JPH09124365A - 酸素センサ素子 - Google Patents
酸素センサ素子Info
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- JPH09124365A JPH09124365A JP8214379A JP21437996A JPH09124365A JP H09124365 A JPH09124365 A JP H09124365A JP 8214379 A JP8214379 A JP 8214379A JP 21437996 A JP21437996 A JP 21437996A JP H09124365 A JPH09124365 A JP H09124365A
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Abstract
性に優れた酸素センサ素子を提供すること。 【解決手段】 C相,M相及びT相が混在する部分安定
化ジルコニア焼結体よりなる固体電解質11と,該固体
電解質11の内側面に設けた内側電極112と,外側面
に設けられ,被測定ガスにさらされる外側電極111
と,該外側電極111を被覆する多孔質の保護層13か
らなる。上記固体電解質11は20〜1000℃の温度
範囲において,その熱膨張曲線の加熱時と冷却時とにお
ける熱膨張率差Δαの最大幅が1.5×10-6/℃以下
である。
Description
用する酸素センサ素子に関する。
比制御に,後述の図3に示すごとき酸素センサが使用さ
れている。上記酸素センサに設置される酸素センサ素子
としては,後述の図2に示すごとく,固体電解質と該固
体電解質の両面に設けられた外側電極及び内側電極とよ
りなり,かつ該外側電極の外側面を被覆する保護層とよ
りなる構造の酸素センサ素子が知られている。
えば,ZrO2 −Y2 O3 系ジルコニア焼結体等が使用
されている。上記ジルコニア焼結体としては,C相(キ
ュービック相)のみよりなる完全安定化ジルコニアと,
主としてC相(キュービック相),M相(モノクリニッ
ク相)とより構成されている部分安定化ジルコニア等が
知られている。
℃)から高温(1000℃)まで安定し,経時劣化しな
い材料である。しかし,振動等の機械的衝撃に弱く,熱
的衝撃に弱く,破損しやすい材料でもある。このため,
上記固体電解質としては,通常は,部分安定化ジルコニ
アが使用されている。
化ジルコニアは,室温(20℃)から高温(1000
℃)の間において,加熱及び冷却を繰返すことにより,
M相とT相(テトラゴナル相)との間での相変態が発生
する。
張率と温度の関係を示す熱膨張曲線は,後述の図1に示
すごとく,加熱時と冷却時にて異なる。即ち,上記部分
安定化ジルコニアは,加熱時の熱膨張曲線は略直線的で
あるが,冷却時の熱膨張曲線は,やや下に凸な曲線的で
ある。即ち,上記部分安定化ジルコニアにおける熱膨張
率と温度との間の関係は,ヒステリシスを呈する。
体電解質及び電極等を保護するための保護層が設けてあ
る。上記保護層は,通常,スピネル等により形成されて
いるが,該スピネルの熱膨張曲線は,加熱時と冷却時と
が共に直線的である。
固体電解質との間の熱膨張率差が大きくなり,これによ
る応力が保護層の強度を越えてしまうおそれがある。そ
して,場合によっては,保護層に亀裂,剥離等が発生す
ることがある。
おいて亀裂,剥離が生じない,耐久性に優れた酸素セン
サ素子を提供しようとするものである。
在する部分安定化ジルコニア焼結体よりなる固体電解質
と,該固体電解質の内側面に設けた内側電極と,外側面
に設けられ,被測定ガスにさらされる外側電極と,該外
側電極を被覆する多孔質の保護層からなる酸素センサ素
子であって,上記固体電解質は20〜1000℃の温度
範囲において,その熱膨張曲線の加熱時と冷却時とにお
ける熱膨張率差Δαの最大幅が1.5×10-6/℃以下
であることを特徴とする酸素センサ素子にある。
記酸素センサ素子における固体電解質は,その熱膨張曲
線の加熱時と冷却時とにおける熱膨張率差Δαの最大幅
が1.5×10-6/℃以下である。このため,加熱時の
熱膨張曲線と,冷却時の熱膨張曲線とを比較した時,そ
の傾き,形状等が大きく異なることがない。そして,加
熱時及び冷却時の熱膨張曲線は共に,保護層の直線的に
変化する熱膨張曲線と似た傾き,形状等を有している。
熱膨張率の差が,20〜1000℃という,酸素センサ
素子の使用温度範囲内にて,大きく食い違うこともな
い。従って,上記固体電解質及び保護層との間に大きな
熱応力が働くこともなく,保護層における亀裂,剥離等
を防止することができる。
おいて亀裂,剥離が生じない,耐久性に優れた酸素セン
サ素子を提供することができる。
おける線熱膨張率を縦軸に,温度を横軸にプロットする
ことにより得ることができる曲線である(図1参照)。
安定化ジルコニア焼結体における,上記C相の図4に示
すミラー指数により表現される結晶面のX線回折強度
と,上記M相の図5に示すミラー指数により表現される
結晶面のX線回折強度との間の回折強度比は,図6に示
す関係を満たしていることが好ましい。
使用することにより,十分な強度を有する酸素センサ素
子を得ることができる。上記回折強度比が0.05未満
である場合には,過剰な粒成長により固体電解質の強度
が著しく低下するおそれがある。上記回折強度比が0.
