JPH09129788A - 半導体装置およびそれを用いた電子装置 - Google Patents

半導体装置およびそれを用いた電子装置

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JPH09129788A
JPH09129788A JP28710095A JP28710095A JPH09129788A JP H09129788 A JPH09129788 A JP H09129788A JP 28710095 A JP28710095 A JP 28710095A JP 28710095 A JP28710095 A JP 28710095A JP H09129788 A JPH09129788 A JP H09129788A
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ball
package
semiconductor device
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mounting substrate
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English (en)
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Yasuki Tsutsumi
安己 堤
Masayuki Shirai
優之 白井
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/325Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by abutting or pinching, i.e. without alloying process; mechanical auxiliary parts therefor

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 パッケージのベース基板と実装基板との熱膨
脹率が異なっていても、ボール状電極のクラックを防止
することが可能な技術を提供する。 【解決手段】 パッケージ10のベース基板2を、ボル
ト17とナット18とからなる係合手段を介して実装基
板13に係合することにより、ベース基板2の底面に配
置した複数のボール状電極11を実装基板13の表面の
複数の柔軟性を有する導電体14に圧着する。これによ
って、LSIの動作中に温度変化の繰り返しによって、
ベース基板2と実装基板13間の熱膨張率の差に基づい
て歪みが生じても、この歪みは圧着部分によって吸収さ
れるようになる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置および
それを用いた電子装置に関し、特に、パッケージの底面
に複数のボール状電極が配置され、これら複数のボール
状電極が実装基板に接続されることにより面実装される
タイプの半導体装置に適用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】LSIで代表される半導体装置は、高集
積化、高機能化が進むにつれて、パッケージから取り出
されるリードの数は益々増加する傾向にある。このよう
な多リード化に適応した代表的なパッケージとして、Q
FP(Quad Flat Package)が知られ
ている。
【0003】ここで、QFPは複数のリードをパッケー
ジの周囲から取り出しているので、LSIを実装基板に
面実装する場合は、パッケージ周囲におけるリードの広
がり分だけ面積を占有してしまうため、実装上の制約を
受けるようになる。
【0004】このため、リードに代えてピンを用いて、
これらピンを底面から取り出すようにしたパッケージと
してPGA(Pin Grid Array)構造が提
供されるようになってきた。このPGAを有するLSI
によれば、複数のピンはパッケージの周囲からではな
く、全面から取り出されるので、ピンを実装基板に挿入
して実装することにより、QFPのように余分な面積を
占有することがなくなる。
【0005】しかしながら、このPGAは実装基板に面
実装する場合に、複数のピンを実装基板に挿入する必要
があるので、実装基板の片面しか部品実装に利用できな
いため、実装基板の利用率が悪いという欠点がある。
【0006】このため、さらにピンに代えてバンプ電極
のようなボール状電極を用いるようにした、BGA(B
all Grid Array)構造が提供されるよう
になってきた。このようなBGAは実装基板に面実装す
る場合に、複数のボール状電極を実装基板に挿入する必
要がないので、実装基板の両面を部品実装に利用できる
ようになるため、実装基板の利用率が向上するようにな
り、高密度実装に適するようになる。ボール状電極とし
ては、一般に半田バンプ電極が用いられて、複数のボー
