JPH09110477A - 基体表面の処理方法とその基体および乾きジミ除去方法 - Google Patents
基体表面の処理方法とその基体および乾きジミ除去方法Info
- Publication number
- JPH09110477A JPH09110477A JP26448595A JP26448595A JPH09110477A JP H09110477 A JPH09110477 A JP H09110477A JP 26448595 A JP26448595 A JP 26448595A JP 26448595 A JP26448595 A JP 26448595A JP H09110477 A JPH09110477 A JP H09110477A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- substrate
- soluble substance
- cleaning
- citrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/219—CrOx, MoOx, WOx
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】基体表面に生じる乾きジミを低コストかつ簡単
な水洗により除去することができ、湖水等の富栄養化へ
の関与が小さい、基体表面の処理方法とその基体および
その乾きジミ除去方法の提供。 【解決手段】ホウ酸塩とキレート剤とからなる水溶性物
質またはクエン酸塩からなる水溶性物質が含まれた洗浄
水による基体表面の処理方法とその基体およびその乾き
ジミ除去方法。
な水洗により除去することができ、湖水等の富栄養化へ
の関与が小さい、基体表面の処理方法とその基体および
その乾きジミ除去方法の提供。 【解決手段】ホウ酸塩とキレート剤とからなる水溶性物
質またはクエン酸塩からなる水溶性物質が含まれた洗浄
水による基体表面の処理方法とその基体およびその乾き
ジミ除去方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基体表面の処理方
法とその基体および乾きジミ除去方法に関する。
法とその基体および乾きジミ除去方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】基体を水洗する工程では、所期の洗浄効
果が得られても、当該洗浄水中に含まれる不純物成分が
基体表面に強固に付着することにより新たな汚染が生ず
る。この汚染は通常、乾きジミまたは水跡等と称される
が、これを回避するためには、洗浄水の純度を上げる、
または、以降の洗浄に乾きジミを除去するための特別な
配慮、例えば、酸やアルカリにより化学的処理を行う、
ガラス基板の場合には洗浄後の基体を研磨などの機械的
手法により再度洗浄する、などの操作を行わなければな
らなかった。
果が得られても、当該洗浄水中に含まれる不純物成分が
基体表面に強固に付着することにより新たな汚染が生ず
る。この汚染は通常、乾きジミまたは水跡等と称される
が、これを回避するためには、洗浄水の純度を上げる、
または、以降の洗浄に乾きジミを除去するための特別な
配慮、例えば、酸やアルカリにより化学的処理を行う、
ガラス基板の場合には洗浄後の基体を研磨などの機械的
手法により再度洗浄する、などの操作を行わなければな
らなかった。
【０００３】最近の科学技術の発展により、材料表面に
高い清浄性が求められる場合が多くなり、極めて少量の
付着物の存在が問題となる。例えば、清浄なガラス表面
を必要とする分野で忌避されるガラス表面の乾きジミ
は、表面に付着した極めて少量の洗浄水由来のシリカま
たはその化合物により発現する。
高い清浄性が求められる場合が多くなり、極めて少量の
付着物の存在が問題となる。例えば、清浄なガラス表面
を必要とする分野で忌避されるガラス表面の乾きジミ
は、表面に付着した極めて少量の洗浄水由来のシリカま
たはその化合物により発現する。
【０００４】このようなガラス基板上に、例えばＴｉＮ
x 薄膜を形成すると、乾きジミ部の膜の透過率がそれの
無い部位に比べて変化し問題となる。これを回避するた
めには、通常数十ｐｐｍ程度またはそれ以上含有されて
いるシリカを蒸留等の操作で除去することが必要である
が、工業的にはコスト面できわめて困難である。
x 薄膜を形成すると、乾きジミ部の膜の透過率がそれの
無い部位に比べて変化し問題となる。これを回避するた
