JPH09138110A - 回折格子を用いた位置合わせ方法およびその装置 - Google Patents
回折格子を用いた位置合わせ方法およびその装置Info
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- JPH09138110A JPH09138110A JP7296616A JP29661695A JPH09138110A JP H09138110 A JPH09138110 A JP H09138110A JP 7296616 A JP7296616 A JP 7296616A JP 29661695 A JP29661695 A JP 29661695A JP H09138110 A JPH09138110 A JP H09138110A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マスクとウエハを高精度に位置合わせする。
【解決手段】 格子ピッチが異なる第1,第3の回折格
子7,7aをマスク10に配置する。格子ピッチが第
1,第3の回折格子7,7aとそれぞれ等しい第2,第
4の回折格子8,8aをウエハ12に配置する。光源1
から出射した2波長の単色光を各回折格子7,7a,
8,8aに導き、その光ヘテロダイン干渉回折光を検出
して第1、第2、第3、第4のビート信号とする。第
1、第2のビート信号から第1の位相差信号を検出し、
第3,第4のビート信号から第2の位相差信号を検出す
る。第1、第2の位相差信号の差を求め、この位相差が
零になるようにマスクステージ11とウエハステージ1
3を相対的に移動させて大まかな位置合わせを行う。次
に、第1または第2の位相差信号に基づいてマスクステ
ージ11とウエハステージ13を相対的に移動させて正
確な位置合わせを行う。
子7,7aをマスク10に配置する。格子ピッチが第
1,第3の回折格子7,7aとそれぞれ等しい第2,第
4の回折格子8,8aをウエハ12に配置する。光源1
から出射した2波長の単色光を各回折格子7,7a,
8,8aに導き、その光ヘテロダイン干渉回折光を検出
して第1、第2、第3、第4のビート信号とする。第
1、第2のビート信号から第1の位相差信号を検出し、
第3,第4のビート信号から第2の位相差信号を検出す
る。第1、第2の位相差信号の差を求め、この位相差が
零になるようにマスクステージ11とウエハステージ1
3を相対的に移動させて大まかな位置合わせを行う。次
に、第1または第2の位相差信号に基づいてマスクステ
ージ11とウエハステージ13を相対的に移動させて正
確な位置合わせを行う。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、マスクとウエハを
位置合わせした後、マスクパタンをウエハ上に焼き付け
て半導体ICやLSIを製造するための露光装置やパタ
ン位置を計測するパタン評価装置に応用して好適な回折
格子を用いた光ヘテロダイン干渉法による位置合わせ方
法およびその装置に関するものである。
位置合わせした後、マスクパタンをウエハ上に焼き付け
て半導体ICやLSIを製造するための露光装置やパタ
ン位置を計測するパタン評価装置に応用して好適な回折
格子を用いた光ヘテロダイン干渉法による位置合わせ方
法およびその装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体ICやLSIパタンの微細化に伴
い、マスクパタンをウエハ上に露光、転写する装置で
は、マスクとウエハとを互いに高精度に位置合わせする
技術の進展が不可欠のものとなっている。
い、マスクパタンをウエハ上に露光、転写する装置で
は、マスクとウエハとを互いに高精度に位置合わせする
技術の進展が不可欠のものとなっている。
【0003】光ヘテロダイン干渉法は、僅かに周波数の
異なる2つのレーザー光を干渉させてヘテロダイン信号
を得、基準となるヘテロダイン信号(参照信号)と測定
したヘテロダイン信号間の位相差を求め、マスクとウエ
ハの位置合わせや位置検出を行なっている。
異なる2つのレーザー光を干渉させてヘテロダイン信号
を得、基準となるヘテロダイン信号(参照信号)と測定
したヘテロダイン信号間の位相差を求め、マスクとウエ
ハの位置合わせや位置検出を行なっている。
【0004】従来、回折格子を用いた光ヘテロダイン干
渉法を利用して微少な変位の測定、あるいは精密な位置
合わせを行う装置として、図7に示すようなX線露光装
置に応用したものがある(特開昭62−261003号
公報;特公平7−49826号公報)。同図において、
20は周波数が互いに僅かに異なり、偏光面方向が互い
に直交する2波長の光を発する横ゼーマン効果型2波長
直交偏光レーザー光源、21a,21b,21c,21
dはミラーで、これらのミラーのうちミラー21b,2
1cは角度調整自在に設けられることにより入射角調整
手段を構成している。22は円筒レンズ、23は偏光ビ
ームスプリッター、24はプリズム状ミラー、25a,
25bは集光レンズ、26a,26bは光電検出器、2
7は信号処理制御部、28はマスクステージ、29はウ
エハステージ、30はマスク、31はウエハ、32はマ
スク回折格子、33は単色光入射・回折光取出し窓、3
4はウエハ回折格子、44a,44bは偏光板である。
渉法を利用して微少な変位の測定、あるいは精密な位置
合わせを行う装置として、図7に示すようなX線露光装
置に応用したものがある(特開昭62−261003号
公報;特公平7−49826号公報)。同図において、
20は周波数が互いに僅かに異なり、偏光面方向が互い
に直交する2波長の光を発する横ゼーマン効果型2波長
直交偏光レーザー光源、21a,21b,21c,21
dはミラーで、これらのミラーのうちミラー21b,2
1cは角度調整自在に設けられることにより入射角調整
手段を構成している。22は円筒レンズ、23は偏光ビ
ームスプリッター、24はプリズム状ミラー、25a,
25bは集光レンズ、26a,26bは光電検出器、2
7は信号処理制御部、28はマスクステージ、29はウ
エハステージ、30はマスク、31はウエハ、32はマ
スク回折格子、33は単色光入射・回折光取出し窓、3
4はウエハ回折格子、44a,44bは偏光板である。
【0005】単色光入射・回折光取出し窓33は、マス
ク30に設けられた開口部であり、この窓33を通して
ウエハ回折格子34に対して入射光が直接入射でき、か
つウエハ回折格子34からの回折光が直接取り出せるよ
うになっている。また、マスクステージ28およびウエ
ハステージ29は、マスク30およびウエハ31を相対
的に移動させる移動機構を構成している。
ク30に設けられた開口部であり、この窓33を通して
ウエハ回折格子34に対して入射光が直接入射でき、か
つウエハ回折格子34からの回折光が直接取り出せるよ
うになっている。また、マスクステージ28およびウエ
ハステージ29は、マスク30およびウエハ31を相対
的に移動させる移動機構を構成している。
【0006】2波長直交偏光レーザー光源20から発し
た光は、ミラー21a、円筒レンズ22を通して楕円状
のビームとなり、そのビームは偏光ビームスプリッター
23によりそれぞれ水平成分あるいは垂直成分のみを有
する直線偏光でしかも周波数が互いに僅かに異なる2波
長の光に分割される。この分割された光はそれぞれミラ
ー21b,22cを介して所望の入射角でマスク回折格
子32とウエハ回折格子34にそれぞれ入射する。これ
らの回折格子32,34は、それぞれ格子ライン方向に
ずれており、しかも2波長の入射光の同一楕円ビーム内
に配置されている。また、マスク回折格子32とウエハ
回折格子34の格子ピッチは等しい。マスク回折格子3
2から得られる回折光、および単色光入射・回折光取出
し窓33を通してウエハ回折格子34から得られる回折
光は、ミラー21d、プリズム状ミラー24、集光レン
ズ25a,25b、偏光板44a,44bを介して光電
検出器26a,26bにそれぞれ導かれ、回折光ビート
信号として信号処理制御部27で処理される。信号処理
制御部27では、マスク回折格子32とウエハ回折格子
34から得られた回折光のそれぞれのビート信号のいず
れか一方の信号を基準ビート信号として両ビート信号の
位相差を検出し、位相差が0°になるようにマスクステ
ージ28、あるいはウエハステージ29を相対的に移動
させ、マスク30上のパタンがウエハ面上の所定の位置
に精度よく重なって露光できるようにマスク30とウエ
ハ31との間の精密な位置合わせを行うようにしてい
る。
た光は、ミラー21a、円筒レンズ22を通して楕円状
のビームとなり、そのビームは偏光ビームスプリッター
23によりそれぞれ水平成分あるいは垂直成分のみを有
する直線偏光でしかも周波数が互いに僅かに異なる2波
長の光に分割される。この分割された光はそれぞれミラ
ー21b,22cを介して所望の入射角でマスク回折格
子32とウエハ回折格子34にそれぞれ入射する。これ
らの回折格子32,34は、それぞれ格子ライン方向に
ずれており、しかも2波長の入射光の同一楕円ビーム内
に配置されている。また、マスク回折格子32とウエハ
回折格子34の格子ピッチは等しい。マスク回折格子3
2から得られる回折光、および単色光入射・回折光取出
し窓33を通してウエハ回折格子34から得られる回折
光は、ミラー21d、プリズム状ミラー24、集光レン
ズ25a,25b、偏光板44a,44bを介して光電
検出器26a,26bにそれぞれ導かれ、回折光ビート
信号として信号処理制御部27で処理される。信号処理
制御部27では、マスク回折格子32とウエハ回折格子
34から得られた回折光のそれぞれのビート信号のいず
れか一方の信号を基準ビート信号として両ビート信号の
位相差を検出し、位相差が0°になるようにマスクステ
ージ28、あるいはウエハステージ29を相対的に移動
させ、マスク30上のパタンがウエハ面上の所定の位置
に精度よく重なって露光できるようにマスク30とウエ
ハ31との間の精密な位置合わせを行うようにしてい
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の位置合
わせ装置において、位置合わせに用いている位相差信号
φは、次式によって表される。 φ=2π・Δx/(P/2n) ・・・・(1) ここで、Δxはマスクとウエハとの相対位置ずれ量、P
はマスク回折格子32あるいはウエハ回折格子34の回
折格子ピッチ、nは回折格子への所望の入射角度によっ
て決まる定数であり、回折角の次数である。したがっ
て、たとえば一次回折角から入射した場合は、位相差信
号φは、回折格子ピッチPの1/2の周期で変化するた
め、マスク30とウエハ31とを回折格子ピッチPの1
/2の範囲内に予め設定する必要がある。すなわち、上
記したような従来の装置では、マスク30とウエハ31
との相対位置合わせを行なった場合に格子ピッチ方向に
前記周期の整数倍周期ずれして位置合わせされるという
問題があった。
わせ装置において、位置合わせに用いている位相差信号
φは、次式によって表される。 φ=2π・Δx/(P/2n) ・・・・(1) ここで、Δxはマスクとウエハとの相対位置ずれ量、P
はマスク回折格子32あるいはウエハ回折格子34の回
折格子ピッチ、nは回折格子への所望の入射角度によっ
て決まる定数であり、回折角の次数である。したがっ
て、たとえば一次回折角から入射した場合は、位相差信
号φは、回折格子ピッチPの1/2の周期で変化するた
め、マスク30とウエハ31とを回折格子ピッチPの1
/2の範囲内に予め設定する必要がある。すなわち、上
記したような従来の装置では、マスク30とウエハ31
との相対位置合わせを行なった場合に格子ピッチ方向に
前記周期の整数倍周期ずれして位置合わせされるという
問題があった。
【0008】本発明は上記した従来の問題を解決するた
めになされたもので、その目的とするところは、マスク
とウエハとを回折格子ピッチPの1/2の範囲内に設定
でき、周期ずれしないようにした回折格子を用いた位置