ル状電極は実装基板の対応した導電層に半田付けされる
ようになっている。
【0007】このようなBGAに関する技術は、例えば
日経BP社発行、「日経エレクトロニクス」、1994
年、2−14号、P59〜P73、あるいは同誌、19
94年、2−28号、P111〜P117などに、詳細
に記載されている。
【0008】このようなBGAを有するLSIにおい
て、パッケージは、ガラスエポキシ、BT樹脂、セラミ
ックスなどからなるベース基板に半導体チップがフェー
スアップボンディングあるいはフェースダウンボンディ
ングされて、全体がエポキシ樹脂あるいはキャップなど
によって封止されている。一方、LSIが面実装される
実装基板の材料としては、ガラスエポキシ、紙エポキ
シ、ベークライトなどが用いられている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】前記のようなBGAを
有するLSIを実装基板に面実装した場合、パッケージ
のベース基板の材料と実装基板の材料との熱膨張率の相
違により、時間の経過につれて、パッケージの底面に配
置されているボール状電極がクラックするという問題が
ある。
【0010】すなわち、LSIの動作中に熱が発生した
り、あるいは周囲温度が上昇したりすると、これらの温
度変化の繰り返しによって、ベース基板と実装基板間の
熱膨張率の差に基づいて生ずる歪が、ボール状電極の半
田接続部に集中するようになるため、この半田接続部が
疲労破断するようになる。これは、より高密度実装を図
るためにパッケージのサイズを大きくするほど著しくな
り、実装信頼性を低下させることになる。
【0011】このようにボール状電極の半田接続部がク
ラックする現象は、実装基板に実装された半導体装置に
対して温度サイクル試験を施すことにより、容易に確認
することができる。
【0012】そのような不都合を解決するには、ボール
状電極の半田接続部の面積を制限することによって受け
る歪を軽減させることが考えられるが、これはボール状
電極の数を制限することになるので、実装密度の低下に
結びつくため好ましくない。
【0013】本発明の目的は、パッケージのベース基板
と実装基板との熱膨脹率が異なっていても、ボール状電
極のクラックを防止することが可能な技術を提供するこ
とにある。
【0014】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。
【0015】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば下
記の通りである。
【0016】(1)本発明の半導体装置は、半導体チッ
プを封止しているパッケージの底面に複数のボール状電
極が配置され、これら複数のボール状電極が実装基板に
接続されることにより面実装される半導体装置であっ
て、前記ボール状電極が接続される前記実装基板の位置
には柔軟性を有する導電体が設けられて、この導電体に
ボール状電極が圧着されている。
【0017】(2)本発明の電子装置は、半導体チップ
を封止しているパッケージの底面に複数のボール状電極
が配置された半導体装置が、予め柔軟性を有する複数の
導電体を設けた実装基板に前記ボール状電極を前記導電
体に圧着することにより面実装され、この半導体装置を
面実装した実装基板が複数枚モジュール基板に搭載され
ている。
【0018】上述した(1)の手段によれば、本発明の
半導体装置は、半導体チップを封止しているパッケージ
の底面に複数のボール状電極が配置され、これら複数の
ボール状電極が実装基板に接続されることにより面実装
される半導体装置であって、前記ボール状電極が接続さ
れる前記実装基板の位置には柔軟性を有する導電体が設
けられて、この導電体にボール状電極が圧着されている
ので、パッケージのベース基板と実装基板との熱膨脹率
が異なっていても、ボール状電極のクラックを防止する
ことが可能となる。
【0019】上述した(2)の手段によれば、本発明の
電子装置は、半導体チップを封止しているパッケージの
底面に複数のボール状電極が配置された半導体装置が、
予め柔軟性を有する複数の導電体を設けた実装基板に前
記ボール状電極を前記導電体に圧着することにより面実
装され、この半導体装置を面実装した実装基板が複数枚
モジュール基板に搭載されているので、パッケージのベ
ース基板と実装基板との熱膨脹率が異なっていても、ボ
ール状電極のクラックを防止することが可能となる。
【0020】以下、本発明について、図面を参照して実
施形態とともに詳細に説明する。
【0021】なお、実施形態を説明するための全図にお
いて、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰
り返しの説明は省略する。
【0022】
【発明の実施の形態】
(実施形態1)図1は本発明の実施形態1による半導体
装置を示す平面図、図2は図1のA−A断面図で、LS
Iに適用した例で示している。本実施形態の半導体装置
