JPH09133903A - 液晶表示パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ２枚の透明基板１１の基板間隔が均一で表示
むらが生じ難い液晶表示パネルの製造方法を提供する。 【解決手段】 透明基板１１の透明電極形成面にセル用
透明電極パターン１２とこの電極パターン１２の周囲に
所定の間隙部１４を介して設けられたダミー用透明電極
パターン１６とを厚さが実質的に同一となるように形成
する透明電極形成工程と、電極パターン１２，１６の表
面に少なくとも配向膜１３，１７を含む単一または複数
の膜を厚さが実質的に同一となるように形成する配向膜
形成工程と、透明電極形成面に対するシール材の塗布と
少なくとも電極パターン１２，１６の表面に対する基板
間スペーサの配設とを行った後で２枚の透明基板１１を
貼り合わせる貼合工程と、この２枚の透明基板１１を間
隙部１４で切断する切断工程と、この切断工程で切り出
されたセル内にシール材に設けた注入口から液晶材を注
入する液晶注入工程とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネルの
製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の液晶表示パネルの製造方法につい
て、図３を用いて説明する。

【０００３】まず、ガラス基板等の透明基板３１に、
例えば液晶表示パネル２個分の透明電極パターンを形成
することにより、各セル３２を設ける。通常、このセル
３２は、透明基板３１の表面に導電性材料（金属等）の
透明薄膜を堆積した後、この薄膜をリソグラフィ技術等
でパターニングすることによって、形成される。

【０００４】次に、透明電極パターンを形成した領域
上に、配向膜３３を形成する。

【０００５】続いて、上記工程，を施した２枚の
透明基板３１を貼り合わせる。通常、この工程では、ま
ず、透明基板３１の表面（透明電極３１および配向膜３
３を形成した面）のうち、セル３２の周囲に相当する部
分にシール材を塗布する。そして、２枚の透明基板３１
を、基板間スペーサを介して重ね合わせた後で加熱・加
圧することによって、２枚の透明基板３１を貼り合わせ
る。

【０００６】そして、透明基板３１から、各セル３２
を切断する。

【０００７】最後に、シール材に設けた注入口からセ
ル内に液晶材を真空注入し、液晶表示パネルの製造工程
を終了する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来の製造方法で作製した液晶表示パネルには、
２枚の透明基板３１を貼り合わせたとき（上記工程）
に基板間隔を均一にすることができないという欠点があ
った。このように２枚の透明基板３１の基板間隔が均一
にならないと、液晶表示パネルに表示むらが生じる原因
となる。

【０００９】以下、このような欠点が生じる理由につい
て説明する。

【００１０】上述のように、液晶表示パネルを製造する
工程では、２枚の透明基板３１を貼り合わせる際には、
透明電極３１および配向膜３３を形成した面どうしを貼
り合わせる（上記工程）。このため、透明電極３１や
配向膜３３が形成されている領域と、これらが形成され
ていない領域とで、２枚の透明基板３１の基板間隔が異
なる。その一方、両基板３１の間に配設する基板間スペ
ーサとしては、透明電極３１や配向膜３３が形成されて
いる領域であるか否かに拘らず、同じサイズのもの（通
常は同じ直径の球状スペーサ）が使用される。したがっ
て、２枚の透明基板３１を重ね合わせて加圧する際に、
透明基板３１に歪みが発生し、基板間隔が不均一になる
のである。

【００１１】このような欠点は、図３に示したように１
枚の透明基板３１に２個のセル３２を形成する場合に
は、無視できる場合が多い。１枚の透明基板３１に形成
されるセル３２が少ない場合には、透明基板３１の面積
に対する有効表示領域（セル３２内に設けられている）
の面積比が小さく、透明基板３１の歪みが発生し難いか
らである。

【００１２】しかし、近年は、１枚の透明基板３１から
４個のセル３２を切り出すことによって透明基板３１の
有効利用を図る試みが行われている。このような場合に
は、有効利用が図れる分だけ、透明基板３１の面積に対
する有効表示領域の面積比が大きくなる。また、近年
は、パーソナルコンピュータ等に使用される液晶表示パ
ネルにおいて有効表示領域の大型化が進んでいるが、こ
の大型化も上述の面積比が大きくなる原因となってい
る。このように、透明基板３１の面積に対する有効表示
領域の面積比が大きくなると、上述したような透明基板
３１の歪みが無視できなくなり、基板間隔の不均一性に
起因する表示むらが発生し易くなる。

