JPH09131847A - 水なし平版印刷版原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】明室で取り扱うことが可能で、画像露光時のフ
ィルムと版材の密着性の問題、すなわち真空引きの時間
や焼きぼけの問題などの改善されたダイレクト製版可能
な水なし平版印刷版原版を得る。 【解決手段】基板上に少なくとも感光層、インキ反発層
および保護フィルムをこの順に有する水なし平版印刷版
原版において、保護フィルムの光学濃度が１．０以上で
あることを特徴とする水なし平版印刷版原版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は湿し水を用いずに印
刷が可能な、水なし平版印刷版原版に関するものであ
り、特にレーザ光で直接フィルム作製後、製版できる水
なし平版印刷版原版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、シリコーンゴム層をインキ反
発層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷を行うた
めの印刷版が種々提案されている。

【０００３】例えば、ポジ型感光性平版印刷版として
は、特公昭５４ー２６９２３号あるいは特公昭５６ー２
３１５０号などの基板上に光重合性接着層とシリコ−ン
ゴム層とが積層された水なし平版印刷版、また特公平３
−５６６２２号および特開昭６１−１５３６５５号など
の基板上に光二量化型感光層とシリコ−ンゴム層とが積
層された水なし平版印刷版などが提案されている。

【０００４】また、ネガ型感光性平版印刷版としては特
公昭６１ー６１６号や特公昭６１−５４２１８号などの
支持体上にオルトキノンジアジド化合物を含む感光層と
その上に接着層を介してシリコ−ンゴム層を設けた水な
し平版印刷版が、特公昭６１−５４２２２号などの光剥
離性感光層上にシリコ−ンゴム層を設けた水なし平版印
刷版などが提案されており、実用上優れた性能を有する
ものとして知られている。

【０００５】ところで、製版用フィルムを使用しないで
原稿から直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダ
イレクト製版システムが最近脚光を浴びてきている。こ
のダイレクト製版システムは熟練度を必要としない簡易
性、短時間で印刷版が得られる迅速性、多様なシステム
から品質とコストに応じて選択可能である合理性などの
特徴を生かして、軽印刷業界のみでなく、一般オフセッ
ト印刷、グラビア印刷の分野にも進出し始めている。

【０００６】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザプリンタなどの出力システムの急
激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料が開
発されている。

【０００７】これらの平版印刷版を、製版方法から分類
すると、レーザ光を照射する方法、サーマルヘッドで書
き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方法、
インクジェットでインキ反撥層またはインキ着肉層を形
成する方法などが挙げられる。

【０００８】なかでも、レーザ光を用いる方法は解像
度、および製版速度の面で他の方式よりも優れており、
その種類も多い。

【０００９】このレーザ光を用いる平版印刷版は、さら
に光反応によるフォトンモードのものと、光熱変換を行
って熱反応を起こさせるヒートモードの２つのタイプに
分けられる。ヒートモードタイプの一つである熱破壊方
式は、明室で取り扱えるといった利点があり、また光源
となる半導体レーザの出力の急激な進歩によって、最近
その有用性が見直されてきている。

【００１０】例えば、ＵＳＰ５３７９６９８には、金属
薄膜を感熱破壊層として用いる直描型水なし平版印刷版
が記載されているが、金属薄膜自体がレーザ光をある程
度反射するために、印刷版の感度が悪いといった問題が
あった。このため、レーザ光の吸収率を上げるためには
反射防止層を設けなければなず、塗布工程がさらに増え
て、コストがかかる結果となる。

【００１１】また、特開平６―１９９０６４号、ＵＳＰ
５３３９７３７号、ＵＳＰ５３５３７０５号、ＥＰ０５
８０３９３号公報にもレーザ光を光源として用いる、直
描型水なし平版印刷版原版が記載されている。

【００１２】この熱破壊方式の印刷版原版の感熱破壊層
は、レーザ光吸収化合物としてカーボンブラックを用
い、熱分解化合物としてニトロセルロースを使用してい
る。そしてこのカーボンブラックがレーザ光を吸収する
ことによって熱エネルギーに変換され、さらにその熱で
感熱破壊層が破壊される。

【００１３】そして最終的に、現像によってこの部分を
除去することによって、表面のシリコーンゴム層が同時
に剥離され、インキ着肉部となる。

【００１４】この印刷版は、レーザ光の吸収率は、前述
の金属薄膜よりも良好であるが、これらの印刷版は表面
のシリコーンゴム層と感熱破壊層の接着力が弱いため
に、印刷時に傷が入りやく耐刷性が低いといった問題が
あった。

【００１５】また、特開平６―５５７２３号、ＥＰ０５
７３０９１号にも、同様の方式の直描型水なし平版印刷
版が記載されているが、この場合も、シリコーンゴム層
と感熱破壊層の接着力が弱くなり、耐刷性が低いといっ
た問題点を有していた。

【００１６】また、使用しているレーザがＮｄ―ＹＡＧ
レーザであるために、露光装置が、かなり大がかりなも
のになってしまうといった、別の問題点も有していた。

【００１７】しかしながら、これらの新たに開発された
版材においてはインキ着肉性やインキ反発性などの版材
の印刷特性がこれまでの版材と異なるため、印刷会社が
これまで蓄積してきた技術が生かされず、あらたに技術
を蓄積することが必要とされるといった本質的な問題も
あった。

