信号線と、前記ゲート信号線に直交し、か
つ、平行かつ等間隔に配設された複数のソース信号線
と、前記ゲート信号線と前記ソース信号線の各交点部に
それぞれ設けられた薄膜トランジスタと、前記ゲート信
号線のそれぞれの一方の端部および前記ソース信号線の
それぞれの一方の端部にそれぞれ設けられた端子と、前
記ゲート信号線および前記端子周辺部を覆うように形成
された絶縁膜と、前記薄膜トランジスタが配設されてな
る表示領域の周辺部を周回するように配設された複数の
補助配線とからなり、前記複数のソース信号線は、互い
に隣接する複数本ずつの群に区分けされ、前記群ごと
に、該群に属するソース信号線が前記絶縁膜を介して特
定の補助配線と交差部を有しうるように、表示領域の外
側におけるソース信号線の外延長さが決定されるととも
に補助配線の周回長さが決定され、それによりソース信
号線と補助配線とが形成される。
Ta2O5のうちのいずれかからなることが、レーザ照射
による溶射により補助配線とソース信号線とを電気的に
接続できるため好ましい。
上に平行かつ等間隔に配設された複数のゲート信号線
と、前記ゲート信号線に直交し、かつ、平行かつ等間隔
に配設された複数のソース信号線と、前記ゲート信号線
と前記ソース信号線の各交点部にそれぞれ設けられた薄
膜トランジスタと、前記ゲート信号線のそれぞれの一方
の端部および前記ソース信号線のそれぞれの一方の端部
にそれぞれ設けられた端子と、前記ゲート信号線を覆う
ように形成された第1絶縁膜と、前記端子周辺部を覆う
ように形成された第2絶縁膜と、前記薄膜トランジスタ
が配設されてなる表示領域の周辺部を周回するように配
設された複数の補助配線とからなり、前記複数のソース
信号線は、互いに隣接する複数本づつの群に区分けさ
れ、前記群ごとに、該群に属するソース信号線が前記絶
縁膜を介して特定の補助配線と交差部を有しうるよう
に、表示領域の外側におけるソース信号線の外延長さが
決定されるとともに補助配線の周回長さが決定され、そ
れによりソース信号線と補助配線とが形成されることを
特徴とする。
2のうちのいずれかからなることが、レーザ照射による
溶射により補助配線とソース信号線とを電気的に接続で
きるため好ましい。
上に平行かつ等間隔に配設された複数のゲート信号線
と、前記ゲート信号線に直交し、かつ、平行かつ等間隔
に配設された複数のソース信号線と、前記ゲート信号線
と前記ソース信号線の各交点部にそれぞれ設けられた薄
膜トランジスタと、前記ゲート信号線のそれぞれの一方
の端部および前記ソース信号線のそれぞれの一方の端部
にそれぞれ設けられた端子と、前記ゲート信号線および
前記端子周辺部を覆うように形成され絶縁膜と、前記薄
膜トランジスタが配設されてなる表示領域の周辺部を周
回するように配設された複数の補助配線とからなり、前
記複数のソース信号線は、互いに隣接する複数本ずつの
群に区分けされ、前記群ごとに、該群に属するソース信
号線が特定の補助配線と前記絶縁膜を介して交差部を有
しうるように、表示領域の外側におけるソース信号線の
外延長さが決定されるとともに補助配線の周回長さが決
定され、それによりソース信号線と補助配線とが形成さ
れており、かつ、金属パターン膜が、前記複数の補助配
線と直交するように補助配線にまたがるとともに当該金
属パターン膜が前記群ごとの境界線上に位置するように
して、前記絶縁膜を介して形成される。
a2O5のうちのいずれかからなることがレーザ照射によ
る溶射により補助配線とソース信号線または補助配線と
金属パターン膜とを電気的に接続できるため好ましい。
上に平行かつ等間隔に配設された複数のゲート信号線
と、前記ゲート信号線に直交し、かつ、平行かつ等間隔
に配設された複数のソース信号線と、前記ゲート信号線
と前記ソース信号線の各交点部にそれぞれ設けられた薄
膜トランジスタと、前記ゲート信号線のそれぞれの一方
の端部および前記ソース信号線のそれぞれの一方の端部
にそれぞれ設けられた端子と、前記ゲート信号線を覆う
ように形成された第1絶縁膜と、前記端子周辺部を覆う
ように形成された第2絶縁膜と、前記薄膜トランジスタ
が配設されてなる表示領域の周辺部を周回するように配
設された複数の補助配線とからなり、前記複数のソース
信号線は、互いに隣接する複数本づつの群に区分けさ
れ、前記群ごとに、該群に属するソース信号線が前記絶
縁膜を介して特定の補助配線と交差部を有しうるよう
に、表示領域の外側におけるソース信号線の外延長さが