1は、例えばガラスエポキシ、BT樹脂、セラミックス
などからなるベース基板2の表面に半導体チップ3がシ
リコーン樹脂などの接着剤8を介してフェースアップボ
ンディングされるとともに、半導体チップ3の周囲には
ベース基板2と同様な材料からなる内側が階段状に形成
された枠体4が同様な接着剤8を介して取り付けられて
いる。半導体チップ3の表面には複数のパッド電極5が
設けられ、半導体チップ3の各パッド電極5と各導電層
6との間には、例えばAuからなるワイヤ7がボンディ
ングされている。
【0023】枠体4の上面には例えばAlなどからなる
板状のキャップ9が、シリコーン樹脂のような接着剤8
を介して取り付けられている。これによって、ベース基
板2、枠体4およびキャップ9はパッケージ10を構成
して、半導体チップ3を封止している。
【0024】パッケージ10のベース基板2の底面には
複数の半田バンプ電極からなるボール状電極11が配置
されている。各ボール状電極11は、予めベース基板2
の裏面の所望位置にAuなどからなる導電層12を形成
しておいて、これに半田バンプ電極をソルダリングする
ことにより形成される。ベース基板2にはスルーホール
(図示せず)が設けられており、表面側の各導電層6と
底面側の各導電層12とはスルーホール配線を介して導
通している。
【0025】例えばガラスエポキシ、紙エポキシ、ベー
クライトなどからなる実装基板13の表面の、前記複数
のボール状電極11に対向した位置には例えばエポキシ
樹脂、ポリイミド樹脂などの樹脂材料に、例えばAg、
Alなどの導電材料が含有されて形成された柔軟性を有
する導電体14が設けられている。この導電体14は、
パッケージ10の実装時ボール状電極11が圧着された
とき、容易に変形する程度の柔軟性を有するものが用い
られる。
【0026】パッケージ10のベース基板2の周辺部の
例えば4箇所には、およびこれに対応した実装基板の4
箇所には、各々孔15、16が開口されており、各孔1
5、16にはボルト17が挿通されてその先端がナット
18で固定されている。これにより、ベース基板2は実
装基板13に係合されるようになって、パッケージ10
は実装基板13に面実装されて、複数のボール状電極1
1と複数の柔軟性を有する導電体14との対応したもの
同志が圧着されている。
【0027】図3に図2のA部分の拡大構造を示すよう
に、各柔軟性を有する導電体14は、圧着時の各ボール
状電極11による圧力によって押圧されてほぼ中央部が
凹むように変形する。これにより各ボール状電極11と
各柔軟性を有する導電体14との導通がとられる。しか
しながら、本実施形態においては、従来例に比較して、
各ボール状電極11と各柔軟性を有する導電体14とは
単に圧着されているだけであり、従来のように半田溶融
による接続ではない点が異なっている。
【0028】次に、本実施形態の半導体装置の製造方法
を、図4乃至図9を参照して工程順に説明する。
【0029】まず、図4に示すように、例えばガラスエ
ポキシ、BT樹脂、セラミックスなどからなるベース基
板2を用いて、この表面に半導体チップ3をシリコーン
樹脂などの接着剤8を介してフェースアップボンディン
グする。ベース基板2の表面および底面の所望位置には
予めAuなどからなる導電層6、12が形成されてい
て、各導電層6、12の対応したもの同志はスルーホー
ル配線を介して導通しているものとする。また、ベース
基板2の周辺部の4箇所には孔15が開口されているも
のとする。
【0030】次に、図5に示すように、ベース基板2と
同様な材料からなる内側が階段状に形成された枠体4を
用いて、ベース基板2の表面の半導体チップ3の周囲に
シリコーン樹脂などの接着剤8を介して取り付ける。枠
体4の内側の所望位置には予めAuなどからなる導電層
6が形成されているものとする。続いて、半導体チップ
3の表面に形成されている複数のパッド電極5と、ベー
ス基板2あるいは枠体4に形成されている導電層6との
間の対応するもの同士を、Auのようなワイヤ7によっ
てボンディングする。
【0031】次に、図6に示すように、例えばAlなど
からなる板状のキャップ9を用いて、枠体4の上面にシ
リコーン樹脂などの接着剤8を介して取り付けて、ベー
ス基板2、枠体4およびキャップ3からなるパッケージ
10を構成して半導体チップ3を封止する。
【0032】続いて、図7に示すように、パッケージ1
0のベース基板2の底面に形成されている導電層12に
半田バンプ電極からなるボール状電極11を供給して、
パッケージ10をソルダー炉を通過させることにより、
ボール状電極11をソルダリングにより形成する。ボー
ル状電極11の供給は、予めボール状電極11(一例と
して直径700〜800μmの半田バンプ電極)を用意
して、このボール状電極11あるいは導電層12のいず
れか一方側にフラックスを塗布しておくことにより、ボ
ール状電極11はこのフラックスにより保持された状態
でソルダー炉に送られる。
【0033】次に、図8に示すように、前記複数のボー