【００１８】それに対し、従来の版材を利用するダイレ
クト製版システムの一つとして、特公平７−２５２０２
においてレーザー記録用フィルムが提案されている。こ
のフィルムは、透明な支持体上に非自己酸化性バイン
ダ、熱吸収微粒子、熱線吸収剤を含有する記録層、保護
層を有しており、ヒートモードによる画像データの出
力、記録が可能である。これを用いると、従来の版材を
そのまま用いたいわゆるダイレクト製版システムが可能
となり、従来のようなフィルム作製に要する時間を短縮
することが出来る。しかしながら、画像露光時のフィル
ムと版材との密着性の問題、いわゆる真空引きに要する
時間の問題や真空引きが不十分である場合に生ずる焼き
ぼけの問題、フィルムが薄い場合の取り扱い難さの問
題、また、本質的に版材を明室で扱えないという問題が
あった。

【００１９】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の諸欠点に鑑み創案されたもので、基板上に少なくと
も感光層、インキ反発層および保護フィルムをこの順に
有する水なし平版印刷版原版において、保護フィルムの
光学濃度を１．０以上とすることによって、明室で取り
扱うことが可能で、画像露光時のフィルムと版材の密着
性の問題、すなわち真空引きの時間や焼きぼけの問題な
どの改善されたダイレクト製版可能な水なし平版を提供
することにある。

【００２０】

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、 １）基板上に少なくとも感光層、インキ反発層および保
護フィルムをこの順に有する水なし平版印刷版原版にお
いて、該保護フィルムの光学濃度が１．０以上である水
なし平版印刷版原版、 ２）該保護フィルムが、透明な樹脂基板上に高光学濃度
層を少なくとも設けたものである上記１）記載の水なし
平版印刷版原版、 ３）該保護フィルムの高光学濃度層が、光熱変換物質と
易熱分解性化合物を少なくとも有する層である上記２）
記載の水なし平版印刷版原版、 ４）該保護フィルムの高光学濃度層が、カーボンブラッ
クと易熱分解性化合物を少なくとも有する層である上記
２）記載の水なし平版印刷版原版、 ５）該保護フィルムの高光学濃度層が、染料と易熱分解
性化合物を少なくとも有する層である上記２）記載の水
なし平版印刷版原版、 ６）該保護フィルムの高光学濃度層の厚さが、０．５〜
２．０μｍである上記３）記載の水なし平版印刷版原
版、 ７）該保護フィルムの高光学濃度層が、蒸着またはスパ
ッタリングにより形成されたものである上記２）記載の
水なし平版印刷版原版、 ８）該保護フィルムの高光学濃度層が、炭素を少なくと
も含む薄膜層である上記２）記載の水なし平版印刷版原
版、 ９）該保護フィルムの高光学濃度層が、金属を含む薄膜
層である上記２）記載の水なし平版印刷版原版、 １０）該保護フィルムの高光学濃度薄膜層の厚さが、１
０００オングストローム以下であることを特徴とする上
記７）記載の水なし平版印刷版原版、 １１）該保護フィルムの、透明な樹脂基板の高光学濃度
層側の表面に粗面化処理が施されている上記２）記載の
水なし平版印刷版原版、 １２）該保護フィルムの、透明な樹脂基板の高光学濃度
層側の表面に接着層が設けられている上記２）記載の水
なし平版印刷版原版、により達成される。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下に本発明の構成について、さ
らに具体的に説明する。

【００２２】まず、光学濃度（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｄｅｎ
ｓｉｔｙ）とは、一般にＤで表され、Ｄ＝ｌｏｇ₁₀Ｏ＝
ｌｏｇ₁₀（１／Ｔ）＝ｌｏｇ₁₀（Ｉ₀ ／Ｉ）で定義され
る。ここでＯ＝Ｉ₀ ／Ｉは黒化度、Ｔは透過率、Ｉ₀ は
透過率測定の際の入射光強度、Ｉは透過光強度である。

【００２３】光学濃度の測定には、透過光強度の測定を
行い算出する方法と入射光強度の測定を行い算出する方
法が知られているが、本発明における光学濃度は透過光
強度から算出した値を対象としている。

【００２４】このような光学濃度は、例えばラッテンフ
ィルター Ｎｏ．１０６を用いて、マクベス透過濃度計
９３２Ｊを用いることで測定できる。

【００２５】本発明でいう光学濃度１．０以上のフィル
ムにおいては、レーザ光を効率よく吸収して、その熱に
よって瞬間的にフィルムの一部または全部が蒸発、また
は融解し、レーザ光の照射部分と未照射部分の光学濃度
に差が生じる事が重要である。一般的には照射部分の光
学濃度の低下が起こることが重要である。

【００２６】まず、レーザ光を効率良く吸収するために
は、光源として用いられる半導体レーザの波長（８００
ｎｍ付近）に対する吸収率が重要となってくる。

【００２７】そして、この８００ｎｍ付近の光に対する
吸収率の指標として、印刷版の光学濃度を測定してい
る。

【００２８】すなわち、光学濃度が高いほどレーザ光を
効率良く吸収することが出来る。この光学濃度は１．０
以上であることが必要で、好ましくは１．５以上であ
る。光学濃度が１．０よりも小さいと、明室で扱いにく
くなり、またレーザ光が効率良く吸収されないために印
刷版の感度が低下しやすくなる。一方、４．０より大き
いと画像を形成するためのエネルギーが余分に必要とな
り、感度が低下してしまう。

