JPH09128814A - 光カード原版及びその製造方法並びに光カード - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 単純な工程で作製できる光カード原版を提供
する。 【解決手段】 光透過性基材上における複製後の光カー
ドのプリフォーマット部に対応する領域に、光ピックア
ップのレーザースポット径Ｓより小さなドットのパター
ンで形成された金属膜１３を設ける。ここからの反射光
はそれぞれ散乱光の総和となるため結果として光量が低
下するので、良好なコントラストを得ることができる。
この光カード原版は、光透過性基材上に形成した金属膜
の上にＥＢ描画用のレジスト層を形成し、このレジスト
層をＥＢ描画により市松模様で描画し、現像工程を経て
から金属膜をエッチングしてレジスト層を剥離するとい
う簡単な工程で製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＤＲＡＷ型の光カ
ードを複製するのに使用される光カード原版及びその製
造方法に係り、さらにはその光カード原版によって作製
される光カードに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、種々の目的に応じて様々なカード
が発行されており、一人が何枚も携帯するほどカードは
一般に広く普及してきている。その中でも大容量のカー
ドとして最も注目されているものの一つに光カードがあ
る。この光カードとしては、読み出し専用タイプのＲＯ
Ｍ型と追記型のＤＲＡＷ型が提案されており、それぞれ
現在ＩＳＯにおいて規格化がなされつつある。

【０００３】図１にＤＲＡＷ型光カードの一例を示す。
同図において１は光記録領域、２は光記録領域１の中で
右側に位置するトラックＩＤである。光記録領域１には
記録・再生時に基準となるトラッキングガイドがカード
長辺と平行にプリフォーマットされ、光記録領域１はこ
のトラッキングガイドに挟まれるデータトラックを備え
ている。また、トラックＩＤ２には図２に拡大して示す
ように読み取り／書き込み装置へカードを認識させるた
めのＩＤデータ３と、光ピックアップをデータトラック
に追従させるためのトラッキングガイド４が光記録領域
のトラッキングガイドを延長した状態で予めプリフォー
マットされている。そして、これら光記録領域１とトラ
ックＩＤのプリフォーマット部は、データトラックとは
異なる反射率で形成されており、光ピックアップに対し
反射光強度の増減によりその存在を認識させるようにな
っている。

【０００４】プリフォーマット部の形態は大きく２つに
分類される。一つはコンパクトディスク等に利用されて
いるプッシュプル方式である。これはプリフォーマット
部の成形高さを或る範囲、例えば光ピックアップの光源
波長の１／８程度とし、光の波長レベルで高精度に形成
することによって機能を達成していることから、干渉現
象を利用しているとされている。もう一つはプリフォー
マット部分を黒化する方式である。この黒化方式は、プ
ッシュプル方式に比べて製造管理が緩い条件であっても
光ピックアップへの認識という点で高品質のプリフォー
マットを提供できる点でメリットがある。プリフォーマ
ット部分を黒化するには光吸収材をパターニングする方
法が考えられるが、製品を安価に提供するため、一般的
にはコンパクトディスクのような光メモリ同様、光カー
ドも複製用原版から成形等の手法で光記録基板が大量複
製されており、この複製用原版の作成方法として、粗面
化原版を使用する方法が知られている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、粗面化
原版はその製造工程が複雑である（例えば、特開平１−
１０５７９１号公報参照）。すなわち、金属でパターニ
ングされたガラス板にＥＢ（電子ビーム）レジスト層を
形成し、バック露光する工程と同時にスリガラスにより
粗面化する工程を伴っていた。このため不良が発生する
こともあり、工程の単純化が望まれていた。

【０００６】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たものであり、その目的とするところは、単純な工程で
作製できる光カード原版及びその製造方法を提供し、併
せてその光カード原版を使用して作製される光カードを
提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の光カード原版は、光透過性基材上における
複製後の光カードのプリフォーマット部に対応する領域
に、光ピックアップのレーザースポット径より小さなド
ットのパターンで形成された金属膜が設けられてなるこ
とを特徴としており、この構成の光カード原版は、光透
過性基材上に金属膜を形成し、さらにその上にＥＢ描画
用のレジスト層を形成した後、光カードのプリフォーマ
ット部に対応する領域をＥＢ描画によって光ピックアッ
プのレーザースポット径より小さなドットのパターンで
描画し、現像工程を経てから金属膜をエッチングした
後、レジスト層を剥離することにより製造される。な
お、前記ドットのパターンの代表的なものとしては市松
模様が挙げられる。