合わせ方法およびその装置を提供することにある。
めになされたもので、その目的とするところは、マスク
とウエハとを回折格子ピッチPの1/2の範囲内に設定
でき、周期ずれしないようにした回折格子を用いた位置
合わせ方法およびその装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明に係る回折格子を用いた位置合わせ方法は、格子
ピッチが互いに異なる第1、第3の回折格子を第1の物
体に配置し、前記第1、第3の回折格子と格子ピッチが
それぞれ等しい第2、第4の回折格子を第2の物体に前
記第1、第3の回折格子と一定の間隔を隔てて位置する
ように配置し、光源として周波数が互いに僅かに異なる
2波長の単色光を発生する光源を用い、この光源から発
生した第1の単色光のビームスポットを前記第1、第2
の回折格子に対して所定の入射角度で入射させ、前記第
1の回折格子から生じる前記第1の単色光の光ヘテロダ
イン干渉回折光を検出して第1のビート信号とし、前記
第2の回折格子から生じる前記第1の単色光の光ヘテロ
ダイン干渉回折光を検出して第2のビート信号とし、前
記光源から発生した第2の単色光のビームスポットを前
記第3、第4の回折格子に対して所定の入射角度で入射
させ、前記第3の回折格子から生じる前記第2の単色光
の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第3のビート信
号とし、前記第4の回折格子から生じる前記第2の単色
光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第4のビート
信号とし、前記第1、第2のビート信号から第1の位相
差信号を検出し、前記第3、第4のビート信号から第2
の位相差信号を検出し、これら両位相差信号の位相差に
基づいて前記第1、第2の物体を相対的に移動させるこ
とにより、前記第1の回折格子あるいは前記第2の回折
格子の格子ピッチの1/2以内に前記第1の回折格子と
第2の回折格子との位置合わせを行うか、もしくは前記
第3の回折格子あるいは前記第4の回折格子の格子ピッ
チの1/2以内に前記第3の回折格子と前記第4の回折
格子との位置合わせを行ない、しかる後、前記第1の位
相差信号もしくは前記第2の位相差信号に基づいて前記
第1、第2の物体を相対的に移動させて位置合わせを行
うことを特徴とする。
本発明に係る回折格子を用いた位置合わせ方法は、格子
ピッチが互いに異なる第1、第3の回折格子を第1の物
体に配置し、前記第1、第3の回折格子と格子ピッチが
それぞれ等しい第2、第4の回折格子を第2の物体に前
記第1、第3の回折格子と一定の間隔を隔てて位置する
ように配置し、光源として周波数が互いに僅かに異なる
2波長の単色光を発生する光源を用い、この光源から発
生した第1の単色光のビームスポットを前記第1、第2
の回折格子に対して所定の入射角度で入射させ、前記第
1の回折格子から生じる前記第1の単色光の光ヘテロダ
イン干渉回折光を検出して第1のビート信号とし、前記
第2の回折格子から生じる前記第1の単色光の光ヘテロ
ダイン干渉回折光を検出して第2のビート信号とし、前
記光源から発生した第2の単色光のビームスポットを前
記第3、第4の回折格子に対して所定の入射角度で入射
させ、前記第3の回折格子から生じる前記第2の単色光
の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第3のビート信
号とし、前記第4の回折格子から生じる前記第2の単色
光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第4のビート
信号とし、前記第1、第2のビート信号から第1の位相
差信号を検出し、前記第3、第4のビート信号から第2
の位相差信号を検出し、これら両位相差信号の位相差に
基づいて前記第1、第2の物体を相対的に移動させるこ
とにより、前記第1の回折格子あるいは前記第2の回折
格子の格子ピッチの1/2以内に前記第1の回折格子と
第2の回折格子との位置合わせを行うか、もしくは前記
第3の回折格子あるいは前記第4の回折格子の格子ピッ
チの1/2以内に前記第3の回折格子と前記第4の回折
格子との位置合わせを行ない、しかる後、前記第1の位
相差信号もしくは前記第2の位相差信号に基づいて前記
第1、第2の物体を相対的に移動させて位置合わせを行
うことを特徴とする。
【0010】また、本発明に係る回折格子を用いた位置
合わせ方法は、格子ピッチが互いに異なる第1、第3の
回折格子を第1の物体に配置し、前記第1、第3の回折
格子と格子ピッチがそれぞれ等しい第2、第4の回折格
子を第2の物体に前記第1、第3の回折格子と一定の間
隔を隔てて位置するように配置し、光源として第1の波
長を用いて周波数が互いに僅かに異なる2波長の単色光
を発生する第1の光源と、第2の波長を用いて周波数が
僅かに異なる2波長の単色光を発生する第2の光源とを
用い、前記第1の光源からの2波長の単色光を第1のビ
ームスポットとし、この第1のビームスポットを前記第
1、第2の回折格子に対して所定の入射角度で入射さ
せ、前記第1の回折格子から生じる前記第1の光源の単
色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第1のビー
ト信号とし、前記第2の回折格子から生じる前記第1の
光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第
2のビート信号とし、前記第2の光源からの2波長の単
色光を第2のビームスポットとし、この第2のビームス
ポットを前記第3、第4の回折格子に対して所定の入射
角度で入射させ、前記第3の回折格子から生じる前記第
2の光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出し
て第3のビート信号とし、前記第4の回折格子から生じ
る前記第2の光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光
を検出して第4のビート信号とし、前記第1、第2のビ
ート信号から第1の位相差信号を検出し、前記第3、第
4のビート信号から第2の位相差信号を検出し、これら
両位相差信号の位相差に基づいて前記第1、第2の物体
を相対的に移動させることにより、前記第1の回折格子
あるいは前記第2の回折格子の格子ピッチの1/2以内
に前記第1の回折格子と第2の回折格子との位置合わせ
を行うか、もしくは前記第3の回折格子あるいは前記第
4の回折格子の格子ピッチの1/2以内に前記第3の回
折格子と前記第4の回折格子との位置合わせを行ない、
しかる後、前記第1の位相差信号もしくは前記第2の位
相差信号に基づいて前記第1、第2の物体を相対的に移
動させて位置合わせを行うことを特徴とする。
合わせ方法は、格子ピッチが互いに異なる第1、第3の
回折格子を第1の物体に配置し、前記第1、第3の回折
格子と格子ピッチがそれぞれ等しい第2、第4の回折格
子を第2の物体に前記第1、第3の回折格子と一定の間
隔を隔てて位置するように配置し、光源として第1の波
長を用いて周波数が互いに僅かに異なる2波長の単色光
を発生する第1の光源と、第2の波長を用いて周波数が
僅かに異なる2波長の単色光を発生する第2の光源とを
用い、前記第1の光源からの2波長の単色光を第1のビ
ームスポットとし、この第1のビームスポットを前記第
1、第2の回折格子に対して所定の入射角度で入射さ
せ、前記第1の回折格子から生じる前記第1の光源の単
色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第1のビー
ト信号とし、前記第2の回折格子から生じる前記第1の
光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第
2のビート信号とし、前記第2の光源からの2波長の単
色光を第2のビームスポットとし、この第2のビームス
ポットを前記第3、第4の回折格子に対して所定の入射
角度で入射させ、前記第3の回折格子から生じる前記第
2の光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出し
て第3のビート信号とし、前記第4の回折格子から生じ
る前記第2の光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光
を検出して第4のビート信号とし、前記第1、第2のビ
ート信号から第1の位相差信号を検出し、前記第3、第
4のビート信号から第2の位相差信号を検出し、これら
両位相差信号の位相差に基づいて前記第1、第2の物体
を相対的に移動させることにより、前記第1の回折格子
あるいは前記第2の回折格子の格子ピッチの1/2以内
に前記第1の回折格子と第2の回折格子との位置合わせ
を行うか、もしくは前記第3の回折格子あるいは前記第
4の回折格子の格子ピッチの1/2以内に前記第3の回
折格子と前記第4の回折格子との位置合わせを行ない、
しかる後、前記第1の位相差信号もしくは前記第2の位
相差信号に基づいて前記第1、第2の物体を相対的に移
動させて位置合わせを行うことを特徴とする。
【0011】また、本発明に係る回折格子を用いた位置
合わせ方法は、格子ピッチが互いに異なる第1、第3の
回折格子を第1の物体に配置し、前記第1、第3の回折
格子と格子ピッチがそれぞれ等しい第2、第4の回折格
子を第2の物体に前記第1、第3の回折格子と一定の間
隔を隔てて位置するように配置し、光源として周波数が
互いに僅かに異なり第1の周波数差となる2波長の単色
光を発生する第1の光源と、周波数が互いに僅かに異な
り第2の周波数差となる2波長の単色光を発生する第2
の光源とを用い、前記第1の光源からの2波長の単色光
を第1のビームスポットとし、この第1のビームスポッ
トを前記第1、第2の回折格子に対して所定の入射角度
で入射させ、前記第1の回折格子から生じる前記第1の
光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第
1のビート信号とし、前記第2の回折格子から生じる前
記第1の光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検
出して第2のビート信号とし、前記第2の光源からの2
波長の単色光を第2のビームスポットとし、この第2の
ビームスポットを前記第3、第4の回折格子に対して所
定の入射角度で入射させ、前記第3の回折格子から生じ
る前記第2の光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光
を検出して第3のビート信号とし、前記第4の回折格子
から生じる前記第2の光源の単色光の光ヘテロダイン干
渉回折光を検出して第4のビート信号とし、前記第1、
第2のビート信号から第1の位相差信号を検出し、前記
第3、第4のビート信号から第2の位相差信号を検出
し、これら両位相差信号の位相差に基づいて前記第1、
第2の物体を相対的に移動させることにより、前記第1
の回折格子あるいは前記第2の回折格子の格子ピッチの
1/2以内に前記第1の回折格子と第2の回折格子との
位置合わせを行うか、もしくは前記第3の回折格子ある
いは前記第4の回折格子の格子ピッチの1/2以内に前
記第3の回折格子と前記第4の回折格子との位置合わせ
を行ない、しかる後、前記第1の位相差信号もしくは前
記第2の位相差信号に基づいて前記第1、第2の物体を
相対的に移動させて位置合わせを行うことを特徴とす
る。
合わせ方法は、格子ピッチが互いに異なる第1、第3の
回折格子を第1の物体に配置し、前記第1、第3の回折
格子と格子ピッチがそれぞれ等しい第2、第4の回折格
子を第2の物体に前記第1、第3の回折格子と一定の間
隔を隔てて位置するように配置し、光源として周波数が
互いに僅かに異なり第1の周波数差となる2波長の単色
光を発生する第1の光源と、周波数が互いに僅かに異な