ル状電極11に対向した表面の位置に柔軟性を有する導
電体14が設けられ、パッケージ10のベース基板2の
周囲部の孔15に対応した位置に孔16が開口された、
例えばガラスエポキシ、紙エポキシ、ベークライトなど
からなる実装基板13を用いて、上方にパッケージ10
を配置する。次に、ベース基板2および実装基板13の
各孔15、16にボルト17を挿通し、先端をナット1
8で固定することにより、ベース基板2を実装基板13
に係合する。これにより、図1および図2にに示したよ
うに、ベース基板2の底面の複数のボール状電極11
と、実装基板13の表面の複数の柔軟性を有する導電体
14との対応したもの同志は圧着されて、パッケージ1
0は実装基板13に面実装される。
【0034】柔軟性を有する導電体14としては、例え
ばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂にAg、Alのような
導電材料が含有されたものを用いることができる。図9
はこのような柔軟性を有する導電体14の形成方法を説
明するもので、一例としてスクリーン印刷法によって形
成する。
【0035】まず、図9(a)に示すように、所望部の
みに開口20を有し他部はレジスト21でマスクされた
スクリーンマスク22を用いて、実装基板13の表面を
覆うようにする。次に、図9(b)に示すように、エポ
キシ樹脂のような絶縁材料にAg粉末のような導電材料
を含有させた導電性ペースト23をスクリーンマスク2
2上に供給した後、スキージ24により導電性ペースト
23を押し付けながら矢印方向に移動させて、開口20
を通じて導電性ペースト23を実装基板13の表面の所
望位置に塗布する。続いて、スクリーンマスク22を除
去した後、実装基板13の熱処理を行うことにより、図
9(c)に示すように、導電性ペースト23が乾燥して
柔軟性を有する導電体14が形成される。この場合、柔
軟性を有する導電体14の膜厚tはほぼスクリーンマス
ク22の厚さTによって調整することが可能である。
【0036】以上のような実施形態1によれば次のよう
な効果が得られる。
【0037】パッケージ10のベース基板2を、ボルト
17とナット18とからなる係合手段を介して実装基板
13に係合することにより、ベース基板2の底面に配置
した複数のボール状電極11を実装基板13の表面の複
数の柔軟性を有する導電体14に圧着するようにしたの
で、LSIの動作中に温度変化の繰り返しによって、ベ
ース基板2と実装基板13間の熱膨張率の差に基づいて
歪みが生じても、この歪みは圧着部分によって吸収され
るようになる。従って、パッケージ10のベース基板2
と実装基板13との熱膨脹率が異なっていても、ボール
状電極11のクラックを防止することが可能となる。
【0038】(実施形態2)図10は本発明の実施形態
2による半導体装置を示す断面図で、パッケージ10の
ベース基板2を実装基板13に係合する係合手段とし
て、板バネを用いるようにした例を示すものである。
【0039】すなわち、本実施形態の半導体装置1は、
パッケージ10のベース基板2の周囲部の4個所に各
々、先端に屈曲部25を有する板バネ26を設けるとと
もに、対応した実装基板13の所望位置には孔16を開
口するようにしたものである。
【0040】パッケージ10を実装基板13に面実装す
る場合は、ベース基板の板バネ26の屈曲部25を屈曲
した状態で、実装基板13の対応した孔16に挿入する
ことにより、挿入後に屈曲部25がバネ力により広がる
ので、ベース基板2は実装基板13に係合される。
【0041】以上のような実施形態2によっても、係合
手段の構成が異なるだけで実施形態1と同様な作用が行
われるので、実施形態1と同様な効果を得ることができ
る。
【0042】(実施形態3)図11は本発明の実施形態
3による電子装置を示す断面図で、実施形態1による半
導体装置1を面実装した実装基板13を複数枚用いて、
共通のモジュール基板27に搭載して、コンピュータの
ような電子装置に適用した例を示すものである。
【0043】各実装基板13の両面には半導体装置1と
ともに、抵抗、キャパシタ、インダクタのような周辺回
路を構成する回路部品28が実装されて、各実装基板1
3はコネクタ29を介してモジュール基板27に搭載さ
れて、電子装置30が構成される。
【0044】以上のような実施形態3によれば、パッケ
ージ10の底面に配置された複数のボール状電極11の
クラック防止が図られた半導体装置1が用いられて電子
装置30が構成されているので、信頼性の高い電子装置
を実現することが可能となる。
【0045】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、
前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論で
ある。
【0046】例えば、前記実施形態では、実装基板に設
ける柔軟性を有する導電体の構成は一例を示したもので