【００２９】このような光学濃度１．０以上のフィルム
は透明な樹脂基板上に光学濃度１．０以上の高光学濃度
層を少なくとも設けることにより通常得られる。透明な
樹脂基板としては、従来の水なし平版において提案され
ている保護フィルムを使用することが出来る。具体的に
は、１００ミクロン以下、好ましくは１０ミクロン以下
の厚みを有するもので、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、セ
ロファンなどを挙げることが出来る。

【００３０】高光学濃度層はコーテイングや蒸着・スパ
ッタリングにより得ることが出来る。

【００３１】コーテイングにより得られるものとして
は、金属酸化物を含む組成物や易熱分解性化合物と光熱
変換物質を含む組成物を挙げることが出来る。

【００３２】易熱分解性を満たす化合物としては、硝酸
アンモニウム、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、ニトロ
セルロース等のニトロ化合物や有機過酸化物、ポリビニ
ルピロリドン、アゾ化合物、ジアゾ化合物あるいはヒド
ラジン誘導体が好ましく使用されるが、溶液の塗工性の
面などから高分子化合物であるポリビニルピロリドンや
ニトロセルロースが特に好ましい。

【００３３】また、ニトロセルロースの粘度はＡＳＴＭ
Ｄ３０１―７２に規定された測定方法で１／１６秒〜
１秒であることが好ましく、より好ましくは１／８秒〜
１／２秒である。ここで、粘度はニトロセルロースの重
合度に対応しており、粘度が低いことはすなわち重合度
が低いことを意味する。この粘度が１／１６秒よりも小
さいと、ニトロセルロースの重合度が低いために高光学
濃度層の耐傷性が低下し、１秒よりも大きいと粘度が高
くなり過ぎ、取扱いが不便になる。

【００３４】これらポリビニルピロリドンやニトロセル
ロースの使用量は、全高光学濃度層組成物に対して１０
〜８０重量％が好ましく、より好ましくは２０〜６０重
量％である。使用量が１０重量％よりも少ないと感度が
低下し、８０重量％よりも多いと、下記光熱変換物質量
低下に伴う感度の低下が起こる。

【００３５】上記の熱分解性化合物にレーザ光が照射さ
れた時に、効率良く熱分解反応を起こすために、光熱変
換物質を含有させることが重要である。

【００３６】このような化合物としては、光を吸収して
熱に変換し得る物質であれば、特に限定されるものでは
ない。例えばカーボンブラック、アニリンブラック、シ
アニンブラック等の黒色顔料、フタロシアニン、ナフタ
ロシアニン系の緑色顔料、ローダミン色素、アミニウム
塩、ナフトキノン系色素、ジイモニウム塩、アズイモニ
ウム系色素、カルコゲン系色素、カーボングラファイ
ト、鉄粉、ジアミン系金属錯体、ジチオール系金属錯
体、フェノールチオール系金属錯体、メルカプトフェノ
ール系金属錯体、アリールアルミニウム金属塩類、結晶
水含有無機化合物、硫酸銅、硫化クロム、珪酸塩化合物
や、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化
鉄、酸化コバルト、酸化タングステン等の金属酸化物、
これらの金属の水酸化物、硫酸塩、さらにビスマス、ス
ズ、テルル、鉄、アルミの金属粉等の添加剤を添加する
ことが好ましい。

【００３７】その他、光熱変換物質としては、染料もま
た有用である。特にアジン系の染料は有用であり、具体
例の一部としてはニグロシン、ニグロシンベースＥＸ、
スピリットブラックＳＢ、スピリットブラックＡＢなど
や、バリファーストブラック３８１０や３８２０などを
挙げることが出来る。

【００３８】これらアジン系染料と赤外線吸収剤の組み
合わせは特に好ましい組成となる。

【００３９】これらのなかでも、光熱変換率および、経
済性、および取扱い性の面から、カーボンブラックが特
に好ましい。カーボンブラックは、その製造方法からフ
ァーネスブラック、チャンネルブラック、サーマルブラ
ック、アセチレンブラック、ランプブラック等に分類さ
れるが、ファーネスブラックは粒径その他の面で様々な
タイプのものが市販されており、商業的にも安価である
ため、好ましく使用される。

【００４０】また、先に挙げた染料は、高光学濃度層を
設ける際の塗液の分散性、塗工性に関して有利な事か
ら、カーボンブラック同様特に好ましく用いられる。

【００４１】これら光熱変換物質の使用量は全高光学濃
度層組成物に対して２〜７５重量％が好ましく、より好
ましくは５〜７０重量％である。２重量％よりも少ない
場合には感度が低下し、７５重量％よりも多い場合には
フィルムの耐傷性の低下や基板樹脂との接着性に問題を
生じやすい。

【００４２】また、尿素及び尿素誘導体、亜鉛華、炭酸
鉛、ステアリン酸鉛、グリコール酸等の熱分解助剤を添
加することも有効である。

【００４３】これら熱分解助剤の添加量は、全感光層組
成物に対して０．０２〜１０重量％が好ましく、より好
ましくは０．１〜５重量％である。

【００４４】このようなコーテイングにより得られる高
光学濃度層の厚さは０．５〜２．０μｍである事が好ま
しい。０．５μｍ未満の場合には、耐傷性が低下し光の
漏れが生じやすくなるばかりでなく、一定の高光学濃度
を得るのが困難となり、また高い塗工技術が要求され
る。２．０μｍより厚い場合には光学濃度に変化を与え
るのに高いエネルギーが必要とされ感度が低下する。さ
らに、層が厚くなることによりコスト的にも不利にな
る。