り第2の周波数差となる2波長の単色光を発生する第2
の光源とを用い、前記第1の光源からの2波長の単色光
を第1のビームスポットとし、この第1のビームスポッ
トを前記第1、第2の回折格子に対して所定の入射角度
で入射させ、前記第1の回折格子から生じる前記第1の
光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第
1のビート信号とし、前記第2の回折格子から生じる前
記第1の光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検
出して第2のビート信号とし、前記第2の光源からの2
波長の単色光を第2のビームスポットとし、この第2の
ビームスポットを前記第3、第4の回折格子に対して所
定の入射角度で入射させ、前記第3の回折格子から生じ
る前記第2の光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光
を検出して第3のビート信号とし、前記第4の回折格子
から生じる前記第2の光源の単色光の光ヘテロダイン干
渉回折光を検出して第4のビート信号とし、前記第1、
第2のビート信号から第1の位相差信号を検出し、前記
第3、第4のビート信号から第2の位相差信号を検出
し、これら両位相差信号の位相差に基づいて前記第1、
第2の物体を相対的に移動させることにより、前記第1
の回折格子あるいは前記第2の回折格子の格子ピッチの
1/2以内に前記第1の回折格子と第2の回折格子との
位置合わせを行うか、もしくは前記第3の回折格子ある
いは前記第4の回折格子の格子ピッチの1/2以内に前
記第3の回折格子と前記第4の回折格子との位置合わせ
を行ない、しかる後、前記第1の位相差信号もしくは前
記第2の位相差信号に基づいて前記第1、第2の物体を
相対的に移動させて位置合わせを行うことを特徴とす
る。
【0012】また、本発明に係る回折格子を用いた位置
合わせ方法は、第1、第3の回折格子を近接して配置
し、第2、第4の回折格子を近接して配置し、前記第
1、第2の回折格子への格子ライン方向に対する第1の
単色光のビームスポットの入射角度を第1の入射角度と
し、第3、第4の回折格子への格子ライン方向に対する
第2の単色光のビームスポットの入射角度を第2の入射
角度とし、前記第1の入射角度と第2の入射角度とを変
えることにより第1、第2、第3、第4のビート信号を
検出することを特徴とする。
合わせ方法は、第1、第3の回折格子を近接して配置
し、第2、第4の回折格子を近接して配置し、前記第
1、第2の回折格子への格子ライン方向に対する第1の
単色光のビームスポットの入射角度を第1の入射角度と
し、第3、第4の回折格子への格子ライン方向に対する
第2の単色光のビームスポットの入射角度を第2の入射
角度とし、前記第1の入射角度と第2の入射角度とを変
えることにより第1、第2、第3、第4のビート信号を
検出することを特徴とする。
【0013】また、本発明に係る回折格子を用いた位置
合わせ装置は、第1の物体に設けられた格子ピッチが互
いに異なる第1、第3の回折格子と、前記第1、第3の
回折格子と等しい格子ピッチをそれぞれ有し第2の物体
に設けられた第2、第4の回折格子と、前記第1、第2
の物体を相対的に移動させる移動機構と、周波数が互い
に僅かに異なる2波長の単色光を発生する光源と、この
光源から発生した第1の単色光を前記第1、第2の回折
格子に対して所定の入射角度で第1のビームスポットと
して入射させる第1の入射角調整手段と、前記光源から
発生した第2の単色光を前記第3、第4の回折格子に対
して所定の入射角度で第2のビームスポットとして入射
させる第2の入射角調整手段と、前記第1のビームスポ
ットにより前記第1の回折格子から生じる第1の単色光
の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第1のビート信
号を生成する第1のビート信号検出手段と、前記第1の
ビームスポットにより前記第2の回折格子から生じる前
記第1の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して
第2のビート信号を生成する第2のビート信号検出手段
と、前記第2のビームスポットにより前記第3の回折格
子から生じる前記第2の単色光の光ヘテロダイン干渉回
折光を検出して第3のビート信号を生成する第3のビー
ト信号検出手段と、前記第2のビームスポットにより前
記第4の回折格子から生じる前記第2の単色光の光ヘテ
ロダイン干渉回折光を検出して第4のビート信号を生成
する第4のビート信号検出手段と、前記第1および第2
のビート信号検出手段によって生成された前記第1およ
び第2のビート信号から第1の位相差信号を検出する第
1の位相差検出手段と、前記第3および第4のビート信
号検出手段によって生成された前記第3および第4のビ
ート信号から第2の位相差信号を検出する第2の位相差
検出手段と、前記第1の位相差信号と第2の位相差信号
との位相差に基づいて前記移動機構に制御信号を送出
し、さらに前記第1の位相差信号もしくは前記第2の位
相差信号に基づいて前記移動機構に制御信号を送出し前
記第1、第2の物体を相対的に移動させて位置合わせす
る信号処理制御手段とを備えたことを特徴とする。
合わせ装置は、第1の物体に設けられた格子ピッチが互
いに異なる第1、第3の回折格子と、前記第1、第3の
回折格子と等しい格子ピッチをそれぞれ有し第2の物体
に設けられた第2、第4の回折格子と、前記第1、第2
の物体を相対的に移動させる移動機構と、周波数が互い
に僅かに異なる2波長の単色光を発生する光源と、この
光源から発生した第1の単色光を前記第1、第2の回折
格子に対して所定の入射角度で第1のビームスポットと
して入射させる第1の入射角調整手段と、前記光源から
発生した第2の単色光を前記第3、第4の回折格子に対
して所定の入射角度で第2のビームスポットとして入射
させる第2の入射角調整手段と、前記第1のビームスポ
ットにより前記第1の回折格子から生じる第1の単色光
の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第1のビート信
号を生成する第1のビート信号検出手段と、前記第1の
ビームスポットにより前記第2の回折格子から生じる前
記第1の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して
第2のビート信号を生成する第2のビート信号検出手段
と、前記第2のビームスポットにより前記第3の回折格
子から生じる前記第2の単色光の光ヘテロダイン干渉回
折光を検出して第3のビート信号を生成する第3のビー
ト信号検出手段と、前記第2のビームスポットにより前
記第4の回折格子から生じる前記第2の単色光の光ヘテ
ロダイン干渉回折光を検出して第4のビート信号を生成
する第4のビート信号検出手段と、前記第1および第2
のビート信号検出手段によって生成された前記第1およ
び第2のビート信号から第1の位相差信号を検出する第
1の位相差検出手段と、前記第3および第4のビート信
号検出手段によって生成された前記第3および第4のビ
ート信号から第2の位相差信号を検出する第2の位相差
検出手段と、前記第1の位相差信号と第2の位相差信号
との位相差に基づいて前記移動機構に制御信号を送出
し、さらに前記第1の位相差信号もしくは前記第2の位
相差信号に基づいて前記移動機構に制御信号を送出し前
記第1、第2の物体を相対的に移動させて位置合わせす
る信号処理制御手段とを備えたことを特徴とする。
【0014】また、本発明に係る回折格子を用いた位置
合わせ装置は、第1の物体に設けられた格子ピッチが互
いに異なる第1、第3の回折格子と、前記第1、第3の
回折格子と等しい格子ピッチをそれぞれ有し第2の物体
に設けられた第2、第4の回折格子と、前記第1、第2
の物体を相対的に移動させる移動機構と、第1の波長を
用いて周波数が互いに僅かに異なる2波長の単色光を発
生する第1の光源と、第2の波長を用いて周波数が互い
に僅かに異なる2波長の単色光を発生する第2の光源
と、前記第1の光源から発生した2波長の単色光を前記
第1、第2の回折格子に対して所定の入射角度で第1の
ビームスポットとして入射させる第1の入射角調整手段
と、前記第2の光源から発生した2波長の単色光を前記
第3、第4の回折格子に対して所定の入射角度で第2の
ビームスポットとして入射させる第2の入射角調整手段
と、前記第1のビームスポットにより前記第1の回折格
子から生じる前記2波長の単色光の光ヘテロダイン干渉
回折光を検出して第1のビート信号を生成する第1のビ
ート信号検出手段と、前記第1のビームスポットにより
前記第2の回折格子から生じる前記2波長の単色光の光
ヘテロダイン干渉回折光を検出して第2のビート信号を
生成する第2のビート信号検出手段と、前記第2のビー
ムスポットにより前記第3の回折格子から生じる前記2
波長の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第
3のビート信号を生成する第3のビート信号検出手段
と、前記第2のビームスポットにより前記第4の回折格
子から生じる前記2波長の単色光の光ヘテロダイン干渉
回折光を検出して第4のビート信号を生成する第4のビ
ート信号検出手段と、前記第1および第2のビート信号
検出手段によって生成された前記第1および第2のビー
ト信号から第1の位相差信号を検出する第1の位相差検
出手段と、前記第3および第4のビート信号検出手段に
よって生成された前記第3および第4のビート信号から
第2の位相差信号を検出する第2の位相差検出手段と、
前記第1の位相差信号と第2の位相差信号との位相差に
基づいて前記移動機構に制御信号を送出し、さらに前記
第1の位相差信号もしくは前記第2の位相差信号に基づ
いて前記移動機構に制御信号を送出し前記第1、第2の
物体を相対的に移動させて位置合わせする信号処理制御
手段とを備えたことを特徴とする。
合わせ装置は、第1の物体に設けられた格子ピッチが互
いに異なる第1、第3の回折格子と、前記第1、第3の
回折格子と等しい格子ピッチをそれぞれ有し第2の物体
に設けられた第2、第4の回折格子と、前記第1、第2
の物体を相対的に移動させる移動機構と、第1の波長を
用いて周波数が互いに僅かに異なる2波長の単色光を発
生する第1の光源と、第2の波長を用いて周波数が互い
に僅かに異なる2波長の単色光を発生する第2の光源
と、前記第1の光源から発生した2波長の単色光を前記
第1、第2の回折格子に対して所定の入射角度で第1の
ビームスポットとして入射させる第1の入射角調整手段
と、前記第2の光源から発生した2波長の単色光を前記
第3、第4の回折格子に対して所定の入射角度で第2の
ビームスポットとして入射させる第2の入射角調整手段
と、前記第1のビームスポットにより前記第1の回折格
子から生じる前記2波長の単色光の光ヘテロダイン干渉
回折光を検出して第1のビート信号を生成する第1のビ
ート信号検出手段と、前記第1のビームスポットにより
前記第2の回折格子から生じる前記2波長の単色光の光
ヘテロダイン干渉回折光を検出して第2のビート信号を
生成する第2のビート信号検出手段と、前記第2のビー
ムスポットにより前記第3の回折格子から生じる前記2
波長の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第
3のビート信号を生成する第3のビート信号検出手段
と、前記第2のビームスポットにより前記第4の回折格
子から生じる前記2波長の単色光の光ヘテロダイン干渉
回折光を検出して第4のビート信号を生成する第4のビ
ート信号検出手段と、前記第1および第2のビート信号
検出手段によって生成された前記第1および第2のビー
ト信号から第1の位相差信号を検出する第1の位相差検
出手段と、前記第3および第4のビート信号検出手段に
よって生成された前記第3および第4のビート信号から