【０００８】そして、上記構成の光カード原版を使用す
ることにより、低反射率部分と高反射率部分のパターン
からなるプリフォーマット部を有し、当該プリフォーマ
ット部の低反射率部分が光ピックアップのレーザースポ
ット径より小さなドットのパターンで形成されてなる光
カードが作製される。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照しながら説明する。

【００１０】図３は本発明の一実施形態としての光カー
ド原版を示すもので、複製後の光カードのトラックＩＤ
に対応する領域の一部を拡大して示すパターン図であ
る。図中１１はトラッキングガイド、１２はデータトラ
ックに対応して形成されたＩＤデータである。そして、
光記録領域のトラッキングガイドを含めこれらのプリフ
ォーマット部は、図示の如く、ガラス基板上において金
属膜１３（斜線部）がレーザースポット径Ｓより小さな
ドットパターンで市松模様にパターニングされることで
形成されている。

【００１１】このように、用いられる光ピックアップの
レーザースポット径Ｓより小さなドットパターンを構成
単位とすることで、ここからの反射光はそれぞれの散乱
光の総和となるため結果として光量が低下する。すなわ
ち、金属膜１３のドットの寸法が微小なことから、例え
ばウェットな製造プロセスを採った場合、出来上がった
金属膜１３のドットの断面は通常完全な矩形を呈せずな
だらかな形状となり、図４の断面図に示すように、垂直
入射した光はそれぞれのドットのエッジ及び傾斜面によ
って入射角以外の方向へ反射される。

【００１２】ドットの断面形状はプロセス条件によりあ
る程度希望の形に制御できる。したがって、従来の光デ
ィスクなどのように厳密なプリフォーマット部の深さ制
御の管理をすることなく、容易に良好なコントラストを
得ることができ、読み取り／書き込み装置への認識ミス
を著しく低く抑えることができる高性能の光カードを大
量複製によって低価格で提供することが可能となる。ま
た、原版に低膨張ガラスを採用すれば加工精度の高い原
版となり、同様に読み取り／書き込み装置への技術的、
経済的負担を軽減できる。

【００１３】次に、図５の工程図を参照して上記構成の
光カード原版の製造方法について説明する。

【００１４】まず、図５（ａ）に示すように、光透過性
基材であるガラス基板２１上にパターニングに用いる金
属をスパッタリングや真空蒸着法などの手段（図では蒸
着源ａを示す）により薄膜状に形成する。次に、図５
（ｂ）に示すように、金属膜２２上にＥＢ描画用のレジ
ストｂをスピンコートなどの手段で均一に塗布し、クリ
ーンオーブン内にて８０℃で３０分ベーク処理する。次
いで、図５（ｃ）に示すように、レジスト層２３におけ
る光カードのプリフォーマット部に対応する領域を、Ｅ
Ｂ描画装置で例えば０．５μｍ角に絞ったＥＢのドット
にて描画する。この際、通常のＩＣなどの電子部品のフ
ォトマスクのように１つの図形を連続して描画するよう
なことはせず、ＥＢ描画装置をＯＮ／ＯＦＦして市松模
様で描画を進行する。このような描画のために、パター
ンのイメージデータにソフトウェア的にＥＢ描画ドット
に対応する市松模様（チェックパターン）データを掛け
合わせて描画装置の走査制御データを生成させることが
できる。このデータの白黒は、原版の最終形態（複製回
数など）及び用いるレジストのタイプ（ポジ型又はネガ
型）を考慮して決定する。

【００１５】こうして得られたＥＢ原版を現像し、金属
膜２２をエッチングした後で不要なレジスト層２３を剥
離することにより、図５（ｄ）に示すような光カード原
版２４が得られる。この光カード原版２４はこのまま用
いても良いし、ＥＢ描画が非常に高価であるため、図５
（ｅ）のように光カード原版２４から複製による光カー
ド原版２５を大量に作製してもよい。この場合、前記し
たように最終形態を考慮してＥＢ描画用レジストのタイ
プ（ポジ型又はネガ型）を選定する。なお、ＥＢ原版の
形態の場合、基板ガラスに低膨張ガラスを選定すること
で寸法精度の変化が小さい安定した光カード原版２４を
提供することが可能となる。