決定されるとともに補助配線の周回長さが決定され、そ
れによりソース信号線と補助配線とが形成されており、
かつ、金属パターン膜が、前記複数本の補助配線と直交
するように補助配線にまたがるとともに当該金属パター
ン膜が前記群ごとの境界線上に位置するようにして、前
記絶縁膜を介して形成されることを特徴とする。
2のうちのいずれかからなることがレーザ照射による溶
射により補助配線とソース信号線または補助配線と金属
パターン膜とを電気的に接続できるため好ましい。
および図2を用いて説明する。図1は本発明の一実施例
を示す液晶表示装置の平面図、図2は図1のA−A線断
面における、P点およびその周辺部を示す断面図であ
る。図1および図2において、1は透明絶縁性基板、2
は、透明絶縁性基板上に等間隔かつ平行に配列されたゲ
ート信号線、3は、透明絶縁性基板上に等間隔かつ平行
に配列され、ゲート信号線に直交しているソース信号
線、4は、ゲート信号線とソース信号線の各交点部にそ
れぞれ設けられた薄膜トランジスタ、5は、ゲート信号
線の各一端およびソース信号線の各一端に設けられた端
子、6は交差部、7bは前記端子の周辺部を覆って形成
される第2絶縁膜、8は、薄膜トランジスタが設けられ
ている表示領域、9は補助配線、10は断線欠陥であ
る。図1は平面図であるので、絶縁膜7は図示されな
い。ソース信号線はいくつかのソース信号線の群に分け
られる。各群において、各群は、ソース信号線が、互い
に隣接する、複数のソース信号線からなるように配列さ
れる。前記絶縁膜7において、前記表示領域内に形成さ
れる部分を第1絶縁膜7a(図示せず)とし、前記表示
領域の外側に形成される部分を第2絶縁膜7bとする。
2つの絶縁膜7aと7bをあわせて絶縁膜7という。前
記補助配線9は表示領域8周辺部を周回するように複数
本配設され、ソース信号線3と第2絶縁膜7bを介して
直交し交差部6を形成している。
ス信号線、薄膜トランジスタ、補助配線が透明絶縁基板
上に形成され、表示領域の内側の領域の絶縁膜の部分が
第1絶縁膜であり、表示領域の外側の領域の絶縁膜の部
分が第2絶縁膜である配置は従来例と同様の構成であ
る。本発明では、表示領域8の左右両端付近の一群のソ
ース信号線3はそれぞれの端子5とは反対側の端部が外
側の補助配線9と交差しないように形成されている。し
たがって、補助配線9との接続部が形成されないことが
大きな特徴である。一方、表示領域8の中央部付近の一
群のソース信号線3はそれぞれの端部5とは反対側の端
部が外側の補助配線9と交差している。
線とは逆に、表示領域8の中央部付近の一群のソース信
号線3はそれぞれの端部5とは反対側の端部が交差しな
いよう、前記左右両端付近の一群のソース信号線3と交
差するのに必要な配線長さLだけで終端した構成とし
た。
記ソース信号線3の表示領域8より外側の長さDまたは
Eを外延長さとする。補助配線は、このようにして設け
られるので、各群のソース信号線は、特定の補助配線と
の交差部を有する。
直交する、またはしない、というようなソース信号線の
一群の本数は、表示領域8の外側に形成される補助配線
9の本数によって異なる(図1では表示領域8を左右に
振り分けてそれぞれ2本としている)。多数の補助配線
9が平行して形成可能であれば、群数を多くすることが
でき、一群内のソース信号線の本数が少なくなるので補
助配線の寄生容量も小さくできる。
領域8の左右に振り分けてそれぞれ設けられ、それぞれ
5本ずつ補助配線9が形成されれば充分である。このば
あい一群内のソース信号線3の本数は240本である。
表示領域中央部のソース信号線3の修復には、一番外側
の補助配線9を用いることになるが、このばあい交差部
6の数は1440まで減少する(従来例では240
0)。ゲート信号線2との交差部を加えたとしても時定
数は従来例の2/3まで低減できる。この構成で実際に
中央部のソース信号線3に断線部10を形成し、前記断
線部10を有するソース信号線3を修復して駆動したと
ころ表示上全く問題のないレベルであった。
否をドライバIC基板および制御回路基板の実装前に検
査装置で検査したのはいうまでもない。
当てられている補助配線9の本数は実質1本であり、断
線修復可能なソース信号線3の本数も一群あたり1本に
限定されている。したがって、可能性は低いものの、図
3に示すように一群あたり2本断線が発生したばあいに
は、ソース信号線3の一群あたり補助配線9が1本とい
う前述の構成では、そのパネルは修復不可能となる。こ