【００１３】また、近年の液晶表示パネルにおいては、
応答速度を向上させるために、２枚の透明基板３１の基
板間隔をなるべく狭くすることが要求されている。この
ような場合にも、基板間隔の不均一性が液晶表示パネル
の表示むらに与える影響が大きくなってしまい、上述し
たような表示むらの問題が発生する。

【００１４】本発明は、このような従来技術の欠点に鑑
みてなされたものであり、２枚の透明基板の基板間隔が
均一で表示むらが生じ難い液晶表示パネルの製造方法を
提供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶表示パ
ネルの製造方法は、透明基板の透明電極形成面に、液晶
表示パネル用透明電極パターンと、この液晶表示パネル
用透明電極パターンの周囲に所定の間隙部を介して設け
られたダミー用透明電極パターンとを、厚さが実質的に
同一となるように形成する透明電極形成工程と、前記液
晶表示パネル用透明電極パターンおよび前記ダミー用透
明電極パターンの表面に、少なくとも配向膜を含む単一
または複数の膜を、厚さが実質的に同一となるように形
成する配向膜形成工程と、前記透明電極形成面に対する
シール材の塗布と、少なくとも前記液晶表示パネル用透
明電極パターンおよび前記ダミー用透明電極パターンの
表面に対する基板間スペーサの配設とを行った後で、２
枚の前記透明基板を貼り合わせる貼合工程と、この貼合
工程で貼り合わされた前記透明基板を前記間隙部で切断
する切断工程と、この切断工程で切り出されたセル内
に、前記透明基板の前記シール材に設けた注入口から液
晶材を注入する液晶注入工程と、を備えることを特徴と
する。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る液晶表示パネ
ルの製造方法の実施の形態について、図面を用いて説明
する。第１の実施形態 まず、本発明の第１の実施形態（請求項１〜３に対応す
る）について、図１を用いて説明する。

【００１７】図１は、本実施形態に係る液晶表示パネル
の製造方法を用いて作製される電極基板（透明基板に透
明電極パターンおよび配向膜を形成したもの）の構成を
概略的に示すものであり、（ａ）は断面図、（ｂ）は平
面図である。なお、（ａ）は、（ｂ）のＡ−Ａ断面図で
ある。

【００１８】同図において、透明基板１１としては、３
７０ｍｍ（長辺）×３００ｍｍ（短辺）×０．７ｍｍ
（厚さ）のガラス基板を使用した。そして、この透明基
板１１の表面（本発明の「透明電極形成面」）には、液
晶表示パネル２面分のセル用透明電極パターン（本発明
の「液晶表示パネル用透明電極パターン」）１２および
セル用配向膜１３が積層されて、２個のセル１８が形成
されている。ここで、セル用透明電極パターン１２とし
ては、膜厚が０．３μｍのＩＴＯ(Indium Tin Oxide)膜
を用い、サイズを１６０ｍｍ（透明基板１１の長辺方
向）×１８１ｍｍ（同じく短辺方向）とした。このセル
用透明電極パターン１２は、透明基板１１の長辺の端面
までの距離および透明基板１１の短辺の端面までの距離
が、それぞれ均一になるように配置した。一方、セル用
配向膜１３としては、膜厚が０．１μｍのポリイミド膜
を用い、サイズを１５４ｍｍ（透明基板１１の長辺方
向）×１７５ｍｍ（同じく短辺方向）とした。そして、
セル用透明電極パターン１２の外縁部とセル用配向膜１
３の外縁部との間隔は、３ｍｍに統一した。

【００１９】セル１８が形成された領域の周囲には、幅
２ｍｍの間隙部１４を介して、厚さ０．３μｍのＩＴＯ
膜からなるダミー用透明電極パターン１６を形成した。
本実施形態では、このダミー用透明電極パターン１６
は、透明電極形成面のうち、セル１８が形成された領
域、間隙部１４および透明電極１１の外縁部１５以外の
すべての領域に形成した。さらに、このダミー用透明電
極パターン１６の表面には、厚さ０．１μｍのポリイミ
ド膜からなるダミー用配向膜１７を形成した。なお、図
示したように、ダミー用透明電極パターン１２とダミー
用配向膜１３とは、外縁部が完全に重なるように形成し
た。これにより、透明電極形成面のうち、セル１８が形
成された領域、間隙部１４および透明電極１１の外縁部
１５以外のすべての領域に、セル１８と同じ厚さのダミ
ーパターン領域１９が形成された。このダミーパターン
領域１９の幅は、図１に示したように、透明基板１１の
長辺端面に隣接する領域では５５ｍｍに統一し、透明基
板１１の短辺端面に隣接する領域では１２ｍｍに統一
し、且つ、セル１８に挟まれた領域では１５ｍｍに統一
した。