25を越えた場合には,熱膨張率差Δαの最大幅が1.
5×10-6/℃以下を越えてしまうおそれがある。
電解質は,ジルコニアが97〜89モル%,安定化剤が
3〜11モル%よりなる酸素イオン導電体材料よりなる
ことが好ましい。これにより,良好な酸素イオン導電性
を示し,かつ十分な強度を有する固体電解質を得ること
ができる。
合には,熱膨張率差Δαの最大幅が1.5×10-6/℃
よりも大きくなるおそれがある。一方,11モル%より
多い場合には,過剰な粒成長により固体電解質の強度が
著しく低下するおそれがある。
化剤は,イットリア,酸化イッテルビウム,酸化ニオ
ブ,酸化カルシウム,酸化マグネシウムの少なくとも一
種以上よりなることが好ましい。これにより,良好な酸
素イオン導電性を示し,かつ十分な強度を有する固体電
解質を得ることができる。
電解質には酸化珪素とアルミナとよりなる焼結助剤が添
加されてなり,上記固体電解質100重量部に対する上
記焼結助剤の添加量は,酸化珪素の添加量が0.1〜
0.6重量部であり,アルミナの添加量が1〜10重量
部であることが好ましい。これにより,所望の結晶組成
を有し,かつ十分な強度を有する固体電解質を得ること
ができる。
である場合には,焼結性が悪く1500℃を越える焼成
温度が要求され,ほとんどがC相の焼結粒子から成る固
体電解質となり,かつ,過剰な粒成長による強度低下が
発生するおそれがある。一方,上記添加量が0.6重量
部を越えた場合には,焼成温度が1350℃より低くな
り,M相の生成が多くなり,熱膨張率差Δαが1.5×
10-6/℃より大きくなるおそれがある。
る場合には,酸化珪素との相互作用による焼結助剤とし
ての機能が低下し,焼結温度が1500℃を越えてしま
い,過剰な粒成長による強度低下が起こるおそれがあ
る。一方,上記添加量が10重量部を越えた場合には,
過剰なアルミナが逆に焼結遅延剤として作用し,焼結温
度を1500℃にしても十分な焼結性が得られないおそ
れがある。もし,それ以上の温度で焼成しようとする
と,過剰な粒成長が起こり,著しい固体電解質の強度低
下を引き起こすおそれがある。
素,ホウケイ酸ガラス,ケイ酸アルミ等を使用すること
もできる。
電解質は,1350〜1500℃の焼成温度にて焼成さ
れていることが好ましい。これにより,所望の結晶組成
を有する部分安定化ジルコニア固体電解質を得ることが
できる。上記焼成温度が1350℃未満である場合に
は,熱膨張率差Δαが1.5×10-6/℃を越えてしま
うおそれがある。一方,上記焼成温度が1500℃を越
えた場合には,過剰な粒成長により,固体電解質の強度
が著しく低下するおそれがある。
層はAl2 O3 スピネル(MgAl 2 O4 ),完全安定
化ジルコニアの少なくとも一種以上よりなる金属酸化物
より形成されていることが好ましい。これらの金属酸化
物を使用することにより,固体電解質及び外側電極の保
護という機能の他に,拡散抵抗層としての機能を有する
保護層を得ることができる。
する部分安定化ジルコニア焼結体よりなる固体電解質
と,該固体電解質の内側面に設けた内側電極と,外側面
に設けられ,被測定ガスにさらされる外側電極と,該外
側電極を被覆する多孔質の保護層からなる酸素センサ素
子であって,上記固体電解質は20〜1000℃の温度
範囲において,その熱膨張曲線の加熱時と冷却時とにお
けるヒステリシスΔTの最大幅が200℃以下であるこ
とを特徴とする酸素センサ素子にある。
時の熱膨張曲線とを比較した時,その傾き,形状等が大
きく異なることがない。そして,加熱時及び冷却時の熱
膨張曲線は共に,保護層の直線的に変化する熱膨張曲線
と似た傾き,形状等を有している。
張率の差が,20〜1000℃という,酸素センサ素子
の使用温度範囲内にて,大きく食い違うこともない。従
って,上記固体電解質及び保護層との間に大きな熱応力
が働くこともなく,保護層における亀裂,剥離等を防止