めには、通常数十ｐｐｍ程度またはそれ以上含有されて
いるシリカを蒸留等の操作で除去することが必要である
が、工業的にはコスト面できわめて困難である。
【０００５】また、乾きジミが問題となる場合、すなわ
ち、洗浄後に基体表面が一旦乾く状況下では、その間に
生ずる汚れを除去するために再度洗浄が行われる場合が
多い。しかしながら、一旦付着したシリカはガラス表面
であれば表面のシラノール基とＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形
成するなどして、多くの場合水洗のみでは除去されず、
化学的物理的作用を利用した洗浄を必要とし、コスト面
での圧迫要因となっていた。また、カルシウム（Ｃａ）
がシリカと共存するとシリカの凝集が起こり、乾きジミ
が発生しやすくなり、ガラス基板に限らず清浄な表面が
要求される基体をこれら成分を含む水で洗浄する場合に
共通して生ずる問題であった。
ち、洗浄後に基体表面が一旦乾く状況下では、その間に
生ずる汚れを除去するために再度洗浄が行われる場合が
多い。しかしながら、一旦付着したシリカはガラス表面
であれば表面のシラノール基とＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形
成するなどして、多くの場合水洗のみでは除去されず、
化学的物理的作用を利用した洗浄を必要とし、コスト面
での圧迫要因となっていた。また、カルシウム（Ｃａ）
がシリカと共存するとシリカの凝集が起こり、乾きジミ
が発生しやすくなり、ガラス基板に限らず清浄な表面が
要求される基体をこれら成分を含む水で洗浄する場合に
共通して生ずる問題であった。
【０００６】前記問題を解決する方法として、特開平６
−３４０８６５号公報に、基体の洗浄水にキレート作用
を有する水溶性物質であるトリポリリン酸ナトリウムを
添加することにより、乾燥後の基体表面の汚れを除去す
る方法が提案されている。
−３４０８６５号公報に、基体の洗浄水にキレート作用
を有する水溶性物質であるトリポリリン酸ナトリウムを
添加することにより、乾燥後の基体表面の汚れを除去す
る方法が提案されている。
【０００７】しかしながら、トリポリリン酸ナトリウム
は、Ｃａイオンに対するキレート能力が充分ではなく、
洗浄水中に含まれる不純物が、乾燥後、基体表面に固着
することによって生ずる汚れ（以下、乾きジミという）
に対しては、充分ではなかった。
は、Ｃａイオンに対するキレート能力が充分ではなく、
洗浄水中に含まれる不純物が、乾燥後、基体表面に固着
することによって生ずる汚れ（以下、乾きジミという）
に対しては、充分ではなかった。
【０００８】一方、トリポリリン酸ナトリウムは、多く
の洗剤中に１５〜５０％含有されており、多面的な機能
を持つ最も重要なビルダー（界面活性剤の洗浄作用を補
助するもの）として用いられていた。しかし、近年、湖
水等の富栄養化に関与する物質として問題視されるよう
になった。
の洗剤中に１５〜５０％含有されており、多面的な機能
を持つ最も重要なビルダー（界面活性剤の洗浄作用を補
助するもの）として用いられていた。しかし、近年、湖
水等の富栄養化に関与する物質として問題視されるよう
になった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、基体表面に
生じる乾きジミを低コストかつ簡単な水洗により除去す
ることができ、湖水等の富栄養化への関与が小さい、キ
レート作用を有する水溶性物質が含まれた洗浄水による
基体表面の処理方法とその基体および乾きジミ除去方法
の提供を目的とする。
生じる乾きジミを低コストかつ簡単な水洗により除去す
ることができ、湖水等の富栄養化への関与が小さい、キ
レート作用を有する水溶性物質が含まれた洗浄水による
基体表面の処理方法とその基体および乾きジミ除去方法
の提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、キレート作用
を有する水溶性物質が含まれた洗浄水で基体表面を処理
する方法において、キレート作用を有する水溶性物質と
して、ホウ酸塩とキレート剤とからなる水溶性物質、ま
たはクエン酸塩からなる水溶性物質を用いることを特徴
とする基体表面の処理方法を提供する。
を有する水溶性物質が含まれた洗浄水で基体表面を処理
する方法において、キレート作用を有する水溶性物質と
して、ホウ酸塩とキレート剤とからなる水溶性物質、ま
たはクエン酸塩からなる水溶性物質を用いることを特徴
とする基体表面の処理方法を提供する。
