JPH09128836A

JPH09128836A - 磁場校正用ディスク

Info

Publication number: JPH09128836A
Application number: JP7284183A
Authority: JP
Inventors: Yoshihiro Akimoto; 義浩秋元
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1995-10-31
Filing date: 1995-10-31
Publication date: 1997-05-16

Abstract

(57)【要約】【課題】光磁気ディスクのような磁気記録媒体の評価
装置や検査装置の磁場校正を、簡単且つ正確に行えるよ
うにする。【解決手段】磁場校正に、ディスク基板１に磁気セン
サ２が埋設された磁場校正用ディスクＤを用いる。ここ
で、ディスク基板１は、反射膜を有していることが好ま
しい。また、磁気センサ２としては、ホール素子や磁気
抵抗効果素子を用いたものが好適である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気ディスクの
ような磁気記録媒体の評価装置や検査装置の磁場校正
を、簡単且つ正確に行うことを可能とする新規な磁場校
正用ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】光磁気ディスクのような磁気記録媒体の
評価を行う評価装置、或いは検査を行う検査装置は、通
常、磁場を発生させて、実際に磁気記録媒体に対して記
録や消去を行い、これによって磁気記録媒体の評価や検
査を行う。

【０００３】ここで、磁気記録媒体を正しく評価又は検
査するためには、当然の事ながら、評価装置や検査装置
による磁場が、正確に所定の大きさとなっている必要が
ある。そこで、一般に、評価装置や検査装置は、磁気記
録媒体の評価や検査を行う前に磁場校正を行う必要があ
る。すなわち、評価装置や検査装置は、磁気記録媒体の
評価や検査を行う前に、評価装置や検査装置による磁場
の大きさを測定し、もし、この磁場が所定の大きさにな
っていなければ、所定の大きさとなるように調整しなけ
ればならない。

【０００４】以下、このような磁場校正の従来の方法に
ついて、光磁気ディスクの評価を行う光磁気ディスク評
価装置を例にして説明する。なお、ここでは評価装置を
例にして説明するが、磁場校正は検査装置についても評
価装置と同様に行われる。

【０００５】被評価対象の光磁気ディスクは、磁気光学
効果を有する希土類遷移金属非晶質合金薄膜等からなる
記録層が円盤状の透明な基板上に形成され、更に記録層
を覆うように保護層が形成された磁気記録媒体であり、
光磁気ディスクへの記録は、基板側から記録層にレーザ
光を照射するとともに、保護層側から記録層に磁界を印
加することによって行われる。

【０００６】そして、このような光磁気ディスクの評価
を行う光磁気ディスク評価装置は、図４に示すように、
被評価対象の光磁気ディスク１００に対して記録や消去
ができるように、記録及び消去用の磁石１０１と、上記
磁石１０１と対向するように配された光学ピックアップ
１０２とを備えている。

【０００７】そして、この光磁気ディスク評価装置で
は、被評価対象の光磁気ディスク１００に対して実際に
記録や消去を行い、これによって光磁気ディスク１００
の評価を行う。ここで、光磁気ディスク１００に対する
記録や消去は、磁石１０１によって光磁気ディスク１０
０に対して磁場Ｂ１を印加すると共に、光学ピックアッ
プ１０２から記録層１００ｂ上で焦点を結ぶようにレー
ザ光Ｌ１を照射することによって行われる。このとき、
磁石１０１による磁場Ｂ１は、光磁気ディスク１００の
保護層１００ａの側から印加され、光学ピックアップ１
０２からのレーザ光Ｌ１は、光磁気ディスク１００の基
板１００ｃの側から照射される。

【０００８】このような光磁気ディスク評価装置の磁場
校正は、図５に示すように、磁場測定用の磁気センサで
あるガウスメータ１１０によって、磁石１０１による磁
場Ｂ１の大きさを測定して行う。ここで、磁石１０１に
よる磁場Ｂ１の大きさは、当然の事ながら、場所によっ
て大きく異なる。そして、磁場校正において測定すべき
磁場Ｂ１の大きさは、光磁気ディスク１００に対して記
録や消去を行うときに記録層１００ｂに印加される磁場
Ｂ１の大きさである。したがって、ガウスメータ１１０
で磁石１０１による磁場Ｂ１の大きさを測定する際は、
光磁気ディスク１００に対して記録や消去を行ったとき
に記録層１００ｂ上で光学ピックアップ１０２からのレ
ーザ光Ｌ１が焦点を結ぶ位置に、ガウスメータ１１０の
センサ部１１１が来るようにガウスメータ１１０を配す
る必要がある。

