JPH0889957A - 膜分離方法 - Google Patents
膜分離方法Info
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- JPH0889957A JPH0889957A JP22472794A JP22472794A JPH0889957A JP H0889957 A JPH0889957 A JP H0889957A JP 22472794 A JP22472794 A JP 22472794A JP 22472794 A JP22472794 A JP 22472794A JP H0889957 A JPH0889957 A JP H0889957A
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Abstract
するに当り、膜分離装置のフラックスの低下を防止し
て、安定かつ効率的な処理を継続する。 【構成】 系内に二酸化塩素を添加する。 【効果】 二酸化塩素は、膜面に吸着又は付着して膜性
能を劣化させることがなく、また、膜を酸化して劣化さ
せることもない上に、NH4 +が存在する系においても、
良好な殺菌効果を示し、膜面のスライムの発生及びスラ
イムによるフラックスの低下を有効に防止することがで
きる。
Description
に、アンモニアを含有する有機排水をUF(限外濾過)
膜分離装置、MF(精密濾過)膜分離装置、又はRO
(逆浸透)膜分離装置で膜分離処理するに当り、膜面に
スライムが発生することによるフラックス(透過流束)
の低下を防止して、安定かつ効率的な運転を継続するこ
とを可能とする方法に関する。
の排水を回収・再利用するシステムが適用されるように
なっている。特に、半導体や液晶工場では、洗浄に使用
した超純水(使用済超純水)を回収して、再度超純水を
製造している。
回収された使用済超純水(以下「回収水」と称す。)に
は、酢酸、イソプロピルアルコール(IPA)、メタノ
ール、アセトンといった有機成分が1〜10ppm(炭
素換算濃度)程度含有されると共に、NH4 +,H2 O2
が含有されている。このため、図1の処理フローでは、
ユースポイント1からタンク2に回収した回収水を、回
収システムにおいて、まず、生物処理装置3で処理し
て、酢酸、IPA等の有機成分を生物分解した後、UF
膜分離装置4で菌体を除去し、その後、RO膜分離装置
5、イオン交換純水装置6で一次純水まで水質を高め
る。そして、この水を、原水(工水、市水、地下水)の
前処理工程(凝集、沈殿、濾過)7、RO膜分離装置
8、イオン交換純水装置9及び脱気装置10からなる一
次純水システムの脱気装置10の導入側に循環させ、脱
気装置10で処理した後、タンク11を経て熱交換器1
2、低圧紫外線照射装置13、混床式イオン交換装置1
4及びUF膜分離装置15よりなるサブシステムで処理
し、その後、ユースポイント1で再利用している。
ける菌体除去用のUF膜分離装置では、膜面のスライム
の発生を防ぐために、殺菌剤として次亜塩素酸ソーダ
(NaClO)をCl2 換算濃度で1ppm程度、連続
的又は間欠的に注入している。
在しない系であれば、NaClOの注入によりスライム
の防止効果が得られ、膜分離装置は、フラックスの低下
を引き起こすことなく、安定な運転を維持することがで
きる。
常の場合、数ppm、多い場合には数十ppm存在して
いる。
注入しても、このNaClOが回収水中のNH4 +と反応
して消費され、殺菌力の低いクロラミン(NH2 Cl)
となるため、回収システムのUF膜分離装置では、スラ
イムの発生を防止し得ず、経時的にフラックスの低下が
起こっている。
モニアを含有する有機排水を膜分離処理するに当り、膜
分離装置のフラックスの低下を防止して、安定かつ効率
的な処理を継続することができる膜分離方法を提供する
ことを目的とする。
アンモニアを含有する有機排水を膜分離処理する方法に
おいて、膜分離処理系内に二酸化塩素を添加することを
特徴とする。
クスの低下は、NH4 +の存在する系では、NaClOが
NH4 +と反応して殺菌力が低下することに起因する。
ためには、NH4 +の存在する系においても、遊離塩素と
同等以上の殺菌力を有し、なおかつ、下記のような殺菌
剤としての条件を満たす薬剤を用いる必要がある。
て、膜性能(フラックスや除去率)を低下させることが
ない。 (b) 殺菌力は遊離塩素と同等以上であることが望ま
しいが、酸化力が強すぎて膜を劣化させることがない。
のとして、オゾン、二酸化塩素、ヨウ素、臭素、過マン
ガン酸カリウム、過酸化水素等があるが、本発明者ら
は、これらの殺菌剤をスクリーニングした結果、二酸化
塩素は、NH4 +が存在する系でも膜分離装置の性能を低
下させることなく、また、膜を劣化させることなく、良