【００１１】本発明は、また、キレート作用を有する水
溶性物質が含まれた洗浄水で洗浄された基体において、
キレート作用を有する水溶性物質が、ホウ酸塩とキレー
ト剤とからなる水溶性物質またはクエン酸塩からなる水
溶性物質であることを特徴とする洗浄された基体および
その乾きジミ除去方法を提供する。
溶性物質が含まれた洗浄水で洗浄された基体において、
キレート作用を有する水溶性物質が、ホウ酸塩とキレー
ト剤とからなる水溶性物質またはクエン酸塩からなる水
溶性物質であることを特徴とする洗浄された基体および
その乾きジミ除去方法を提供する。
【００１２】前記ホウ酸塩とキレート剤とからなる水溶
性物質としては、四ホウ酸ナトリウムとＥＤＴＡとから
なる水溶性物質が好ましい。
性物質としては、四ホウ酸ナトリウムとＥＤＴＡとから
なる水溶性物質が好ましい。
【００１３】また、前記クエン酸塩からなる水溶性物質
としては、生分解性物質であるクエン酸ナトリウムから
なる水溶性物質が好ましい。
としては、生分解性物質であるクエン酸ナトリウムから
なる水溶性物質が好ましい。
【００１４】基体としては、ガラス、プラスチック、セ
ラミックス、単結晶体などが挙げられる他、これらの表
面に無機物または有機物がコーティングされたものも基
体として用い得る。
ラミックス、単結晶体などが挙げられる他、これらの表
面に無機物または有機物がコーティングされたものも基
体として用い得る。
【００１５】基体表面に生じる乾きジミを除去する方法
は以下のとおりである。まず、前記のキレート作用を有
する水溶性物質を添加した洗浄水により洗浄を行い、乾
燥する。次に、洗浄剤として、水および／または界面活
性剤からなる洗浄剤を用い、洗浄用水の散布、好ましく
はブラシの併用によって洗浄を行うことにより、基体表
面に生じた乾きジミを除去することができる。
は以下のとおりである。まず、前記のキレート作用を有
する水溶性物質を添加した洗浄水により洗浄を行い、乾
燥する。次に、洗浄剤として、水および／または界面活
性剤からなる洗浄剤を用い、洗浄用水の散布、好ましく
はブラシの併用によって洗浄を行うことにより、基体表
面に生じた乾きジミを除去することができる。
【００１６】上記キレート作用を有する水溶性物質の洗
浄水中の水溶性物質の濃度は、特に限定されず、基体の
種類、用途、乾きジミの状態により最適値が異なるが、
廃液処理の観点から、ＥＤＴＡ＋四ホウ酸ナトリウム、
またはクエン酸ナトリウムの場合には、１０-1Ｍ前後が
好ましい。なお、従来のトリポリリン酸ナトリウムの場
合には、廃液処理の面においては、５×１０-4Ｍ程度の
濃度が望ましいとされていた。
浄水中の水溶性物質の濃度は、特に限定されず、基体の
種類、用途、乾きジミの状態により最適値が異なるが、
廃液処理の観点から、ＥＤＴＡ＋四ホウ酸ナトリウム、
またはクエン酸ナトリウムの場合には、１０-1Ｍ前後が
好ましい。なお、従来のトリポリリン酸ナトリウムの場
合には、廃液処理の面においては、５×１０-4Ｍ程度の
濃度が望ましいとされていた。
【００１７】本発明において、キレート作用を有する水
溶性物質を添加した洗浄水を用いることにより、洗浄後
に生じた基体表面の乾きジミは、キレート作用を有する
水溶性物質の存在により凝集化が抑制される（キレート
作用によりシリカの凝集化を促進するＣａイオンが捕捉
されるため）とともに、水溶性物質を介することにより
基体表面には直接接触しない。
溶性物質を添加した洗浄水を用いることにより、洗浄後
に生じた基体表面の乾きジミは、キレート作用を有する
水溶性物質の存在により凝集化が抑制される（キレート
作用によりシリカの凝集化を促進するＣａイオンが捕捉
されるため）とともに、水溶性物質を介することにより
基体表面には直接接触しない。
【００１８】この状態の基体を水洗した場合、乾きジミ
は水溶性物質に同伴され、容易に基体から除去され清浄
な基体表面が得られる。
は水溶性物質に同伴され、容易に基体から除去され清浄
な基体表面が得られる。
【００１９】また、トリポリリン酸ナトリウムのような
リン含有材料はリン濃度を上昇させ、富栄養化を促進す
る材料であるが、本発明において用いるＥＤＴＡ＋四ホ
ウ酸ナトリウム、またはクエン酸ナトリウムは、リンを
含まない材料であり、湖水等の富栄養化への関与が小さ
いと考えられる。
リン含有材料はリン濃度を上昇させ、富栄養化を促進す
る材料であるが、本発明において用いるＥＤＴＡ＋四ホ
ウ酸ナトリウム、またはクエン酸ナトリウムは、リンを