【００４５】また、高光学濃度層は薄膜層であってもよ
く、このような薄膜層の形成方法としては、真空蒸着、
スパッタリングの何れかの方法で行うことが好ましい。

【００４６】真空蒸着は、１０^-4〜１０^-7ｍｍＨｇの減
圧容器中で、金属と炭素を加熱蒸発させ、基板の表面に
薄膜を形成させるのが一般的である。

【００４７】スパッタリングは１０^-1〜１０^-3ｍｍＨｇ
の減圧容器中で１対の電極に直流あるいは交流電圧を加
え、グロー放電を起こさせ、陰極のスパッタリング現象
を利用して基板上に薄膜を形成する。

【００４８】本発明で必要とされる高光学濃度を与える
薄膜層として炭素の薄膜層を第一に挙げることが出来
る。ここでいう炭素薄膜は、いわゆるダイヤモンド薄膜
やグラファイト薄膜ではなく非晶質炭素薄膜であること
が好ましい。非晶質炭素薄膜はイオンビーム蒸着、イオ
ン化蒸着等の通常の真空蒸着や、イオンビームスパッタ
リング等のスパッタリングを行えばほぼ選択的に得るこ
とが出来る。

【００４９】炭素薄膜形成方法としては、真空蒸着、ス
パッタリングの何れかの方法で行うことが好ましい。

【００５０】真空蒸着は、１０^-4〜１０^-7ｍｍＨｇの減
圧容器中で、炭素を加熱蒸発させ、基板の表面に薄膜を
形成させるのが一般的である。この時、炭素は融点が３
９２３（Ｋ）とかなり高いために、蒸着するためには炭
素の加熱温度及び蒸着時間を長くする必要がある。

【００５１】スパッタリングは１０^-1〜１０^-3ｍｍＨｇ
の減圧容器中で１対の電極に直流あるいは交流電圧を加
えて、グロー放電を起こさせ、陰極のスパッタリング現
象を利用して基板上に薄膜を形成する。この方法では、
融点が高い炭素でも比較的容易に薄膜を形成することが
できる。

【００５２】高光学濃度層を与える薄膜層としては、金
属の薄膜層を挙げることもできる。金属の具体例として
は、以下のようなものを挙げることが出来るがこれらに
限定されるものではない。テルル、スズ、アンチモン、
ガリウム、マグネシウム、ポロニウム、セレン、タリウ
ム、亜鉛、アルミニウム、シリコン、ゲルマニウム、
錫、銅、鉄、モリブデン、ニクロム、インジウム、イリ
ジウム、マンガン、鉛、リン、ビスマス、ニッケル、チ
タン、コバルト、ロジウム、オスニウム、水銀、バリウ
ム、パラジウム、ビスマスや特公昭４１−１４５１０に
記載されているような化合物、例えば炭化珪素、窒化ホ
ウ素、燐化ホウ素、燐化アルミ、アンチモンとアルミニ
ウムの合金、ガリウムと燐の合金、ガリウムとアンチモ
ンの合金など。好ましくは、テルル、スズ、アンチモ
ン、ガリウム、マグネシウム、ポロニウム、セレン、タ
リウム、亜鉛、ビスマス、アルムニウム。

【００５３】金属光沢が大きくなると、表面でのレーザ
光の反射が大きくなるため、感度的な面から金属材料と
しては、金属光沢の小さい材料が好ましい。

【００５４】また、瞬間的に一部または全部が蒸発、ま
たは融解する金属としては、融点が２０００（Ｋ）以下
であれば、どのようなものでも好ましく使用できる。融
点が２０００（Ｋ）よりも大きいと、レーザ光を照射し
ても、蒸発または融解するのに時間がかかるため、結果
的に版材の感度が低下してしまうためである。

【００５５】融点に関して、より好ましくは１０００
（Ｋ）以下のものである。具体的には、テルル、スズ、
アンチモン、ガリウム、マグネシウム、ポロニウム、セ
レン、タリウム、亜鉛、ビスマスが好ましく使用され、
より好ましくはテルル、スズ、亜鉛を挙げることが出来
る。

【００５６】これらの金属は、薄膜にレーザ光が照射さ
れた時に、熱によって容易に蒸発、または融解するため
特に好ましい。

【００５７】またこれらの金属は、２種類あるいは３種
類のアロイとすることによって、より融点が低下しやす
くなり感度も向上するため、特に好ましいと言える。具
体的には、テルルとスズ、テルルとアンチモン、テルル
とガリウム、テルルとビスマス、テルルと亜鉛のアロイ
が好ましく、より好ましくは、テルルと亜鉛、テルルと
スズのアロイである。３種類のアロイでは、テルルとス
ズと亜鉛、テルルとガリウムと亜鉛、スズとアンチモン
と亜鉛、スズとビスマスと亜鉛、のアロイが好ましく、
より好ましくは、テルルとスズと亜鉛、スズとビスマス
と亜鉛のアロイである。

【００５８】このような薄膜の形成方法としては、真空
蒸着、スパッタリングの何れかの方法で行うことが好ま
しい。

【００５９】さらに、高光学濃度層を与える薄膜層とし
て、炭素と金属を含む薄膜層も使用できる。炭素と金属
を、同時に蒸着またはスパッタリングすることによっ
て、薄膜の光学濃度は向上し、よりレーザ光を吸収しや
すくなるというメリットがある。