【００１６】続いて、図６の工程図を参照して上記の光
カード原版から光カードを作製する手順について説明す
る。

【００１７】まず、図６（ａ）に示すように、ＰＭＭＡ
（ポルメチルメタクリレート）、ＰＣ（ポリカーボネイ
ト）等の光透過性の基材３１に、例えば電離性放射線硬
化樹脂或いは熱硬化樹脂などの成形樹脂からなる型取り
剤３２を積層し、先に作製した光カード原版２４（又は
光カード原版２５）を重ねてプレス機でプレスを行った
後、図６（ｂ）に示すように、光カード原版２４と型取
り剤３２とを剥離してから型取り剤３２を硬化させる
か、或いは型取り剤３２が硬化してから剥離することに
より、型取り剤３２に微細凹凸パターンが転写される。
これにより光記録基材３３が作製される。

【００１８】その後、図６（ｃ）に示すように、光記録
基材３３における型取り剤３２の表面に、光記録材の薄
膜を蒸着、スパッタリング或いは化学的方法等（図では
蒸着源ｃを示す）により形成し、次いで、図６（ｄ）に
示すように、光記録層３４に接着剤３５を介して塩化ビ
ニール等の基板３６を接着することで、低反射率部分と
高反射率部分のパターンからなるプリフォーマット部を
有する光カード３７を製造する。

【００１９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光カード
原版は、粗面化原版のようにバック露光や密着露光の工
程を行うことなく、光ピックアップのレーザー光を散乱
して十分なコントラストが得られる従来の粗面に相当す
る微細パターンの金属膜を一工程で簡単に形成できると
いう効果を奏する。そして、この光カード原版から作製
される光カードは、製造コストの低いものとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ＤＲＡＷ型光カードの一例を示す正面図であ
る。

【図２】図１の光カードにおけるトラックＩＤの一部分
を拡大して示すパターン図である。

【図３】本発明の一実施形態としての光カード原版を示
すもので、複製後の光カードのトラックＩＤに対応する
領域の一部を拡大して示すパターン図である。

【図４】光カード原版のパターン部分における光散乱の
状況を示す断面図である。

【図５】本発明の光カード原版の製造方法を示す工程図
である。

【図６】光カード原版から光カードを作製する手順を示
す工程図である。

【符号の説明】

１１ トラッキングガイド １２ ＩＤデータ １３ 金属膜 Ｓ レーザースポット径 ２１ ガラス基板（光透過性基材） ２２ 金属膜 ２３ レジスト層 ２４ 光カード原版 ２５ 光カード原版（複製による） ３１ 基材 ３２ 型取り材 ３３ 光記録基材 ３４ 光記録層 ３５ 接着剤 ３６ 基板 ３７ 光カード

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光透過性基材上における複製後の光カー
   ドのプリフォーマット部に対応する領域に、光ピックア
   ップのレーザースポット径より小さなドットのパターン
   で形成された金属膜が設けられてなることを特徴とする
   光カード原版。
2. 【請求項２】 前記ドットのパターンが市松模様である
   請求項１に記載の光カード原版。
3. 【請求項３】 光透過性基材上に金属膜を形成し、さら
   にその上にＥＢ描画用のレジスト層を形成した後、光カ
   ードのプリフォーマット部に対応する領域をＥＢ描画に
   よって光ピックアップのレーザースポット径より小さな
   ドットのパターンで描画し、現像工程を経てから金属膜
   をエッチングした後、レジスト層を剥離することにより
   光カード原版を製造することを特徴とする光カード原版
   の製造方法。
4. 【請求項４】 前記ドットのパターンが市松模様である
   請求項３に記載の光カード原版の製造方法。
5. 【請求項５】 低反射率部分と高反射率部分のパターン
   からなるプリフォーマット部を有し、そのプリフォーマ
   ット部の低反射率部分が光ピックアップのレーザースポ
   ット径より小さなドットのパターンで形成されてなるこ
   とを特徴とする光カード。
6. 【請求項６】 前記ドットのパターンが市松模様である
   請求項５に記載の光カード。