【００２０】次に、本実施形態に係る液晶表示パネルの
製造方法について説明する。

【００２１】まず、図１に示した透明基板１１に、セ
ル用透明電極パターン１２およびダミー用透明電極パタ
ーン１６を、同時に形成した（本発明の「透明電極形成
工程」）。

【００２２】本実施形態では、これらの透明電極パター
ン１２，１６を、透明基板１１の表面にＩＴＯの透明薄
膜を堆積した後、この薄膜をリソグラフィ技術等でパタ
ーニングすることによって、形成した。

【００２３】次に、透明電極パターン１２，１６を形
成した領域上に、通常の転写式印刷技術等を用いてポリ
イミドを塗布すること等により、図１に示したような配
向膜１３，１７を形成した（本発明の「配向膜形成工
程」）。

【００２４】これにより、図１に示したような、同じ厚
さのセル１８およびダミーパターン領域１９を形成する
ことができた。

【００２５】続いて、上記工程，を施した２枚の
透明基板１１を貼り合わせた（本発明の「基板貼合工
程」）。

【００２６】この工程では、まず、セル１２のうち、セ
ル用透明電極パターン１２が露出した部分に、スクリー
ン印刷技術等を用いて、所望の材料からなるシール材を
塗布した。

【００２７】次に、例えばスペーサ球（シリカ球やプラ
スチック球等）を分散させた有機溶媒を散布すること等
の方法により、透明基板１１の透明電極形成面に基板間
スペーサを配設した。これにより、セル用配向膜１３の
表面およびダミー用配向膜１７の表面に、同じサイズ
（直径）の基板間スペーサが配設された。

【００２８】そして、位置合わせマークを基準にして２
枚の透明基板１１重ね合わせた後で、加熱・加圧するこ
とによって、シール材を接着・硬貨させた。これによ
り、２枚の透明基板１１を固着することができた。

【００２９】このとき、本実施形態では、セル１８およ
びダミーパターン領域１９の厚さが同一であるので、２
枚の透明基板１１を重ね合わせて加圧する際に透明基板
１１に歪みが発生せず、これにより、２枚の透明基板１
１の基板間隔を均一にすることができた。

【００３０】そして、間隙部１４で透明基板１１を切
断することにより、貼り合わされた２枚の透明基板１１
から各セル１２を切り出した（本発明の「切断工
程」）。間隙部１４で切断することにより、ダミーパタ
ーン領域１９はすべてセル１８から分離された。

【００３１】この工程では、例えば、ダイヤモンドやサ
ファイア等の超硬材料を用いて透明基板１１に筋を設け
た後で、その筋の部分で透明基板１１を叩き割ることに
より、セル１２を切断した。

【００３２】最後に、シール材に設けた注入口からセ
ル内に液晶材を注入した（本発明の「液晶注入工
程」）。

【００３３】この工程では、既存の液晶注入装置を用い
て、シール材に設けた注入口からセル内に液晶材を真空
注入した。

【００３４】このように、本実施形態では、セル領域１
８以外の領域の大部分に、ダミーパターン領域１９を形
成したので、２枚の透明基板１１を重ね合わせたとき
に、セル領域１８が形成されている領域と形成されてい
ない領域との基板間隔の差が生じない。このため、２枚
の透明基板１１を重ね合わせたときに、セル領域１８が
形成されている領域と形成されていない領域との基板間
隔が均一となったので、両基板１１の間に配設する基板
間スペーサが同一であるにも拘らず、２枚の透明基板１
１を重ね合わせて加圧する際に透明基板１１に歪みが発
生しなかった。そして、これにより、液晶表示パネルの
完成後も２枚の透明基板１１の基板間隔を均一にするこ
とができ、さらには、この液晶表示パネルにおける表示
むらの発生を防止することができた。

【００３５】なお、本実施形態では、透明基板１１の表
面に透明電極パターン１２および配向膜１３のみを形成
する場合を例に採って説明したが、さらに他の膜を形成
する場合であっても、同一の膜をダミーパターン領域１
９にも形成することによって本発明の効果を得ることが
できる。