含まない材料であり、湖水等の富栄養化への関与が小さ
いと考えられる。
【００２０】
【実施例】表１に、Ｃｒ膜付きガラス基板への実施例を
示す。用いたＣｒ膜付きガラス基板は、フロート法によ
り製造した１．１ｍｍ厚の無アルカリガラス上に１００
０ÅのＣｒ膜をスパッタ蒸着して得られたものである。
示す。用いたＣｒ膜付きガラス基板は、フロート法によ
り製造した１．１ｍｍ厚の無アルカリガラス上に１００
０ÅのＣｒ膜をスパッタ蒸着して得られたものである。
【００２１】このＣｒ膜付きガラス基板に、表１に示す
各洗浄水を滴下し、ホットプレート上１００℃で乾燥
し、乾燥後の乾きジミ発生状況を目視にて観察した。な
お、表中のNa5P3O10はトリポリリン酸ナトリウム、Na2B
4O7 は四ホウ酸ナトリウム、クエン酸Naはクエン酸ナト
リウムを示す。
各洗浄水を滴下し、ホットプレート上１００℃で乾燥
し、乾燥後の乾きジミ発生状況を目視にて観察した。な
お、表中のNa5P3O10はトリポリリン酸ナトリウム、Na2B
4O7 は四ホウ酸ナトリウム、クエン酸Naはクエン酸ナト
リウムを示す。
【００２２】その後、水を含ませたキムワイプにて乾き
ジミを手動で拭き、乾きジミ除去性を目視にて評価し、
乾きジミ除去性が最も優れているものから順に、◎、
○、×で示した。また、富栄養化への関与についても併
せて評価した。結果を表１に示す。表中の例４および５
が実施例である。
ジミを手動で拭き、乾きジミ除去性を目視にて評価し、
乾きジミ除去性が最も優れているものから順に、◎、
○、×で示した。また、富栄養化への関与についても併
せて評価した。結果を表１に示す。表中の例４および５
が実施例である。
【００２３】なお、本実験で用いた洗浄水中に含まれる
Ｓｉ、Ｃａ濃度を表２に示す。分析手法は、ＩＣＰ発光
分析法にて行った。
Ｓｉ、Ｃａ濃度を表２に示す。分析手法は、ＩＣＰ発光
分析法にて行った。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【表２】
【００２６】
【発明の効果】本発明のキレート作用を有する水溶性物
質が含まれた洗浄水による基体表面の処理方法、あるい
は該基体表面の処理された基体を用いると、基体表面に
生じた乾きジミが、次の水洗時に、水溶性物質と同伴し
て基体から容易に除去される。したがって、低コストか
つ簡単な水洗により乾きジミがない基体表面を得ること
ができる。
質が含まれた洗浄水による基体表面の処理方法、あるい
は該基体表面の処理された基体を用いると、基体表面に
生じた乾きジミが、次の水洗時に、水溶性物質と同伴し
て基体から容易に除去される。したがって、低コストか
つ簡単な水洗により乾きジミがない基体表面を得ること
ができる。
【００２７】また、用いられるＥＤＴＡ＋四ホウ酸ナト
リウム、またはクエン酸ナトリウムは、リンを含まない
材料であり、湖水等の富栄養化への関与が小さい。
リウム、またはクエン酸ナトリウムは、リンを含まない
材料であり、湖水等の富栄養化への関与が小さい。
Claims (5)
- 【請求項１】キレート作用を有する水溶性物質が含まれ
た洗浄水で基体表面を処理する方法において、キレート
作用を有する水溶性物質として、ホウ酸塩とキレート剤
とからなる水溶性物質、またはクエン酸塩からなる水溶
性物質を用いることを特徴とする基体表面の処理方法。 - 【請求項２】キレート作用を有する水溶性物質が含まれ
た洗浄水で基体表面が処理された基体において、キレー
ト作用を有する水溶性物質が、ホウ酸塩とキレート剤と
からなる水溶性物質またはクエン酸塩からなる水溶性物
質であることを特徴とする基体表面が処理された基体。 - 【請求項３】前記ホウ酸塩とキレート剤とからなる水溶
性物質が、四ホウ酸ナトリウムとＥＤＴＡとからなる水
溶性物質である請求項２の基体表面が処理された基体。 - 【請求項４】前記クエン酸塩からなる水溶性物質が、ク
エン酸ナトリウムからなる水溶性物質である請求項２の
基体表面が処理された基体。 - 【請求項５】請求項２〜４いずれか１項の基体表面が処
理された基体を、水および／または界面活性剤からなる
洗浄剤を用いて洗浄することを特徴とする基体の乾きジ