【００６０】その結果、多くの金属が感熱層として使用
できる。

【００６１】この時用いる金属あるいはアロイは、蒸着
や、スパッタリングができるものであれば特に限定はさ
れないが、融点が２０００（Ｋ）以下の金属が好まし
く、より好ましくは１０００（Ｋ）以下である。融点が
２０００（Ｋ）よりも高いと、炭素を同時に蒸着あるい
はスパッタリングしても、画像が形成されにくい。

【００６２】これらの金属と炭素を同時に蒸着、または
スパッタリングする場合、形成された薄膜での炭素の重
量％は、１０重量％以上が好ましく、より好ましくは３
０重量％以上である。炭素が１０重量％よりも、少ない
とレーザ光の吸収率が低下して感度も低下しやすい。

【００６３】また、薄膜の膜厚も感度に大きな影響を与
える。すなわち、膜厚が厚すぎると、薄膜を蒸発、融解
させるために要するエネルギーが余分に必要となるため
に、版材の感度が低下してしまうのである。それ故、薄
膜の膜厚としては１０００オングストローム以下が好ま
しく、さらには２０〜１０００オングストローム、より
好ましくは４０〜２００オングストロームである。膜厚
が２０オングストロームよりも薄くても感度が低下して
しまうためである。

【００６４】また、高光学濃度層と樹脂基板との接着性
を向上させるために、樹脂基板の透明性を損なわない範
囲で樹脂基板の高光学濃度層側の表面に粗面化処理が施
されていてもよい。

【００６５】樹脂基板の粗面化処理としては公知の方法
が適用できる。具体的には、例えばＥＣ処理、コロナ処
理、プラズマ処理、電子線照射、Ｘ線照射処理、溶剤処
理、あるいは機械的エンボス加工、サンドプラスト加
工、また、結晶化促進処理、フィルムへの結晶化促進剤
添加、無機粒子および相溶性のない有機ポリマの添加、
さらには平滑なフィルム上への無機粒子あるいは有機ポ
リマを含む塗液のコーテイングなどを挙げることが出来
る。

【００６６】さらに、必要に応じて粗面化処理後あるい
は未処理の樹脂基板上に接着層を設けてもよい。接着層
としては、有機チタネートやシランカップリング剤層の
他、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹
脂、尿素樹脂、アクリル樹脂、およびこれらを２種以上
混合したものなどを挙げることが出来る。

【００６７】シランカップリング剤としては、ビニルシ
ラン、（メタ）アクリロイルシラン、エポキシシラン、
アミノシラン、メルカプトシラン、クロロシラン等公知
のものが全て使用できるが、なかでも（メタ）アクリロ
イルシラン、エポキシシラン、アミノシラン、メルカプ
トシランが好ましく使用される。これらのシランカップ
リング剤は、適当な溶剤に溶かして希薄溶液の状態で基
板上に塗布し、熱キュアを行う。このシランカップリン
グ剤層の膜厚は、シランカップリング剤の単分子膜が形
成される程度の膜厚があれば十分であり、具体的には５
００オングストローム以下が好ましく、より好ましくは
１００オングストローム以下である。膜厚が５００オン
グストロームよりも厚い場合には、高光学濃度層との接
着性が低下しやすくなる。

【００６８】本発明の水なし平版としては、基板上に少
なくとも感光層、インキ反発層を有するものであればい
ずれでもよいが、好ましくはインキ反発層が感光層の上
に設置されたタイプのものである。インキ反発層として
は、シリコーンゴム層、フッ素樹脂層を挙げることが出
来るが、シリコーンゴム層が好ましい。シリコーンゴム
層としては、縮合型シリコーンゴム層と付加型シリコー
ンゴム層が挙げられる。感光層としては、エチレン性不
飽和二重結合を有するアクリレート化合物を利用する光
重合型あるいは光架橋型、シンナモイル基を利用する光
架橋型、アジド化合物を利用する光架橋型、キノンジア
ジド化合物を利用する光溶解型あるいは光剥離型などい
ずれでもよい。また、ポジタイプ、ネガタイプいずれの
タイプの版でもよいが、レーザ照射部分の光学濃度が低
下し、その部分が露光されることを考えると、燃焼など
で生じる廃ガスやくずの問題などから、ネガタイプの方
が有利である。すなわち、ネガタイプの版を用いた場
合、画像部、例えば文字に相当する部分のみをレーザ照
射し、保護フィルムをネガフィルム化すればよいのに対
し、ポジタイプの版を用いた場合は、非画像部、例えば
文字に相当する箇所以外の全面をレーザ照射し、保護フ
ィルムをポジフィルム化しなければならないからであ
る。

【００６９】本発明の水なし平版印刷版は、例えば次の
ようにして製版される。保護フィルムをつけた状態の本
発明の水なし平版印刷版原版に、レーザ光を画像状に照
射する。レーザ光照射には通常レーザ光が使用される
が、この時の光源としては、発振波長が３００ｎｍ〜１
５００ｎｍの範囲にあるＡｒイオンレーザ、Ｋｒイオン
レーザ、Ｈｅ―Ｎｅレーザ、Ｈｅ―Ｃｄレーザ、ルビー
レーザ、ガラスレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、
チタンサファイアレーザ、色素レーザ、窒素レーザ、金
属蒸気レーザ等の種々のレーザが使用できる。なかで
も、半導体レーザは近年の技術的進歩により、小型化
し、経済的にも他のレーザ光源よりも有利であるので好
ましい。上記の方法でレーザ照射された水なし平版印刷
版は、必要に応じて、ブラシ処理もしくは、それと同時
に水あるいは／および有機溶剤で処理してもよい。その
後、保護フィルムをつけたまま、従来の方法に従って活
性光線で画像露光を行う。画像露光後は、従来の方法と
全く同様にして現像を行う。