の問題を解決するには単純に一群のソース信号線3に割
り当てる補助配線9の本数を増やせば(たとえば2倍と
すれば)よい。本発明にかかわる第2の実施例を、図3
および図4を参照しつつ説明する。図3は、本発明を具
現する液晶ディスプレイの他の実施例を示す平面図であ
る。図3および図4において符号1から9は、図1およ
び図2における符号と同一の部分を示す。符号3aおよ
び3bはソース信号線を示し、符号10aおよび10b
は断線欠陥を示し、符号11は金属パターン膜を示し、
符号12aおよび12bは交点部を示す。
できるスペースの余裕に限界がある。そこで、図3に示
すように金属パターン膜11を絶縁膜を介して、平行な
2本の補助配線9にまたがってそれぞれに直交するよう
に配置する構成が考えられる。ここで、金属パターン膜
11をたとえばソース信号線3と同じ層に同じ材質で形
成しておけば、金属パターン膜11と補助配線9とのあ
いだの絶縁膜は前記第2絶縁膜7bを兼用でき、図1の
構成に比べて新たな工程を必要とせずに本構成が実現可
能である。
記実施例によれば、表示領域8の両側付近のソース信号
線3a、3bにおいて、断線部10a、10bで示され
る断線が2本発生したばあいでも、レーザ照射により、
黒丸で示される交差部12a、12bにおいて、金属パ
ターン膜11と補助配線9とを導通させ、さらに適当な
個所で(たとえば13で示される個所)で補助配線9を
レーザ照射して切断すれば、図4中に矢印で示すように
ソース信号線3a、3bに信号が伝わる。
ス信号線3a、3bについて、2本修復したばあいは表
示領域8中央部での修復は不可能であるが、修復可能な
ケースが増加する結果、総合的にみて更なる歩留まりの
向上が期待できる。
絶縁膜の材料である窒化シリコン(Si3N4)を用い
る。たとえば酸化シリコン(SiO2)で形成してもよ
い。酸化シリコンで形成されるばあい一般的な絶縁膜の
材料である窒化シリコンの比誘電率が7程度であるのに
対して、酸化シリコンの比誘電率は4程度であるため、
前記交差部6における寄生容量を低減することができ
る。また、前記絶縁膜7を酸化タンタル(Ta2O5)で
形成したばあい、この比誘電率は20程度と窒化シリコ
ンに比べて非常に大きく、膜厚を厚くしても液晶表示装
置の表示特性を損なうことがない。したがって前記交差
部6の絶縁膜の膜厚を厚くできるため、前記交差部6に
おいて異物等による層間短絡欠陥の発生を抑えることが
できる。
おいて、第1絶縁膜7aと第2絶縁膜7bを同一の工程
で形成することに対応するが、第1絶縁膜7aと第2絶
縁膜7bとを、それぞれ別の工程に分けて形成してもよ
い。このばあい、第2絶縁膜7bは一般的な絶縁膜の材
料である窒化シリコンを用いてもよいが、ほかの異なる
材料である、酸化シリコンを用いることもでき、前述と
同様、交差部6での寄生容量を低減することができる。
号線とソース信号線との交差部の数を減少できるため、
寄生容量の増大をおさえることができる。したがって、
信号遅延による表示不良が発生することがない。その結
果、断線の修復の確認がドライバIC基板、制御回路基
板を実装する前に可能であるので、低コスト、高歩留ま
りな液晶表示装置が実現できる。
である。
辺部を示す断面図である。
図である。
修復の方法の説明図である。
辺部を示す断面図である。
解決するための他の従来の液晶表示装置の平面図であ
る。
修復の方法の説明図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 透明絶縁性基板上に平行かつ等間隔に配
設された複数のゲート信号線と、前記ゲート信号線に直
交し、かつ、平行かつ等間隔に配設された複数のソース
信号線と、前記ゲート信号線と前記ソース信号線の各交
点部にそれぞれ設けられた薄膜トランジスタと、前記ゲ
ート信号線のそれぞれの一方の端部および前記ソース信
号線のそれぞれの一方の端部にそれぞれ設けられた端子
と、前記ゲート信号線および前記端子周辺部を覆うよう
に形成された絶縁膜と、前記薄膜トランジスタが配設さ
れてなる表示領域の周辺部を周回するように配設された
複数の補助配線とからなる液晶表示装置であって、前記
複数のソース信号線は、互いに隣接する複数本ずつの群
に区分けされ、前記群ごとに、該群に属するソース信号
線が前記絶縁膜を介して特定の補助配線と交差部を有し
うるように、表示領域の外側におけるソース信号線の外
延長さが決定されるとともに補助配線の周回長さが決定
され、それによりソース信号線と補助配線とが形成され
ることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項2】 前記絶縁膜がSi3N4、SiO2、およ
びTa2O5のいずれかからなる請求項1記載の液晶表示
装置。 - 【請求項3】 透明絶縁性基板上に平行かつ等間隔に配
設された複数のゲート信号線と、前記ゲート信号線に直
交し、かつ、平行かつ等間隔に配設された複数のソース
信号線と、前記ゲート信号線と前記ソース信号線の各交
点部にそれぞれ設けられた薄膜トランジスタと、前記ゲ
ート信号線のそれぞれの一方の端部および前記ソース信
号線のそれぞれの一方の端部にそれぞれ設けられた端子
と、前記ゲート信号線を覆うように形成された第1絶縁
膜と、前記端子周辺部を覆うように形成された第2絶縁
膜と、前記薄膜トランジスタが配設されてなる表示領域
の周辺部を周回するように配設された複数の補助配線と
からなる液晶表示装置であって、前記複数のソース信号
線は、互いに隣接する複数本づつの群に区分けされ、前
記群ごとに、該群に属するソース信号線が前記第2絶縁
膜を介して特定の補助配線と交差部を有しうるように、
表示領域の外側におけるソース信号線の外延長さが決定
されるとともに補助配線の周回長さが決定され、それに
よりソース信号線と補助配線とが形成されることを特徴
とする液晶表示装置。 - 【請求項4】 前記第2絶縁膜が、Si3N4およびSi
O2のうちのいずれかからなる請求項3記載の液晶表示
装置。 - 【請求項5】 透明絶縁性基板上に平行かつ等間隔に配
設された複数のゲート信号線と、前記ゲート信号線に直
交し、かつ、平行かつ等間隔に配設された複数のソース
信号線と、前記ゲート信号線と前記ソース信号線の各交
点部にそれぞれ設けられた薄膜トランジスタと、前記ゲ
ート信号線のそれぞれの一方の端部および前記ソース信
号線のそれぞれの一方の端部にそれぞれ設けられた端子
と、前記ゲート信号線および前記端子周辺部を覆うよう
に形成された絶縁膜と、前記薄膜トランジスタが配設さ
れてなる表示領域の周辺部を周回するように配設された
複数の補助配線とからなる液晶表示装置であって、前記
複数のソース信号線は、互いに隣接する複数本ずつの群
に区分けされ、前記群ごとに、該群に属するソース信号
線が特定の補助配線と前記絶縁膜を介して交差部を有し
うるように、表示領域の外側におけるソース信号線の外
延長さが決定されるとともに補助配線の周回長さが決定
され、それによりソース信号線と補助配線とが形成され
ており、かつ、金属パターン膜が、前記複数の補助配線
と直交するように補助配線にまたがるとともに当該金属
パターン膜が前記群ごとの境界線上に位置するようにし
て、前記絶縁膜を介して形成されることを特徴とする液
晶表示装置。 - 【請求項6】 前記絶縁膜がSi3N4、SiO2および
Ta2O5のうちのいずれかからなる請求項5記載の液晶
表示装置。 - 【請求項7】 透明絶縁性基板上に平行かつ等間隔に配
設された複数のゲート信号線と、前記ゲート信号線に直
交し、かつ、平行かつ等間隔に配設された複数のソース
信号線と、前記ゲート信号線と前記ソース信号線の各交
点部にそれぞれ設けられた薄膜トランジスタと、前記ゲ
ート信号線のそれぞれの一方の端部および前記ソース信
号線のそれぞれの一方の端部にそれぞれ設けられた端子
と、前記ゲート信号線を覆うように形成された第1絶縁
膜と、前記端子周辺部を覆うように形成された第2絶縁
膜と、前記薄膜トランジスタが配設されてなる表示領域
の周辺部を周回するように配設された複数の補助配線と
からなる液晶表示装置であって、前記複数のソース信号
線は、互いに隣接する複数本づつの群に区分けされ、前
記群ごとに、該群に属するソース信号線が前記第2絶縁
膜を介して特定の補助配線と交差部を有しうるように、
表示領域の外側におけるソース信号線の外延長さが決定
されるとともに補助配線の周回長さが決定され、それに
よりソース信号線と補助配線とが形成されており、か
つ、金属パターン膜が、前記複数本の補助配線と直交す
るように補助配線にまたがるとともに当該金属パターン
膜が前記群ごとの境界線上に位置するようにして、前記
絶縁膜を介して形成されることを特徴とする液晶表示装
置。 - 【請求項8】 前記第2絶縁膜が、Si3N4およびSi
O2のうちのいずれかからなる請求項7記載の液晶表示
装置。
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