第2の位相差信号を検出する第2の位相差検出手段と、
前記第1の位相差信号と第2の位相差信号との位相差に
基づいて前記移動機構に制御信号を送出し、さらに前記
第1の位相差信号もしくは前記第2の位相差信号に基づ
いて前記移動機構に制御信号を送出し前記第1、第2の
物体を相対的に移動させて位置合わせする信号処理制御
手段とを備えたことを特徴とする。
【0015】また、本発明に係る回折格子を用いた位置
合わせ装置は、第1の物体に設けられた格子ピッチが互
いに異なる第1、第3の回折格子と、前記第1、第3の
回折格子と等しい格子ピッチをそれぞれ有し第2の物体
に設けられた第2、第4の回折格子と、前記第1、第2
の物体を相対的に移動させる移動機構と、周波数が互い
に僅かに異なり第1の周波数差となる2波長の単色光を
発生する第1の光源と、周波数が互いに僅かに異なり第
2の周波数差となる2波長の単色光を発生する第2の光
源と、前記第1の光源から発生した2波長の単色光を前
記第1、第2の回折格子に対して所定の入射角度で第1
のビームスポットとして入射させる第1の入射角調整手
段と、前記第2の光源から発生した2波長の単色光を前
記第3、第4の回折格子に対して所定の入射角度で第2
のビームスポットとして入射させる第2の入射角調整手
段と、前記第1のビームスポットにより前記第1の回折
格子から生じる前記2波長の単色光の光ヘテロダイン干
渉回折光を検出して第1のビート信号を生成する第1の
ビート信号検出手段と、前記第1のビームスポットによ
り前記第2の回折格子から生じる前記2波長の単色光の
光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第2のビート信号
を生成する第2のビート信号検出手段と、前記第2のビ
ームスポットにより前記第3の回折格子から生じる前記
2波長の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して
第3のビート信号を生成する第3のビート信号検出手段
と、前記第2のビームスポットにより前記第4の回折格
子から生じる前記2波長の単色光の光ヘテロダイン干渉
回折光を検出して第4のビート信号を生成する第4のビ
ート信号検出手段と、前記第1および第2のビート信号
検出手段によって生成された前記第1および第2のビー
ト信号から第1の位相差信号を検出する第1の位相差検
出手段と、前記第3および第4のビート信号検出手段に
よって生成された前記第3および第4のビート信号から
第2の位相差信号を検出する第2の位相差検出手段と、
前記第1の位相差信号と第2の位相差信号との位相差に
基づいて前記移動機構に制御信号を送出し、さらに前記
第1の位相差信号もしくは前記第2の位相差信号に基づ
いて前記移動機構に制御信号を送出し前記第1、第2の
物体を相対的に移動させて位置合わせする信号処理制御
手段とを備えたことを特徴とする。さらに、本発明に係
る回折格子を用いた位置合わせ装置は、第1、第3の回
折格子を近接して配置し、第2および第4の回折格子を
近接して配置したことを特徴とする。
合わせ装置は、第1の物体に設けられた格子ピッチが互
いに異なる第1、第3の回折格子と、前記第1、第3の
回折格子と等しい格子ピッチをそれぞれ有し第2の物体
に設けられた第2、第4の回折格子と、前記第1、第2
の物体を相対的に移動させる移動機構と、周波数が互い
に僅かに異なり第1の周波数差となる2波長の単色光を
発生する第1の光源と、周波数が互いに僅かに異なり第
2の周波数差となる2波長の単色光を発生する第2の光
源と、前記第1の光源から発生した2波長の単色光を前
記第1、第2の回折格子に対して所定の入射角度で第1
のビームスポットとして入射させる第1の入射角調整手
段と、前記第2の光源から発生した2波長の単色光を前
記第3、第4の回折格子に対して所定の入射角度で第2
のビームスポットとして入射させる第2の入射角調整手
段と、前記第1のビームスポットにより前記第1の回折
格子から生じる前記2波長の単色光の光ヘテロダイン干
渉回折光を検出して第1のビート信号を生成する第1の
ビート信号検出手段と、前記第1のビームスポットによ
り前記第2の回折格子から生じる前記2波長の単色光の
光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第2のビート信号
を生成する第2のビート信号検出手段と、前記第2のビ
ームスポットにより前記第3の回折格子から生じる前記
2波長の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して
第3のビート信号を生成する第3のビート信号検出手段
と、前記第2のビームスポットにより前記第4の回折格
子から生じる前記2波長の単色光の光ヘテロダイン干渉
回折光を検出して第4のビート信号を生成する第4のビ
ート信号検出手段と、前記第1および第2のビート信号
検出手段によって生成された前記第1および第2のビー
ト信号から第1の位相差信号を検出する第1の位相差検
出手段と、前記第3および第4のビート信号検出手段に
よって生成された前記第3および第4のビート信号から
第2の位相差信号を検出する第2の位相差検出手段と、
前記第1の位相差信号と第2の位相差信号との位相差に
基づいて前記移動機構に制御信号を送出し、さらに前記
第1の位相差信号もしくは前記第2の位相差信号に基づ
いて前記移動機構に制御信号を送出し前記第1、第2の
物体を相対的に移動させて位置合わせする信号処理制御
手段とを備えたことを特徴とする。さらに、本発明に係
る回折格子を用いた位置合わせ装置は、第1、第3の回
折格子を近接して配置し、第2および第4の回折格子を
近接して配置したことを特徴とする。
【0016】格子ピッチの異なる回折格子の組からそれ
ぞれ光ヘテロダイン干渉したビート信号を検出する。す
なわち、第1、第2、第3、第4の回折格子からそれぞ
れ光ヘテロダイン干渉した第1、第2、第3、第4のビ
ート信号を検出する。第1、第2のビート信号から第1
の位相差信号を検出し、第3、第4のビート信号から第
2の位相差信号を検出し、これらの位相差信号の差を求
め、この位相差が零になるように第1、第2の物体を相
対的に移動させることにより、第1、第2の回折格子間
もしくは第3、第4の回折格子間の大まかな位置合わせ
を行い、第1、第2の物体を回折格子ピッチの少なくと
も1/2の範囲内に設定する。次に、前記第1の位相差
信号もしくは第2の位相差信号に基づいて第1、第2の
回折格子もしくは第3、第4の回折格子が格子ラインの
方向に一致するように第1、第2の物体を相対的に移動
させることにより周期ずれしない高精度な位置合わせが
行われる。
ぞれ光ヘテロダイン干渉したビート信号を検出する。す
なわち、第1、第2、第3、第4の回折格子からそれぞ
れ光ヘテロダイン干渉した第1、第2、第3、第4のビ
ート信号を検出する。第1、第2のビート信号から第1
の位相差信号を検出し、第3、第4のビート信号から第
2の位相差信号を検出し、これらの位相差信号の差を求
め、この位相差が零になるように第1、第2の物体を相
対的に移動させることにより、第1、第2の回折格子間
もしくは第3、第4の回折格子間の大まかな位置合わせ
を行い、第1、第2の物体を回折格子ピッチの少なくと
も1/2の範囲内に設定する。次に、前記第1の位相差
信号もしくは第2の位相差信号に基づいて第1、第2の
回折格子もしくは第3、第4の回折格子が格子ラインの
方向に一致するように第1、第2の物体を相対的に移動
させることにより周期ずれしない高精度な位置合わせが
行われる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に示す実施の
形態に基づいて詳細に説明する。図1は本発明に係る回
折格子を用いた位置合わせ装置の実施の形態を示す概略
構成図である。本実施の形態においては、半導体ICや
LSIを製造するためのX線露光装置のマスクとウエハ
の位置合わせに用いられる回折光強度検出および光ヘテ
ロダイン干渉方式の位置合わせ装置に適用した例を示し
ている。1は2波長レーザー光源、2は三角プリズムミ
ラー、3,3aはビームスプリッター、44,4a,4
b,4c,4d,4e,4f,4gはミラーで、ミラー
4c,4dは第1の入射角調整手段を構成し、ミラー4
b,4eは第2の入射角調整手段を構成している。5,
5a,5b,5cは拡大光学系、6,6aは2分割ディ
テクター(第1〜第4のビート信号検出手段)、7,7
aはマスク回折格子(第1、第3の回折格子)、8,8
aはウエハ回折格子(第2、第4の回折格子)、9は単
色光入射・回折光取出し窓、10はマスク(第1の物
体)、11はマスクステージ、12はウエハ(第2の物
体)、13はウエハステージで、これらステージ11,
13はマスク10とウエハ12の移動機構をそれぞれ構
成している。14,14aは位相差検出回路系(第1、
第2の位相差検出手段)、15,15aは検出信号処理
制御系(信号処理制御手段)、16,16aはマスク側
光ヘテロダイン干渉回折光、17,17aはウエハ側光
ヘテロダイン干渉回折光である。なお図中、マスク10
およびウエハ12の各移動機構については図7に示した
従来装置における移動機構と同じである。
形態に基づいて詳細に説明する。図1は本発明に係る回
折格子を用いた位置合わせ装置の実施の形態を示す概略
構成図である。本実施の形態においては、半導体ICや
LSIを製造するためのX線露光装置のマスクとウエハ
の位置合わせに用いられる回折光強度検出および光ヘテ
ロダイン干渉方式の位置合わせ装置に適用した例を示し
ている。1は2波長レーザー光源、2は三角プリズムミ
ラー、3,3aはビームスプリッター、44,4a,4
b,4c,4d,4e,4f,4gはミラーで、ミラー
4c,4dは第1の入射角調整手段を構成し、ミラー4
b,4eは第2の入射角調整手段を構成している。5,
5a,5b,5cは拡大光学系、6,6aは2分割ディ
テクター(第1〜第4のビート信号検出手段)、7,7
aはマスク回折格子(第1、第3の回折格子)、8,8
aはウエハ回折格子(第2、第4の回折格子)、9は単
色光入射・回折光取出し窓、10はマスク(第1の物
体)、11はマスクステージ、12はウエハ(第2の物
体)、13はウエハステージで、これらステージ11,
13はマスク10とウエハ12の移動機構をそれぞれ構
成している。14,14aは位相差検出回路系(第1、
第2の位相差検出手段)、15,15aは検出信号処理
制御系(信号処理制御手段)、16,16aはマスク側
光ヘテロダイン干渉回折光、17,17aはウエハ側光
ヘテロダイン干渉回折光である。なお図中、マスク10
およびウエハ12の各移動機構については図7に示した
従来装置における移動機構と同じである。
【0018】レーザー光源1から発する周波数がf、f
+Δfと互いに僅かに異なる2波長からなるレーザー光
LA,LBは、三角プリズムミラー2に当たって反射す
ることにより互いに反対方向に90°方向転換された
後、ビームスプリッター3,3aにそれぞれ入射し、レ
ーザー光LAー1,LAー2,LB-1,LBー2にそれぞれ分
割される。これら4つのレーザー光LAー1,LAー2,L
B-1,LBー2のうちビームスプリッター3,3aによっ
て反射したレーザー光LAー1とLB-1は、ミラー4c,
4dを介して所望の入射角でマスク回折格子7に入射す
ると同時に、単色光入射・回折光取出し窓9を透過して
所望の入射角でウエハ回折格子8に入射する。
+Δfと互いに僅かに異なる2波長からなるレーザー光
LA,LBは、三角プリズムミラー2に当たって反射す
ることにより互いに反対方向に90°方向転換された
後、ビームスプリッター3,3aにそれぞれ入射し、レ
ーザー光LAー1,LAー2,LB-1,LBー2にそれぞれ分
割される。これら4つのレーザー光LAー1,LAー2,L
B-1,LBー2のうちビームスプリッター3,3aによっ
て反射したレーザー光LAー1とLB-1は、ミラー4c,