【００７０】

【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００７１】フィルム１ 厚さ８μｍのポリエステルフィルム“ルミラー”（東レ
（株）製）上に下記の組成物をスリットダイコータを用
いて塗布し、８０℃の熱風中で２分間乾燥して膜厚１μ
ｍの高光学濃度層を設けた。光学濃度は２．１であっ
た。

【００７２】 （ａ）ニトロセルロース （“Ｂｅｒｇｅｒａｃ ＮＣ”エス・エヌ・ピー・イージャパン（株）製） （粘度１／４秒、窒素含有量１１．０％） ２５重量部 （ｂ）銅フタロシアニン （ナカライテスク（株）製） ２重量部 （ｃ）カーボンブラック“RAVEN1255 ”（コロンビアンカーボン日本（株）製） １５重量部 （ｄ）エポキシ樹脂“デナコール”ＥＸ５１２（ナガセ化成工業（株）製） ５０重量部 （ｅ）尿素樹脂 “ベッカミン”Ｐ―１３８ １０重量部 （ｆ）メチルエチルケトン ７００重量部 フィルム２ フィルム１で用いたのと同じフィルム上にフィルム１作
製で用いたのと同じ組成物を乾燥膜厚１．５μｍになる
ように塗布し、光学濃度２．５の高光学濃度層を有する
フィルム２を得た。

【００７３】フィルム３ フィルム１で用いたのと同じフィルム上に炭素の薄膜を
スパッタリングによって形成した。薄膜の厚さは２００
オングストローム、光学濃度は１．９であった。

【００７４】フィルム４ 厚さ１０μｍのポリプロピレンフィルム“トレファン”
（東レ（株）製）上にテルルの薄膜を真空蒸着によって
形成した。薄膜の厚さは１８０オングストローム、光学
濃度は２．１であった。

【００７５】フィルム５ フィルム４で用いたのと同じフィルム上に錫の薄膜を真
空蒸着によって形成した。薄膜の厚さは１８０オングス
トローム、光学濃度は１．８であった。

【００７６】フィルム６ フィルム４で用いたのと同じフィルム上に炭素／亜鉛：
７５重量部／２５重量部の組成物から薄膜を同時真空蒸
着によって形成した。薄膜の厚さは１５０オングストロ
ーム、光学濃度は２．３であった。

【００７７】フィルム７ フィルム４で用いたのと同じフィルム上に炭素／錫／ビ
スマス／亜鉛：２５重量部／２５重量部／２５重量部／
２５重量部の組成物から薄膜を同時真空蒸着によって形
成した。薄膜の厚さは１９０オングストローム、光学濃
度は２．０であった。

【００７８】フィルム８ フィルム１で用いたのと同じフィルム上にフィルム１作
製で用いたのと同じ組成物を乾燥膜厚４．０μｍになる
ように塗布し、光学濃度４．３の高光学濃度層を有する
フィルム８を得た。

【００７９】フィルム９（比較例） フィルム１で用いたのと同じフィルム上にフィルム１作
製で用いたのと同じ組成物を乾燥膜厚０．４μｍになる
ように塗布し、光学濃度０．７の高光学濃度層を有する
フィルム９を得た。

【００８０】フィルム１０ 厚さ６μｍのポリプロピレンフィルム“トレファンＢ
Ｏ”（東レ（株）製）上に下記の組成物をバーコーター
を用いて塗布し、１００℃の熱風中で２分間乾燥して乾
燥膜厚１．５μｍの高光学濃度層を設けた。光学濃度は
２．２であった。

【００８１】 （ａ）ポリビニルピロリドン ４０重量部 （“Ｋ−１２０”ＩＳＰジャパン製） （ｂ）“ＩＲ−８２０Ｂ” ５重量部 （日本化薬（株）製赤外線吸収剤） （ｃ）“ニグロシン” ６０重量部 （池田化学製アジン系色素） （ｄ）メチルエチルケトン ５０重量部 （ｅ）メタノール ２０重量部 （ｆ）メチルセロソルブ ４０重量部 実施例１ 厚さ０．３ｍｍのアルミ板（住友金属（株）製）に下記
のプライマ組成物をバ−コ−タ−を用いて塗布し、２０
０℃、２分間熱処理して５μｍのプライマ層を設けた。

【００８２】 （ａ）ポリウレタン樹脂“サンプレンＬＱ−Ｔ１３３１” （三洋化成工業（株）製） １００重量部 （ｂ）ブロックイソシアネ−ト“タケネ−トＢ８３０” （武田薬品（株）製） ２０重量部 （ｃ）エポキシ・フェノ−ル・尿素樹脂“ＳＪ９３７２” （関西ペイント（株）製） ８重量部 （ｄ）酸化チタン １０重量部 （ｅ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．５重量部 （ｆ）モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）アシッド ホスフェート １重量部 （ｇ）ジメチルホルムアミド ７２５重量部 続いてこのプライマ層上に下記の感光層組成物をバ−コ
−タを用いて塗布し、１１０℃の熱風中で１分間乾燥し
て厚さ１．５μｍの感光層を設けた。