【００３６】また、本実施形態では１枚の透明基板１１
に２個のセル１８を形成する場合を例にとって説明した
が、１枚の透明基板１１に１個のセルのみを形成する場
合や３個以上のセルを形成する場合であっても本発明の
効果を得ることができることはもちろんである。第２の実施形態 次に、本発明の第２の実施形態（請求項１および請求項
４に対応する）について、図２を用いて説明する。

【００３７】図２は、本実施形態に係る液晶表示パネル
の製造方法で作製される電極基板の構成を概略的に示す
平面図である。

【００３８】同図において、透明基板２１としては、２
５０ｍｍ（長辺）×２００ｍｍ（短辺）×０．７ｍｍ
（厚さ）のガラス基板を使用した。そして、この透明基
板１１の透明電極形成面には、液晶表示パネル４面分の
セル２２ａ〜２２ｄを形成した。なお、各セル２２ａ〜
２２ｄは、図示しないセル用透明電極パターン（本発明
の「液晶表示パネル用透明電極パターン」）およびセル
用配向膜を積層することによって形成されている。ここ
で、セル用透明電極パターンとしては膜厚が０．３μｍ
のＩＴＯ膜を用い、また、セル用配向膜１３としては膜
厚が０．１μｍのポリイミド膜を用いた。そして、各セ
ル２２ａ〜２２ｄのサイズ（セル用透明電極パターンの
サイズに相当する）は、１１４ｍｍ（透明基板２１の長
辺方向）×９０ｍｍ（同じく短辺方向）とした。そし
て、各セル２２ａ〜２２ｄは、透明基板２１の長辺の端
面までの距離、透明基板１１の短辺の端面までの距離お
よびセル間の距離がそれぞれ均一となるように配置し
た。

【００３９】また、セル２２ａ〜２２ｄが形成された領
域の周囲には、間隙部２３を介して、これらのセル２２
ａ〜２２ｄの各辺に対向するように、ライン状のダミー
パターン領域２４ａ〜２４ｌを形成した。なお、各ダミ
ーパターン２４ａ〜２４ｌは、それぞれ、厚さ０．３μ
ｍのＩＴＯ膜からなるダミー用透明電極パターンと、厚
さ０．１μｍのポリイミド膜からなるダミー用配向膜１
７とによって形成されている。本実施形態では、ダミー
パターン領域２４ａ〜２４ｄと透明基板１１の長辺端面
との間隔は５ｍｍに統一し、且つ、ダミーパターン領域
２４ｅ〜２４ｈと透明基板１１の短辺端面との間隔は４
ｍｍに統一した。また、間隙部２３の幅も、約３ｍｍに
統一した。

【００４０】次に、本実施形態に係る液晶表示パネルの
製造方法について説明する。

【００４１】まず、図１に示した透明基板２１に、セ
ル用透明電極パターンおよびダミー用透明電極パターン
を、同時に形成した（本発明の「透明電極形成工
程」）。

【００４２】本実施形態でも、上述の第１の実施形態の
場合と同様、これらの透明電極パターンは、リソグラフ
ィ技術等によって形成した。

【００４３】次に、透明電極パターンを形成した領域
上に、第１の実施形態の場合と同様にして、配向膜を形
成した（本発明の「配向膜形成工程」）。

【００４４】これにより、同じ厚さのセル２２ａ〜２２
ｄおよびダミーパターン領域２４ａ〜２４ｊを形成する
ことができた。

【００４５】続いて、第１の実施形態の場合と同様に
して、上記工程，を施した２枚の透明基板２１を貼
り合わせた（本発明の「基板貼合工程」）。

【００４６】このとき、第１の実施形態の場合と同様、
セル２２ａ〜２２ｄおよびダミーパターン領域２４ａ〜
２４ｊには同じサイズの基板間スペーサが配設された
が、２枚の透明基板１１を重ね合わせて加圧する際に透
明基板１１には歪みが発生せず、したがって２枚の透明
基板１１の基板間隔は均一になった。

【００４７】そして、第１の実施形態の場合と同様に
して、貼り合わされた２枚の透明基板２１から、各セル
２２ａ〜２２ｄを切断した（本発明の「切断工程」）。
本実施形態でも、透明基板２１を間隙部１４で切断する
ので、ダミーパターン領域２４ａ〜２４ｊはすべてセル
２２ａ〜２２ｄから分離された。