4dを介して所望の入射角でマスク回折格子7に入射す
ると同時に、単色光入射・回折光取出し窓9を透過して
所望の入射角でウエハ回折格子8に入射する。
【0019】図1に示した実施の形態では、前記2波長
のレーザー光LA-1,LBー1は、それぞれ1次回折角の
方向から入射し、2波長の入射光の同一ビーム内に前記
マスク回折格子7およびウエハ回折格子8が配置されて
いる。また、前記マスク回折格子7およびウエハ回折格
子8の格子ピッチP1 は等しく設定されている。
のレーザー光LA-1,LBー1は、それぞれ1次回折角の
方向から入射し、2波長の入射光の同一ビーム内に前記
マスク回折格子7およびウエハ回折格子8が配置されて
いる。また、前記マスク回折格子7およびウエハ回折格
子8の格子ピッチP1 は等しく設定されている。
【0020】前記マスク回折格子7およびウエハ回折格
子8から単色光入射・回折光取出し窓9を介して得られ
る前記2波長のレーザー光LA-1,LBー1の1次回折光
16,17は、それぞれ前記マスク回折格子7およびウ
エハ回折格子8の鉛直方向に出射して光ヘテロダイン干
渉する。これらの光ヘテロダイン干渉した回折光16,
17は、それぞれミラー4g、拡大光学系5,5aを介
して2分割ディテクター6の光電検出部6ー1,6-2へそ
れぞれ入射する。これらの光電検出部6ー1,6ー2は、光
ヘテロダイン干渉回折光16,17を検出することによ
り第1のマスクビート信号I1 と第2のウエハビート信
号I2 をそれぞれ生成し、位相差検出回路系14にそれ
ぞれ入力する。
子8から単色光入射・回折光取出し窓9を介して得られ
る前記2波長のレーザー光LA-1,LBー1の1次回折光
16,17は、それぞれ前記マスク回折格子7およびウ
エハ回折格子8の鉛直方向に出射して光ヘテロダイン干
渉する。これらの光ヘテロダイン干渉した回折光16,
17は、それぞれミラー4g、拡大光学系5,5aを介
して2分割ディテクター6の光電検出部6ー1,6-2へそ
れぞれ入射する。これらの光電検出部6ー1,6ー2は、光
ヘテロダイン干渉回折光16,17を検出することによ
り第1のマスクビート信号I1 と第2のウエハビート信
号I2 をそれぞれ生成し、位相差検出回路系14にそれ
ぞれ入力する。
【0021】一方、4つのレーザー光LAー1,LAー2,
LB-1,LBー2のうちビームスプリッター3,3aを透
過したレーザー光LAー2とLB-2は、ミラー4と4b、
4aと4eを介してそれぞれ所望の入射角でマスク回折
格子7aに入射すると同時に、単色光入射・回折光取出
し窓9を透過して所望の入射角でウエハ回折格子8aに
入射する。
LB-1,LBー2のうちビームスプリッター3,3aを透
過したレーザー光LAー2とLB-2は、ミラー4と4b、
4aと4eを介してそれぞれ所望の入射角でマスク回折
格子7aに入射すると同時に、単色光入射・回折光取出
し窓9を透過して所望の入射角でウエハ回折格子8aに
入射する。
【0022】図1に示した実施の形態では、前記2波長
のレーザー光LA-2,LBー2は、それぞれ1次回折角の
方向から入射し、2波長の入射光の同一ビーム内に前記
マスク回折格子7aおよびウエハ回折格子8aが配置さ
れている。また、前記マスク回折格子7aおよびウエハ
回折格子8aの格子ピッチP2 は等しく設定され、前記
マスク回折格子7およびウエハ回折格子8の格子ピッチ
P1 とは異なる値に設定されている。
のレーザー光LA-2,LBー2は、それぞれ1次回折角の
方向から入射し、2波長の入射光の同一ビーム内に前記
マスク回折格子7aおよびウエハ回折格子8aが配置さ
れている。また、前記マスク回折格子7aおよびウエハ
回折格子8aの格子ピッチP2 は等しく設定され、前記
マスク回折格子7およびウエハ回折格子8の格子ピッチ
P1 とは異なる値に設定されている。
【0023】前記マスク回折格子7aおよびウエハ回折
格子8aから単色光入射・回折光取出し窓9を介して得
られる前記2波長のレーザー光LA-2,LBー2の1次回
折光16a,17aは、それぞれ前記マスク回折格子7
aおよびウエハ回折格子8aの鉛直方向に出射して光ヘ
テロダイン干渉する。これらの光ヘテロダイン干渉した
回折光16a,17aは、それぞれミラー4f、拡大光
学系5b,5cを介して2分割ディテクター6aの光電
検出部6aー1,6a-2へそれぞれ入射する。これらの光
電検出部6aー1,6aー2は、光ヘテロダイン干渉回折光
16a,17aを検出することにより第3のマスクビー
ト信号I3 と第4のウエハビート信号I4 をそれぞれ生
成し、位相差検出回路系14aにそれぞれ入力する。
格子8aから単色光入射・回折光取出し窓9を介して得
られる前記2波長のレーザー光LA-2,LBー2の1次回
折光16a,17aは、それぞれ前記マスク回折格子7
aおよびウエハ回折格子8aの鉛直方向に出射して光ヘ
テロダイン干渉する。これらの光ヘテロダイン干渉した
回折光16a,17aは、それぞれミラー4f、拡大光
学系5b,5cを介して2分割ディテクター6aの光電
検出部6aー1,6a-2へそれぞれ入射する。これらの光
電検出部6aー1,6aー2は、光ヘテロダイン干渉回折光
16a,17aを検出することにより第3のマスクビー
ト信号I3 と第4のウエハビート信号I4 をそれぞれ生
成し、位相差検出回路系14aにそれぞれ入力する。
【0024】位相差検出回路系14,14aでは、それ
ぞれ第1のマスクビート信号I1 と第2のウエハビート
信号I2 との位相差φ12と、第3のマスクビート信号I
3 と第4のウエハビート信号I4 との位相差φ34を算出
する。マスク10とウエハ12との相対位置ずれ量をΔ
xとすると、位相差信号φ12,φ34は、それぞれ次式に
よって表される。 φ12=2π・Δx/(P1/2n) ・・・・(2) φ34=2π・Δx/(P2/2n) ・・・・(3) ここで、P1 は回折格子7,8の格子ピッチ、P2 は回
折格子7a,8aの格子ピッチ、nは回折格子への所望
の入射角によって決まる回折角の次数であり、図1に示
した実施の形態においては、n=1である。
ぞれ第1のマスクビート信号I1 と第2のウエハビート
信号I2 との位相差φ12と、第3のマスクビート信号I
3 と第4のウエハビート信号I4 との位相差φ34を算出
する。マスク10とウエハ12との相対位置ずれ量をΔ
xとすると、位相差信号φ12,φ34は、それぞれ次式に
よって表される。 φ12=2π・Δx/(P1/2n) ・・・・(2) φ34=2π・Δx/(P2/2n) ・・・・(3) ここで、P1 は回折格子7,8の格子ピッチ、P2 は回
折格子7a,8aの格子ピッチ、nは回折格子への所望
の入射角によって決まる回折角の次数であり、図1に示
した実施の形態においては、n=1である。
【0025】次に、位相差信号φ12,φ34は、検出信号
処理制御系15,15aに入力する。検出信号処理制御
系15では、位相差信号φ12とφ34の差信号Δφを算出
し、この差信号Δφを検出信号処理制御系15aに入力
する。差信号Δφは次式によって表される。 Δφ=φ12−φ34 =2π・Δx/(P1/2)−2π・Δx/(P2/2) =2π・Δx/{P1・P2 /2(P2 −P1 )} ・・・・(4) 差信号Δφの周期Lは、{P1・P2 /2(P2 −P1
)}であり、例えば、P1 =4μm、P2 =4.1μ
mとすると、L=82μmとなる。図2に位相差信号φ
12,φ34および差信号Δφの検出波形を示す。
処理制御系15,15aに入力する。検出信号処理制御
系15では、位相差信号φ12とφ34の差信号Δφを算出
し、この差信号Δφを検出信号処理制御系15aに入力
する。差信号Δφは次式によって表される。 Δφ=φ12−φ34 =2π・Δx/(P1/2)−2π・Δx/(P2/2) =2π・Δx/{P1・P2 /2(P2 −P1 )} ・・・・(4) 差信号Δφの周期Lは、{P1・P2 /2(P2 −P1
)}であり、例えば、P1 =4μm、P2 =4.1μ
mとすると、L=82μmとなる。図2に位相差信号φ
12,φ34および差信号Δφの検出波形を示す。
【0026】検出信号処理制御系15aでは、はじめに
回折格子の格子ピッチに対して十分長い周期の位相差信
号Δφに対応して、マスクステージ11もしくはウエハ
ステージ13に駆動制御信号を送り、Δφが零になるよ
うにこれらステージを相対的に移動させることにより、
マスク回折格子7とウエハ回折格子8、もしくはマスク
回折格子7aとウエハ回折格子8aとが格子ラインの方
向に対して回折格子ピッチの1/2以内に一致するよう
に位置合わせする。次に、位相差信号φ12もしくはφ34
の何れか一方の信号に対応してマスクステージ11また
はウエハステージ13に駆動制御信号を送り、マスク回
折格子7とウエハ回折格子8、もしくはマスク回折格子
7aとウエハ回折格子8aとが格子ラインの方向に対し
て一致するように位置合わせを行なう。
回折格子の格子ピッチに対して十分長い周期の位相差信
号Δφに対応して、マスクステージ11もしくはウエハ
ステージ13に駆動制御信号を送り、Δφが零になるよ
うにこれらステージを相対的に移動させることにより、
マスク回折格子7とウエハ回折格子8、もしくはマスク
回折格子7aとウエハ回折格子8aとが格子ラインの方
向に対して回折格子ピッチの1/2以内に一致するよう
に位置合わせする。次に、位相差信号φ12もしくはφ34
の何れか一方の信号に対応してマスクステージ11また
はウエハステージ13に駆動制御信号を送り、マスク回
折格子7とウエハ回折格子8、もしくはマスク回折格子
7aとウエハ回折格子8aとが格子ラインの方向に対し
て一致するように位置合わせを行なう。
【0027】以上のように、本実施の形態においては、
回折格子の格子ピッチに対して十分周期の長い位相差信
号Δφを算出して2つの回折格子間の大まかな位置合わ
せを行い、マスク10とウエハ12とを回折格子ピッチ
の少なくとも1/2の範囲内に設定した後、回折格子を
用いた光ヘテロダイン干渉の位相差検出により位置合わ
せを行うことにより、周期ずれしない高精度の位置合わ
せが実現できる。
回折格子の格子ピッチに対して十分周期の長い位相差信
号Δφを算出して2つの回折格子間の大まかな位置合わ
せを行い、マスク10とウエハ12とを回折格子ピッチ
の少なくとも1/2の範囲内に設定した後、回折格子を
用いた光ヘテロダイン干渉の位相差検出により位置合わ
せを行うことにより、周期ずれしない高精度の位置合わ
せが実現できる。
【0028】ここで、図1に示した実施の形態において
は、一次回折光を利用する方法について説明したが、一
般にn次回折光を用いても同様の効果が得られる。ま
た、光ヘテロダイン干渉した回折光を得る方法として、
回折格子に対して左右対称のn次回折角の方向から2波
長のレーザー光を入射する例について述べたが、逆に、
回折格子に対して鉛直方向から2波長のレーザー光を入
射し、左右対称の方向に出射する±n次回折光を干渉さ
せる方法を用いてもよい。さらに、2波長のレーザー光
源としては、音響光学素子等を用いて周波数シフトさせ
る方法を示したが、ゼーマン効果型のレーザー光源を用
いて偏光ビームスプリッターで分離してf、f+Δfを
生成する方法を用いても同様の効果が得られる。
は、一次回折光を利用する方法について説明したが、一
般にn次回折光を用いても同様の効果が得られる。ま
た、光ヘテロダイン干渉した回折光を得る方法として、
回折格子に対して左右対称のn次回折角の方向から2波
長のレーザー光を入射する例について述べたが、逆に、
回折格子に対して鉛直方向から2波長のレーザー光を入
射し、左右対称の方向に出射する±n次回折光を干渉さ
せる方法を用いてもよい。さらに、2波長のレーザー光
源としては、音響光学素子等を用いて周波数シフトさせ
る方法を示したが、ゼーマン効果型のレーザー光源を用
いて偏光ビームスプリッターで分離してf、f+Δfを
生成する方法を用いても同様の効果が得られる。
【0029】また、回折格子の配置方法として、図3に