することができる。
安定化ジルコニア焼結体における,上記C相の図4に示
すミラー指数により表現される結晶面のX線回折強度
と,上記M相の図5に示すミラー指数により表現される
結晶面のX線回折強度との間の回折強度比は,図6に示
す関係を満たしていることが好ましい。これにより,請
求項2と同様の効果を得ることができる。
体電解質は,ジルコニアが97〜89モル%,安定化剤
が3〜11モル%よりなる酸素イオン導電体材料よりな
ることが好ましい。これにより,請求項3と同様の効果
を得ることができる。
定化剤は,イットリア,酸化イッテルビウム,酸化ニオ
ブ,酸化カルシウム,酸化マグネシウムの少なくとも一
種以上よりなることが好ましい。これにより,請求項4
と同様の効果を得ることができる。
体電解質には酸化珪素とアルミナとよりなる焼結助剤が
添加されてなり,上記固体電解質100重量部に対する
上記焼結助剤の添加量は,酸化珪素の添加量が0.1〜
0.6重量部であり,アルミナの添加量が1〜10重量
部であることが好ましい。これにより,請求項5と同様
の効果を得ることができる。
体電解質は,1350〜1500℃の焼成温度にて焼成
されていることが好ましい。これにより,請求項6と同
様の効果を得ることができる。
体電解質は,上記保護層はAl2 O3 スピネル(MgA
l2 O4 ),完全安定化ジルコニアの少なくとも一種以
上よりなる金属酸化物より形成されていることが好まし
い。これにより,請求項7と同様の効果を得ることがで
きる。
1〜図6を用いて説明する。図2に示すごとく,本例の
酸素センサ素子1は,固体電解質11と該固体電解質1
1の外側面110を被覆する保護層13とよりなる。そ
して,図1に示すごとく,上記固体電解質11は,20
℃〜1000℃の温度範囲において,その熱膨張曲線の
加熱時と冷却時とにおける熱膨張率差Δαの最大幅が
1.5×10-6/℃以下,かつヒステリシスΔTの最大
幅が200℃以下である。
は,一端を閉塞し他端を開放した内室15を有するコッ
プ型の固体電解質11と,該固体電解質11の外側面1
10に設けた外側電極111と,上記内室15の内側面
に設けた内側電極112を有する。そして,上記外側電
極111の更に外方には,固体電解質11及び外側電極
111を保護するための保護層13が設けてある。上記
外側電極111及び内側電極112は白金等よりなり,
化学メッキ,真空蒸着,ペースト焼き付け等の手段によ
り,固体電解質11に対し形成されている。
1,外側電極111の保護機能以外にも,酸素センサ素
子1の拡散抵抗層としての機能をも有しており,MgA
l2 O4 スピネルによって構成されている。上記保護層
13は,厚みが100μm,気孔率が20%である。ま
た,その熱膨張係数は8×10-6/℃である。
素センサ8について説明する。図3に示すごとく,上記
酸素センサ8は,ハウジング83内に上記酸素センサ素
子1を固定してなり,該ハウジング83の上方及び下方
には,それぞれ金属カバー85,86が設けてある。そ
して,上記酸素センサ素子1の内室15には,一定のク
リアランスを確保しつつ,ヒータ84が挿入配置されて
ある。また,上記酸素センサ素子1における固体電解質
11に発生した電流を信号として取出し,外部に送るた
めのリード線81,82は,酸素センサ8の上部より取
出されてある。
る。上記固体電解質11は,後述する表1に示すごと
く,酸素イオン導電体材料と,焼結助剤とより構成され
てなる。上記酸素イオン導電体材料は,ジルコニア(Z
rO2 )97モル%と安定化剤であるイットリア(Y2
O3 )3モル%とよりなる。また,上記焼結助剤は,上
記酸素イオン導電体材料100重量部に対し,5.0重
量部のアルミナと0.3重量部の酸化珪素とよりなる。
当たっては,まず,ジルコニアと安定化剤,焼結助剤を
配合した後,振動ミル,ボールミル,ビーズミル等の粉
砕機にて乾式,または湿式混合,粉砕し,粉末となす。