【００８３】 （ａ）１，２−ナフトキノンー２ージアジド−５−スルホン酸 クロライドとフェノ−ルホルムアルデヒドノボラック樹脂 （住友デュレズ製：“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２） の部分エステル化物 （元素分析法によるエステル化度３６％） ７０重量部 （ｂ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト ２１重量部 （ｃ）ポリウレタン樹脂“ミラクトラン”Ｐ２２Ｓ （日本ミラクトラン（株）製） ３０重量部 （ｄ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．２重量部 （ｅ）Ｐ−トルエンスルホン酸 ０．８重量部 （ｆ）テトラヒドロフラン ８００重量部 次いでこの感光層の上に下記の組成を有するシリコ−ン
ゴム組成物を回転塗布後、１１５℃、露点３０℃、３．
５分間湿熱硬化させて２μｍのシリコ−ンゴム層を設け
た。

【００８４】 （ａ）ポリジメチルシロキサン （分子量約２５，０００、末端水酸基） １００重量部 （ｂ）ビニルトリ（メチルエチルケトオキシム）シラン １０重量部 （ｃ）“アイソパ−Ｅ”（エクソン化学（株）製） １４００重量部 かかる印刷版原版にメタルハライドランプ（岩崎電気
（株）製アイドルフィン２０００）を用い、ＵＶメ−タ
−（オ−ク製作所製、ライトメジャ−タイプＵＶ−４０
２Ａ）で１１ｍＷ／ｃｍ² の照度で６秒間全面露光を施
した。

【００８５】上記のようにして得られた積層板に、前述
のフィルム１をカレンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−ト
し、水なし平版印刷版原版を得た。

【００８６】かかる印刷版原版を、Ｘ―Ｙテーブルに装
着した半導体レーザ（ＯＰＣ―Ａ００１―ｍｍｍ―Ｆ
Ｃ、出力０．７５Ｗ、波長７８０ｎｍ、ＯＰＴＯ ＰＯ
ＷＥＲＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ製）を用いて、ビーム直
径２０μｍ、露光時間１０μｓでパルス露光を行った。

【００８７】この後、印刷版原版に上記のメタルハライ
ドランプを用い、１ｍの距離から６０秒間露光した。

【００８８】次いで上記の露光済版のフィルムを剥離
し、室温２５℃、湿度８０％の条件で、ＴＷＬ１１６０
（東レ（株）製水なし平版印刷版の現像装置）を用いて
現像を行った。ここで前処理液としては、以下の組成を
有する液を用いた。

【００８９】 （ａ）ジエチレングリコ−ル ８０重量部 （ｂ）ジグリコ−ルアミン １４重量部 （ｃ）水 ６重量部 また、現像液としては水を用いた。染色液としては、以
下の組成を有する液を用いた。

【００９０】 （ａ）エチルカルビト−ル １８重量部 （ｂ）水 ７９．９重量部 （ｃ）クリスタルバイオレット ０．１重量部 （ｄ）２−エチルヘキサン酸 ２重量部 この印刷版の画像再現性を５０倍のルーペで評価し、ド
ットが形成される最小レーザパワーを決定し、その結果
から印刷版の感度を測定した。

【００９１】実施例２ 実施例１におけるフィルム１の代わりにフィルム２を用
いた以外は、全く同様に版を作製し、全く同様に評価を
行った。

【００９２】実施例３ 実施例１で用いたのと同じアルミ板上に実施例１と同じ
組成、同じ膜厚のプライマ層を同じ方法で形成した。そ
の後、下記の組成を有する光重合性感光液を塗布し、１
００℃で１分間加熱乾燥し、厚さ４ｇ／ｍ² の感光層を
設けた。

【００９３】 （ａ）アジピン酸とヘキサン−１，６−ジオ−ル、２，２− ５０重量部 ジメチルプロパン−１，３−ジオ−ルとのポリエステ ルポリオ−ルとイソホロンジイソシアネ−トとの反応 によって得られたポリウレタン （ｂ）ペンタオキシプロピレンジアミン／グリシジルメタク １５重量部 リレート／メチルグリシジルエーテル＝１／３／１ ｍｏｌ比付加反応物 （ｃ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレート １５重量部 ／メチルグリシジルエーテル＝１／２／２ｍｏｌ比付 加反応物 （ｄ）ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＯＯ−（Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ）₁₄−ＣＯＣＨ＝ＣＨ₂ １０重量部 （ｅ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレート ２重量部 ／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン ＝１／３／１ｍｏｌ比付加反応物 （ｆ）ミヒラー氏ケトン ２重量部 （ｇ）２，４−ジエチルチオキサントン ４重量部 （ｈ）ビクトリアピュアブルーＢＯＨナフタレンスルフォン酸塩０．５重量部 （ｉ）マレイン酸 ０．５重量部 （ｊ）プロピレングリコールモノメチルエーテル ８００重量部 次いでこの感光層の上に次ぎの組成を有するシリコ−ン
ゴム組成物を乾燥窒素気流下、回転塗布した後、１１５
℃、露点３０℃という条件で３．５分間湿熱硬化させて
２．３μｍのシリコ−ンゴム層を設けた。

【００９４】 （ａ）ポリジメチルシロキサン （分子量約３５，０００、末端水酸基） １００重量部 （ｂ）エチルトリアセトキシシラン １２重量部 （ｃ）ジブチル錫ジアセテ−ト ０．１重量部 （ｄ）“アイソパ−Ｇ”（エクソン化学（株）製） １２００重量部 上記のようにして得られた積層板に、前述のフィルム１
をカレンダ−ロ−ラ−を用いてラミネ−トし、水なし平
版印刷版原版を得た。