【０００９】そこで、従来の磁場校正においては、ガウ
スメータ１１０をＸ-Ｙ-Ｚステージ等に取り付け、これ
により、光学ピックアップ１０２からのレーザ光Ｌ１が
焦点を結ぶ位置にガウスメータ１１０のセンサ部１１１
が来るように、ガウスメータ１１０を移動させた上で、
磁石１０１による磁場Ｂ１の大きさを測定していた。

【００１０】ここで、光学ピックアップ１０２からのレ
ーザ光Ｌ１が焦点を結ぶ位置は、通常、磁石１０１の中
心軸上となる。したがって、換言すれば、従来の磁場校
正においては、センサ部１１１の位置が、光磁気ディス
ク１００の記録層１００ｂと同じ高さ、且つ磁石１０１
の中心軸上となるように、Ｘ-Ｙ-Ｚステージ等によって
ガウスメータ１１０の位置を調整した上で、磁石１０１
による磁場Ｂ１の大きさを測定していた。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のよう
に、ガウスメータ１１０をＸ-Ｙ-Ｚステージ等に取り付
けて移動させることによってセンサ部１１１の位置を調
整する方法では、ガウスメータ１１０の位置決めに非常
に時間がかかってしまい、効率良く磁場校正を行うこと
ができなかった。

【００１２】しかも、このような方法では、ガウスメー
タ１１０のセンサ部１１１の位置を、光磁気ディスク１
００の記録層１００ｂと同じ高さ、且つ磁石１０１の中
心軸上となるように正確に合わせることは非常に困難で
あり、そのため、従来の方法では正確な磁場校正は望め
なかった。すなわち、従来の方法では、ガウスメータ１
１０のセンサ部１１１の位置を正確に定めることができ
ないため、ガウスメータ１１０によって測定された磁石
１０１による磁場Ｂ１の大きさの値、すなわち磁場Ｂ１
の校正値にばらつきが生じてしまい、そのために、正確
な磁場校正ができなかった。

【００１３】本発明は、このような従来の実情に鑑みて
提案されたものであり、磁気記録媒体の評価装置や検査
装置の磁場校正を、簡単且つ正確に行うことを可能とす
ることを目的としている。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上述の目的
を達成するために研究を重ねた結果、ディスク基板に磁
気センサが埋設された磁場校正用ディスクを発明した。
ここで、ディスク基板は、反射膜を有していた方が好ま
しい。また、磁気センサとしては、ホール素子や磁気抵
抗効果素子を用いた磁気センサが好適である。

【００１５】このような磁場校正用ディスクを用いれ
ば、検査装置や評価装置の磁場校正を容易且つ正確に行
うことができる。すなわち、検査装置や評価装置の磁場
校正を行う際に、検査装置や評価装置に光磁気ディスク
をセットするときと同様に、本発明に係る磁場校正用デ
ィスクを検査装置や評価装置にセットするだけで、磁場
測定をすべき所定の位置に磁気センサを配することが可
能となる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した具体的な
実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明す
る。なお、本発明は以下の例に限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、形状や材質等を
任意に変更することが可能であることは言うまでもな
い。

【００１７】本実施の形態に係る磁場校正用ディスク
は、光磁気ディスクの評価を行う評価装置や、光磁気デ
ィスクの検査を行う検査装置等の磁場校正に用いられる
磁場校正用ディスクである。

【００１８】図１に示すように、本実施の形態に係る磁
場校正用ディスクＤは、評価や検査の対象となる光磁気
ディスクと略同形状のディスク基板１と、ディスク基板
１に埋設された磁気センサ２とを備えている。

【００１９】ここで、ディスク基板１は、評価や検査の
対象となる光磁気ディスクと同形状の光磁気ディスクを
流用したものである。すなわち、このディスク基板１
は、円盤状の透明な基板上に記録層が形成され、更に記
録層を覆うように保護層が形成されて構成される。ここ
で、ディスク基板１の記録層は反射率が高く、後述する
ように磁場校正を行うために磁気センサ２の位置決めを
行う際に、反射膜として機能する。なお、ディスク基板
１は、このように光磁気ディスクを流用したものでなく
ても、評価や検査の対象となる光磁気ディスクと略同形
状であればよく、例えば、単板の基板だけからなるもの
であってもよい。