示すようにマスク回折格子7と7aおよびウエハ回折格
子8と8aをそれぞれ横方向に近接して配置したり
(a)、縦方向に近接して配置してもよい(b)。この
場合、図4(a)に示すように回折光を鉛直方向に出射
する方法(上記した実施の形態と同じ方法)を用いない
で、図4(b)に示すようにz軸に対して−y方向に入
射角−α1 だけ傾けた方向から入射する方法を用いる
と、回折光はz軸に対して+y方向に角度+α1 だけ傾
けた方向に出射するから、4つの光ヘテロダイン干渉回
折光を分離できる。
示すようにマスク回折格子7と7aおよびウエハ回折格
子8と8aをそれぞれ横方向に近接して配置したり
(a)、縦方向に近接して配置してもよい(b)。この
場合、図4(a)に示すように回折光を鉛直方向に出射
する方法(上記した実施の形態と同じ方法)を用いない
で、図4(b)に示すようにz軸に対して−y方向に入
射角−α1 だけ傾けた方向から入射する方法を用いる
と、回折光はz軸に対して+y方向に角度+α1 だけ傾
けた方向に出射するから、4つの光ヘテロダイン干渉回
折光を分離できる。
【0030】また、図1に示した実施の形態において、
ミラー4cと4dの配置を調整し、レーザー光を入射角
度−α1 から入射させ、またミラー4bと4eの配置を
調整し、レーザー光を入射角度−α2 から入射させるこ
とにより、図3(a)、(b)に示すように、回折光1
6,17を+α1 の方向に、回折光16a,17aを+
α2 の方向に出射でき、容易に分離することができる。
ミラー4cと4dの配置を調整し、レーザー光を入射角
度−α1 から入射させ、またミラー4bと4eの配置を
調整し、レーザー光を入射角度−α2 から入射させるこ
とにより、図3(a)、(b)に示すように、回折光1
6,17を+α1 の方向に、回折光16a,17aを+
α2 の方向に出射でき、容易に分離することができる。
【0031】図5は本発明の他の実施の形態を示す概略
構成図である。この実施の形態においては、2波長の光
源として、第1の波長λ1 を用いて周波数がf1 ,f1
+Δfと互いに僅かに異なる2波長の単色光を発生する
第1の光源1と、第2の波長λ2 を用いて周波数がf2
,f2 +Δfと僅かに異なる2波長の単色光を発生する
第2の光源1Aとを用い、第1の光源1から発した2波
長の単色光を第1のビームスポットとして三角プリズム
ミラー2およびミラー4,4a,4c、4dによってマ
スク回折格子7およびウエハ回折格子8に導き、第2の
光源1Aから発した2波長の単色光を第2のビームスポ
ットとして三角プリズムミラー2Aおよびミラー4b,
4e,4h,4iによってマスク回折格子7aおよびウ
エハ回折格子8aに導くように構成したものである。そ
の他の構成は図1に示した実施の形態と同じである。
構成図である。この実施の形態においては、2波長の光
源として、第1の波長λ1 を用いて周波数がf1 ,f1
+Δfと互いに僅かに異なる2波長の単色光を発生する
第1の光源1と、第2の波長λ2 を用いて周波数がf2
,f2 +Δfと僅かに異なる2波長の単色光を発生する
第2の光源1Aとを用い、第1の光源1から発した2波
長の単色光を第1のビームスポットとして三角プリズム
ミラー2およびミラー4,4a,4c、4dによってマ
スク回折格子7およびウエハ回折格子8に導き、第2の
光源1Aから発した2波長の単色光を第2のビームスポ
ットとして三角プリズムミラー2Aおよびミラー4b,
4e,4h,4iによってマスク回折格子7aおよびウ
エハ回折格子8aに導くように構成したものである。そ
の他の構成は図1に示した実施の形態と同じである。
【0032】このような構造においても、第1の光源1
から発する2波長の単色光を第1のビームスポットと
し、第2の光源1Aから発する2波長の単色光を第2の
ビームスポットとすることにより、第1、第2、第3、
第4のビート信号を検出するができるので、上記した実
施の形態と同様な効果が得られる。また、第1、第2の
光源1,1Aのレーザー光の波長をλ1 ,λ2 と変える
ことにより、回折格子7と8に入射するn次回折角と回
折格子7a,8aに入射するn次回折角とが異なるた
め、回折格子7,7a,8,8aを近接して配置するこ
とが可能である。
から発する2波長の単色光を第1のビームスポットと
し、第2の光源1Aから発する2波長の単色光を第2の
ビームスポットとすることにより、第1、第2、第3、
第4のビート信号を検出するができるので、上記した実
施の形態と同様な効果が得られる。また、第1、第2の
光源1,1Aのレーザー光の波長をλ1 ,λ2 と変える
ことにより、回折格子7と8に入射するn次回折角と回
折格子7a,8aに入射するn次回折角とが異なるた
め、回折格子7,7a,8,8aを近接して配置するこ
とが可能である。
【0033】図6は本発明のさらに他の実施の形態を示
す概略構成図である。この実施の形態においては、2波
長の光源として、周波数がf1 ,f1 +Δfaと互いに
僅かに異なり第1の周波数差となる2波長の単色光を発
生する第1の光源1Bと、周波数がf2 ,f2 +Δfb
と互いに僅かに異なり第2の周波数差となる2波長の単
色光を発生する第2の光源1Cとを用い、第1の光源1
Bから発した2波長の単色光を第1のビームスポットと
して三角プリズムミラー2およびミラー4,4a,4
c、4dによってマスク回折格子7およびウエハ回折格
子8に導き、第2の光源1Cから発した2波長の単色光
を第2のビームスポットとして三角プリズムミラー2A
およびミラー4b,4e,4h,4iによってマスク回
折格子7aおよびウエハ回折格子8aに導くように構成
したものである。その他の構成は図1に示した実施の形
態と同じである。
す概略構成図である。この実施の形態においては、2波
長の光源として、周波数がf1 ,f1 +Δfaと互いに
僅かに異なり第1の周波数差となる2波長の単色光を発
生する第1の光源1Bと、周波数がf2 ,f2 +Δfb
と互いに僅かに異なり第2の周波数差となる2波長の単
色光を発生する第2の光源1Cとを用い、第1の光源1
Bから発した2波長の単色光を第1のビームスポットと
して三角プリズムミラー2およびミラー4,4a,4
c、4dによってマスク回折格子7およびウエハ回折格
子8に導き、第2の光源1Cから発した2波長の単色光
を第2のビームスポットとして三角プリズムミラー2A
およびミラー4b,4e,4h,4iによってマスク回
折格子7aおよびウエハ回折格子8aに導くように構成
したものである。その他の構成は図1に示した実施の形
態と同じである。
【0034】このような構造においても、上記した実施
の形態と同様な効果が得られる。また、周波数差をΔf
a,Δfbと変えることにより、回折格子7と8から得
られる第1、第2のビート信号I1 ,I2 のビート周波
数はΔfaになり、回折格子7a,8aから得られる第
3、第4のビート信号I3 ,I4 のビート周波数はΔf
bになる。したがって、ビート信号I1 ,I2 の組とビ
ート信号I3 ,I4 の組の信号を振幅復調器などの電気
回路系を内蔵した位相差検出回路系14’,14a’に
より容易に分離することが可能であり、回折格子7,7
a,8,8aを近接して配置することが可能である。
の形態と同様な効果が得られる。また、周波数差をΔf
a,Δfbと変えることにより、回折格子7と8から得
られる第1、第2のビート信号I1 ,I2 のビート周波
数はΔfaになり、回折格子7a,8aから得られる第
3、第4のビート信号I3 ,I4 のビート周波数はΔf
bになる。したがって、ビート信号I1 ,I2 の組とビ
ート信号I3 ,I4 の組の信号を振幅復調器などの電気
回路系を内蔵した位相差検出回路系14’,14a’に
より容易に分離することが可能であり、回折格子7,7
a,8,8aを近接して配置することが可能である。
【0035】なお、図6に示した実施の形態において
は、波長λ1 ,λ2 が異なる2つのレーザー光源1B,
1Cについて示したが、周波数差を変える方法として、
1つのレーザー光に対して音響素子等を用いて例えば4
つの周波数シフトさせたレーザー光f+Δfa,f+Δ
fb,f+Δfc、f+Δfdを用いても同様の効果が
得られる。
は、波長λ1 ,λ2 が異なる2つのレーザー光源1B,
1Cについて示したが、周波数差を変える方法として、
1つのレーザー光に対して音響素子等を用いて例えば4
つの周波数シフトさせたレーザー光f+Δfa,f+Δ
fb,f+Δfc、f+Δfdを用いても同様の効果が
得られる。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る回折格
子を用いた位置合わせ方法およびその装置は、格子ピッ
チが互いに異なる第1、第3の回折格子を第1の物体に
配置し、前記第1、第3の回折格子と格子ピッチがそれ
ぞれ等しい第2、第4の回折格子を第2の物体に前記第
1、第3の回折格子と一定の間隔を隔てて位置するよう
に配置し、光源として周波数が互いに僅かに異なる2波
長の単色光を発生する光源を用い、この光源から発生し
た第1の単色光のビームスポットを前記第1、第2の回
折格子に対して所定の入射角度で入射させ、前記第1の
回折格子から生じる前記第1の単色光の光ヘテロダイン
干渉回折光を検出して第1のビート信号とし、前記第2
の回折格子から生じる前記第1の単色光の光ヘテロダイ
ン干渉回折光を検出して第2のビート信号とし、前記光
源から発生した第2の単色光のビームスポットを前記第
3、第4の回折格子に対して所定の入射角度で入射さ
せ、前記第3の回折格子から生じる前記第2の単色光の
光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第3のビート信号
とし、前記第4の回折格子から生じる前記第2の単色光
の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第4のビート信
号とし、前記第1、第2のビート信号から第1の位相差
信号を検出し、前記第3、第4のビート信号から第2の
位相差信号を検出し、これら両位相差信号の位相差に基
づいて前記第1、第2の物体を相対的に移動させること
により、前記第1の回折格子あるいは前記第2の回折格
子の格子ピッチの1/2以内に前記第1の回折格子と第
2の回折格子との位置合わせを行うか、もしくは前記第
3の回折格子あるいは前記第4の回折格子の格子ピッチ
の1/2以内に前記第3の回折格子と前記第4の回折格
子との位置合わせを行ない、しかる後、前記第1の位相
差信号もしくは前記第2の位相差信号に基づいて前記第
1、第2の物体を相対的に移動させて位置合わせを行う
ようにしたので、回折格子を用いた光ヘテロダイン干渉
による位置合わせにおいて、周期ずれした信号による位
置合わせ不良がなくなり、位置合わせにおける検出範囲
の広い、しかも安定でかつ高精度な位置合わせができ
る。
子を用いた位置合わせ方法およびその装置は、格子ピッ
チが互いに異なる第1、第3の回折格子を第1の物体に
配置し、前記第1、第3の回折格子と格子ピッチがそれ
ぞれ等しい第2、第4の回折格子を第2の物体に前記第
1、第3の回折格子と一定の間隔を隔てて位置するよう
に配置し、光源として周波数が互いに僅かに異なる2波
長の単色光を発生する光源を用い、この光源から発生し
た第1の単色光のビームスポットを前記第1、第2の回
折格子に対して所定の入射角度で入射させ、前記第1の
回折格子から生じる前記第1の単色光の光ヘテロダイン
干渉回折光を検出して第1のビート信号とし、前記第2
の回折格子から生じる前記第1の単色光の光ヘテロダイ
ン干渉回折光を検出して第2のビート信号とし、前記光
源から発生した第2の単色光のビームスポットを前記第
3、第4の回折格子に対して所定の入射角度で入射さ
せ、前記第3の回折格子から生じる前記第2の単色光の
光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第3のビート信号