好な殺菌効果を示すことを見出し、本発明を完成させ
た。
は、例えば、次の〜の方法により製造することがで
きる。
せる。 亜塩素酸ソーダに塩酸又は硫酸を加えて反応させ
る。 亜塩素酸ソーダを亜硫酸ガス又はメタノール或いは
電解法で還元する。 塩素酸ソーダに食塩及び硫酸を加えて反応させる。 塩素酸ソーダに塩酸又は硫酸を加えて反応させる。 本発明において、用いるClO2 の製造方法には特に制
限はなく、上記〜のいずれの方法を採用しても良い
が、特に、簡便で安全であることから、の方法、とり
わけ電解法が好適である。
膜分離処理系内に所定濃度のClO2 が存在するように
連続的又は間欠的に注入すれば良い。好適なClO2 濃
度は、原水中のNH4 +濃度等により異なることから、処
理水系に応じて適宜決定される。図1に示す超純水の回
収システムの菌体分離用UF膜分離装置4においては、
通常の場合、膜分離装置4の導入系路(配管20)に、
ClO2 を0.2〜1.0ppmの濃度となるように注
入するのが好ましい。
システムにおける生物処理工程の後段に設けられた膜分
離装置における膜分離処理に特に有効であるが、これに
限らず、あらゆる種類のアンモニア含有有機排水の膜分
離処理に有効に適用可能である。また、膜分離装置につ
いても、UF膜分離装置に限らず、RO膜分離装置、M
F膜分離装置であっても良い。
を劣化させることがなく、また、膜を酸化して劣化させ
ることもない上に、NH4 +が存在する系においても、良
好な殺菌効果を示し、膜面のスライムの発生及びスライ
ムによるフラックスの低下を有効に防止することができ
る。
説明する。
調製し、各々の模擬回収水を図1に示す回収システムで
処理した。
て粒状活性炭(20/40メッシュ)を充填した上向流
接触酸化装置を用い、この生物処理水をスパイラル型U
F膜分離装置で菌体分離処理した。この膜分離装置の導
入用配管20には、殺菌剤として、表2に示すものを表
2に示す濃度となるように注入した。
結果を表2に示した。
る系ではNaClOを添加しても、フラックスの低下を
防止し得ない(No.3)。これに対し、ClO2 を添
加する本発明方法(No.4)によれば、NH4 +の存在
する系において、NH4 +の存在しない系にNaClOを
添加する場合(No.1)と同等のフラックスを得るこ
とができる。
によれば、アンモニアを含有する有機排水を膜分離処理
するに当り、膜面のスライムの発生及びこれに起因する
フラックスの低下を有効に防止して、長期間安定かつ効
率的な膜分離処理を継続して行うことができる。
水製造システムの系統図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 アンモニアを含有する有機排水を膜分離
処理する方法において、膜分離処理系内に二酸化塩素を
添加することを特徴とする膜分離方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22472794A JP3465368B2 (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | 膜分離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22472794A JP3465368B2 (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | 膜分離方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0889957A true JPH0889957A (ja) | 1996-04-09 |
JP3465368B2 JP3465368B2 (ja) | 2003-11-10 |
Family
ID=16818303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22472794A Expired - Fee Related JP3465368B2 (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | 膜分離方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3465368B2 (ja) |
-
1994
- 1994-09-20 JP JP22472794A patent/JP3465368B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3465368B2 (ja) | 2003-11-10 |
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