【００２０】そして、このディスク基板１の保護層側の
主面には、磁気センサ２を埋設するための凹部である磁
気センサ埋設部１ａが形成されている。ここで、磁気セ
ンサ埋設部１ａの深さは、磁気センサ埋設部１ａに埋設
される磁気センサ２の感磁面と、ディスク基板１の記録
層とが同一平面内となるような深さとする。具体的に
は、磁気センサ埋設部１ａの深さは、磁気センサ２の大
きさや種類によって異なるが、およそ０．１〜０．６ｍ
ｍ程度とされる。なお、このような磁気センサ埋設部１
ａのディスク径方向における位置Ｒは、特に限定される
ものではなく、自由に設定することが可能である。

【００２１】このような磁気センサ埋設部１ａに埋設さ
れた磁気センサ２は、図１中Ａの部分を拡大した図２に
示すように、板状のホール素子１０を備えており、この
ホール素子１０からは、プラス端子１１及びマイナス端
子１２、並びに一対の電圧測定用端子１３，１４が導出
されている。ここで、ホール素子１０は、ホール効果を
応用して磁場Ｂを検出する素子である。この磁気センサ
２で磁場Ｂの大きさを測定する際は、プラス端子１１及
びマイナス端子１２を直流電源に接続してホール素子１
０に直流電流Ｉを流すとともに、一対の電圧測定用端子
１３，１４をそれぞれ電圧計に接続してホール素子１０
に発生するホール電圧を測定する。すなわち、この磁気
センサ２では、ホール素子１０に発生するホール電圧の
大きさから、ホール素子１０に印加している磁場Ｂの大
きさを測定する。

【００２２】なお、ここでは磁気センサ２にホール素子
１０を用いたが、磁気センサ２は磁場の大きさを検出で
きるものであればよく、例えば、磁気抵抗効果素子を用
いたものであってもよい。磁気抵抗効果素子は、Ｎｉ合
金等からなる強磁性薄膜の磁気抵抗効果を応用した磁電
変換素子であり、磁場の大きさに応じて抵抗値が変化す
る特性を持った素子である。すなわち、磁気抵抗効果素
子を用いた磁気センサでは、磁気抵抗効果素子の抵抗値
を検出することにより、磁場の大きさが検出されること
となる。

【００２３】つぎに、以上のような磁場校正用ディスク
Ｄを用いた磁場校正における磁気センサ２の位置決めに
ついて説明する。なお、以下の説明では、光磁気ディス
ク評価装置の磁場校正を例にして説明するが、当然の事
ながら、上記磁場校正用ディスクＤを用いた磁場校正は
光磁気ディスク検査装置についても同様に行うことがで
きる。

【００２４】磁場校正用ディスクＤで光磁気ディスク評
価装置の磁場校正を行うときには、図３に示すように、
磁場校正用ディスクＤの磁気センサ２の位置が、光磁気
ディスク評価装置の光学ピックアップ２０からのレーザ
光Ｌが焦点を結ぶ位置となるようにしなければならな
い。換言すれば、磁場校正用ディスクＤの磁気センサ２
の位置は、光磁気ディスク評価装置に被評価対象の光磁
気ディスクをセットしたときに、被評価対象の光磁気デ
ィスクの記録層が来る高さとなり、且つ、光磁気ディス
ク評価装置の記録及び消去用の磁石２１の中心軸上に一
致するようしなければならない。

【００２５】そして、このような磁気センサ２の位置決
めを行う際は、先ず、第１の操作として、光磁気ディス
ク評価装置に被評価対象の光磁気ディスクをセットする
ときと同様に、光磁気ディスク評価装置のスピンドル台
に上記磁場校正用ディスクＤをセットし固定する。ここ
で、磁場校正用ディスクＤの磁気センサ２の感磁面は、
記録層と同一平面内とされているので、磁気センサ２の
高さ方向の位置調整は、このように磁場校正用ディスク
Ｄをスピンドル台に固定するだけで完了したこととな
る。

【００２６】次に、第２の操作として、磁場校正用ディ
スクＤのディスク径方向にスピンドル台を移動させ、磁
気センサ２のディスク径方向の位置と、磁石２１の中心
軸のディスク径方向の位置とを一致させる。