その後,上記粉末をラバープレス成形,インジェクショ
ン成形等の成形法にて所望の形状に成形し,温度150
0℃にて焼成する。以上により得られた固体電解質11
は部分安定化ジルコニア焼結体であり,その熱膨張曲線
の熱膨張率差Δαの最大幅が1.50×10-6/℃,ヒ
ステリシスΔTの最大幅が180℃である。
C相,M相,T相とよりなり,上記C相の図4に示すミ
ラー指数により表現される結晶面のX線回折強度Iと,
M相の図5に示すミラー指数により表現される結晶面の
X線回折強度I´との間の回折強度比I´/Iは0.2
2である
る。本例の酸素センサ素子1における固体電解質11
は,その熱膨張曲線の加熱時と冷却時とにおける熱膨張
率差Δαの最大幅が1.5×10-6/℃以下,かつヒス
テリシスΔTの最大幅が200℃以下である。このた
め,加熱時の熱膨張曲線と,冷却時の熱膨張曲線とを比
較した時,その傾き,形状等が大きく異なることがな
い。そして,両者共に,保護層13の直線的に変化する
熱膨張曲線と似た傾き,形状等を有している。
との間の熱膨張率の差が,20〜1000℃という,酸
素センサ素子1の使用温度範囲内にて,大きく食い違う
こともない。従って,上記固体電解質11及び保護層1
3との間に大きな熱応力が働くこともなく,該保護層1
3における亀裂,剥離等を防止することができる。
裂,剥離が生じない,耐久性に優れた酸素センサ素子を
提供することができる。
た酸素センサ素子における固体電解質の回折強度比,Δ
Tの最大幅,Δαの最大幅,保護層における亀裂,剥離
の有無,固体電解質の強度,そして亀裂,剥離の有無,
強度より判断される総合評価について測定した結果を示
すものである。
体電解質はジルコニア(ZrO2 )と安定化剤とよりな
る酸素イオン導電体材料よりなり,更に上記酸素イオン
導電体材料に対し,焼結助剤が添加されている。なお,
上記焼結助剤の添加量は酸素イオン導電体材料100重
量部に対し添加する重量部で示される。
〜28の各酸素センサ素子は,実施形態例1と同様の構
成を有し,その固体電解質は表1〜表8に示す組成,焼
成温度,回折強度比,ΔT及びΔαの最大幅,強度を有
している。また,上記試料1〜28は,上述の各固体電
解質の上に表1〜表4に示す成分よりなる保護層を溶射
法により設けてある。なお,試料1〜試料20は,本発
明にかかる酸素センサ素子,試料21〜試料28は比較
試料である。
回折強度比を測定した。まず,上記固体電解質を粉砕
し,得られた粉末の粉末X線回折強度を測定した。その
後,上記粉末X線回折強度より,C相の図4に示すミラ
ー指数により表現される結晶面のX線回折強度Iと,M
相の図5に示すミラー指数により表現される結晶面のX
線回折強度I´とを導出した。そして,両者の間の比の
値,I´/Iを回折強度比とした。上記結果は表5〜表
8に示した。
係数差Δα,ヒステリシスΔTの最大幅を測定した。ま
ず,上記固体電解質の,20℃から1000℃の間を1
0℃/分の昇降温速度にて,加熱,冷却を行った。上記
温度範囲内における,上記固体電解質の線熱膨張率を測
定し,加熱時と冷却時の熱膨張曲線を得た。上記二つの
熱膨張曲線より,熱膨張率差Δα,ヒステリシスΔTの
最大幅を得た。上記結果は表5〜表8に示した。なお,
同表において,上記熱膨張率差Δαの単位は10-6/
℃,またヒステリシスΔTの単位は℃である。
いて,保護層での亀裂,剥離の発生について測定した。
まず,上記酸素センサ素子に対し,20℃から1000
℃の間における,加熱及び冷却を繰返す,所謂冷熱サイ
クルを1000回繰返した。上記冷熱サイクルの後に,
着色液に上記酸素センサ素子を浸漬させ,亀裂,剥離の
発生について拡大鏡によるマクロ観察,走査顕微鏡によ
るミクロ観察を行い,判定した。上記結果を表5〜表8
に示した。
いて測定した。まず,上記酸素センサ素子に対し,20
℃から1000℃の間で加熱及び冷却を繰返す,所謂冷