ミ除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26448595A JPH09110477A (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 基体表面の処理方法とその基体および乾きジミ除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26448595A JPH09110477A (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 基体表面の処理方法とその基体および乾きジミ除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09110477A true JPH09110477A (ja) | 1997-04-28 |
Family
ID=17403901
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26448595A Pending JPH09110477A (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 基体表面の処理方法とその基体および乾きジミ除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09110477A (ja) |
-
1995
- 1995-10-12 JP JP26448595A patent/JPH09110477A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100746056B1 (ko) | 기판표면 세정액 및 세정방법 | |
| US6896744B2 (en) | Method for cleaning a surface of a substrate | |
| US6191086B1 (en) | Cleaning composition and method for removing residues | |
| TWI302950B (en) | Cleaning solution and method of cleanimg board of semiconductor device | |
| JP5286290B2 (ja) | 洗浄剤組成物および電子デバイス用基板の洗浄方法、並びに電子デバイス用基板 | |
| CN100437922C (zh) | 洗涤液及使用该洗涤液的洗涤方法 | |
| AU728702B2 (en) | Anti-etch bottle washing solution | |
| CA2330747A1 (en) | Silicate-containing alkaline compositions for cleaning microelectronic substrates | |
| TW442864B (en) | Surface treatment composition and method for treating surface of substrate by using the same | |
| JP4130514B2 (ja) | 精密洗浄剤組成物 | |
| JP2003068696A (ja) | 基板表面洗浄方法 | |
| JPH09110477A (ja) | 基体表面の処理方法とその基体および乾きジミ除去方法 | |
| JP6310727B2 (ja) | フロアーポリッシュ用剥離剤及びフロアーポリッシュの剥離方法 | |
| JP2004504410A (ja) | ガラスびんの非侵食性洗浄組成物 | |
| JP2003088817A (ja) | 基板表面洗浄方法 | |
| CN110819479B (zh) | 一种清洗粉 | |
| JP3228211B2 (ja) | 表面処理組成物及びそれを用いた基体の表面処理方法 | |
| JPH05271699A (ja) | ガラス用洗浄剤組成物 | |
| JP2001217215A (ja) | 半導体基板の表面処理用組成物および表面処理方法 | |
| JPS6148583A (ja) | スケ−ル除去剤 | |
| CN104246017A (zh) | 抗蚀剂密合性提高剂和铜配线制造方法 | |
| TWI453279B (zh) | Suitable for cleaning silicon chip lotion and its application | |
| JP2001214198A (ja) | 電子部品洗浄液 | |
| JP2003195471A (ja) | フォトマスクブランクスの製造方法 | |
| JPH1190937A (ja) | 金型洗浄剤及び金型洗浄法 |