【００４８】最後に、第１の実施形態の場合と同様に
して、シール材に設けた注入口からセル内に液晶材を注
入した（本発明の「液晶注入工程」）。

【００４９】このように、本実施形態では、第１の実施
形態のように各セル２２ａ〜２２ｄの周囲のほぼ全域に
ダミーパターン領域を形成するのではなく、セル２２ａ
〜２２ｄの各辺に対向したライン状のダミーパターン領
域２４ａ〜２４ｊのみを形成することとしたが、このよ
うなダミーパターン領域を採用した場合であっても、４
個のセル２２ａ〜２２ｄと透明基板２１の各端面との距
離、セル間の距離および間隙部２３の幅をそれぞれ統一
することにより、透明基板１１の歪みの発生を防止する
ことができた。そして、これにより、各セル２２ａ〜２
２ｄを構成する２枚の透明基板２１の基板間隔を均一に
することができ、さらには、これらのセル２２ａ〜２２
ｄを用いて作製した液晶表示パネルにおける表示むらの
発生を防止することができた。

【００５０】なお、本実施形態でも、第１の実施形態の
場合と同様、透明電極パターンおよび配向膜以外の膜を
さらに形成する場合には、これと同一の膜をダミーパタ
ーン領域にも形成することによって、本発明の効果を得
ることができる。

【００５１】また、本実施形態では、１枚の透明基板２
１に４個のセルを形成する場合を例に採って説明した
が、３個以上のセルを形成する場合であれば本発明を適
用することができる。

【００５２】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、２枚の透明基板の基板間隔が均一で表示むらが生
じ難い液晶表示パネルの製造方法を提供することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方
法を用いて作製される電極基板の構成を概略的に示すも
のであり、（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図である。

【図２】第２の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方
法で作製される電極基板の構成を概略的に示す平面図で
ある。

【図３】従来の液晶表示パネルの製造方法を用いて作製
される電極基板の一構成例を概略的に示すものであり、
（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図である。

【符号の説明】

１１ 透明基板 １２ セル用透明電極パターン １３ セル用配向膜 １４ 間隙部 １５ 透明電極の外縁部 １６ ダミー用透明電極パターン １７ ダミー用配向膜 １８ セル １９ ダミーパターン領域

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明基板の透明電極形成面に、液晶表示パ
   ネル用透明電極パターンと、この液晶表示パネル用透明
   電極パターンの周囲に所定の間隙部を介して設けられた
   ダミー用透明電極パターンとを、厚さが実質的に同一と
   なるように形成する透明電極形成工程と、 前記液晶表示パネル用透明電極パターンおよび前記ダミ
   ー用透明電極パターンの表面に、少なくとも配向膜を含
   む単一または複数の膜を、厚さが実質的に同一となるよ
   うに形成する配向膜形成工程と、 前記透明電極形成面に対するシール材の塗布と、少なく
   とも前記液晶表示パネル用透明電極パターンおよび前記
   ダミー用透明電極パターンの表面に対する基板間スペー
   サの配設とを行った後で、２枚の前記透明基板を貼り合
   わせる貼合工程と、 この貼合工程で貼り合わされた２枚の前記透明基板を前
   記間隙部で切断する切断工程と、 この切断工程で切り出されたセル内に、前記シール材に
   設けた注入口から液晶材を注入する液晶注入工程と、 を備えることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
2. 【請求項２】前記透明電極形成工程において、前記ダミ
   ー用透明電極パターンが、前記透明電極形成面のうち、
   前記液晶表示パネル用透明電極パターンが形成される領
   域、前記間隙部および前記透明基板の外縁部以外のすべ
   ての領域に形成されることを特徴とする請求項１記載の
   液晶表示パネルの製造方法。
3. 【請求項３】前記間隙部の幅が、この間隙部の全域にお
   いて実質的に同一であることを特徴とする請求項１また
   は２記載の液晶表示パネルの製造方法。
4. 【請求項４】前記透明電極形成工程において、 一枚の前記透明基板の前記透明電極形成面に、液晶表示
   パネル三個分以上の前記液晶表示パネル用透明電極パタ
   ーンが形成され、 前記ダミー用透明電極パターンが、前記液晶表示パネル
   用透明電極パターンの各辺に対向するように、ライン状
   に形成され、 前記透明基板の各端面と前記液晶表示パネル用透明電極
   パターンとの間隔が相互に対向する端面どうしで実質的
   に同一であり、隣接する前記液晶表示パネル用透明電極
   パターンどうしの間隔が実質的に同一であり、且つ、前
   記間隙部の幅がこの間隙部の全域において実質的に同一
   である、 ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネルの製造
   方法。