熱サイクルの後に,素子の曲げ強度を3点曲げ試験によ
り測定した。上記結果を表5〜表8に,曲げ強度が18
kgf/mm2 より小さい場合を×,以上の場合を○と
して記した。
いては,保護層における亀裂,剥離が生じなかった。従
って,総合評価の欄に○を記した。しかし,試料21〜
25においては,回折強度比が0.05以下であるた
め,保護層における亀裂,剥離は生じないが,強度が弱
く,特に自動車のような振動の激しい条件のもとにて使
用される酸素センサ素子としては不向きである。従っ
て,総合評価の欄に△を記した。
における亀裂,剥離が生ずるため,総合評価の欄に×を
記した。以上により,本発明にかかる範囲にΔαとΔT
とを有する酸素センサ素子においては,保護層に亀裂,
剥離が生じないことが分かった。
第二保護層16を設けた酸素センサ素子19である。即
ち,図7に示すごとく,本例の酸素センサ素子19の保
護層13の表面には,被測定ガス内に含まれる有害成分
のトラップ効果を高めるために,第二保護層16を設け
てある。上記第二保護層16は,アルミナよりなり,そ
の厚みが120μm,その気孔率は20〜50%であ
る。
は,アルミナを含むスラリーを準備し,該スラリーを用
いて,ディッピングにより保護層13の表面をコートす
る。その後,上記固体電解質11に対し熱処理を施す。
これにより第二保護層16を有する酸素センサ素子19
が形成される。
サ素子19の固体電解質11の外側面110には凹凸面
が形成されてあり,該凹凸面に対して,外側電極11
1,保護層13が設けてある。その他は,実施形態例1
と同様である。
体電解質11の外側面110に凹凸面が形成されてあ
る。このため,固体電解質11と外側電極111,また
外側電極111と保護層13との付着強度が強くなる。
その他は実施形態例1と同様の作用効果を有する。
サ素子2である。即ち,図9に示すごとく,上記酸素セ
ンサ素子2は,板状の固体電解質21の両面に外側電極
211及び内側電極212が設けてあり,該外側電極2
11の表面は保護層23により,該保護層23の表面は
第二保護層26により被覆されている。また,上記固体
電解質11の内側電極112を設けた側には,大気導入
ダクト25を設けた基板28を配置してある。
成形,インジェクション成形,シート成形等により成形
されてある。また,上記基板28の内部には,発熱体2
80が埋設されてある。また,上記外側電極211はリ
ード線290を介して端子291と導通している。上記
内側電極212も同様にリード線を介して端子292と
導通している。これらの端子291,292を通じ,セ
ンサ出力を外部に取出すことができる。その他は,実施
形態例1と同様である。また,その他は,実施形態例1
と同様の作用効果を有する。
冷却時における熱膨張曲線を示す線図。
図。
のC相における,特定の結晶面をあらわすミラー指数の
説明図。
のM相における,特定の結晶面をあらわすミラー指数の
説明図。
のC相及びM相における回折強度比の関係を示す説明
図。
図。
断面図。
る固体電解質の平面図。
面図。
Claims (14)
- 【請求項1】 C相,M相及びT相が混在する部分安定
化ジルコニア焼結体よりなる固体電解質と,該固体電解
質の内側面に設けた内側電極と,外側面に設けられ,被
測定ガスにさらされる外側電極と,該外側電極を被覆す
る多孔質の保護層からなる酸素センサ素子であって,上
記固体電解質は20〜1000℃の温度範囲において,
その熱膨張曲線の加熱時と冷却時とにおける熱膨張率差
Δαの最大幅が1.5×10-6/℃以下であることを特
徴とする酸素センサ素子。 - 【請求項2】 請求項1において,上記部分安定化ジル
コニア焼結体における,上記C相の図4に示すミラー指
数により表現される結晶面のX線回折強度と,上記M相
の図5に示すミラー指数により表現される結晶面のX線
回折強度との間の回折強度比は,図6に示す関係を満た