とし、前記第4の回折格子から生じる前記第2の単色光
の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第4のビート信
号とし、前記第1、第2のビート信号から第1の位相差
信号を検出し、前記第3、第4のビート信号から第2の
位相差信号を検出し、これら両位相差信号の位相差に基
づいて前記第1、第2の物体を相対的に移動させること
により、前記第1の回折格子あるいは前記第2の回折格
子の格子ピッチの1/2以内に前記第1の回折格子と第
2の回折格子との位置合わせを行うか、もしくは前記第
3の回折格子あるいは前記第4の回折格子の格子ピッチ
の1/2以内に前記第3の回折格子と前記第4の回折格
子との位置合わせを行ない、しかる後、前記第1の位相
差信号もしくは前記第2の位相差信号に基づいて前記第
1、第2の物体を相対的に移動させて位置合わせを行う
ようにしたので、回折格子を用いた光ヘテロダイン干渉
による位置合わせにおいて、周期ずれした信号による位
置合わせ不良がなくなり、位置合わせにおける検出範囲
の広い、しかも安定でかつ高精度な位置合わせができ
る。
【0037】また、本発明は、光源として第1の波長を
用いて周波数が互いに僅かに異なる2波長の単色光を発
生する第1の光源と、第2の波長を用いて周波数が僅か
に異なる2波長の単色光を発生する第2の光源とを用
い、第1の光源からの2波長の単色光を第1のビームス
ポットとし、第2の光源からの2波長の単色光を第2の
ビームスポットとすることにより、第1、第2、第3、
第4のビート信号を検出するようにしたので、4つの回
折格子を近接して配置することができる。また、本発明
は、光源として周波数が互いに異なり第1の周波数差と
なる2波長の単色光を発生する第1の光源と、周波数が
互いに僅かに異なり第2の周波数差となる2波長の単色
光を発生する第2の光源とを用い、第1の光源からの2
波長の単色光を第1のビームスポットとし、第2の光源
からの2波長の単色光を第2のビームスポットとするこ
とにより、第1の周波数差と第2の周波数差とを第1、
第2、第3、第4のビート信号を検出するようにしたの
で、4つの回折格子を近接して配置することができる。
用いて周波数が互いに僅かに異なる2波長の単色光を発
生する第1の光源と、第2の波長を用いて周波数が僅か
に異なる2波長の単色光を発生する第2の光源とを用
い、第1の光源からの2波長の単色光を第1のビームス
ポットとし、第2の光源からの2波長の単色光を第2の
ビームスポットとすることにより、第1、第2、第3、
第4のビート信号を検出するようにしたので、4つの回
折格子を近接して配置することができる。また、本発明
は、光源として周波数が互いに異なり第1の周波数差と
なる2波長の単色光を発生する第1の光源と、周波数が
互いに僅かに異なり第2の周波数差となる2波長の単色
光を発生する第2の光源とを用い、第1の光源からの2
波長の単色光を第1のビームスポットとし、第2の光源
からの2波長の単色光を第2のビームスポットとするこ
とにより、第1の周波数差と第2の周波数差とを第1、
第2、第3、第4のビート信号を検出するようにしたの
で、4つの回折格子を近接して配置することができる。
【図1】 本発明に係る回折格子を用いた位置合わせ装
置の実施の形態を示す概略構成図である。
置の実施の形態を示す概略構成図である。
【図2】 位相差信号と差信号の検出波形を示す図であ
る。
る。
【図3】 (a)、(b)は回折格子の配置例をそれぞ
れ示す図である。
れ示す図である。
【図4】 (a)、(b)は回折格子への入射および回
折格子からの出射例を示す図である。
折格子からの出射例を示す図である。
【図5】 本発明の他の実施の形態を示す概略構成図で
ある。
ある。
【図6】 本発明のさらに他の実施の形態を示す概略構
成図である。
成図である。
【図7】 従来の回折格子を用いた位置合わせ装置の概
略構成図である。
略構成図である。
1,1A,1B,1C…2波長レーザー光源、2…三角
プリズムミラー、3,3a…ビームスプリッター、4,
4a〜4i…ミラー、5,5a,5b,5c…拡大光学
系、6,6a…2分割ディテクター、7,7a…マスク
回折格子、8,8a…ウエハ回折格子、9…単色光入射
・回折光取出し窓、10…マスク、11…マスクステー
ジ、12…ウエハ、13…ウエハステージ、14,14
a…位相差検出回路系、15,15a…検出信号処理制
御系、16,16a…マスク側光ヘテロダイン干渉回折
光、17,17a…ウエハ側光ヘテロダイン干渉回折
光。
プリズムミラー、3,3a…ビームスプリッター、4,
4a〜4i…ミラー、5,5a,5b,5c…拡大光学
系、6,6a…2分割ディテクター、7,7a…マスク
回折格子、8,8a…ウエハ回折格子、9…単色光入射
・回折光取出し窓、10…マスク、11…マスクステー
ジ、12…ウエハ、13…ウエハステージ、14,14
a…位相差検出回路系、15,15a…検出信号処理制
御系、16,16a…マスク側光ヘテロダイン干渉回折
光、17,17a…ウエハ側光ヘテロダイン干渉回折
光。
Claims (8)
- 【請求項1】 格子ピッチが互いに異なる第1、第3の
回折格子を第1の物体に配置し、前記第1、第3の回折
格子と格子ピッチがそれぞれ等しい第2、第4の回折格
子を第2の物体に前記第1、第3の回折格子と一定の間
隔を隔てて位置するように配置し、光源として周波数が
互いに僅かに異なる2波長の単色光を発生する光源を用
い、この光源から発生した第1の単色光のビームスポッ
トを前記第1、第2の回折格子に対して所定の入射角度
で入射させ、前記第1の回折格子から生じる前記第1の
単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第1のビ
ート信号とし、前記第2の回折格子から生じる前記第1
の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第2の
ビート信号とし、前記光源から発生した第2の単色光の
ビームスポットを前記第3、第4の回折格子に対して所
定の入射角度で入射させ、前記第3の回折格子から生じ
る前記第2の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出
して第3のビート信号とし、前記第4の回折格子から生
じる前記第2の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検
出して第4のビート信号とし、前記第1、第2のビート
信号から第1の位相差信号を検出し、前記第3、第4の
ビート信号から第2の位相差信号を検出し、これら両位
相差信号の位相差に基づいて前記第1、第2の物体を相
対的に移動させることにより、前記第1の回折格子ある
いは前記第2の回折格子の格子ピッチの1/2以内に前
記第1の回折格子と第2の回折格子との位置合わせを行
うか、もしくは前記第3の回折格子あるいは前記第4の
回折格子の格子ピッチの1/2以内に前記第3の回折格
子と前記第4の回折格子との位置合わせを行ない、しか
る後、前記第1の位相差信号もしくは前記第2の位相差
信号に基づいて前記第1、第2の物体を相対的に移動さ
せて位置合わせを行うことを特徴とする回折格子を用い
た位置合わせ方法。 - 【請求項2】 格子ピッチが互いに異なる第1、第3の
回折格子を第1の物体に配置し、前記第1、第3の回折
格子と格子ピッチがそれぞれ等しい第2、第4の回折格
子を第2の物体に前記第1、第3の回折格子と一定の間
隔を隔てて位置するように配置し、光源として第1の波
長を用いて周波数が互いに僅かに異なる2波長の単色光
を発生する第1の光源と、第2の波長を用いて周波数が
僅かに異なる2波長の単色光を発生する第2の光源とを
用い、前記第1の光源からの2波長の単色光を第1のビ
ームスポットとし、この第1のビームスポットを前記第
1、第2の回折格子に対して所定の入射角度で入射さ
せ、前記第1の回折格子から生じる前記第1の光源の単
色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第1のビー
ト信号とし、前記第2の回折格子から生じる前記第1の
光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第
2のビート信号とし、前記第2の光源からの2波長の単
色光を第2のビームスポットとし、この第2のビームス
ポットを前記第3、第4の回折格子に対して所定の入射
角度で入射させ、前記第3の回折格子から生じる前記第
2の光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出し
て第3のビート信号とし、前記第4の回折格子から生じ
る前記第2の光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光
を検出して第4のビート信号とし、前記第1、第2のビ
ート信号から第1の位相差信号を検出し、前記第3、第
4のビート信号から第2の位相差信号を検出し、これら
両位相差信号の位相差に基づいて前記第1、第2の物体
を相対的に移動させることにより、前記第1の回折格子
あるいは前記第2の回折格子の格子ピッチの1/2以内
に前記第1の回折格子と第2の回折格子との位置合わせ
を行うか、もしくは前記第3の回折格子あるいは前記第
4の回折格子の格子ピッチの1/2以内に前記第3の回
折格子と前記第4の回折格子との位置合わせを行ない、
しかる後、前記第1の位相差信号もしくは前記第2の位
相差信号に基づいて前記第1、第2の物体を相対的に移
動させて位置合わせを行うことを特徴とする回折格子を
用いた位置合わせ方法。 - 【請求項3】 格子ピッチが互いに異なる第1、第3の
回折格子を第1の物体に配置し、前記第1、第3の回折
格子と格子ピッチがそれぞれ等しい第2、第4の回折格
子を第2の物体に前記第1、第3の回折格子と一定の間
隔を隔てて位置するように配置し、光源として周波数が
互いに僅かに異なり第1の周波数差となる2波長の単色
光を発生する第1の光源と、周波数が互いに僅かに異な
り第2の周波数差となる2波長の単色光を発生する第2
の光源とを用い、前記第1の光源からの2波長の単色光
を第1のビームスポットとし、この第1のビームスポッ
トを前記第1、第2の回折格子に対して所定の入射角度
で入射させ、前記第1の回折格子から生じる前記第1の
光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第
1のビート信号とし、前記第2の回折格子から生じる前
記第1の光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検
出して第2のビート信号とし、前記第2の光源からの2
波長の単色光を第2のビームスポットとし、この第2の
ビームスポットを前記第3、第4の回折格子に対して所
定の入射角度で入射させ、前記第3の回折格子から生じ
る前記第2の光源の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光
を検出して第3のビート信号とし、前記第4の回折格子
から生じる前記第2の光源の単色光の光ヘテロダイン干
渉回折光を検出して第4のビート信号とし、前記第1、
第2のビート信号から第1の位相差信号を検出し、前記
第3、第4のビート信号から第2の位相差信号を検出
し、これら両位相差信号の位相差に基づいて前記第1、
第2の物体を相対的に移動させることにより、前記第1
の回折格子あるいは前記第2の回折格子の格子ピッチの
1/2以内に前記第1の回折格子と第2の回折格子との
位置合わせを行うか、もしくは前記第3の回折格子ある
いは前記第4の回折格子の格子ピッチの1/2以内に前
記第3の回折格子と前記第4の回折格子との位置合わせ
を行ない、しかる後、前記第1の位相差信号もしくは前
記第2の位相差信号に基づいて前記第1、第2の物体を