【００９５】かかる印刷版原版を、Ｘ―Ｙテーブルに装
着した半導体レーザ（ＯＰＣ―Ａ００１―ｍｍｍ―Ｆ
Ｃ、出力０．７５Ｗ、波長７８０ｎｍ、ＯＰＴＯ ＰＯ
ＷＥＲＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ製）を用いて、ビーム直
径２０μｍ、露光時間１０μｓで実施例１と同様にパル
ス露光を行った。

【００９６】この後、印刷版原版に上記のメタルハライ
ドランプを用い、１ｍの距離から６０秒間露光した。

【００９７】次いで上記の露光済版のカバーフィルムを
剥離し、室温２５℃、湿度８０％の条件で、ＴＷＬ１１
６０（東レ（株）製水なし平版印刷版の現像装置）を用
いて搬送速度６０ｃｍ／ｍｉｎで現像を行った。ここで
前処理液としては、“ＰＰ−Ｆ”（東レ（株）製 自動
現像機用前処理液）を用いた。

【００９８】また、現像液としては水を用いた。染色液
としては、以下の組成を有する液を用いた。

【００９９】 （ａ）エチルカルビト−ル １８重量部 （ｂ）水 ７９．９重量部 （ｃ）クリスタルバイオレット ０．１重量部 （ｄ）２−エチルヘキサン酸 ２重量部 得られた印刷版については実施例１と同様の評価を行っ
た。

【０１００】実施例４〜８ 実施例１におけるフィルム１の代わりにフィルム３〜７
を用い、それ以外は全く同様に版を作製し、全く同様に
評価を行った。

【０１０１】実施例９ 実施例１におけるフィルム１の代わりにフィルム８を用
い、それ以外は全く同様に版を作製し、全く同様に評価
を行ったところ、高光学濃度層を感熱破壊することが出
来なかった。レーザの照射時間を１０μｓから２０μｓ
に変更しパルス露光を行ったところ、高光学濃度層を破
壊することが出来、画像を形成することが出来た。

【０１０２】実施例１０ 実施例１におけるフィルム１の代わりにフィルム１０を
用い、実施例１と全く同様に版を作製し、全く同様に評
価を行ったところ、実施例１と同様、画像を忠実に再現
した版を得ることが出来た。印刷版の感度（ドットが形
成される最小レーザーパワー）は３２０ｍＪ／ｃｍ² で
あった。

【０１０３】比較例１ 実施例１におけるフィルム１の代わりに比較例のフィル
ム９を用い、それ以外は全く同様に版を作製し、全く同
様に評価を行った。現像後の刷版を観察したところ、露
光部だけでなく、未露光部のシリコーンゴム層も剥がれ
てしまう、いわゆるシリコーンゴム層剥がれの状態にな
っていた。

【０１０４】

【表１】

【０１０５】

【発明の効果】本発明の水なし平版印刷版原版において
は、明室で取り扱うことが可能で、またレーザ光で直接
フィルム作製後、製版でき、画像露光時のフィルムと版
材の密着性の問題、すなわち真空引きの時間や焼きぼけ
の問題などが改善された。

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に少なくとも感光層、インキ反発
   層および保護フィルムをこの順に有する水なし平版印刷
   版原版において、該保護フィルムの光学濃度が１．０以
   上であることを特徴とする水なし平版印刷版原版。
2. 【請求項２】 該保護フィルムが、透明な樹脂基板上に
   高光学濃度層を少なくとも設けたものであることを特徴
   とする請求項１記載の水なし平版印刷版原版。
3. 【請求項３】 該保護フィルムの高光学濃度層が、光熱
   変換物質と易熱分解性化合物を少なくとも有する層であ
   ることを特徴とする請求項２記載の水なし平版印刷版原
   版。
4. 【請求項４】 該保護フィルムの高光学濃度層が、カー
   ボンブラックと易熱分解性化合物を少なくとも有する層
   であることを特徴とする請求項２記載の水なし平版印刷
   版原版。
5. 【請求項５】 該保護フィルムの高光学濃度層が、染料
   と易熱分解性化合物を少なくとも有する層であることを
   特徴とする請求項２記載の水なし平版印刷版原版。
6. 【請求項６】 該保護フィルムの高光学濃度層の厚さ
   が、０．５〜２．０μｍであることを特徴とする請求項
   ３記載の水なし平版印刷版原版。
7. 【請求項７】 該保護フィルムの高光学濃度層が、蒸着
   またはスパッタリングにより形成されたものであること
   を特徴とする請求項２記載の水なし平版印刷版原版。
8. 【請求項８】 該保護フィルムの高光学濃度層が、炭素
   を少なくとも含む薄膜層であることを特徴とする請求項
   ２記載の水なし平版印刷版原版。
9. 【請求項９】 該保護フィルムの高光学濃度層が、金属
   を含む薄膜層であることを特徴とする請求項２記載の水
   なし平版印刷版原版。
10. 【請求項１０】 該保護フィルムの高光学濃度薄膜層の
    厚さが、１０００オングストローム以下であることを特
    徴とする請求項７記載の水なし平版印刷版原版。
11. 【請求項１１】 該保護フィルムの、透明な樹脂基板の
    高光学濃度層側の表面に粗面化処理が施されていること
    を特徴とする請求項２記載の水なし平版印刷版原版。
12. 【請求項１２】 該保護フィルムの、透明な樹脂基板の
    高光学濃度層側の表面に接着層が設けられていることを
    特徴とする請求項２記載の水なし平版印刷版原版。