【００２７】ここで、通常の光磁気ディスク評価装置
は、被評価対象の光磁気ディスクのディスク径方向の位
置をスピンドル台の位置によって把握できるように、マ
グネスケール等が付属されている。そこで、磁気センサ
２のディスク径方向の位置と、磁石２１の中心軸のディ
スク径方向の位置とを一致させるには、磁気センサ２の
ディスク径方向の位置を予め測定しておき、光磁気ディ
スク評価装置に付属されているマグネスケール等を参照
しながら、磁気センサ２のディスク径方向の位置と、磁
石２１の中心軸のディスク径方向の位置とが一致するよ
うにスピンドル台を移動すればよい。このように光磁気
ディスク評価装置に付属しているマグネスケール等を利
用することにより、磁気センサ２のディスク径方向の位
置決めを非常に容易に行うことができる。

【００２８】なお、光磁気ディスク評価装置が、このよ
うなマグネスケール等を備えていない場合には、このよ
うな機能を光磁気ディスク評価装置に増設した方が好ま
しいことは言うまでもない。

【００２９】次に、第３の操作として、磁場校正用ディ
スクＤを回転させ、磁気センサ２のディスク周方向の位
置と、磁石２１の中心軸のディスク周方向の位置とを一
致させる。このとき、磁気センサ２のディスク径方向の
位置と、磁石２１の中心軸のディスク径方向の位置と
は、既に第２の操作によって一致しているので、この第
３の操作により、磁気センサ２の位置と、磁石２１の中
心軸とが完全に一致することとなる。

【００３０】ここで、磁場校正用ディスクＤのディスク
基板１は、上述したように反射膜として機能する反射率
の高い記録層を備えているので、磁場校正用ディスクＤ
は、磁気センサ２の部分の反射率が低くなっており、そ
の他の部分の反射率は高くなっている。したがって、磁
気センサ２のディスク周方向の位置と、磁石２１の中心
軸のディスク周方向の位置とを一致させるには、例え
ば、光学ピックアップ２０からレーザ光Ｌを磁場校正用
ディスクＤに照射して、その反射光の強度をディテクタ
等によって検出しながら、磁場校正用ディスクＤを回転
させて行えばよい。すなわち、磁場校正用ディスクＤか
らの反射光強度は、磁気センサ２の部分で変化するの
で、磁場校正用ディスクＤからの反射光強度が変化する
位置を検出することにより、磁気センサ２のディスク周
方向の位置を容易に把握することができる。

【００３１】なお、このような磁場校正用ディスクＤの
回転は、例えば、磁気センサ２のディスク周方向の位置
と、磁石２１の中心軸のディスク周方向の位置とが一致
する辺りで、磁場校正用ディスクＤに手を添えて回すこ
とによって行ってもよいし、或いは、低回転数でスピン
ドルモータを回転させることによって行ってもよい。

【００３２】以上の操作により、磁場校正用ディスクＤ
の磁気センサ２の位置決めが完了する。すなわち、第１
の操作により、磁場校正用ディスクＤの磁気センサ２の
高さが、光磁気ディスク評価装置に被評価対象の光磁気
ディスクをセットしたときに、被評価対象の光磁気ディ
スクの記録層が来る高さに一致し、また、第２の操作及
び第３の操作により、磁場校正用ディスクＤの磁気セン
サ２の位置が、光磁気ディスク評価装置の磁石２１の中
心軸に一致する。

【００３３】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る磁場校正用ディスクでは、磁気記録媒体の評価装
置や検査装置の磁場校正を行う際に、磁気センサの位置
決めを非常に容易且つ正確に行うことができる。

【００３４】したがって、本発明によれば、非常に短時
間に、しかも非常に正確に磁場校正を行うことができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁場校正用ディスクの一例を
示す斜視図である。

【図２】図１に示した磁場校正用ディスクの磁気センサ
近傍を拡大して示す斜視図である。

【図３】図１に示した磁場校正用ディスクを用いた磁場
校正の様子を示す模式図である。

【図４】光磁気ディスク評価装置の一例を示す模式図で
ある。

【図５】従来の磁場校正の様子を示す模式図である。

【符号の説明】

Ｄ磁場校正用ディスク１ディスク基板１ａ磁気センサ埋設部２磁気センサ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ディスク基板に磁気センサが埋設された
磁場校正用ディスク。
【請求項２】前記ディスク基板が反射膜を有している
ことを特徴とする請求項１記載の磁場校正用ディスク。
【請求項３】前記磁気センサがホール素子を使用して
いることを特徴とする請求項１記載の磁場校正用ディス
ク。
【請求項４】前記磁気センサが磁気抵抗効果素子を使
用していることを特徴とする請求項１記載の磁場校正用
ディスク。