していることを特徴とする酸素センサ素子。 - 【請求項3】 請求項1または2において,上記固体電
解質は,ジルコニアが97〜89モル%,安定化剤が3
〜11モル%よりなる酸素イオン導電体材料よりなるこ
とを特徴とする酸素センサ素子。 - 【請求項4】 請求項1〜3の一項において,上記安定
化剤は,イットリア,酸化イッテルビウム,酸化ニオ
ブ,酸化カルシウム,酸化マグネシウムの少なくとも一
種以上よりなることを特徴とする酸素センサ素子。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか一項において,
上記固体電解質には酸化珪素とアルミナとよりなる焼結
助剤が添加されてなり,上記固体電解質100重量部に
対する上記焼結助剤の添加量は,酸化珪素の添加量が
0.1〜0.6重量部であり,アルミナの添加量が1〜
10重量部であることを特徴とする酸素センサ素子。 - 【請求項6】 請求項1〜5のいずれか一項において,
上記固体電解質は,1350〜1500℃の焼成温度に
て焼成されていることを特徴とする酸素センサ素子。 - 【請求項7】 請求項1〜6のいずれか一項において,
上記保護層はAl2 O3 スピネル(MgAl2 O4 ),
完全安定化ジルコニアの少なくとも一種以上よりなる金
属酸化物より形成されていることを特徴とする酸素セン
サ素子。 - 【請求項8】 C相,M相及びT相が混在する部分安定
化ジルコニア焼結体よりなる固体電解質と,該固体電解
質の内側面に設けた内側電極と,外側面に設けられ,被
測定ガスにさらされる外側電極と,該外側電極を被覆す
る多孔質の保護層からなる酸素センサ素子であって,上
記固体電解質は20〜1000℃の温度範囲において,
その熱膨張曲線の加熱時と冷却時とにおけるヒステリシ
スΔTの最大幅が200℃以下であることを特徴とする
酸素センサ素子。 - 【請求項9】 請求項8において,上記部分安定化ジル
コニア焼結体における,上記C相の図4に示すミラー指
数により表現される結晶面のX線回折強度と,上記M相
の図5に示すミラー指数により表現される結晶面のX線
回折強度との間の回折強度比は,図6に示す関係を満た
していることを特徴とする酸素センサ素子。 - 【請求項10】 請求項8または9において,上記固体
電解質は,ジルコニアが97〜89モル%,安定化剤が
3〜11モル%よりなる酸素イオン導電体材料よりなる
ことを特徴とする酸素センサ素子。 - 【請求項11】 請求項8〜10のいずれか一項におい
て,上記安定化剤は,イットリア,酸化イッテルビウ
ム,酸化ニオブ,酸化カルシウム,酸化マグネシウムの
少なくとも一種以上よりなることを特徴とする酸素セン
サ素子。 - 【請求項12】 請求項8〜11のいずれか一項におい
て,上記固体電解質には酸化珪素とアルミナとよりなる
焼結助剤が添加されてなり,上記固体電解質100重量
部に対する上記焼結助剤の添加量は,酸化珪素の添加量
が0.1〜0.6重量部であり,アルミナの添加量が1
〜10重量部であることを特徴とする酸素センサ素子。 - 【請求項13】 請求項8〜12において,上記固体電
解質は,1350〜1500℃の焼成温度にて焼成され
ていることを特徴とする酸素センサ素子。 - 【請求項14】 請求項8〜13のいずれか一項におい
て,上記保護層はAl2 O3 スピネル(MgAl
2 O4 ),完全安定化ジルコニアの少なくとも一種以上
よりなる金属酸化物より形成されていることを特徴とす
る酸素センサ素子。
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1996
- 1996-07-24 JP JP8214379A patent/JPH09124365A/ja active Pending
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