あり、これに限らずAu、Pb、Sn、Pb−Sn系合
金、Inのように比較的柔らかい金属材料を用いて構成
することも可能である。
【0047】また、前記実施形態では、ベース基板に対
して半導体チップをフェースアップボンディングする例
で説明したが、これに限らずフェースダウンボンディン
グする場合にも同様に適用することができる。
【0048】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるBGA
を有する半導体装置に適用した場合について説明した
が、それに限定されるものではない。本発明は、少なく
とも相互に導通をとる両導電体を圧着により接続して歪
みの影響を避けることを条件とするものには適用できる
【0049】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。
【0050】半導体チップを封止しているパッケージの
底面に配置された複数のボール状電極が接続される実装
基板の位置に柔軟性を有する導電体を設けるようにし
て、この導電体にボール状電極を圧着するようにしたの
で、パッケージのベース基板と実装基板との熱膨脹率が
異なっていても、ボール状電極のクラックを防止するこ
とが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1による半導体装置を示す平
面図である。
【図2】図1のA−A断面図である。
【図3】図2のA部分の拡大構造を示す断面図である。
【図4】本発明の実施形態1による半導体装置の製造方
法の一工程を示す断面図である。
【図5】本発明の実施形態1による半導体装置の製造方
法の他の工程を示す断面図である。
【図6】本発明の実施形態1による半導体装置の製造方
法のその他の工程を示す断面図である。
【図7】本発明の実施形態1による半導体装置の製造方
法のその他の工程を示す断面図である。
【図8】本発明の実施形態1による半導体装置の製造方
法のその他の工程を示す断面図である。
【図9】本発明の実施形態1による半導体装置の製造方
法のその他の工程を示すもので、(a)乃至(c)は断
面図である。
【図10】本発明の実施形態2による半導体装置を示す
断面図である。
【図11】本発明の実施形態3による電子装置を示す断
面図である。
【符号の説明】
1…半導体装置、2…ベース基板、3…半導体チップ、
4…枠体、5…パッド電極、6、12…導電層、、7…
ボンディングワイヤ、8…接着剤、9…キャップ、10
…パッケージ、11…ボール状電極、13…実装基板、
14…柔軟性を有する導電体、15、16…孔、17…
ボルト、18…ナット、20…開口、21…レジスト、
22…スクリーンマスク、23…導電性ペースト、24
…スキージ、25…屈曲部、26…板バネ、27…モジ
ュール基板、28…回路部品、29…コネクタ、30…
電子装置。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップを封止しているパッケージ
    の底面に複数のボール状電極が配置され、これら複数の
    ボール状電極が実装基板に接続されることにより面実装
    される半導体装置であって、前記ボール状電極が接続さ
    れる前記実装基板の位置には柔軟性を有する導電体が設
    けられて、この導電体にボール状電極が圧着されること
    を特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記パッケージおよび実装基板の各々の
    周辺部を係合手段を介して係合させて、前記ボール状電
    極を前記導電体に圧着することを特徴とする請求項1に
    記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記係合手段は、ボルトを用いることを
    特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記柔軟性を有する導電体は、導電材料
    を含有する樹脂材料からなることを特徴とする請求項1
    乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 半導体チップを封止しているパッケージ
    の底面に複数のボール状電極が配置された半導体装置
    が、予め柔軟性を有する複数の導電体を設けた実装基板
    に前記ボール状電極を前記導電体に圧着することにより
    面実装され、この半導体装置を面実装した実装基板が複
    数枚モジュール基板に搭載されることを特徴とする電子
    装置。
  6. 【請求項6】 前記パッケージおよび実装基板の各々の
    周辺部を係合手段を介して係合させて、前記ボール状電
    極を前記導電体に圧着することを特徴とする請求項5に
    記載の電子装置。
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