相対的に移動させて位置合わせを行うことを特徴とする
回折格子を用いた位置合わせ方法。 - 【請求項4】 請求項1,2または3記載の回折格子を
用いた位置合わせ方法において、第1、第3の回折格子
を近接して配置し、第2、第4の回折格子を近接して配
置し、前記第1、第2の回折格子への格子ライン方向に
対する第1の単色光のビームスポットの入射角度を第1
の入射角度とし、第3、第4の回折格子への格子ライン
方向に対する第2の単色光のビームスポットの入射角度
を第2の入射角度とし、前記第1の入射角度と第2の入
射角度とを変えることにより第1、第2、第3、第4の
ビート信号を検出することを特徴とする回折格子を用い
た位置合わせ方法。 - 【請求項5】 第1の物体に設けられた格子ピッチが互
いに異なる第1、第3の回折格子と、前記第1、第3の
回折格子と等しい格子ピッチをそれぞれ有し第2の物体
に設けられた第2、第4の回折格子と、前記第1、第2
の物体を相対的に移動させる移動機構と、周波数が互い
に僅かに異なる2波長の単色光を発生する光源と、この
光源から発生した第1の単色光を前記第1、第2の回折
格子に対して所定の入射角度で第1のビームスポットと
して入射させる第1の入射角調整手段と、前記光源から
発生した第2の単色光を前記第3、第4の回折格子に対
して所定の入射角度で第2のビームスポットとして入射
させる第2の入射角調整手段と、前記第1のビームスポ
ットにより前記第1の回折格子から生じる第1の単色光
の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第1のビート信
号を生成する第1のビート信号検出手段と、前記第1の
ビームスポットにより前記第2の回折格子から生じる前
記第1の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して
第2のビート信号を生成する第2のビート信号検出手段
と、前記第2のビームスポットにより前記第3の回折格
子から生じる前記第2の単色光の光ヘテロダイン干渉回
折光を検出して第3のビート信号を生成する第3のビー
ト信号検出手段と、前記第2のビームスポットにより前
記第4の回折格子から生じる前記第2の単色光の光ヘテ
ロダイン干渉回折光を検出して第4のビート信号を生成
する第4のビート信号検出手段と、前記第1および第2
のビート信号検出手段によって生成された前記第1およ
び第2のビート信号から第1の位相差信号を検出する第
1の位相差検出手段と、前記第3および第4のビート信
号検出手段によって生成された前記第3および第4のビ
ート信号から第2の位相差信号を検出する第2の位相差
検出手段と、前記第1の位相差信号と第2の位相差信号
との位相差に基づいて前記移動機構に制御信号を送出
し、さらに前記第1の位相差信号もしくは前記第2の位
相差信号に基づいて前記移動機構に制御信号を送出し前
記第1、第2の物体を相対的に移動させて位置合わせす
る信号処理制御手段とを備えたことを特徴とする回折格
子を用いた位置合わせ装置。 - 【請求項6】 第1の物体に設けられた格子ピッチが互
いに異なる第1、第3の回折格子と、前記第1、第3の
回折格子と等しい格子ピッチをそれぞれ有し第2の物体
に設けられた第2、第4の回折格子と、前記第1、第2
の物体を相対的に移動させる移動機構と、第1の波長を
用いて周波数が互いに僅かに異なる2波長の単色光を発
生する第1の光源と、第2の波長を用いて周波数が互い
に僅かに異なる2波長の単色光を発生する第2の光源
と、前記第1の光源から発生した2波長の単色光を前記
第1、第2の回折格子に対して所定の入射角度で第1の
ビームスポットとして入射させる第1の入射角調整手段
と、前記第2の光源から発生した2波長の単色光を前記
第3、第4の回折格子に対して所定の入射角度で第2の
ビームスポットとして入射させる第2の入射角調整手段
と、前記第1のビームスポットにより前記第1の回折格
子から生じる前記2波長の単色光の光ヘテロダイン干渉
回折光を検出して第1のビート信号を生成する第1のビ
ート信号検出手段と、前記第1のビームスポットにより
前記第2の回折格子から生じる前記2波長の単色光の光
ヘテロダイン干渉回折光を検出して第2のビート信号を
生成する第2のビート信号検出手段と、前記第2のビー
ムスポットにより前記第3の回折格子から生じる前記2
波長の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第
3のビート信号を生成する第3のビート信号検出手段
と、前記第2のビームスポットにより前記第4の回折格
子から生じる前記2波長の単色光の光ヘテロダイン干渉
回折光を検出して第4のビート信号を生成する第4のビ
ート信号検出手段と、前記第1および第2のビート信号
検出手段によって生成された前記第1および第2のビー
ト信号から第1の位相差信号を検出する第1の位相差検
出手段と、前記第3および第4のビート信号検出手段に
よって生成された前記第3および第4のビート信号から
第2の位相差信号を検出する第2の位相差検出手段と、
前記第1の位相差信号と第2の位相差信号との位相差に
基づいて前記移動機構に制御信号を送出し、さらに前記
第1の位相差信号もしくは前記第2の位相差信号に基づ
いて前記移動機構に制御信号を送出し前記第1、第2の
物体を相対的に移動させて位置合わせする信号処理制御
手段とを備えたことを特徴とする回折格子を用いた位置
合わせ装置。 - 【請求項7】 第1の物体に設けられた格子ピッチが互
いに異なる第1、第3の回折格子と、前記第1、第3の
回折格子と等しい格子ピッチをそれぞれ有し第2の物体
に設けられた第2、第4の回折格子と、前記第1、第2
の物体を相対的に移動させる移動機構と、周波数が互い
に僅かに異なり第1の周波数差となる2波長の単色光を
発生する第1の光源と、周波数が互いに僅かに異なり第
2の周波数差となる2波長の単色光を発生する第2の光
源と、前記第1の光源から発生した2波長の単色光を前
記第1、第2の回折格子に対して所定の入射角度で第1
のビームスポットとして入射させる第1の入射角調整手
段と、前記第2の光源から発生した2波長の単色光を前
記第3、第4の回折格子に対して所定の入射角度で第2
のビームスポットとして入射させる第2の入射角調整手
段と、前記第1のビームスポットにより前記第1の回折
格子から生じる前記2波長の単色光の光ヘテロダイン干
渉回折光を検出して第1のビート信号を生成する第1の
ビート信号検出手段と、前記第1のビームスポットによ
り前記第2の回折格子から生じる前記2波長の単色光の
光ヘテロダイン干渉回折光を検出して第2のビート信号
を生成する第2のビート信号検出手段と、前記第2のビ
ームスポットにより前記第3の回折格子から生じる前記
2波長の単色光の光ヘテロダイン干渉回折光を検出して
第3のビート信号を生成する第3のビート信号検出手段
と、前記第2のビームスポットにより前記第4の回折格
子から生じる前記2波長の単色光の光ヘテロダイン干渉
回折光を検出して第4のビート信号を生成する第4のビ
ート信号検出手段と、前記第1および第2のビート信号
検出手段によって生成された前記第1および第2のビー
ト信号から第1の位相差信号を検出する第1の位相差検
出手段と、前記第3および第4のビート信号検出手段に
よって生成された前記第3および第4のビート信号から
第2の位相差信号を検出する第2の位相差検出手段と、
前記第1の位相差信号と第2の位相差信号との位相差に
基づいて前記移動機構に制御信号を送出し、さらに前記
第1の位相差信号もしくは前記第2の位相差信号に基づ
いて前記移動機構に制御信号を送出し前記第1、第2の
物体を相対的に移動させて位置合わせする信号処理制御
手段とを備えたことを特徴とする回折格子を用いた位置
合わせ装置。 - 【請求項8】 請求項5,6または7記載の回折格子を
用いた位置合わせ装置において、第1、第3の回折格子
を近接して配置し、第2および第4の回折格子を近接し
て配置したことを特徴とする回折格子を用いた位置合わ
せ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7296616A JPH09138110A (ja) | 1995-11-15 | 1995-11-15 | 回折格子を用いた位置合わせ方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7296616A JPH09138110A (ja) | 1995-11-15 | 1995-11-15 | 回折格子を用いた位置合わせ方法およびその装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09138110A true JPH09138110A (ja) | 1997-05-27 |
Family
ID=17835863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7296616A Pending JPH09138110A (ja) | 1995-11-15 | 1995-11-15 | 回折格子を用いた位置合わせ方法およびその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09138110A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008522412A (ja) * | 2004-11-30 | 2008-06-26 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | ナノスケールのデバイスを製造するための干渉分析 |
US7456966B2 (en) | 2004-01-19 | 2008-11-25 | International Business Machines Corporation | Alignment mark system and method to improve wafer alignment search range |
WO2014071807A1 (zh) * | 2012-11-09 | 2014-05-15 | 清华大学 | 一种外差光栅干涉仪位移测量系统 |
WO2015095228A1 (en) * | 2013-12-21 | 2015-06-25 | Kla-Tencor Corporation | Position sensitive substrate device |
JP2022540988A (ja) * | 2019-07-24 | 2022-09-21 | エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. | オンチップウェーハアライメントセンサ |
-
1995
- 1995-11-15 JP JP7296616A patent/JPH09138110A/ja active Pending
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WO2015095228A1 (en) * | 2013-12-21 | 2015-06-25 | Kla-Tencor Corporation | Position sensitive substrate device |
US9620400B2 (en) | 2013-12-21 | 2017-04-11 | Kla-Tencor Corporation | Position sensitive substrate device |
JP2022540988A (ja) * | 2019-07-24 | 2022-09-21 | エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. | オンチップウェーハアライメントセンサ |
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